KR20040074069A - 광위상 간섭측정법 및 그 시스템 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (47)
- 다중 표면에서 반사된 광학 파두면의 다른 부분을 합하여 광학 간섭상을 형성하는 단계;간섭신호에 다르게 기여하기 위해 다른 광거리 분리를 가지는 다중 표면 쌍을 야기하는 광학 파두면의 성질을 변화하는 것에 대하여 광학 간섭상의 다른 위치에서 간섭신호를 기록하는 단계;다중표면쌍 각각에 대응하는 스펙트럼 좌표에서 피크를 가지는 스펙트럼을 만들기 위한 최소한 하나의 위치에 대한 간섭신호를 변환하는 단계; 및선택된 다중표면쌍에 대응하는 피크의 스펙트럼 좌표를 확인하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,각 위치에 대하여 선택된 표면쌍에 대응하는 피크의 스펙트럼 좌표에서의 간섭신호의 스펙트럼 위상을 도출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 간섭신호는, 광학파두면의 광주파수를 변화하는 것에 대하여 광학 간섭상의 다른 위치에서 기록되는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 간섭신호는, 광학파두면의 진행방향이 변화하는 것에 대하여 광학 간섭상의 다른 위치에서 기록되는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제4항에 있어서,상기 광학파두면의 진행방향 변화는, 광학파두면을 발생하기 위해 사용되는 조명원의 위치변화로 구성된 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제4항에 있어서,상기 광학파두면의 진행 변화는, 광학파두면을 발생하기 위해 사용되는 링모양의 광원의 지름 변화로 구성된 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 스펙트럼은, 간섭신호가 시간영역에서 주파수영역으로 변환됨으로써 얻어지는 것임을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 스펙트럼은, 간섭신호가 광거리차(OPD)영역으로 변환됨으로써 얻어지는 것임을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,광학 파두면의 추가적인 부분에 대하여 발생된 기준 캐비티로부터 기준위상을 모니터하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제9항에 있어서,상기 스펙트럼은, 간섭신호가 모니터된 기준위상에 기초한 광거리차(OPD)영역으로 변환됨으로써 얻어지는 것임을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제10항에 있어서,스펙트럼 S는에 대응하고, 여기서 D는 광거리차 변수이며, OPDL(D)는 OPD 변환이고 이것은 아래식처럼 표현되며,여기서 N은 광학 파두면 성질의 변화에 대한 증가분이며, j는 N증가분에 대한 지수이고, Ij는 증가분j에서의 간섭신호이고, Wj는 증가분j에서 가중함수를 나타내는 값이고, DM은 기준 캐비티의 광거리길이에 대응하는 것이며, φMj는 증가분j에서 모니터된 기준위상이고, ΔφMj는 증가분j에 대응하는 모니터된 기준상에서의 증가분을 나타내는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제10항에 있어서,대응하는 피크의 OPD좌표로부터 선택된 표면쌍 사이의 광거리 차를 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제11항에 있어서,각 위치에 대하여 선택된 표면쌍에 대응하는 피크의 스펙트럼 좌표에서 간섭신호의 스펙트럼 위상을 도출하는 단계 더 포함하되, 여기서 도출된 위상 ΦT는로부터 계산되며, 여기서 DT는 그 피크에서의 스펙트럼 좌표인것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제2항에 있어서,상기 각 위치에 대한 간섭신호의 스펙트럼 위상을 도출하는 단계는, 선택된 표면쌍에 대응하는 피크를 가지는 대응하는 스펙트럼을 만들기 위하여 잔류위치의 각각에 대한 간섭신호를 변환하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제2항에 있어서,상기 각 위치에 대한 간섭신호의 스펙트럼 위상을 도출하는 단계는, 선택된표면쌍에 대응하는 피크의 스펙트럼 좌표에 대하여 잔류위치의 각각에 대한 간섭신호를 변환하는 것으로 이루어진 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제2항에 있어서,광학 간섭상의 다중위치에 대하여 도출된 위상에서의 변화에 기초한 선택된 표면쌍사이의 광학거리차에서의 변화를 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제16항에 있어서,결정된 변화에 기초하여 선택된 표면쌍 중 하나에 대한 표면 프로필을 계산하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제16항에 있어서,결정된 변화에 기초하여 선택된 표면쌍 사이의 광학 두께 프로필을 계산하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제16항에 있어서,결정된 변화에 기초하여 선택된 표면쌍 사이의 물리적 두께 프로필을 계산하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법
- 제16항에 있어서,결정된 변화에 기초하여 선택된 표면쌍 사이의 균질성 프로필을 계산하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법
- 제1항에 있어서,상기 다중표면은, 최소한 하나의 기준면과 최소한 하나의 측정물의 표면으로 구성된 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 간섭신호를 기록하는 단계는, 파두면의 성질이 변화하는 동안에 광학 파두면에서의 광량 변화를 모니터하고 광량변화에 대한 간섭신호를 보상하는 단계로 구성된 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,스펙트럼에서 최소한 몇개의 피크의 세기에 기초하여 선택된 표면쌍중의 최소한 하나에 대한 표면 반사도에 대한 정보를 계산하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법,
- 제1항에 있어서,상기 선택된 표면쌍은, 약70%이상의 반사도를 가지는 고미세(high-finesse)캐비티의 표면인 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제15항에 있어서,결점이 다중위치의 각각에서 스펙트럼에 기초한 선택된 표면쌍 사이에 존재하는지 여부를 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제25항에 있어서,상기 결점의 존재는, 다중 위치의 최소한 하나의 스펙트럼에서 추가 피크에 대응하는 것임을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제25항에 있어서,상기 선택된 표면쌍은, 광학요소의 전면과 후면이며,상기 결점은, 광학요소에서 공기방울로 구성된 것임을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제25항에 있어서,상기 선택된 표면쌍은, 광학요소의 전면과 후면이고,상기 결점은, 광학요소에서 불순물로 구성된 것임을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,두번째로 선택된 다중표면쌍에 대응하는 피크의 스펙트럼 좌표를 확인하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제29항에 있어서,각 위치에 대하여 첫번째로 선택된 표면쌍에 대응하는 피크의 좌표 및 두번째로 선택된 표면쌍에 대응하는 피크의 좌표에서 간섭신호의 스펙트럼 위상을 도출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제30항에 있어서,상기 선택된 표면은, 첫번째 기준표면, 광학요소의 첫번째 표면과 두번째 기준면으로 구성되고,상기 파두면 일부분의 하나는, 광학요소의 최소한 하나의 내표면에서의 반사를 통해 두번째 기준면으로 보내지는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제31항에 있어서,도출된 위상에 기초하여 광학요소의 첫번째 표면에 대한 광학요소의 내표면의 각도를 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제31항에 있어서,상기 최소한 하나의 내표면은 내각을 정의하는 두개의 내표면으로 구성되고,그 방법은 도출된 위상에 기초하여 내각을 결정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제31항에 있어서,상기 광학요소는 프리즘인 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법
- 제34항에 있어서,상기 광학요소는 공칭직각을 정의하는 두개의 내표면을 가지는 직각 프리즘이며,상기 최소한 하나의 내표면은 공칭직각을 정의하는 두개의 내표면으로 구성되고, 광학요소의 첫번째 표면은 직각 프리즘의 전면인 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법
- 제34항에 있어서,상기 광학요소는 공칭직각을 정의하는 두개의 표면을 가지는 직각 프리즘이고,상기 최소한 하나의 내표면은 공칭직각을 정의하는 두개의 표면을 연결하는 빗면이며, 광학요소의 첫번째 표면은 공칭직각을 정의하는 두개의 표면 중 하나인것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제30항에 있어서,상기 선택된 표면은 광학요소의 다중표면으로 구성된 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제37항에 있어서,상기 광학요소는 프리즘인 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제29항에 있어서,상기 선택된 표면은 광학 어셈블리의 다중표면으로 구성되고,상기 다중표면 중 하나는 광학 어셈블리의 두가지 인자 사이의 경계면인 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 선택된 표면은 광학요소의 표면으로 구성되고,상기 선택된 표면 중 하나에서 반사된 파두면의 부분은 광학요소의 내표면에서의 반사를 통해 그 표면에 보내지는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제1항에 있어서,상기 선택된 표면은 광학 어셈블리의 표면으로 구성되고,선택된 표면 중 하나에서 반사된 파두면의 일부분은 광학 어셈블리의 두가지 인자사이의 경계면의 반사를 통해 그 표면에 보내지는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 다중표면은 광학요소 중 최소한 하나의 표면으로 구성되고, 다중표면에서 반사된 광학 파두면의 다른 부분을 합하여 광학 간섭상을 형성하는 단계;간섭신호에 다르게 기여하는 다른 광거리 분리를 가지는 다중 표면 쌍을 야기하는 광학 파두면의 성질을 변화하는 것에 대하여 광학 간섭상의 다른 위치에서 간섭신호를 기록하는 단계;다중표면쌍 각각에 대응하는 스펙트럼 좌표에서 피크를 가지는 스펙트럼을 만들기 위하여 최소한 하나의 위치에 대한 간섭신호를 변환하는 단계; 및결점이 스펙트럼에 기초한 광학요소에서 존재하는지 여부를 결정하되, 그 결점은 최소한 하나의 위치에서의 스펙트럼에서 변칙피크에 대응하는 단계;로 이루어진 광학요소에서 결점의 존재를 결정하는 방법을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제42항에 있어서,상기 결점은 광학요소에서 공기방울로 이루어진 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제42항에 있어서,상기 결점은 광학요소에서 불순물로 이루어진 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 제42항에 있어서,상개 결점은 광학요소의 두개의 서브인자 사이의 불완전 연결지역을 구성하는 것을 특징으로 하는 광위상간섭측정법.
- 광학어셈블리를 만들기 위해 첫번째 광학요소를 두번째 광학요소에 부가하는 단계;청구항 제1항의 방법을 사용하여 간섭학적으로 광학 어셈블리를 특정하는 단계; 및광학 특성에 기초로 하여 두번째 광학요소에 대하여 첫번째 광학요소를 재설정하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 광학 어셈블리 방법.
- 광원에서 나온 광학 파두면의 성질을 변화하기 위해 안출된 변조요소를 포함하는 광원;동작 중 광학 파두면의 다른 일부분은 다중표면으로 보내고, 그 다른 일부는 광학간섭상을 형성하기 위하여 재결합하는 간섭계;변조요소에 의해 광학 파두면성질의 변화에 대하여 광학간섭상의 다른 위치에서 간섭신호를 기록하기 위해 위치하되, 광학 파두면성질의 변화는 간섭신호에 다르게 기여하는 다른 광거리 분리를 가지는 다중 표면쌍을 야기하는 다중-요소 광검출기; 및다중표면쌍 각각에 대응하는 스펙트럼 좌표에서 피크를 가지는 스펙트럼을 만들기 위한 최소한 하나의 위치에 대하여 간섭신호를 변환하고; 선택된 다중 표면쌍에 대응하는 피크의 스펙트럼 좌표를 확정하는 전자적 제어기로, 상기 전자적 제어기는 광원과 광검출기와 연결되어 있는 전자적 제어기로 이루어진 것을 특징으로 하는 시스템.
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