KR20040050409A - 플라즈마 발생기를 이용한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치와 그 합성법 - Google Patents
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Abstract
플라즈마 발생기를 부착한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치는 촉매금속 소스와 탄소 소스 용액을 기화시켜 저온 플라즈마 발생기에서 이들 소스의 촉매금속과 탄소 소스 화합물을 플라즈마 성분(이온, 라디칼, 전자의 혼합물)으로 변환시켜 탄소나노튜브와 탄소나노섬유의 합성 순도와 생산 수득율을 크게 향상시킨 장치이다. 이 장치는 반응 탄소 소스 가스 공급기, 비활성 수송 가스 공급기가 부착된 촉매금속 용액 또는 탄소 소스 용액을 기화시키는 기화기가 부착되어 있다. 그리고 수직형 반응로는 상단 저온 영역과 하단 고온 영역으로 나누어 가열 히터가 부착되어 있으며, 저온 영역에 저온 플라즈마 발생기가 부착되어 있다. 이 장치는 기존의 단순한 분사기를 반응로의 저온 영역에 부착하여 탄소 소스 가스나 촉매금속 용액 기화가스의 열분해를 개시 반응으로 이용하는 것이 아니라 열분해보다 훨씬 분해능력이 우수하고 반응속도가 매우 빠른 플라즈마 분해반응을 이용하는 특징과 장점을 지니고 있다. 따라서 이장치를 이용하면 미반응 비정질 탄화수소의 함량이 매우 낮은 고순도의 단일벽 탄소나노튜브(SWCNT) 또는 탄소나노섬유(CNF)를 고속으로 대량 합성할 수 있다. 뿐만 아니라 기존의 분사기를 이용하는 장치보다 보다 가늘고 길이가 짧고 균일한 SWCNT나 CNF를 합성할 수 있는 장점도 가지고 있으므로 SWCNT를 모노머(Monomer)로 하는 새로운 개념의 폴리머(Polymer)를 대량 합성할 수 있게 되므로 탄소나노튜브의 실용화 영역이 크게 확장 될 것으로 믿는다.
Description
본 발명은 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치 및 이 장치를 이용한 합성방법에 관한 것이다.
하나의 탄소원자에 이웃하는 세 개의 탄소원자들이 120°로 sp2혼성 결합으로 이루어진 탄소원자 6각 고리가 벌집 구조로 반복된 흑연면(graphene sheet)이 원통형으로 말린 형태를 탄소나노튜브라고 부른다. 이 때 흑연면이 말린 형태에 따라 탄소나노튜브(CNT) 또는 탄소나노섬유(CNF)는 안락의자구조(arm-chair structure)일 때는 전기전도성을 가지게 되고, 지그재그 구조(zig-zig structure)일 때는 반도체 성을 띄게 된다. CNT는 균일한 반경을 갖고 있으나 CNF는 끝이 뾰족한 원추형 구조를 갖고 있어서 이들 양자의 구별이 가능하다. 이와 같이 우수한 전기적 특성을 지니고 있을 뿐만 아니라 뛰어난 기계적 강도와 화학적 안정성을 갖고 있는 CNT와 CNF는 정보산업 분야의 다양한 소재와 여러 가지 복합 소재의 원료로 크게 기대되고 있는 물질이다
지금까지 이용되고 있는 탄소나노튜브나 탄소나노섬유의 합성법으로는 아크방전법, 열화학기상증착법, 레이저증착법, 기상합성법 및 플라즈마화학 기상증착법 등이 알려져 있다.
이 가운데 어느 방법이나 CNT나 CNF의 길이나 직경을 수 nm ∼ 수십 nm으로 조절하기가 매우 어려운 단점을 가지고 있다. 이와 같이 현재까지 알려진 장치와 방법으로는 CNT나 CNF의 길이를 수 nm이하로 줄이고 직경을 수 100 nm 이하로 낮춘 CNT나 CNF를 대량 합성법은 개발되지 않았다.
본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 수 nm이하의 직경을 갖는 CNT나 CNF를 대량으로 합성할 수 있는 플라즈마발생기를 이용하여 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치를 개발하는 것이다.
도 1은 본 발명의 한 실시 예에 따른 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치의 개략도이다.
도 2는 저온 플라즈마 발생기의 단면도이다.
상기의 본 발명이 이루고자하는 기술적 과제의 목적을 달성하기 위하여 이 발명의 CNT와 CNF의 기상합성장치는 촉매금속 소스와 탄소 소스 용액을 기화시켜 저온 플라즈마 발생기에서 이들 소스의 촉매금속과 탄소 소스 화합물을 플라즈마 성분(이온, 라디칼, 전자의 혼합물)으로 변환시켜서, 열반응보다 플라즈마 반응의 반응성이 매우 우수한 것을 이용하여 탄소나노튜브와 탄소나노섬유의 합성 순도와 생산 수득율을 크게 향상시킨 장치이다. 이 장치는 반응 탄소 소스 가스 공급기, 비활성 수송 가스 공급기가 부착된 촉매금속 용액 또는 탄소 소스 용액을 기화시키는 기화기가 부착되어 있다. 그리고 수직형 반응기는 상단 저온영역과 하단 고온 영역으로 나누어 가열 히터가 부착되어 있으며, 저온 영역에 저온 플라즈마 발생기가 부착되어 있다. 이장치를 이용하면 일정한 굵기와 길이를 가진 균일한 고순도의 단일벽 탄소나노튜브(SWCNT) 또는 탄소나노섬유(CNF)를 합성할 수 있다.
CNT나 CNF의 기상합성장치의 구조와 기능을 구체적으로 언급하면 다음과 같다.
이 장치는 도 1에 나타낸 바와 같이 수소와 암모니아 같은 보조가스 및 질소와 아르곤과 같은 수송가스를 주입하는 가스주입부(100)와 질소와 아르곤과 같은 수송가스에 연결시킨 탄소 소스 용액과 촉매금속 화합물 용액을 기화시켜 주입하는 용액기화주입부(200), 그리고 수직으로 세운 반응로(300)로 구성되어 있다. 가스주입부(100)는 수소 공급기(101), 암모니아 공급기(102), 질소 공급기(103)와 아르곤 공급기(104)들로 구성되어 있다. 수소 가스는 반응로(301) 내에서 플라즈마 및 열 분해된 촉매 금속 이온 또는 입자의 산화를 방지하고 성장 중인 CNT나 CNF의 성장을 촉진시키기 위하여 공급하게 된다. 암모니아 가스는 촉매금속 입자의 촉매작용으로 인하여 합성되는 CNT나 CNF의 성장을 촉진하고 이들의 특성을 향상시키기 위하여 공급한다. 수소와 암모니아 가스는 반응 변수에 따라 단독 또는 동시공급도 가능하다. 질소와 아르곤과 같은 수송가스는 반응로(301) 내에서 반응 가스의 유속과 밀도를 조절하여 성장하는 CNT나 CNF의 직경과 길이를 일정하게 유지시켜 주는 역할을 한다. 보조가스와 수송가스를 공급하는 각 가스 공급기(101, 102, 103, 104)에는 공급기의 차단밸브(105, 106, 107, 108), 유량계(109, 110, 111, 112)와 공급관(모든 관을 막대로 나타냄)의 차단밸브(113, 114, 115, 116)들이 부착되어 보조가스와 수송가스의 유량을 조절하고 이 장치의 가동을 중단할 때 이들 가스를 안전하게 차단시켜 다음 합성 때까지 보관하게 된다.
용액기화주입부(200)는 기화기(209)에 운반가스 공급기(201)가 부착되어 있다. 또한 기화기(209)에는 온도를 일정하게 유지할 수 있는 전기히터(211)와 반응로(301) 내부에 장착한 저온 플라즈마 발생기(302)에 연결된 공급관의 차단밸브(213)가 부착되어 있다. 그리고 운반가스 공급기(201)에는 차단밸브(203), 공급관 차단밸브(207)와 유량조절기(205)가 부착되어 있다.
기화기(209)에서는 촉매 유기금속화합물 ; 아이언 펜타카보닐(Fe(CO)5), 니켈 펜타카보닐(Ni(CO)5), 암모늄 클로메이트(CrH8N2O4), 암모늄 크로믹설페이트(CrH4NO8S2), 크로머스 아세테이트(C4H6CrO4), 페로신(C10H10Fe), 암모늄 페리시아나이드(C6H12FeN9), 암모늄 페로시아나이드(C6H16FeN10), 코발터스 포메이트(C2H2CoO4), 코발터스 티오시아네이트(C2CoN2S2),니켈 아세테이트(C4H6NiO4), 니켈 포메이트(C2H2NiO4) 중에서 하나 또는 여러 가지 물질을 선택하여, 탄소 소스 물질이며 이들 물질의 좋은 용매가 되는 유기용매 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 벤젠, 톨루엔, 놀말헥산, 사이크로헥산, 크실렌, 캐로신, 물, 에테르, 아세톤, 암모니아, 클로르포름에 녹인 촉매 유기금속화합물 용액을 기화시킨다. 이렇게 기화시킨 촉매 유기금속화합물 용액은 공급기(201)의 탄소소스로도 사용되는 운반가스(메탄, 에탄, 프로판, 부탄, 천연가스, 에틸렌, 아세틸렌 등)와 비활성 운반가스(아르곤, 질소 등)에 의하여 반응로(301) 내부에 장착한 저온 플라즈마 발생기(302)에 공급된다. 반응기 내에서 황 원자는 CNT나 CNF의 성장 초기에 촉매작용을 하게된다.
기화기(210)에는 경유와 중유 등을 포함하고 있는 콜타르, 프탈로시아닌 또는 계면활성제를 기화시킨다. 전기히터(212)의 기능은 전기히터(211)와 동일하며, 공급기(202)는 공급기(201)와 그 기능이 같다. 나머지 유량조절기(206)의 기능과 차단밸브(204, 208, 214)들의 기능은 기화기(209)에서 언급한 유량조절기(205), 차단밸브(203, 207, 213)와 같다.
반응로(301)의 구조는 다음과 같다. 반응로(301) 외부 상단에 제1전기히터(304)가 장착된 저온 영역 내부에는 본 발명자가 기 발명한 플라즈마 발생기(실용신안 제0170240호)가 부착되어 있다. 제2전기히터(306)가 장착된 곳은 제1전기히터(304) 보다 70 ∼ 100 mm 아래쪽이다. 저온 영역과 고온 영역 사이에 절연 물질로 된 열 차단 영역(305)이 존재한다. 이 부분의 열 차단 효과를 증가시키기 위하여 이 영역의 반응로(301)의 직경을 저온 영역과 고온 영역 직경의 1/3 이하로 줄이는 것이 바람직하다. 반응로(301)에서 합성되는 CNT나 CNF는 90%이상 수집기(303)에 수집된다. 미 수집되는 10% 이하의 CNT나 CNF는 필터(307, 312)에 의하여 수거하게 된다. 수집기(303)에는 수집되는 CNT나 CNF를 관찰할 수 있는 조망경(315)과 합성된 CNT나 CNF를 끄집어 낼 수 있는 개폐기(316)가 부착되어 있다. 반응로(301)에 부착되어 있는 개폐기(308)는 반응로(301)에 부착된 차단밸브(113, 114, 115, 116, 213, 214)와 개폐기(313, 316)를 잠그고 로타리펌프, 로타리 결합 디퓨전 펌프, 또는 로타리 결합 터보 펌프 등으로 구성된 펌프 시스템(309) 전단에 있는 개폐기(308)만 열고 펌프 시스템을 작동시켜 반응 개시 전에 반응로(301) 내부를 완전 탈기시켜야 한다. 이렇게 탈기시킨 후 개폐기(316)만 열고 환풍기(314)의 팬 속도를 조절하고, 탄소소스 가스, 희석가스, 촉매금속용액 기화가스들을 일정 유속으로 주입하면서 플라즈마 발생기의 직류 파워 서플라이에 1 ∼ 1,000 V의 직류전압을 적당히 조정하여(또는 RF 파워 서플라이의 펄스사이클을 1 ∼ 50,000 Hz로 조정하면서 1 ∼ 1,000 V의 교류전압을 조정하면서) CNT나 CNF를 합성한다. 탄소나노튜브나 탄소나노섬유 합성 때 비정질 탄화수소의 함량을 감소시켜야 고순도의 CNT나 CNF를 얻을 수 있다. 이 장치는 반응로(301)의 저온 영역에 저온 플라즈마 발생기를 통과하는 탄소 소스가스나 촉매금속 용액 기화가스는 플라즈마 반응에 의하여 매우 빠른 속도로 플라즈마의 성분 ; 전자 및 탄소나 수소 라디칼과 촉매금속이온으로 분해되므로 미반응 탄화수소 함량을 크게 감소시킬 수 있는 장점을 가지고 있다. 그러나 기존의 장치는 저온 영역에 분무기를 통과하는 탄소 소스가스나 촉매금속 용액 기화가스 의 단순한 열분해에 의존하므로 미반응 비정질 탄화수소의 함량이 비교적 높은 단점을 가지고 있다. 따라서 본 발명의 장치는 전자 및 탄소나 수소 라디칼과 촉매금속이온과 같은 플라즈마 성분들의 반응성이 매우 크기 때문에 합성이 진행되고 있는 동안 환풍기(314)의 팬의 속도를 증가시켜 플라즈마 성분들이 고온 영역을 통과하는 시간을 0.1 ∼ 1초로 단축시킬 수 있다. 이렇게 하여 고온 영역에서 촉매금속 입자들이 서로 응집하여 큰 입자로 성장할 시간적 여유를 주지 않게 된다. 그러므로 0.1 ∼ 30 nm의 직경과 1 ∼ 70 nm의 길이를 가진 CNT나 CNF를 합성할 수 있다. 이와 같은 규격의 CNT나 CNF를 합성하기 위하여 반응로(301)의 저온 영역의 길이는 100 ∼ 200 mm가 되고, 고온 영역의 길이는 300 ∼ 1,000 mm가 되는 반응로(301)를 제작하는 것이 바람직하다고 믿는다.
도 2는 반응로(301)내의 저온영역(302)에 장착한 저온 고밀도 플라즈마 발생장치(1)의 단면 구성도로, 걸림부(2)와 큰 직경의 통기공(4)을 갖는 하우징(6)을 케이스(8)에 끼워 고정하고, 하우징(6)의 내부에 복수 개의 세라믹 절연링(10, 12, 14, 16)을 적층시킨 다음 덥개링(18)으로 덮어 고정시키고, 절연링(6)의 단턱부에 복수 개의 음극이 체결되는 음윽판(20)을 끼워 설치하고, 또 다른 절연링(14)의 단턱부에 복수 개의 통기공(22)이 형성되고, 또한 복수 개의 양전극이 체결되는 양극봉(24)을 끼워 설치하여 양극봉(24)와 음극관(20)이 하우징(6)내에서 간격과 절연이 유지되도록 하고, 음극관(20)과 양극봉(24)에 고전압부(HV)가 연결된 급전선(26, 28)을 접속한 플라즈마 방전장치에 있어서, 양전극은 도전성을 갖는 봉체형의 양극봉(30)으로 구성하고, 음전극은 도전성을 갖는 관체형의 음극관(32)으로 구성하고, 음극관(32)의 내부에는 음극관(32)의 내경보다 비교적 작은 외경을 갖는 양극봉(30)을 결합하되 양극봉(30)과 음극관(32)이 서로 접촉되지 않도록 이격 설치하여 그 사이에 통기공(34)을 형성한다.
상기 고전압부(HV)는 상용전원을 고전압부(HV)로 직류나 교류를 1 ∼ 1,000V로 인가하고, 교류전원을 연결할 시에는 1 ∼ 50,000Hz의 펄스사이클을 인가한다. 이러한 고전압을 양극봉(24)과 음극관(20)으로 공급시켜 코로나 방전에 의한 플라즈마가 발생되도록 한다. 한편, 양극봉(30)의 끝 단부는 도 2과 같이 끝이 첨예하게 뾰족한 침상의 플라즈마 방전칩(36)을 형성한다.
지름이 130 mm이고 길이가 1,550 mm인 장치에서 반응로(301)의 저온 영역의 길이는 100 ∼ 200 mm가 되고, 고온 영역의 길이는 300 ∼ 1,000 mm가 되는 반응로(301)에서 CNT 합성 실험을 하였다. 저온영역(304)의 온도는 250℃ 고온영역(306)의 온도는 970℃로 유지 되도록 전기히터(304, 306)를 작동시켰다. 기화기(209)에 탄소 소스 용매인 벤젠에 금속촉매 화합물 ; 디에틸 아이언((C5H5)2Fe)과 황 소스 화합물, 티오핀(C4H4S), 티오아세트아마이드(C2H5NS), 2-티오페논(C4H4OS)을 담고 기화기를 가열하여 기화시키고, 운반가스로 아르곤 가스를 공급기(201)로 부터 일정 유속(204), 450mℓ/min으로 저온 플라즈마 발생기(302)를 통과시키면서 반응을 계속하였다. 이 때 수소가스 공급기(101), 암모니아 가스 공급기(102)와 아르곤가스 공급기(104)로부터 이들 가스 각각을 3ℓ/min, 1ℓ/min와 7ℓ/min 유속으로 동시에 저온 플라즈마 발생기(302)를 통과시켰다. 이와 같은 합성 공정으로 1시간 30분 동안 CNT를 합성하였다. 이 합성이 진행되는 동안 환풍기(314)의 배기 유량은 55ℓ/min으로 조절하였다. 반응이 끝난 다음 반응로 하단의 수집기(303)와 필터(312)로부터 CNT를 회수하여 수득율은 87% 이었으며, 합성한 CNT의 평균 직경과 길이는 각각 9.7 nm와 28 nm 이었다.
본 발명에 의한 플라즈마 발생기를 부착한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치는 촉매금속 소스와 탄소 소스 용액을 기화시켜 고밀도 저온 플라즈마 발생기에서 이들 소스의 촉매금속과 탄소 소스 화합물을 플라즈마 성분(이온, 라디칼, 전자의 혼합물)으로 변환시켜 탄소나노튜브와 탄소나노섬유의 합성 순도와 생산 수득 율을 크게 향상시킨 장치이다. 이 장치는 반응 탄소 소스 가스 공급기, 비 활성 수송 가스 공급기가 부착된 촉매금속 용액 또는 탄소 소스 용액을 기화시키는 기화기가 부착되어 있다. 그리고 수직형 반응로는 상단 저온 영역과 하단 고온 영역으로 나누어 가열 히터가 부착되어 있으며, 저온 영역에 저온 플라즈마 발생기가 부착되어 있다. 이 장치는 기존의 단순한 분사기를 반응로의 저온 영역에 부착하여 탄소 소스 가스나 촉매금속 용액 기화가스의 열분해를 개시 반응으로 이용하는 것이 아니라 열분해보다 훨씬 분해능력이 우수하고 반응속도가 매우 빠른 플라즈마 분해반응을 이용하는 특징과 장점을 지니고 있다. 따라서 이장치를 이용하면 미반응 비정질 탄화수소의 함량이 매우 낮은 직경 10nm이하이고, 길이가 30 nm이하인 균일한 고 순도의 단일벽 탄소나노튜브(SWCNT) 또는 탄소나노섬유(CNF)를 고속으로 대량 합성할 수 있는 발명의 효과가 있다.
Claims (5)
- 네 개의 탄소 소스 가스 공급기, 유기금속촉매 용액 기화기와 고체유기화합물 분해 기화기가 부착되어 있고, 반응로의 내부 상단에 고밀도 저온 플라즈마 발생기가 장착된 저온영역, 고온 기상 합성영역, 개폐기와 조망경을 부착한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 수집기, 배기 후드와 진공 펌프시스템으로 구성된 플라즈마 발생기를 이용한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치.
- 제 1항의 장치를 사용하여 탄소 소스 가스 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 벤젠, 톨루엔, 놀말헥산, 사이크로헥산, 크실렌, 캐로신, 에테르, 아세톤, 클로르포름중 하나 또는 이들의 혼합가스와 촉매역할을 하는 암모니아 가스를 이용한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유의 합성.
- 제 1항의 장치를 사용하여 촉매 유기금속화합물 ; 아이언 펜타카보닐(Fe(CO)5), 니켈 펜타카보닐(Ni(CO)5), 암모늄 클로메이트(CrH8N2O4), 암모늄 크로믹설페이트(CrH4NO8S2), 크로머스 아세테이트(C4H6CrO4), 페로신(C10H10Fe), 암모늄 페리시아나이드(C6H12FeN9), 암모늄 페로시아나이드(C6H16FeN10), 코발터스 포메이트(C2H2CoO4), 코발터스 티오시아네이트(C2CoN2S2),니켈 아세테이트(C4H6NiO4), 니켈 포메이트(C2H2NiO4)를 유기용매 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 벤젠, 톨루엔, 놀말헥산, 사이크로헥산, 크실렌, 캐로신, 에테르, 아세톤, 클로르포름 또는 물에 용해한 이들의 단일 또는 혼합 용액을 기화시켜 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유의 합성.
- 제1항의 장치를 사용하여 유기 고체 화합물 콜타르, 프탈로시아닌, 계면활성제를 유기용매 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 벤젠, 톨루엔, 놀말헥산, 사이크로헥산, 크실렌, 캐로신, 에테르, 아세톤, 클로르포름에 용해한 이들의 단일 또는 혼합 용액을 기화시켜 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유의 합성.
- 제 1항의 장치를 사용하여 유기 황 화합물 ; 티오핀(C4H4S), 티오아세트아마이드(C2H5NS), 2-티오페논(C4H4OS)을 유기용매 ; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 벤젠, 톨루엔, 놀말헥산, 사이크로헥산, 크실렌, 캐로신, 에테르, 아세톤, 클로르포름에 용해한 이들의 단일 또는 혼합 용액을 기화시켜 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유의 합성.
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KR1020020078237A KR20040050409A (ko) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | 플라즈마 발생기를 이용한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치와 그 합성법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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KR1020020078237A KR20040050409A (ko) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | 플라즈마 발생기를 이용한 탄소나노튜브 또는 탄소나노섬유 기상합성장치와 그 합성법 |
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KR (1) | KR20040050409A (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100712690B1 (ko) * | 2005-07-19 | 2007-05-02 | 주식회사 제이오 | 루프형 탄소나노튜브 대량합성장치 및 탄소나노튜브대량합성방법 |
KR100844456B1 (ko) * | 2006-12-05 | 2008-07-08 | 한국전자통신연구원 | 탄소나노튜브 제조장치 및 제조방법 |
JP2021533076A (ja) * | 2019-06-19 | 2021-12-02 | ジィァンシー コパー テクノロジー リサーチ インスティテュート カンパニー リミテッドJiangxi Copper Technology Research Institute Co., Ltd. | カーボンナノチューブの製造装置及び方法 |
-
2002
- 2002-12-10 KR KR1020020078237A patent/KR20040050409A/ko not_active Application Discontinuation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100712690B1 (ko) * | 2005-07-19 | 2007-05-02 | 주식회사 제이오 | 루프형 탄소나노튜브 대량합성장치 및 탄소나노튜브대량합성방법 |
KR100844456B1 (ko) * | 2006-12-05 | 2008-07-08 | 한국전자통신연구원 | 탄소나노튜브 제조장치 및 제조방법 |
JP2021533076A (ja) * | 2019-06-19 | 2021-12-02 | ジィァンシー コパー テクノロジー リサーチ インスティテュート カンパニー リミテッドJiangxi Copper Technology Research Institute Co., Ltd. | カーボンナノチューブの製造装置及び方法 |
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