KR20040057539A - Photomask having pellicle - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: Provided is a photomask containing a new pellicle capable of replacing conventional soft and hard pellicles when producing a reticle, which can be recycled and can cut down expenses. CONSTITUTION: The photomask comprises: a transparent substrate(20); a chromium membrane(22) of a mask pattern formed on one side of the transparent substrate(20); crystal pellicles(24a)(24b) which are placed on the upper and lower parts of the transparent substrate(20) with a fixed thickness and surrounds the transparent substrate(20); supports(26) supporting the pellicles(24a)(24b) on the transparent substrate(20). There is an inside space between the pellicle(24a)(24b) and the transparent substrate(20), wherein the inside space keeps vacuum.

Description

펠리클을 구비한 포토 마스크 {Photomask having pellicle}Photomask having pellicle}

본 발명은 펠리클을 구비한 포토 마스크에 관한 것으로, 보다 상세하게는 두꺼운 석영을 펠리클로 이용하여 포토마스크 전체를 에워싸는 구조로 제작한 포토마스크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photomask having a pellicle, and more particularly, to a photomask fabricated with a structure surrounding an entire photomask using thick quartz as a pellicle.

현재 진행중인 157nm 리소그라피 공정개발시에 어려움으로 대두되고 있는 문제점 중에 레티클(포토마스크)의 펠리클(pellicle) 제작하는 문제가 있다.One of the problems that are currently facing difficulties in developing the 157nm lithography process is the problem of manufacturing pellicles of reticles (photomasks).

"펠리클"이라 함은 레티클이 파티클이나 다른 요인에 의해 오염되는 것을 방지하기 위해 부착하는 것으로써 얇은 막으로 이루어지며 빛의 투과율이 100%에 가까워야 좋은 것이며 광원의 에너지에 의해 손상을 입을수 있다. 펠리클은 소모성 제품으로 펠리클에 파티클이 있을 경우 에어(air)등으로 제거를 하며 찢어지거나 늘어졌을 경우 교체가 가능하게 되어 있으니 너무 자주 교체할 경우 비용이 많이 들게 되므로 교체시기를 길게가져가는 것이 비용절감측면에서 유리하다.A "pellicle" is a thin film that is attached to prevent reticles from being contaminated by particles or other factors. It is good to have a light transmittance close to 100% and can be damaged by the energy of a light source. The pellicle is a consumable product. If there are particles in the pellicle, the pellicle is removed by air, and when it is torn or stretched, it can be replaced. It is expensive to replace it too often. It is advantageous from the side.

이하, 도 1을 참조하여 종래기술에 의한 펠리클을 구비한 포토마스크를 설명한다.Hereinafter, with reference to Figure 1 will be described a photomask having a pellicle according to the prior art.

도 1을 참조하면, 투명 기판(10)상에 투영하고자 하는 모양대로 형성된 마스크 패턴의 크롬막(12)이 형성되어 있고, 펠리클 지지대(10)에 펠리클(14)이 지지되어 있다. 펠리클은 레티클이 얇은막으로 이루어지며 빛의 투과율이 100%에 가까워야 좋은 것이며 광원의 에너지에 의해 손상을 입을수 있다.Referring to FIG. 1, a chrome film 12 having a mask pattern formed in a shape to be projected on the transparent substrate 10 is formed, and the pellicle 14 is supported by the pellicle support 10. The pellicle is composed of a thin film of reticle and should have a light transmittance close to 100%. It can be damaged by the energy of the light source.

그러나 종래 기술에 의한 펠리클은, 특히 157nm와 같이 단파장의 경우, 광원에서 나오는 에너지가 너무 크기때문에 기존에 쓰고 있는 얇은 펠리클 재질로는 오랜시간을 견디지 못하고 수시로 교체하여야 하기 때문에 비용도 많이 들고 두꺼운(hard) 펠리클의 경우 레티클에 장착하기 어렵고 장착한 후에도 두꺼운 막질은 공원으로 인해 변형이 될 경우, 균일하게 펴주기가 어려운 점이 있다. 그렇다고 펠리클 없이 레티클 없이 레티클 위에 파티클이 묻어있을 경우 제거하는데 오랜시간이 걸리는 문제가 있다.However, the pellicle according to the prior art, especially in the case of short wavelengths, such as 157nm, because the energy from the light source is too large, the existing thin pellicle material does not endure a long time and must be replaced frequently, which is expensive and hard (hard). ) In the case of pellicles, it is difficult to mount on the reticle, and even after installation, the thick film quality is difficult to spread evenly if it is deformed due to the park. However, there is a problem that it takes a long time to remove the particles on the reticle without the pellicle without the reticle.

또한, 펠리클이 얇은 막으로 이루어진 종래기술에서는 펠리클 지지대에 장착시 당기는 힘을 균일하게 조절하여 구김현상이 거의 없지만, 전술한 바와 같이 157nm와 같은 고에너지 광원에 약하다.In addition, in the prior art in which the pellicle is made of a thin film, the pulling force is uniformly adjusted when mounted on the pellicle support, but there is almost no wrinkle, but as described above, it is weak to a high energy light source such as 157 nm.

한편, 두꺼운 펠리클을 채용하는 경우는 일정하게 힘을 주어 구김현상을 최소화하는 데 문제점이 있었다.On the other hand, in the case of employing a thick pellicle, there was a problem in minimizing wrinkles by giving a constant force.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로, 레티클을 제작할 대 종래의 소프트 및 하드 펠리클을 대체할 수 있는 새로운 펠리클을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and provides a new pellicle that can replace conventional soft and hard pellicles when manufacturing a reticle.

본 발명의 다른 목적은 보다 재활용이 가능하고 비용절감 효과가 우수한 펠리클을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a pellicle which is more recyclable and excellent in cost reduction effect.

도 1은 종래기술에 의한 펠리클을 구비한 포토마스크의 구성도이다.1 is a block diagram of a photomask having a pellicle according to the prior art.

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 펠리클을 구비한 포토마스크의 구성도이다.2 is a block diagram of a photomask having a pellicle according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 설명* Description of the main parts of the drawing

10, 20 : 투명 기판 12, 22 : 크롬막10, 20: transparent substrate 12, 22: chrome film

14, 24a, 24b : 펠리클 16, 26 : 지지대14, 24a, 24b: pellicle 16, 26: support

상술한 문제점을 해결하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명은 투명 기판과, 투명 기판 상의 일면에 투영하고자 하는 모양대로 형성된 마스크 패턴의 크롬막과, 투명 기판의 상, 하부에 각각 배치되어 상기 투명 기판을 에워싸며 소정 두께의 석영으로 이루어진 펠리클과, 투명 기판에 펠리클을 지지하는 지지대를 포함하여 구성되며, 펠리클과 투명 기판 사이에는 내부 공간이 존재하는 포토마스크를 제공한다.As a technical means for solving the above-described problems, the present invention is a transparent substrate, a chrome film of a mask pattern formed in a shape to be projected on one surface on the transparent substrate, and disposed on and below the transparent substrate, respectively, It includes a pellicle surrounded by a quartz having a predetermined thickness and a support for supporting the pellicle on the transparent substrate, and provides a photomask in which an internal space exists between the pellicle and the transparent substrate.

한편, 내부 공간은 진공 상태로 유지될 수 있으며, 상, 하부펠리클은 탈착가능하도록 제조된다.On the other hand, the inner space can be maintained in a vacuum state, the upper, lower pellicle is manufactured to be removable.

한편, 지지대에는 포토마스크가 노광장비 스테이지에 장착가능하도록 하는 돌출부가 형성될 수 있다.On the other hand, the support may be formed with a protrusion for mounting the photomask to the exposure equipment stage.

이하, 도 2를 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 포토마스크를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 한편, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭하며, 중복되는 요소에 대해서는 설명을 생략하기로 한다.Hereinafter, a photomask according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 2. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention and to those skilled in the art. It is provided for complete information. In the drawings, the same reference numerals refer to the same elements, and descriptions of overlapping elements will be omitted.

본 발명의 바람직한 포토마스크는 투명 기판(20), 투명 기판(20)상의 일면에 투영하고자 하는 모양대로 형성된 마스크 패턴의 크롬막(12), 석영으로 이루어진 상, 하부 펠리클(24a, 24b) 및 포토마스크와 펠리클들(24a, 24b)을 지지하기 위한 지지대(26)를 포함하여 구성된다.Preferred photomasks of the present invention are a transparent substrate 20, a chrome film 12 of a mask pattern formed in a shape to be projected on one surface of the transparent substrate 20, an image made of quartz, lower pellicles 24a and 24b, and a photo And a support 26 for supporting the mask and pellicles 24a and 24b.

투명 기판(20) 상에 크롬막(12)이 형성된 구조는 종래 기술에 의한 구조와 유사하다. 다만, 포토마스크에는 종래 기술의 경우 보다 두꺼운 석영을 펠리클(24a, 24b)로 이용한다. 석영은 투과율이 뛰어나고 구김현상을 방지하지 않기 때문이다. 투명 기판(20)은 유리, 석영 등의 기판일 수 있다.The structure in which the chromium film 12 is formed on the transparent substrate 20 is similar to that in the prior art. In the photomask, however, thicker quartz is used as the pellicles 24a and 24b. This is because quartz has excellent transmittance and does not prevent wrinkles. The transparent substrate 20 may be a substrate such as glass or quartz.

한편, 도 2에 도시하고 있는 바와 같이, 펠리클(24a, 24b)로 포토마스크 전체를 에워싸는 구조로 제작되어 있다. 박스 형태로 펠리클을 아래 위로 나뉘어서 장착이 용이하게 만들고 에워싸인 내부로 공기를 제거할 수 있는 부분(미도시)을 만들어 이곳을 이용하여 내부의 공기를 외부로 빼서 진공에 가가운 상태를 유지시킴으로써 펠리클에 의한 오염을 방지할 수 있게 된다.On the other hand, as shown in FIG. 2, it is manufactured by the structure which encloses the whole photomask by the pellicles 24a and 24b. The pellicle is divided up and down in the form of a box to make it easy to install and to remove the air into the enclosed interior (not shown). It is possible to prevent contamination by.

펠리클(24a, 24b)을 상 하부로 탈착가능하도록 제조하는 방식을 통하여, 종래에는 한번 사용후에는 재활용이 어려웠으나, 포토마스크 또는 펠리클이 오염됐을 때 교체가 가능하고 세정도 가능하도록 할 수 있어, 펠리클 비용 보다 초기 비용은 높지만 재활용이 가능하여 실제는 비용 절감의 효과를 거둘 수 있다.Through the method of manufacturing the pellicles 24a and 24b to be detachable to the upper and lower sides, it was difficult to recycle after use once, but when the photomask or the pellicle is contaminated, it can be replaced and cleaned. Although the initial cost is higher than the pellicle cost, it can be recycled, which can actually reduce the cost.

2개의 지지대(26)에는 포토마스크 케이스가 스테이지에 닿을 수 있도록 돌출부(A)가 제조되어 있다. 상기 돌출부(A)를 통하여 포토마스크는 노광장비의 스테이지와 용이하게 장착가능하도록 구성되어 있다.The two supports 26 are provided with a projection A so that the photomask case can reach the stage. Through the protrusion A, the photomask is configured to be easily mounted with the stage of the exposure apparatus.

상, 하부 펠리클(24a, 24b)들이 각각 탈착가능하도록 구성됨으로써 펠리클이 오염되었을 때 분리하여 세정을 실시한 후, 재사용 가능하다.The upper and lower pellicles 24a and 24b are configured to be detachable, so that when the pellicle is contaminated, it is separated and washed, and then reused.

또한, 본 발명의 기술적 사상에 관련한 이 분야의 통상의 지식을 가진자라면 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.In addition, those skilled in the art related to the technical idea of the present invention will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

레티클을 제작할 때 종래의 소프트 및 하드 펠리클을 대체할 수 있는 새로운 펠리클을 제공하는 것이다.It is to provide a new pellicle that can replace the conventional soft and hard pellicle when manufacturing the reticle.

본 발명의 다른 목적은 보다 재활용이 가능하고 비용절감 효과가 우수한 펠리클을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a pellicle which is more recyclable and excellent in cost reduction effect.

본 발명에 의하면, 100nm이하의 고 분해능을 요구하는 차세대 반도체 공정기술의 최대 현안인 예를 들어 157nm 리소그라피 개발에 필수적인 레티클 제작 문제를 해결함으로써 고분해능을 갖는 리소그라피 기술이 빠른 시일안에 개발되고 양산에 적용될 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, a high resolution lithography technology can be developed and applied to mass production in a short time by solving the problem of reticle manufacturing, which is an essential issue of next-generation semiconductor processing technology requiring high resolution of 100 nm or less, for example, 157 nm lithography development. It has an effect.

Claims (4)

투명 기판;Transparent substrates; 상기 투명 기판 상의 일면에 투영하고자 하는 모양대로 형성된 마스크 패턴의 크롬막;A chrome film of a mask pattern formed in a shape to be projected on one surface of the transparent substrate; 상기 투명 기판의 상, 하부에 각각 배치되어 상기 투명 기판을 에워싸며 소정 두께의 석영으로 이루어진 펠리클; 및A pellicle disposed above and below the transparent substrate, surrounding the transparent substrate and formed of quartz having a predetermined thickness; And 상기 투명 기판에 상기 펠리클을 지지하는 지지대를 포함하여 구성되며,It is configured to include a support for supporting the pellicle on the transparent substrate, 상기 펠리클과 상기 투명 기판 사이에는 내부 공간이 존재하는 것을 특징으로 하는 포토마스크.A photomask, characterized in that an internal space exists between the pellicle and the transparent substrate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 내부 공간은 진공 상태로 유지되는 것을 특징으로 하는 포토마스크.The inner space is maintained in a vacuum state photomask. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상, 하부 펠리클은 탈착가능하도록 제조되는 것을 특징으로 하는 포토마스크.The upper and lower pellicles are manufactured to be detachable photomask. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지대에는 포토마스크가 노광장비 스테이지에 장착가능하도록 하는 돌출부가 형성된 것을 특징으로 하는 포토마스크.The support is a photomask, characterized in that the projection formed to enable the photomask to be mounted on the exposure equipment stage.
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