KR20040025815A - Method for manufacturing reflective object having prominence and depression surface and method for manufacturing liquid crystal display having the reflective object - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반사면에 미세한 요철형상을 구비한 반사체의 제조방법, 및 액정 표시장치의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a reflector having a fine concavo-convex shape on a reflective surface, and a method of manufacturing a liquid crystal display device.
휴대 전화나 휴대용 게임기 등의 휴대 전자기기에서는 그 배터리 구동시간이 사용시 편리함의 여부에 크게 영향을 미치기 때문에 소비전력을 억제할 수 있는 반사형 액정 표시장치를 표시부로 구비하고 있다. 반사형 액정 표시장치는 그 전면 (前面) 으로부터 입사되는 외광을 반사시키기 위한 반사막을 구비하고 있고, 그 형태로는 액정 패널을 구성하는 2 장의 기판 사이에 반사막을 내장한 것이나, 투과형 액정 패널의 배면측에 반투과막을 구비한 반사체를 배열 형성한 것이 알려져 있다.In portable electronic devices such as mobile phones and portable game consoles, since the battery driving time greatly affects convenience in use, a display unit is provided with a reflective liquid crystal display device that can reduce power consumption. The reflective liquid crystal display device includes a reflective film for reflecting external light incident from the front surface thereof, and in such a form, a reflective film is incorporated between two substrates constituting the liquid crystal panel, or the back of the transmissive liquid crystal panel. It is known to arrange | position the reflector provided with the transflective film at the side.
예를 들어, 일본 특허 제3019058호에 기재된 반사형 액정 표시장치에서는 액정층을 투과한 광을 반사시키기 위한 반사띠를 광을 산란시킬 때의 지향성이 다른 2 종류 이상의 영역으로 구성하고, 또한 상기 각 영역의 최대 치수가 가로 세로 5㎜ 이하로 되어 있다. 즉, 확산 지향성이 다른 영역을 1 화소 내, 또는 화소 단위로 혼합하여 필요한 반사 특성을 얻는다.For example, in the reflection type liquid crystal display device described in Japanese Patent No. 3019058, the reflection band for reflecting the light transmitted through the liquid crystal layer is composed of two or more kinds of regions having different directivities when scattering the light. The largest dimension of an area | region is set to 5 mm or less in width and length. That is, necessary reflection characteristics are obtained by mixing regions having different diffusivity in one pixel or in pixel units.
이와 같은 확산 반사성을 갖게 하는 반사띠 표면의 요철구조의 형성방법으로는, 일본 특허 제3019058호 또는 일본 공개특허공보 평9-54318호 등에 기재되어 있는 바와 같이 샌드 블라스트, 에천트에 의한 에칭, 포토리소그래피 등이 이용되고 필름 기재에 대해서는 엠보스 가공 등이 사용되고 있다.As a method of forming the uneven structure on the surface of the reflecting band having such diffuse reflectivity, as described in Japanese Patent No. 3019058 or Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-54318, etc., sand blasting, etching with an etchant, a photo Lithography or the like is used, and embossing or the like is used for the film substrate.
그러나, 상술한 형성방법에 의해 형성된 미세한 요철형상을 갖는 반사띠는 그 반사 특성을 원하는 상태로 제어하는 것이 매우 어렵다는 문제가 있었다. 이것은, 반사띠의 반사, 확산 특성에 이방성이나 비대칭성을 부여하기 위해서는 상기 요철형상을 적절하게 제어해야 하는데, 상술한 방법에서는 요철부의 분포에 랜덤성을 부여하는 것은 용이하지만 요철부가 등방적인 형상이 되어야 하기 때문이다.However, the reflecting band having a fine concavo-convex shape formed by the above-described forming method has a problem that it is very difficult to control the reflecting property to a desired state. In order to impart anisotropy or asymmetry to the reflection and diffusion characteristics of the reflection band, the uneven shape must be appropriately controlled. In the above-described method, it is easy to give randomness to the uneven part distribution, but the uneven part has an isotropic shape. Because it must be.
또, 반사 확산 특성을 제어하기 위해 상기 반사띠의 요철형상을 개별적으로 제어하여 형성할 수도 있지만, 가공 리드 타임의 연장이나, 제품수율의 저하, 이것들로 인해 생기는 제조비용의 큰 증가 등의 문제가 있다.In addition, in order to control the reflection diffusion characteristics, the irregularities of the reflection bands may be individually controlled to be formed. However, problems such as prolongation of the processing lead time, a decrease in the yield of the product, and a large increase in the manufacturing cost caused by these are caused. have.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로 랜덤한 요철형상을 구비한 반사체를 고효율적이며 고수율로 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로한다.The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a reflector having a random uneven shape with high efficiency and high yield.
또 액정 표시장치의 반사층 형성에 적용할 수 있는 미세 요철형상의 형성방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method of forming a fine concavo-convex shape applicable to the formation of a reflective layer of a liquid crystal display device.
도 1 은 본 발명에 관련되는 반사체의 구성의 일례를 나타내는 부분 사시도.1 is a partial perspective view showing an example of the configuration of a reflector according to the present invention.
도 2 의 A 는 도 1 에 나타낸 반사체에 형성된 오목부의 평면 구성도이며, 도 2 의 B 는 도 2 의 A 에 나타낸 G-G 선을 따른 단면 구성도.FIG. 2: A is a planar block diagram of the recessed part formed in the reflector shown in FIG. 1, B of FIG. 2 is sectional block diagram along the G-G line shown to A of FIG.
도 3 은 도 1 에 나타낸 반사체 (10) 에, 도 2 에서의 도시 우측에서 입사각 30°로 광을 조사하고, 수광각을 반사면 (반사막 (12) 표면) 에 대한 정반사 방향인 30°를 중심으로 ±30°의 범위 (0°∼ 60°; 0°가 액정 패널 (20) 의 법선 방향에 상당) 에서 회전시켜 반사체 (10) 의 반사율 (%) 을 측정한 결과를 나타내는 그래프.FIG. 3 irradiates light to the reflector 10 shown in FIG. 1 at an incidence angle of 30 ° on the right side of the illustration in FIG. 2, and centers the light-receiving angle at 30 ° which is the direction of normal reflection with respect to the reflecting surface (the surface of the reflective film 12). The graph which shows the result of having measured the reflectance (%) of the reflector 10 by rotating in the range of +/- 30 degree (0 degrees-60 degrees; 0 degrees correspond to the normal direction of the liquid crystal panel 20).
도 4 는 본 실시형태의 제조방법에서 반사체의 요철형상을 형성하기 위한 모형을 나타내는 사시 구성도.4 is a perspective configuration diagram showing a model for forming the uneven shape of the reflector in the manufacturing method of the present embodiment.
도 5 는 도 4 에 나타내는 모형을 사용하여 롤판을 제작하는 공정을 나타내는 단면 구성도.FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram showing a step of manufacturing a roll plate using the model shown in FIG. 4. FIG.
도 6 은 도 5 에 나타내는 공정에 의해 제작된 롤판의 단면 구조를 나타내는도면.The figure which shows the cross-sectional structure of the roll board produced by the process shown in FIG.
도 7 은 도 6 에 나타내는 롤판을 사용하여 반사체의 요철형상을 형성하는 공정을 나타내는 사시 구성도.FIG. 7 is a perspective configuration diagram showing a step of forming the uneven shape of the reflector using the roll plate shown in FIG. 6. FIG.
도 8 은 본 실시형태의 제조방법에 의한 유기막 가공 공정의 다른 예를 나타내는 사시 구성도.8 is a perspective configuration diagram showing another example of the organic film processing step by the manufacturing method of the present embodiment.
도 9 는 도 4 에 나타내는 모형 (15) 을 제작하기 위한 모형 제조장치의 일 실시형태를 나타내는 공정도.FIG. 9 is a process diagram showing an embodiment of a model production apparatus for producing the model 15 shown in FIG. 4. FIG.
도 10 은 도 9 에 나타내는 모형 제조장치에 구비된 압자의 선단형상의 일례를 나타내는 단면 구성도.The cross-sectional block diagram which shows an example of the tip shape of the indenter with which the model manufacturing apparatus shown in FIG. 9 was equipped.
도 11a 및 도 11b 는 본 실시형태의 제조방법에서 유기막에 형성되는 요철형상의 배열 패턴을 변경하는 경우의 제조 공정을 설명하기 위한 설명도.11A and 11B are explanatory views for explaining the manufacturing process at the time of changing the uneven | corrugated arrangement pattern formed in the organic film in the manufacturing method of this embodiment.
도 12 는 본 발명에 관련되는 반사체를 액정 표시장치의 반사층에 적용한 예를 나타내는 사시 구성도.12 is a perspective configuration diagram showing an example in which the reflector according to the present invention is applied to a reflective layer of a liquid crystal display device.
도 13 은 도 12 에 나타태는 액정 표시장치의 부분 단면 구성도.FIG. 13 is a partial cross-sectional view of the liquid crystal display shown in FIG. 12;
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols for the main parts of the drawings *
10: 반사체10: reflector
11: 유기막11: organic film
12: 금속 반사막12: metal reflective film
13: 오목부13: recess
15: 모형15: Model
17: 전사수지막17: transfer resin film
30: Ni 판30: Ni plate
31: Ni 막31: Ni film
35: 롤판35: roll plate
32: 완충재32: cushioning material
41: 모형 기재41: model description
47: 압자47: Indenter
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은 이하의 구성을 채택하였다.In order to achieve the above object, the present invention adopts the following configuration.
본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법은 유기막과, 이 유기막 상에 형성된 금속 반사막을 구비하고, 상기 유기막 표면에 다수의 오목부 또는 볼록부가 연속적으로 형성된 반사체를 제조할 때, 대략 원주형상의 모형 기재 표면에 미세한 요철형상이 형성된 모형을 사용하고, 이 모형을 전사수지막 상에 압압하면서 회전시켜 상기 전사수지막에 모형 표면형상을 전사하는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the reflector which concerns on this invention comprises an organic film and the metal reflecting film formed on this organic film, and when manufacturing the reflector in which the many concave part or convex part was continuously formed in the surface of the said organic film, it is a substantially cylindrical shape. Using a model having a fine concavo-convex shape formed on the surface of the model substrate, the model is rotated while pressing on the transfer resin film to transfer the model surface shape to the transfer resin film.
상기 구성의 제조방법은 광을 반사시키는 금속 반사막에 미세한 요철형상을 부여하여 반사광을 산란시키고, 특정 방향의 반사광 휘도가 돌출되어 높아지는 것을 방지하는 동시에, 넓은 각도 범위에서 높은 휘도가 얻어지도록 한 반사체의 제조에 바람직한 제조방법이다. 이러한 제조방법에는 수지 재료 등으로 이루어지는 유기막 표면의 미세 요철형상의 형성에 대략 원주형상의 모형 기재 표면에 미세한 요철형상이 형성된 모형이 이용된다. 즉, 전사수지막 상에서 상기 모형을 누르면서 돌림으로써 전사수지막에 모형의 미세 요철형상을 효율적으로 전사하고, 그 전사수지막을 유기막으로 사용하거나, 또는 전사수지막을 전사형으로 사용하여 유기막에 미세 요철형상을 형성하는 등의 수법에 의해 표면에 미세 요철형상이 형성된 유기막을 얻을 수 있다. 상기 모형이 대략 원주형상이기 때문에 가압력이대략 원주형상의 접촉면에 가해지므로 평판면에 대해 가압하는 경우에 비해 실질적으로 높아져 가공 정밀도가 향상될 뿐만 아니라, 압력이 모형의 전회 방향으로는 전사수지막의 길이에 제한이 없고, 대형 기판을 사용한 반사체의 제조에도 매우 용이하게 적용할 수 있어 반사체의 미세 요철형상의 형성을 매우 효율적으로 실시할 수 있다.The manufacturing method of the above constitution provides a fine concavo-convex shape to the metal reflecting film that reflects light, scatters the reflected light, prevents the reflected light brightness from a specific direction from protruding, and at the same time obtains a high brightness in a wide angle range. It is a preferable manufacturing method for manufacture. In this manufacturing method, a model in which a fine uneven shape is formed on a surface of a substantially cylindrical columnar base material for forming a fine uneven shape on the surface of an organic film made of a resin material or the like is used. That is, by pressing and rotating the model on the transfer resin film, the transfer of the fine concavo-convex shape of the model to the transfer resin film is carried out efficiently, and the transfer resin film is used as the organic film, or the transfer resin film is used as the transfer type, so The organic film in which the fine concavo-convex shape was formed in the surface can be obtained by methods, such as forming a shape. Since the model is roughly cylindrical, the pressing force is applied to the contact surface of the columnar shape substantially, so that the processing accuracy is improved as compared with the case of pressing against the flat surface, and the pressure is the length of the transfer resin film in the previous direction of the model. There is no restriction | limiting in this and it can apply to manufacture of the reflector using a large board | substrate very easily, and the formation of the fine uneven | corrugated shape of a reflector can be performed very efficiently.
다음으로, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법에서는, 상기 모형의 미세 요철형상이 전사된 상기 전사수지막 면 상에 상기 금속 반사막을 형성하여 반사체를 제작할 수 있다.Next, in the manufacturing method of the reflector which concerns on this invention, a reflector can be manufactured by forming the said metal reflecting film on the said transfer resin film surface to which the fine uneven | corrugated shape of the said model was transferred.
상기 구성의 제조방법은, 앞에 기재한 전사수지막을 그대로 유기막으로 사용하여 반사체를 구성하는 것이다. 이러한 제조방법에 의하면, 상기 모형 표면과 역요철형상의 미세 요철형상을 구비한 유기막 상에 금속 반사막을 적은 공정으로 제작할 수 있다.The manufacturing method of the said structure uses a transfer resin film | membrane as mentioned above as an organic film, and comprises a reflector. According to this manufacturing method, a metal reflective film can be produced on the organic film provided with the said model surface and the fine uneven | corrugated shape of inverse uneven | corrugated shape by a process with few steps.
다음으로, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법은, 상기 모형의 미세 요철형상이 전사된 전사수지막 상에 금속막을 형성하는 공정과, 상기 금속막을 전극으로 한 Ni 전주 (電鑄) 에 의해 Ni 판을 제작하는 공정과, 상기 Ni 판에 전사된 미세 요철형상을 유기막에 전사하는 공정을 갖는 구성으로 할 수도 있다.Next, the manufacturing method of the reflector which concerns on this invention is Ni by the process of forming a metal film on the transcription | transfer resin film to which the said fine uneven | corrugated shape of the said model was transferred, and Ni electroforming using the said metal film as an electrode. It can also be set as the structure which has a process of producing a board | plate, and the process of transferring the fine uneven shape transferred to the said Ni board | plate to an organic film.
상기 구성의 제조방법에서는, 모형의 미세 요철형상이 형성된 전사수지막을 원형으로 하여 Ni 전주에 의해 Ni 판을 제작하고, 그 Ni 판을 사용하여 유기막 가공을 실시한다. 따라서, 유기막 표면에 상기 모형과 역요철 형상이 형성된 반사체를 제작할 수 있다. 이러한 제조방법에서는 대략 원주형상의 모형으로 대형 Ni 판을 제작하여 유기막 가공을 실시할 수 있기 때문에, 특히 유기막 표면에 미세 요철형상을 형성하는 공정에서의 제조 효율을 높일 수 있다는 이점을 갖고 있다.In the manufacturing method of the said structure, Ni plate | board is produced by Ni electroplating, making the transfer resin film | membrane in which the model fine uneven | corrugated shape was formed circularly, and using this Ni board | substrate, organic film processing is performed. Therefore, the reflector in which the said model and the uneven | corrugated shape were formed in the organic film surface can be manufactured. In such a manufacturing method, since the large-size Ni plate can be manufactured with an approximately cylindrical shape, and an organic film process can be performed, the manufacturing efficiency especially in the process of forming a fine uneven shape on the surface of an organic film can be improved. .
다음으로, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법은, 상기 모형의 미세 요철형상이 전사된 전사수지막 상에 금속막을 형성하는 공정과, 상기 금속막을 전극으로 한 Ni 전주에 의해 Ni 판을 제작하는 공정과, 상기 Ni 판을 전극으로 하여 Ni 전주를 실시하고, 상기 Ni 판 상의 금속막 상에 Ni 막을 형성하는 공정과, 상기 Ni 막을 금속막으로부터 박리하는 공정과, 상기 Ni 막에 전사된 미세 요철형상을 유기막에 전사하는 공정을 갖는 구성으로 할 수 있다.Next, the manufacturing method of the reflector which concerns on this invention is a process of forming a metal film on the transfer resin film | membrane in which the fine uneven | corrugated shape of the said model was transferred, and producing a Ni plate by Ni electroplating which used the said metal film as an electrode. A step of performing Ni electroforming with the Ni plate as an electrode, forming a Ni film on the metal film on the Ni plate, peeling the Ni film from the metal film, and fine unevenness transferred to the Ni film. It can be set as the structure which has a process of transferring a shape to an organic film.
상기 구성의 제조방법은, 모형으로 제작된 전사수지막을 사용하여 Ni 판을 제작하고, 이 Ni 판을 원형으로 하는 Ni 전주를 다시 실시함으로써 모형과 역요철의 미세 요철형상을 구비한 Ni 막을 제작하고, 그 Ni 막을 사용하여 유기막 가공을 실시하는 것이다. 따라서, 이러한 제조방법에 의하면, 모형과 거의 동일한 미세 요철형상을 갖는 유기막을 형성할 수 있으므로 제작된 반사체의 반사 특성을 모형으로 피드백하기 쉬워져 반사 특성의 변경에 용이하며 신속하게 대응할 수 있게 된다.In the manufacturing method of the above configuration, a Ni plate is produced by using a transfer resin film made as a model, and a Ni film having a fine concavo-convex shape of a model and inverse irregularities is formed by performing a Ni electroplating which makes the Ni plate circular. The organic film is processed using the Ni film. Therefore, according to this manufacturing method, since an organic film having a fine uneven shape substantially the same as that of the model can be formed, it is easy to feed back the reflection characteristics of the produced reflector to the model, thereby making it possible to respond quickly to changes in the reflection characteristics.
다음으로, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법은, 상기 모형의 미세 요철형상이 전사된 전사수지막 상에 금속막을 형성하는 공정과, 상기 금속막을 전극으로 한 Ni 전주에 의해 Ni 판을 제작하는 공정과, 상기 Ni 판을 전극으로 하여 Ni 전주를 실시하고, 상기 Ni 판 상의 금속막 상에 Ni 막을 형성하는 공정과, 상기 Ni막을 금속막으로부터 박리하는 공정과, 상기 Ni 막의 배면측에 완충재를 배열 형성하고, 이 완충재를 내측으로 하여 대략 원주형상의 기체 둘레면에 상기 Ni 막을 두루 감음으로써 롤판을 제작하는 공정과, 상기 롤판을 유기막 상에 압압하는 동시에 회전시켜 상기 Ni 막 외면의 미세 요철형상을 상기 유기막 표면에 전사하는 공정을 갖는 구성으로 할 수도 있다.Next, the manufacturing method of the reflector which concerns on this invention is a process of forming a metal film on the transfer resin film | membrane in which the fine uneven | corrugated shape of the said model was transferred, and producing a Ni plate by Ni electroplating which used the said metal film as an electrode. Performing a Ni electroforming with the Ni plate as an electrode, forming a Ni film on the metal film on the Ni plate, peeling the Ni film from the metal film, and a buffer material on the back side of the Ni film. Forming a roll plate by wrapping the Ni film around the gas circumferential surface of the substantially cylindrical shape with the buffer material inwardly; and pressing and rotating the roll plate on the organic film to simultaneously rotate the fine film of the outer surface of the Ni film. It can also be set as the structure which has a process of transferring a shape to the said organic film surface.
상기 구성의 제조방법은 모형과 역요철의 미세 요철형상을 갖는 Ni 막을, 대략 원주형상으로 두루 감아 제작한 롤판을 사용하여 유기막 가공을 실시하는 것이다. 따라서, 본 제조방법에 의하면, 모형 표면과 거의 동일한 미세 요철형상을 구비한 반사체를 얻을 수 있다. 이러한 제조방법에 의하면, 판형상의 Ni 판을 유기막에 압압하여 형상을 전사하는 경우와 같이, 판과 유기막의 박리를 위한 공정을 별도로 준비하지 않고도 롤판의 회전과 함께 유기막 가공과, 유기막과 판의 이간이 실시되기 때문에 매우 효율적으로 유기막으로의 형상 전사 공정을 실시할 수 있다.The manufacturing method of the said structure performs an organic film process using the roll plate which wound and wound the Ni film | membrane which has a fine concavo-convex shape of a model and an inverse unevenness | corrugation throughout substantially cylindrical shape. Therefore, according to this manufacturing method, the reflector provided with the fine uneven | corrugated shape substantially the same as a model surface can be obtained. According to this manufacturing method, as in the case of pressing a plate-like Ni plate onto an organic film to transfer its shape, the organic film processing, the organic film and Since separation of a plate is performed, the shape transfer process to an organic film can be performed very efficiently.
또, 상기 구성에서는 Ni 막과 대략 원주형상의 기체 사이에 완충재가 형성되어 있기 때문에, 유기막 가공을 실시할 때, 유기막으로의 가압력이 제어되기 쉬워져 가공하기 쉽게 되는 동시에, Ni 막이나 유기막이 과압되어 파손되는 것을 효과적으로 방지할 수 있어 롤판의 장수명화와, 제작되는 유기막의 제품수율의 향상을 실현시킬 수 있다.In addition, in the above structure, since the buffer material is formed between the Ni film and the substantially cylindrical gas, the pressing force to the organic film is easily controlled when the organic film is processed, and the Ni film or organic It is possible to effectively prevent the film from being over-pressured and damaged, thereby realizing the long life of the roll plate and improving the product yield of the organic film to be produced.
다음으로, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법에서는, 상기 모형의 미세 요철형상이 내면에 구면의 일부를 포함하는 다수의 오목부가 연속적으로 배열된 형상인 것이 바람직하다.Next, in the manufacturing method of the reflector which concerns on this invention, it is preferable that the fine concavo-convex shape of the said model is a shape in which many concave parts containing a part of spherical surface are arranged continuously.
상기 구성으로 함으로써 반사체에 입사된 광을 광각으로 반사시켜 넓은 각도 범위로 높은 반사 휘도가 얻어지는 반사체를 제공할 수 있다.With the above configuration, it is possible to provide a reflector in which light incident on the reflector is reflected at a wide angle, whereby a high reflection luminance can be obtained in a wide angle range.
다음으로, 본 발명에 관련되는 액정 표시장치는, 대향 배치된 상부기판과 하부기판 사이에 액정층을 끼우고, 상기 하부기판의 액정측 면에 반사층을 구비한 액정 표시장치를 제조할 때, 상술한 본 발명의 반사체의 제조방법에 의해 상기 하부기판 상에 상기 반사층을 형성하는 것을 특징으로 하고 있다.Next, the liquid crystal display device according to the present invention, when the liquid crystal layer is sandwiched between the upper substrate and the lower substrate disposed opposite, and the liquid crystal display device having a reflective layer on the liquid crystal side of the lower substrate is described above, The reflective layer is formed on the lower substrate by the method of manufacturing a reflector of the present invention.
이러한 액정 표시장치의 제조방법에 의하면, 상술한 반사체의 제조방법이 적용됨으로써 매우 효율적으로 반사층의 형성을 실시할 수 있는 동시에, 반사체의 반사 특성의 변경에 대한 모형 표면형상의 변경이 용이하며, 다양한 반사 특성을 갖는 액정 표시장치를 용이하게 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of such a liquid crystal display device, by applying the above-described manufacturing method of the reflector, it is possible to form the reflecting layer very efficiently, and it is easy to change the model surface shape for the change of the reflecting property of the reflector, A liquid crystal display device having reflective characteristics can be easily manufactured.
발명의 실시형태Embodiment of the invention
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 참조하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described with reference to drawings.
(반사체의 제조방법)(Method of manufacturing reflector)
우선, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법에 의해 제작할 수 있는 반사체에 대해 설명한다. 도 1 은 본 발명에 관련되는 반사체의 구성의 일례를 나타내는 부분 사시도이며, 도 2 의 A 는 도 1 에 나타내는 반사체에 형성된 오목부의 평면 구성도이며, 도 2 의 B 는 도 2 의 A 에 나타낸 G-G 선을 따른 단면 구성도이다.First, the reflector which can be manufactured by the manufacturing method of the reflector which concerns on this invention is demonstrated. 1 is a partial perspective view showing an example of the configuration of a reflector according to the present invention, A in FIG. 2 is a plan configuration diagram of a recess formed in the reflector shown in FIG. 1, and B in FIG. 2 is GG shown in A of FIG. 2. It is a cross-sectional block diagram along a line.
도 1 에 나타낸 바와 같이, 반사체 (10) 는 Al 이나 Ag 등의 고반사율의 금속 반사막 (12) 과, 이 금속 반사막 (12) 에 소정 표면형상을 부여하기 위한 아크릴 수지 재료 등으로 이루어지는 유기막 (11) 을 구비한다. 이 유기막 (11) 표면에 복수의 오목부 (13) 가 형성되어 있고, 이 오목부 (13) 상에 형성된 금속 반사막 (12) 에 의해 반사성을 얻고 있다.As shown in FIG. 1, the reflector 10 is made of a metal reflecting film 12 having a high reflectance such as Al or Ag, and an organic film made of acrylic resin material or the like for imparting a predetermined surface shape to the metal reflecting film 12 ( 11) is provided. A plurality of recesses 13 are formed on the surface of the organic film 11, and reflectivity is obtained by the metal reflective film 12 formed on the recesses 13.
도 2 에 나타낸 바와 같이, 오목부 (13) 의 내면은 각각 반경이 다른 2 개의 구면의 일부인 제 1 곡면 (13a) 과, 제 2 곡면 (13b) 을 포함하고 있고, 이들 곡면 (13a,13b) 의 중심 (O1,O2) 은 오목부 (13) 의 최심점 (O) 의 법선 상에 배치되어 있고, 제 1 곡면 (13a) 은 O1을 중심으로 하는 반경 (R1) 의 구면의 일부로 되고, 제 2 곡면 (13b) 은 O2를 중심으로 하는 반경 (R2) 의 구면의 일부로 되어 있다. 그리고, 도 2 의 A 에 나타낸 평면도에서 오목부 (13) 의 최심점 (O) 을 통과하여 G-G 선과 직교하는 직선 (H) 근방에서 제 1 곡면 (13a) 과 제 2 곡면 (13b) 이 대략 구획되어 있다.As shown in FIG. 2, the inner surface of the recessed part 13 contains the 1st curved surface 13a which is a part of two spherical surfaces, respectively different in radius, and the 2nd curved surface 13b, These curved surfaces 13a and 13b are shown. of the center (O 1, O 2) is part of a spherical surface of radius (R1) centered on the are arranged on a normal to the first surface (13a) of the deepest point (O) are O 1 of the concave portion 13 and, a second surface (13b) is part of a spherical surface of radius (R2) of the center O 2. In the plan view shown in FIG. 2A, the first curved surface 13a and the second curved surface 13b are roughly divided in the vicinity of the straight line H passing through the deepest point O of the recess 13 and orthogonal to the GG line. It is.
도 3 은 상기 구성을 구비한 반사체 (10) 에, 도 2 에서의 도시 우측에서 입사각 30°로 광을 조사하고, 수광각을 반사면에 대한 정반사 방향인 30°를 중심으로 ±30°의 범위 (0°∼ 60°; 0°가 액정 패널 (20) 의 법선 방향에 상당) 에서 회전시켜 반사체 (10) 의 반사율 (%) 을 측정한 결과를 나타내는 그래프이다.FIG. 3 shows light reflecting on the reflector 10 having the above-described configuration at an angle of incidence of 30 ° on the right side of the drawing in FIG. It is a graph which shows the result of measuring the reflectance (%) of the reflector 10 by rotating in (0 degree-60 degree; 0 degree corresponds to the normal direction of the liquid crystal panel 20).
이 도면에 나타낸 바와 같이, 상기 구성을 구비한 반사체 (10) 에 의하면, 반경이 비교적 작은 구면으로 이루어지는 제 2 곡면 (13b) 의 경사각의 절대값이 비교적 크기 때문에, 반사광이 광각으로 산란되어 약 15°∼ 50°의 넓은 수광각범위로 높은 반사율을 얻을 수 있고, 또, 반경이 비교적 큰 구면으로 이루어지는 제 1 곡면 (13a) 에서의 반사에 의해 상기 제 2 곡면 (13b) 보다 특정 방향의 좁은 범위로 산란되는 반사가 생기기 때문에, 전체적으로 반사율이 정반사 방향인 30°보다 작은 각도에서 최대가 되고 그 피크 근방에서의 반사율도 높아진다. 그 결과, 반사체 (10) 에 입사되어 반사된 광의 피크가 정반사 방향보다 반사체 (10) 의 법선 방향에 가까운 측으로 시프트되므로 반사체 (10) 정면 방향의 반사 휘도를 높일 수 있다. 따라서, 예컨대 본 실시형태의 반사체 (10) 를 액정 표시장치의 반사층에 적용하면, 액정 표시장치의 정면 방향에서의 반사 휘도를 향상시킬 수 있고, 또 액정 표시장치의 관찰자 방향으로의 휘도를 높일 수 있다.As shown in this figure, according to the reflector 10 having the above constitution, since the absolute value of the inclination angle of the second curved surface 13b having a relatively small radius is relatively large, the reflected light is scattered at a wide angle and is about 15 degrees. A high reflectance can be obtained in a wide light receiving angle range of from 50 ° to 50 °, and a narrower range in a specific direction than the second curved surface 13b due to reflection on the first curved surface 13a having a relatively large spherical surface. Since the reflection scattered by the film | membrane generate | occur | produces, the reflectance becomes the maximum at the angle smaller than 30 degrees which is a specular reflection as a whole, and the reflectance in the vicinity of the peak also becomes high. As a result, since the peak of the light incident on the reflector 10 and reflected is shifted to the side closer to the normal line direction of the reflector 10 than the normal reflection direction, the reflection luminance in the front direction of the reflector 10 can be increased. Therefore, for example, when the reflector 10 of the present embodiment is applied to the reflective layer of the liquid crystal display device, the reflection luminance in the front direction of the liquid crystal display device can be improved, and the luminance in the observer direction of the liquid crystal display device can be increased. have.
다음으로, 상기 구성의 반사체를 제조하는 방법에 대해 도면을 참조하여 이하에 설명한다.Next, the method of manufacturing the reflector of the said structure is demonstrated below with reference to drawings.
도 4 는 본 실시형태의 제조방법에서 반사체의 요철형상을 형성하기 위한 모형을 나타내는 사시 구성도이며, 도 5 는 도 4 에 나타내는 모형을 사용하여 롤판을 제작하는 공정을 나타내는 단면 구성도이며, 도 6 은 도 5 에 나타내는 공정에 의해 제작된 롤판의 단면 구조를 나타내는 도면이며, 도 7 은 도 6 에 나타내는 롤판을 사용하여 반사체의 요철형상을 형성하는 공정을 나타내는 사시 구성도이다.4 is a perspective configuration diagram showing a model for forming the uneven shape of the reflector in the manufacturing method of the present embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram showing a step of producing a roll plate using the model shown in FIG. 4. 6 is a view showing a cross-sectional structure of a roll plate produced by the step shown in FIG. 5, and FIG. 7 is a perspective configuration diagram showing a step of forming the uneven shape of the reflector using the roll plate shown in FIG. 6.
우선, 도 4 에 나타낸 모형 (15) 은 그 둘레면의 가공 영역 (16) 에 미세한 오목부가 다수 형성된 영역을 갖는 원주형상의 부재로 납이나 구리, 놋쇠, 땜납, 스테인리스강 등으로 구성되어 있다. 이 모형 (15) 의 둘레면에 형성되는 오목부 형상은 도 1 에 나타내는 오목부 (13) 와 거의 동일한 형상이며, 이 둘레면 형상이 도 1 에 나타내는 유기막 (11) 의 표면형상에 상당한다. 다음으로, 도 5a 에 나타낸 바와 같이, 도 4 에 나타내는 모형 (15) 의 표면형상을 전사수지막 (17) 에 전사한다. 이 공정에서 모형 (15) 은 하측 이송롤러 (19) 와, 필요에 따라 형성되는 상측 이송롤러 (20) 사이에 이들 롤러 (19,20) 와 축평행하게 수직으로 배열되어 있다. 또한, 모형 (15) 과 하측 이송롤러 (19) 사이에 피가공물인 전사수지막 (17) 을 표면에 도포된 기판 (18) 이 통과할 수 있도록 되어 있고, 모형 (15) 및 하측 이송롤러 (19) 가 서로 미끄러짐없이 회전운동할 수 있도록 하기 위한 수단이 형성되어 있다. 상기 기판 (18) 의 이송 방향 상류측에 기판 (18) 상에 전사수지막 (17) 을 도포 형성하는 수지공급부 (22) 가 형성되어 있고, 모형 (15) 보다 하류측 기판 (18) 상방에 자외선 조사부 (24) 가 배열 형성되어 있다. 또한, 모형 (15) 에 의한 가압 가공에서 전사수지막 (17) 의 점도나 경도를 조정하기 위해 수지공급부 (22) 와 모형 (15) 사이의 기판 (18) 상방에 보조 자외선 조사수단을 형성할 수도 있다.First, the model 15 shown in FIG. 4 is a cylindrical member having a region where a large number of fine recesses are formed in the machining region 16 on the circumferential surface thereof, and is composed of lead, copper, brass, solder, stainless steel, or the like. The recessed part formed in the peripheral surface of this model 15 is a shape substantially the same as the recessed part 13 shown in FIG. 1, and this peripheral surface shape corresponds to the surface shape of the organic film 11 shown in FIG. . Next, as shown in FIG. 5A, the surface shape of the model 15 shown in FIG. 4 is transferred to the transfer resin film 17. In this process, the model 15 is arranged vertically parallel to these rollers 19 and 20 between the lower feed roller 19 and the upper feed roller 20 formed as needed. Further, the substrate 18 coated on the surface of the transfer resin film 17, which is a workpiece, is allowed to pass between the master 15 and the lower feed roller 19, and the master 15 and the lower feed roller ( Means are provided for allowing 19) to rotate without slipping from each other. The resin supply part 22 which apply | coats and forms the transfer resin film 17 on the board | substrate 18 is formed in the conveyance direction upstream of the said board | substrate 18, and is located above the downstream substrate 18 rather than the model 15. The ultraviolet irradiation part 24 is formed in an array. Further, in order to adjust the viscosity and the hardness of the transfer resin film 17 in the pressurization by the model 15, auxiliary ultraviolet irradiation means may be formed above the substrate 18 between the resin supply section 22 and the model 15. It may be.
상기 기판 (18) 은 유리 기판이나 플라스틱 기판, 수지 필름 기판 등을 사용할 수 있다. 또한, 수지공급부 (22) 에 의해 기판 (18) 상에 도포 형성되는 전사수지막 (17) 은 본 실시형태에서는 자외선 경화 수지를 사용하고 있지만, 열경화 수지일 수도 있고, 그 경우에는 자외선 조사부 (24) 를 히트 램프 등의 열원으로 하면 된다. 상기 이송롤러 (19,20) 는 기판 (18) 상에서 모형 (15) 을 미끄러지지 않게 회전시키기 위해 형성되어 있고, 모형 (15) 의 슬립이나 전사수지막 (17) 의 파손 등이 생기지 않으면 어떤 재질이어도 된다.As the said board | substrate 18, a glass substrate, a plastic substrate, a resin film substrate, etc. can be used. In addition, although the transfer resin film 17 apply | coated and formed on the board | substrate 18 by the resin supply part 22 uses ultraviolet curable resin in this embodiment, a thermosetting resin may be sufficient and in that case, an ultraviolet irradiation part ( 24) may be used as a heat source such as a heat lamp. The feed rollers 19 and 20 are formed to rotate the master 15 without slipping on the substrate 18, and may be made of any material unless slippage of the master 15 or breakage of the transfer resin film 17 occur. do.
상기 구성의 도 5a 에 나타낸 공정에서는 이송롤러 (19,20) 를 회전시킴으로써 모형 (15) 을 회전시킨 상태에서, 모형 (15) 과 하측 이송롤러 (19) 사이에 기판 (18) 을 삽입하여 기판 (18) 을 도시 우측 방향으로 이동시키면서 기판 (18) 상의 전사수지막 (17) 을 모형 (15) 표면에 눌러 모형 (15) 의 표면형상을 전사수지막 (17) 에 전사하고 전사수지막 (17) 표면에 요철면 (25) 을 형성한다. 전사수지막 (17) 은 기판 (18) 을 도시 우측 방향으로 이동시키면서 수지공급부 (22) 에 의해 수지 재료를 순차적으로 도포함으로써 형성하고, 모형 (15) 에 의한 형상 가공을 실시하기 전에 필요에 따라 자외선 조사수단에 의한 예비 경화를 실시하고, 모형 (15) 에 의한 가공 후에 자외선 조사부 (24) 에 의한 최종 경화를 실시하여 그 표면형상을 유지하도록 되어 있다. 이상의 공정에 의해 전사수지막 (17) 표면에 모형 (15) 과 역요철의 요철면 (25) 이 형성된 수지판 (26) 을 얻는다.In the process shown in FIG. 5A of the above structure, the substrate 18 is inserted between the master 15 and the lower transfer roller 19 while the master 15 is rotated by rotating the transfer rollers 19 and 20. While moving the 18 in the right direction, the transfer resin film 17 on the substrate 18 is pressed against the surface of the model 15 to transfer the surface shape of the model 15 to the transfer resin film 17, thereby transferring the transfer resin film ( 17) The uneven surface 25 is formed in the surface. The transfer resin film 17 is formed by sequentially applying the resin material by the resin supply unit 22 while moving the substrate 18 in the right direction as shown in the figure, and if necessary before performing the shape processing by the model 15. The preliminary curing by the ultraviolet irradiation means is carried out, the final curing by the ultraviolet irradiation section 24 is carried out after processing by the model 15, and the surface shape thereof is maintained. By the above process, the resin plate 26 in which the model 15 and the uneven surface 25 of the unevenness | corrugation were formed in the transfer resin film 17 surface is obtained.
다음으로, 도 5b 에 나타낸 바와 같이, 도 5a 에 나타내는 공정에 의해 얻어진 수지판 (26) 의 요철면 (25) 상에 금속막 (27) 을 형성한다. 다음으로, 금속막 (27) 을 전극으로 사용한 전해도금에 의해 Ni 막 (28) 을 형성한다 (Ni 전주). 상기 금속막 (27) 은 금도금막으로 하는 것이 바람직하고, 이들 금속막을 형성함으로써 금속막 (27) 과 Ni 막 (28) 의 박리를 Ni 막 (28) 에 파손이 생기지 않게 용이하게 실시할 수 있다.Next, as shown to FIG. 5B, the metal film 27 is formed on the uneven surface 25 of the resin plate 26 obtained by the process shown to FIG. 5A. Next, the Ni film 28 is formed by electroplating using the metal film 27 as an electrode (Ni pole). It is preferable that the said metal film 27 is a gold plated film, and by forming these metal films, peeling of the metal film 27 and the Ni film 28 can be performed easily so that damage may not occur to the Ni film 28. .
상기 금속막 (27) 및 Ni 막 (28) 의 막두께는 특별히 한정되지 않지만, 금속막 (27) 이 5㎚ ∼ 50㎚ 정도, Ni 막 (28) 이 30㎛ ∼ 200㎛ 정도로 하면 된다.Although the film thickness of the said metal film 27 and the Ni film 28 is not specifically limited, What is necessary is just to set the metal film 27 about 5 nm-about 50 nm, and the Ni film 28 about 30 micrometers-about 200 micrometers.
다음으로, 도 5b 에 나타낸 바와 같이 금속막 (27) 상에 Ni 막 (28) 을 형성하였다면, 이들 금속의 박막과, 수지판 (26) 을 박리하여 일면측에 모형 (15) 표면과 거의 동일한 요철형상이 형성된 Ni 막 (28) 과, Ni 막 (28) 의 요철형상을 따르는 금속막 (27) 으로 이루어지는 Ni 판 (30) 을 얻는다.Next, if the Ni film 28 was formed on the metal film 27 as shown in FIG. 5B, the thin film of these metals and the resin plate 26 were peeled off, and it was almost the same as the surface of the model 15 on one surface side. The Ni plate 30 which consists of the Ni film | membrane 28 in which the uneven | corrugated shape was formed, and the metal film 27 which conforms to the uneven | corrugated shape of the Ni film | membrane 28 is obtained.
다음으로, 도 5c 에 나타낸 바와 같이, 상기 공정으로 얻은 Ni 판 (30) 의 금속막 (27) 상에 Ni 전주에 의해 Ni 막 (31) 을 형성한다. 이 Ni 막 (31) 의 형성시에는 도 5b 에 나타낸 Ni 막 (28) 과 동일한 형성방법을 적용할 수 있다. 또, Ni 막 (31) 의 막두께는 특별히 한정되지 않지만, 30㎛ ∼ 200㎛ 로 하면 된다. 다음으로, 상기에서 형성한 Ni 막 (31) 을 금속막 (27) 으로부터 박리하여 모형 (15) 표면과 역요철의 표면형상을 갖는 Ni 판을 얻는다. 이 금속막 (27) 과 Ni 막 (31) 의 박리는 각 박막의 열팽창 차이를 이용함으로써 실시한다. 따라서, 금속막 (27) 으로 열팽창률이 작은 금 등을 사용함으로써 금속막 (27) 과 Ni 막 (31) 의 박리를 더욱 용이하게 실시할 수 있게 된다.Next, as shown to FIG. 5C, the Ni film | membrane 31 is formed by Ni electroforming on the metal film 27 of the Ni board 30 obtained by the said process. In forming the Ni film 31, the same formation method as that of the Ni film 28 shown in Fig. 5B can be applied. Moreover, the film thickness of the Ni film 31 is not specifically limited, What is necessary is just to be 30 micrometers-200 micrometers. Next, the Ni film 31 formed above is peeled from the metal film 27 to obtain a Ni plate having a surface of the master 15 surface and a surface irregularity. Peeling of this metal film 27 and Ni film 31 is performed by using the thermal expansion difference of each thin film. Therefore, by using gold etc. with a small thermal expansion coefficient as the metal film 27, peeling of the metal film 27 and Ni film 31 can be performed more easily.
다음으로, 도 5d 에 나타낸 바와 같이, 상기 공정으로 얻어진 Ni 판 (Ni 막 (31)) 의 요철면과 반대측 면에 고무 등의 탄성체로 이루어지는 완충재 (32) 를 점착한다. 그리고, 도 6 에 나타낸 바와 같이, 원주형상의 기체 (34) 에 완충재 (32) 를 내측으로 하여 감음으로써 모형 (15) 과 역요철의 표면형상을 갖는 롤판 (35) 이 얻어진다.Next, as shown to FIG. 5D, the shock absorbing material 32 which consists of elastic bodies, such as rubber | gum, is stuck to the surface on the opposite side to the uneven surface of the Ni board (Ni film 31) obtained by the said process. And as shown in FIG. 6, the roll board 35 which has the model 15 and the surface shape of back unevenness | corrugation is obtained by winding the buffer material 32 inside the cylindrical base 34. As shown in FIG.
그리고, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 유리나 플라스틱 등으로 이루어지는 제품기판 (37) 의 피가공 영역 (38) 에 자외선 경화 수지나 열경화 수지를 도포하여 유기막을 형성하고, 그 후 상술한 공정에 의해 제작된 롤판 (35) 을 회전시키면서 피가공 영역 (38) 에 압압함으로써 상기 피가공 영역 (38) 의 유기막 표면에 롤판 (35) 의 Ni 막 (31) 의 표면형상을 전사한다. 다음으로, 가공된 유기막을 자외선조사나 가열에 의해 경화시키고, 유기막 표면에 Al 이나 Ag 등의 고반사율의 금속 반사막을 형성함으로써 도 1 에 나타낸 본 실시형태에 관련되는 반사체를 얻을 수 있다.As shown in FIG. 7, an ultraviolet ray-curing resin or a thermosetting resin is applied to the workpiece region 38 of the product substrate 37 made of glass, plastic, or the like to form an organic film, and then produced by the above-described process. The surface shape of the Ni film 31 of the roll plate 35 is transferred to the organic film surface of the to-be-processed area 38 by pressing into the to-be-processed area 38, rotating the rolled plate 35 which was made. Next, the processed organic film is cured by ultraviolet irradiation or heating, and a metal reflecting film having a high reflectance such as Al or Ag is formed on the surface of the organic film to obtain a reflector according to the present embodiment shown in FIG. 1.
또한, 본 실시형태에 관련되는 반사체의 제조방법에서 유기막 가공에 사용되는 롤판 (35) 과, 피가공 영역 (38) 은 롤판 (35) 의 가공면 (Ni 면 (31) 표면의 요철형상이 형성된 영역) (35a) 의 폭 (W1) 이 피가공 영역 (38) 의 폭 (W2) 보다 넓고, 롤판 (35) 의 원주가 피가공 영역 (38) 의 길이 (L) 보다 길어지도록 조합된다. 이것은 도 6 에 나타낸 롤판 (35) 의 원주 상에, 도 5d 에 나타낸 Ni 막 (31) 을 완충재 (32) 와 함께 롤형상으로 두루 감은 이음매가 생기는 것 및, Ni 막 (31) 의 폭이 유한하다는 것에 의한다. 즉, 도 7 에 나타낸 공정에서 상기 롤판 (35) 의 이음매가 피가공 영역 (38) 상을 통과하지 않도록 해야 하며, 또 가공 영역 (35a) 의 폭 방향의 단부도 피가공 영역 (38) 에 들어가지 않도록 해야 하기 때문이다.In addition, in the manufacturing method of the reflector which concerns on this embodiment, the roll board 35 used for the organic film process, and the to-be-processed area | region 38 have the uneven shape of the process surface (Ni surface 31 surface of the roll board 35). The width W1 of the formed region 35a is wider than the width W2 of the region to be processed 38, and the circumference of the roll plate 35 is combined to be longer than the length L of the region to be processed 38. This results in a seam formed by rolling the Ni film 31 shown in FIG. 5D together with the cushioning material 32 in a roll shape on the circumference of the roll plate 35 shown in FIG. 6, and the width of the Ni film 31 is finite. By that. That is, in the process shown in FIG. 7, the seam of the said roll plate 35 should not pass through the process area | region 38, and the edge part of the width direction of the process area | region 35a also enters into the process area 38 Because you should not go.
본 실시형태의 제조방법에서 도 7 에 나타낸 피가공 영역 (38) 은 하나의 반사체의 유기막으로 구성되어 있어도 되고, 복수 반사체의 유기막을 포함하여 구성되어 있어도 된다. 또한, 도 8 에 나타낸 바와 같이, 롤판 (35) 의 폭 (W1) 보다 작은 폭 (W2) 을 갖는 복수의 피가공 영역 (38A) 이 배열 형성된 제품기판 (37A) 을 사용하고, 롤판 (35) 을 사용한 가공을 각 피가공 영역 (38A) 에 대해 실시하도록 할 수도 있다. 즉, 롤판 (35) 을 한 바퀴 회전시켜 가공할 수 있는 영역의 면적과, 피가공 영역 (38,38A) 의 면적이 상술한 관계로 되어 있으면 피가공 영역 (38,38A) 내에 형성되는 유기막의 구획이나 제품기판 (37,37A) 의 치수 등에 제한은 없다.In the manufacturing method of this embodiment, the to-be-processed area | region 38 shown in FIG. 7 may be comprised with the organic film of one reflector, and may be comprised including the organic film of multiple reflectors. In addition, as shown in FIG. 8, using the product board 37A in which the several to-be-processed area | region 38A which has the width W2 smaller than the width W1 of the roll board 35 is arranged, the roll board 35 is used. Machining using this may be performed for each of the workpiece regions 38A. That is, if the area of the area | region which can be processed by rotating the roll plate 35 and the area of the to-be-processed area | region 38 and 38A have the above-mentioned relationship, the organic film formed in the to-be-processed area | region 38 and 38A will be carried out. There are no restrictions on the dimensions of the compartments and the product substrates 37 and 37A.
또, 상술한 설명에서는 모형 (15) 과 역요철의 롤판 (35) 을 제작하고, 제품기판 (37) 의 유기막 상에 모형 (15) 과 대략 동일한 형상의 요철을 형성하는 경우에 대해 설명하였지만, 본 발명에 관련되는 제조방법에서는 제품기판 (37) 의 가공시에 다양한 형태를 채택할 수 있다. 예를 들어, 모형 (15) 을 사용하여 직접 제품기판 (37) 의 유기막 가공을 실시할 수도 있고, 그 경우에는 도 1 및 도 2 에 나타내는 반사체 (10) 와는 역요철의 표면형상을 갖는 반사체를 제조할 수 있다. 또한, Ni 막 (31) 을 롤판 (35) 의 형태로 하지 않고 판형상으로 유지한 상태로 유기막에 압압하여 제품기판 (37) 을 가공해도 된다. 또한, 동일한 가공에는 Ni 막 (28) 도 적용할 수 있다.In addition, in the above description, the case where the model 15 and the roll plate 35 of the concave-convex and concave-convex are produced, and the concave-convex of approximately the same shape as the model 15 is formed on the organic film of the product substrate 37 is explained. In the manufacturing method according to the present invention, various forms can be adopted at the time of processing the product substrate 37. For example, the organic film processing of the product board | substrate 37 can also be performed directly using the model 15, In that case, the reflector which has a surface shape of inverse unevenness with the reflector 10 shown to FIG. 1 and FIG. Can be prepared. In addition, the product substrate 37 may be processed by pressing the Ni film 31 on the organic film while keeping the Ni film 31 in the form of a plate rather than in the form of a roll plate 35. In addition, Ni film 28 can also be applied to the same process.
(모형의 제조방법)(Production method of model)
다음으로, 도 4 에 나타낸 모형 (15) 의 제조방법에 대해 설명한다. 도 9 는 도 4 에 나타낸 모형 (15) 을 제작하기 위한 모형 제조장치의 일 실시형태를 나타내는 공정이다. 이 도면에 나타내는 모형 제조장치 (40) 는 원주형상의 모형 기재 (41) 와, 모형 기재 (41) 상방에 배치되고, 모형 기재 (41) 표면에 오목형상의 압흔을 타각 (打刻) 하기 위한 압자 (47) 를 그 요부로 구비하고 있고, 상기 모형 기재 (41) 는 그 일측 단면 (도시 좌측 측면) 에 걸어맞춤부 (44) 를 통하여접속된 기재 구동부 (45) 에 의해 그 축둘레에 회전이 자유롭게 되어 있다. 또, 상기 압자 구동부 (압자 구동수단) (48) 는 슬라이더 (56) 에 지지되어 상기 모형 기재 (41) 의 길이 방향 (도시 좌우 방향) 으로 이동이 자유롭게 되고, 압자 구동부 (48) 와 슬라이더 (56) 에 의해 기재 (41) 를 가공하기 위한 가공 헤드를 이루고 있다. 상기 모형 기재 (41) 에는 납이나 놋쇠, 땜납, 스테인리스강 등의 소성 가공이 비교적 용이한 금속 재료의 기재가 사용된다.Next, the manufacturing method of the model 15 shown in FIG. 4 is demonstrated. FIG. 9: is a process which shows one Embodiment of the model manufacturing apparatus for manufacturing the model 15 shown in FIG. The model manufacturing apparatus 40 shown in this figure is arrange | positioned above the model base material 41 of a column shape, and the model base material 41, and is for angle | cornering the indentation indentation to the model base material 41 surface. The indenter 47 is provided as the main part, and the said model base material 41 is rotated about the axis by the base material drive part 45 connected through the engaging part 44 to the one end surface (left side figure shown). This is free. In addition, the indenter drive unit (indenter drive unit) 48 is supported by the slider 56 to move freely in the longitudinal direction (shown in the left and right directions) of the model base material 41, and the indenter drive unit 48 and the slider 56 are free. ) To form a processing head for processing the base material 41. As the model base material 41, a base material of a metal material having a relatively easy plastic working process such as lead, brass, solder, stainless steel, or the like is used.
걸어맞춤부 (44) 는 기재 구동부 (45) 에 접속되는 동시에 상기 모형 기재 (41) 의 일단측을 끼워맞춰 고정시키고 있고, 상기 기재 구동부 (45) 에 의해 모형 기재 (41) 를 회전시킬 수 있도록 되어 있다. 또한, 상기 기재 구동부 (45) 는 수 ㎛ ∼ 수백 ㎛ 의 피치로 모형 기재 (41) 의 축둘레 위치를 제어할 수 있도록 되어 있다. 그로 인해, 기재 구동부 (45) 에는 서보 모터나 스테핑 모터 등의 미소 회전량을 제어할 수 있는 구동수단이 사용된다.The engaging portion 44 is connected to the substrate driving part 45 and at the same time fixes one end side of the model substrate 41 so that the model substrate 41 can be rotated by the substrate driving part 45. It is. Moreover, the said base material drive part 45 is able to control the position around the axis of the master base material 41 in the pitch of several micrometers-several hundred micrometers. Therefore, the drive means which can control micro rotation amount, such as a servo motor and a stepping motor, is used for the base material drive part 45. As shown in FIG.
또한, 상기 모형 기재 (41) 는 축둘레의 중심 위치 정밀도를 유지하기 위한 수단, 예컨대 롤러 등의 보조 지지수단 (50) 에 의해 축지지되어 있다. 이 보조지지수단 (50) 은 모형 기재 (41) 의 축 방향으로 이동가능하게 구성되어 있다. 또, 보조지지수단 (50) 은 모형 기재 (41) 의 수직 방향으로 높이를 미세 조정하는 기능을 겸비하고 있어도 된다.In addition, the said model base material 41 is axially supported by the means for maintaining the center position precision of a circumference, for example, auxiliary support means 50, such as a roller. This auxiliary support means 50 is comprised so that a movement to the axial direction of the model base material 41 is possible. The auxiliary supporting means 50 may also have a function of finely adjusting the height in the vertical direction of the model base material 41.
상술한 바와 같이, 압자 (47) 는 압자 구동부 (48) 에 의해 모형 기재 (41) 의 직경 방향으로 이동이 자유롭게 되어 있고, 선단부 (도시 하방측) 를 향해 끝이 가늘게 형성되어 있고, 선단 (47a) 는 모형 기재 (41) 에 타각되는 압흔 형상으로가공되어 있다. 즉, 도 2 에 나타내는 형상의 오목부 (13) 를 갖는 도 1 의 반사체 (10) 를 제조하기 위한 모형을 제작하는 경우에는, 도 2 에 나타내는 오목부 (13) 와 역요철 형상을 압자 (47) 의 선단부 (47a) 에 형성한다. 도 10 은 도 2 에 나타낸 형상의 오목부 (13) 를 갖는 반사체를 형성하기 위한 모형 (15) 의 제작에 바람직한 압자의 선단부 (47a) 형상을 나타내는 단면 구성도이다. 이 도면에 나타내는 압자 (47) 는 그 선단부 (47a) 가 각각 반경이 다른 외측으로 볼록해지는 구면의 일부를 이루는 제 1 곡면 (47A) 과, 제 2 곡면 (47B) 을 포함하여 구성된 예를 나타내고 있다. 즉, 도 2 에 나타내는 오목부 (13) 의 제 1 곡면 (13a) 내면과 도 10 에 나타낸 제 1 곡면 (47A) 외면이 거의 일치하는 형상으로 되고, 제 2 곡면 (13b) 내면과 제 2 곡면 (47B) 외면이 거의 일치하는 형상으로 되어 있다.As described above, the indenter 47 is free to move in the radial direction of the master substrate 41 by the indenter driving unit 48, and is formed to have a thin end toward the tip portion (lower side shown), and the tip 47a. ) Is processed into an indentation shape that is stamped onto the model base material 41. That is, when manufacturing the model for manufacturing the reflector 10 of FIG. 1 which has the recessed part 13 of the shape shown in FIG. 2, the indenter 47 and the recessed and recessed shape shown in FIG. Is formed in the tip portion 47a. FIG. 10: is sectional drawing which shows the shape of the tip part 47a of the indenter suitable for preparation of the model 15 for forming the reflector which has the recessed part 13 of the shape shown in FIG. The indenter 47 shown in this figure has shown the example comprised in which the front-end | tip part 47a comprised the 1st curved surface 47A which forms a part of spherical surface which respectively protrudes outward from a radius, and the 2nd curved surface 47B. . That is, the inner surface of the 1st curved surface 13a of the recessed part 13 shown in FIG. 2, and the outer surface of the 1st curved surface 47A shown in FIG. 10 become substantially corresponded, and the inner surface of the 2nd curved surface 13b and the 2nd curved surface are (47B) The outer surface is almost in shape.
또한, 상기 선단부 형상은 제작되는 반사체의 오목부 (또는 볼록부) 형상에 따라 적절하게 변경할 수 있다. 압자 (47) 는 예컨대 스테인리스제 본체의 선단에 소정 형상으로 가공된 다이아몬드를 형성한 것을 사용할 수 있고, 초경강, 세라믹, 텅스텐 등이어도 된다. 이 압자 (47) 의 선단 (47a) 의 재질은 모형 기재 (41) 의 재질에 따라 적절하게 선택할 수 있다.In addition, the shape of the tip portion can be appropriately changed according to the shape of the concave portion (or the convex portion) of the reflector to be produced. The indenter 47 can use what formed the diamond processed to the predetermined shape at the front-end | tip of a stainless steel main body, for example, may be cemented carbide, ceramic, tungsten, etc. The material of the tip 47a of the indenter 47 can be appropriately selected depending on the material of the model base material 41.
압자 구동부 (48) 로는 상기 압자 (47) 를 상하 방향으로 구동시켜 모형 기재 (41) 의 가공을 실시할 수 있는 구동수단이면 문제없이 사용할 수 있고, 예컨대 솔레노이드나 피에조 소자 (압전 소자) 등을 바람직한 예로 들 수 있다.As the indenter drive unit 48, any drive means capable of driving the indenter 47 in the vertical direction to process the master substrate 41 can be used without any problem. For example, a solenoid, a piezo element (piezoelectric element), or the like is preferable. For example.
도 9 중, 가공 헤드 이동수단 (57) 은 가공 헤드 (압자 구동부 (48) 및 슬라이더 (56)) 를 모형 기재 (41) 의 축 방향을 따라 이동가능하게 지지하고 있고, 또한 직경 방향 위치결정 제어수단 (55) 과 걸어맞춰져 가공 헤드의 모형 기재 (41) 직경 방향의 위치제어도 가능하게 하고 있다. 그리고, 가공 헤드 이동수단 (57) 에 의해 가공 헤드는 0. 수 ㎛ ∼ 수 100㎛ 피치로 모형 기재 (41) 의 축 방향으로 이동할 수 있도록 되어 있다.In Fig. 9, the processing head moving means 57 supports the processing head (indenter drive unit 48 and slider 56) to be movable along the axial direction of the model substrate 41, and also the radial positioning control. It engages with the means 55, and the position control of the model base material 41 radial direction of a processing head is also enabled. And the processing head can move to the axial direction of the model base material 41 with the pitch of 0.1 micrometer-several 100 micrometers by the processing head moving means 57. As shown in FIG.
이상의 구성을 구비한 모형 제조장치 (40) 에 의해 모형 기재 (41) 의 가공을 실시하기 위해서는 우선, 도 9 에 나타낸 바와 같이 원주형상의 모형 기재 (41) 를 롤러 등의 보조지지수단 (50) 상에 탑재시키는 동시에 걸어맞춤부 (44) 에 고정시킨다. 또한, 슬라이더 (56) 에 지지된 압자 구동부 (48) 및 압자 (47) 를 상기 모형 기재 (41) 의 중심축 상방의 초기 위치 (예컨대 모형 기재 (41) 의 우측 단부) 로 이동시킨다. 상기 모형 기재 (41) 에는 전사수지막 (17) 의 폭보다 오목부 (42) 가 형성되는 영역의 기재 축 방향의 길이 (W) 가 큰 것을 선택한다. 또, 모형 기재 (41) 의 직경은 특별히 한정되지 않지만, 기재 (41) 의 직경이 지나치게 작으면 압자 (47) 에 의해 타각되는 피가공면의 곡률이 커져 가공 정밀도가 저하될 우려가 있기 때문에 실용상 적어도 10㎜φ정도 이상으로 하는 것이 바람직하다.In order to process the model base material 41 by the model manufacturing apparatus 40 provided with the above structure, as shown in FIG. 9, the auxiliary support means 50, such as a roller, carries out the cylindrical base material 41 as shown in FIG. It is mounted on the top and fixed to the engaging portion 44. In addition, the indenter driving part 48 and the indenter 47 supported by the slider 56 are moved to the initial position above the central axis of the said model base material 41 (for example, the right end part of the model base material 41). The model base material 41 is selected to have a length W in the substrate axial direction that is larger than the width of the transfer resin film 17 in the region where the concave portion 42 is formed. Moreover, although the diameter of the model base material 41 is not specifically limited, When the diameter of the base material 41 is too small, since the curvature of the to-be-processed surface angled by the indenter 47 may become large and processing precision may fall, it is practical It is preferable to set it as about 10 mm (phi) or more.
다음으로, 압자 구동부 (48) 를 작동시켜 압자 (47) 를 도시 하방으로 이동시키고, 압자의 선단 (47a) 에 의해 모형 기재 (41) 표면에 오목부 (42) 를 형성한다. 그 후 압자 (47) 를 상방으로 이동시켜 모형 기재 (41) 와 이간시키고, 다음으로 기재 구동부 (45) 를 동작시켜 소정 피치만큼 모형 기재 (41) 를 회전 구동시킨다. 또한, 가공 헤드 이동수단 (57) 에 접속된 직경 방향 위치결정 제어수단 (55) 을 동작시켜 슬라이더 (56) (및 압자 (47)) 를 소정 피치만큼 모형 기재 (41) 의 축 방향으로 이동시킨다. 이와 같이 하여 모형 기재 (41) 및 압자 (47) 의 이동이 완료되었다면, 상기와 동일하게 압자 구동부 (48) 를 동작시켜 압자 (47) 에 의한 모형 기재 (41) 표면으로의 오목부 (42) 의 타각을 실시한다.Next, the indenter drive part 48 is operated to move the indenter 47 below illustration, and the recessed part 42 is formed in the surface of the base material 41 by the tip 47a of the indenter. After that, the indenter 47 is moved upward to be spaced apart from the model substrate 41, and then the substrate driving unit 45 is operated to rotate the model substrate 41 by a predetermined pitch. In addition, the radial positioning control means 55 connected to the processing head moving means 57 is operated to move the slider 56 (and the indenter 47) in the axial direction of the model substrate 41 by a predetermined pitch. . When the movement of the master substrate 41 and the indenter 47 is completed in this manner, the indenter driving unit 48 is operated in the same manner as described above, and the recess 42 to the surface of the master substrate 41 by the indenter 47 is operated. Perform the rudder angle of.
그리고, 상기 공정을 순차적으로 반복 실시하고, 도 9 에 나타낸 바와 같이 오목부 (42) 를 모형 기재 (41) 표면에 대략 나선형상으로 형성해 간다. 이 공정에 의해 모형 기재 (41) 표면의 영역에 소정 범위의 피치와 깊이를 갖는 다수의 오목부 (42) 가 형성되고, 도 4 에 나타내는 가공 영역 (16) 을 구비한 모형 (15) 이 얻어진다.And the said process is repeated sequentially and as shown in FIG. 9, the recessed part 42 is formed in substantially spiral shape on the model base material 41 surface. By this step, a large number of concave portions 42 having a predetermined range of pitches and depths are formed in the region of the surface of the master substrate 41, and a model 15 having the machining region 16 shown in FIG. 4 is obtained. Lose.
상기 모형 제조장치 (40) 에 의해 제작되는 모형 (15) 은, 도 9 에 나타내는 바와 같이 오목부 (42) 가 대략 나선형상으로 연속적으로 형성되어 있으므로 모형 기재 (41) 의 둘레 방향에 이음매가 없는 모형이며, 이 모형 (15) 을 사용한 형상 전사에서 모형 (15) 의 회전 방향이면 연속적으로 가공을 실시할 수 있다는 이점을 갖고 있다. 따라서, 반복 재현성있게 미세 요철형상을 형성할 수 있는 동시에, 1 회의 가공으로 처리할 수 있는 피가공물의 면적을 크고 매우 효율적으로 반사체 표면의 미세 요철형상의 형성을 실시할 수 있다. 또한, 상기 서술한 반사체의 제조에 사용한 도 6 에 나타내는 롤판 (35) 을 제작하는 경우에도, 모형 (15) 에 이음매가 없기 때문에 롤판 (35) 의 직경을 크게 할 필요가 생겨도 모형 (15) 에 의한 전사수지막 (17) 의 가공 길이를 길게 함으로써 용이하게 대응할 수 있다.As the model 15 produced by the model manufacturing apparatus 40, as shown in FIG. 9, since the recessed part 42 is continuously formed in substantially spiral shape, there is no seamless in the circumferential direction of the model base material 41. FIG. It is a model and it has the advantage that a process can be performed continuously if it is the rotation direction of the model 15 in the shape transfer using this model 15. Therefore, the fine concavo-convex shape can be formed repeatedly and reproducibly, and the fine concavo-convex shape on the surface of the reflector can be formed very largely and efficiently with a large area of the workpiece to be processed in one processing. In addition, even when manufacturing the roll plate 35 shown in FIG. 6 used for manufacture of the reflector mentioned above, since the model 15 does not have a seamless, even if it is necessary to enlarge the diameter of the roll plate 35, the model 15 is made into the model 15. FIG. By lengthening the process length of the transfer resin film 17 by this, it can respond easily.
또한, 상기 모형 제조장치 (40) 를 사용한 제조방법에 의하면 압자 (47) 의 선단부 (47a) 형상을 적절하게 변경하는 것만으로 임의 형상의 오목부 (42) 를 모형 기재 (41) 둘레면에 형성할 수 있으므로, 도 5 ∼ 도 7 에 나타내는 제조 공정에 의해 제작되는 반사체의 반사면형상의 변경에 매우 용이하게 대응할 수 있다. 따라서, 반사체의 설계 변경에 따른 리드 타임을 크게 단축시킬 수 있어 효율적으로 최적인 표면형상을 구비한 반사체를 제조할 수 있다.Moreover, according to the manufacturing method using the said model manufacturing apparatus 40, the recessed part 42 of arbitrary shape is formed in the circumferential surface of the model base material 41 only by changing the shape of the tip part 47a of the indenter 47 suitably. Since it can be made, it can respond very easily to the change of the reflecting surface shape of the reflector produced by the manufacturing process shown to FIGS. 5-7. Therefore, the lead time according to the design change of a reflector can be shortened significantly, and the reflector which has an optimal surface shape can be manufactured efficiently.
또한, 도 1 에 나타낸 반사체 (10) 를 예컨대 액정 표시장치의 반사층으로 적용하는 경우에는 반사체 (10) 의 반사면의 오목부 (13) 의 배열 패턴과, 액정 표시장치의 패턴형상 (예컨대, 화소 전극이나 컬러 필터, 블랙 마스크의 패턴) 이 간섭하여 므와르 (moire) 모양이 생기는 것을 피하기 위해, 상기 액정 표시장치의 패턴형상에 맞춰 반사체 (10) 의 오목부 (13) 의 배열 패턴을 변경해야 한다. 종래는 이와 같은 므와르 방지의 대책을 위해 액정 표시장치의 종류마다 다른 전사형을 준비하여 반사체의 유기막 가공을 실시하였지만, 상기 모형 제조장치 (40) 에 의해 제작되는 모형 (15), 및 이것을 사용한 반사체의 제조방법에 의하면 동일한 모형 (15) 또는 롤판 (35) 을 사용하면서 므와르 대책이 실시된 반사체 (10) 를 제작할 수 있다. 이 제조방법에 대해 도 11 을 참조하여 이하에 설명한다.In addition, when applying the reflector 10 shown in FIG. 1 as a reflecting layer of a liquid crystal display device, for example, the arrangement pattern of the recessed part 13 of the reflecting surface of the reflector 10, and the pattern shape of a liquid crystal display device (for example, a pixel) The arrangement pattern of the concave portion 13 of the reflector 10 is changed in accordance with the pattern shape of the liquid crystal display device in order to avoid the occurrence of a moire shape by interfering with an electrode, a color filter, or a pattern of a black mask). Should be. Conventionally, in order to prevent such a war, the transfer type for each type of liquid crystal display device is prepared, and the organic film processing of the reflector is carried out, but the model 15 produced by the model manufacturing apparatus 40, and this According to the manufacturing method of the reflector used, the reflector 10 by which the Mwar countermeasure was implemented while using the same model 15 or the roll plate 35 can be manufactured. This manufacturing method is demonstrated below with reference to FIG.
도 11a 및 도 11b 는 본 실시형태의 제조방법에서 유기막에 형성되는 요철형상의 배열 패턴을 변경하는 경우의 제조 공정을 설명하기 위한 설명도로, 모형 (15) 또는 롤판 (35) 을 사용하여 제품기판 (37) 에 배열 형성된 유기막 (38a) 을 가공하는 공정을 나타내고 있다. 또한, 도시 및 설명은 생략하지만, 도 11 에나타내는 것 이외의 공정은 도 5 및 도 6, 도 9 에 나타내는 반사체 및 모형의 제조방법에 준하는 것으로 한다.11A and 11B are explanatory views for explaining the manufacturing process in the case of changing the arrangement pattern of the uneven | corrugated shape formed in the organic film in the manufacturing method of this embodiment, Comprising: Product using the model 15 or the roll plate 35 The process of processing the organic film 38a arrange | positioned at the board | substrate 37 is shown. In addition, although illustration and description are abbreviate | omitted, processes other than what is shown in FIG. 11 shall be based on the manufacturing method of the reflector and model shown to FIG. 5, FIG. 6, and FIG.
본 실시형태에 관련되는 제조방법에서는 반사체의 요철의 배열 패턴이 다른 반사체 (또는 액정 표시장치) 를 제조할 때, 예컨대 어떤 하나의 제품에서는 도 11a 에 나타내는 바와 같이 제품기판 (37) 의 장변과 평행한 방향으로 모형 (15) 또는 롤판 (35) 을 유기막 (38a) 에 대해 압압하면서 회전하여 가공을 실시하고, 다른 종류의 제품기판 (37) 을 가공하는 경우에, 도 11b 에 나타낸 바와 같이 모형 (15) 또는 롤판 (35) 의 축을, 예컨대 각도 (θ) 만큼 회전시켜 제품기판 (37) 의 편 (片) 에 대해 경사지는 방향으로 모형 (15) 또는 롤판 (35) 을 돌려 가공을 실시함으로써 매우 용이하게 요철형상의 배열 패턴이 다른 유기막 (38a) 을 얻을 수 있다. 이러한 제조방법을 채택하면, 제조 공정을 거의 변경하지 않고 복수 종의 반사체 (액정 표시장치) 에서 므와르 대책을 강구할 수 있어 매우 효율적으로 반사체를 제조할 수 있다.In the manufacturing method according to the present embodiment, when manufacturing a reflector (or a liquid crystal display device) in which the irregularities of the reflectors are arranged differently, for example, in one product, as shown in FIG. 11A, the long side of the product substrate 37 is parallel. When the model 15 or the roll plate 35 is rotated while pressing against the organic film 38a in one direction, the machining is performed, and the other type of product substrate 37 is processed, as shown in Fig. 11B. (15) or by rotating the axis of the roll plate 35, for example by the angle (θ), by turning the master 15 or the roll plate 35 in a direction inclined with respect to the piece of the product substrate 37 to perform the machining The organic film 38a having a different arrangement pattern of irregularities can be obtained very easily. By adopting such a manufacturing method, it is possible to take a countermeasure to a moire from a plurality of kinds of reflectors (liquid crystal display devices) with little change in the manufacturing process, and the reflector can be manufactured very efficiently.
(액정 표시장치)(Liquid crystal display)
도 12 는 본 발명에 관련되는 반사체를 액정 표시장치의 반사층에 적용한 예를 나타내는 사시 구성도이며, 도 13 은 도 12 에 나타내는 액정 표시장치의 부분 단면 구성도이다.12 is a perspective configuration diagram showing an example in which the reflector according to the present invention is applied to the reflective layer of the liquid crystal display, and FIG. 13 is a partial cross-sectional configuration diagram of the liquid crystal display shown in FIG.
본 실시형태의 액정 표시장치는 도 12 및 도 13 에 나타낸 바와 같이 프런트라이트 (조명장치) (110) 와, 그 배면측 (도시 하면측) 에 배치된 반사형 액정 패널 (120) 을 구비하여 구성되어 있다.12 and 13, the liquid crystal display device of the present embodiment includes a front light (illumination device) 110 and a reflective liquid crystal panel 120 disposed on its rear side (lower surface side). It is.
도 12 에 나타낸 바와 같이, 프런트라이트 (110) 는 대략 평판형상의 투명 도광판 (112) 과, 그 측단면 (112a) 을 따라 배열 형성된 중간도광체 (113) 와, 이 중간도광체 (113) 의 편측 단면부에 배열 형성된 발광소자 (115) 와, 상기 중간도광체 (113), 발광소자 (115) 및 도광판 (112) 의 측단부를 덮도록 중간도광체 (113) 측에서 피착된 차광성 케이스체 (119) 를 구비한다. 즉, 상기 발광소자 (115) 와 중간도광체 (113) 가 프런트라이트 (110) 의 광원으로 되고, 도광판의 측단면 (112a) 이 도광판의 입광면으로 되어 있다. 또한, 도 12 에 나타낸 바와 같이, 도광판 (112) 의 외면측 (도시 상면측) 에 중간도광체 (113) 가 배열 형성된 입광면 (112a) 에 대해 경사진 방향으로 연재되도록 복수의 프리즘홈 (114) 이 배열 형성되어 있다.As shown in FIG. 12, the front light 110 includes a substantially flat transparent light guide plate 112, an intermediate light guide 113 arranged along the side cross-section 112a, and the intermediate light guide 113. A light-shielding case deposited on the side of the intermediate light guide 113 so as to cover the light emitting elements 115 arranged in one end surface portion and the side ends of the intermediate light guide 113, the light emitting device 115, and the light guide plate 112. A sieve 119 is provided. That is, the light emitting element 115 and the intermediate light guide 113 serve as the light source of the front light 110, and the side end surface 112a of the light guide plate serves as the light incident surface of the light guide plate. 12, the plurality of prism grooves 114 are extended so as to extend in a direction inclined with respect to the light incident surface 112a in which the intermediate light guide 113 is arranged on the outer surface side (upper surface side) of the light guide plate 112. ) Is arranged in an array.
액정 패널 (120) 은 대향 배치된 상부기판 (121) 과 하부기판 (122) 을 구비하며, 도 12 에 점선으로 나타내는 직사각형상의 영역 (120D) 이 액정 패널 (120) 의 표시영역으로 되고, 표시영역 (120D) 내에는 실제로는 액정 패널의 화소가 매트릭스형상으로 배열 형성되어 있다.The liquid crystal panel 120 includes an upper substrate 121 and a lower substrate 122 that are disposed to face each other, and the rectangular region 120D indicated by a dotted line in FIG. 12 serves as a display region of the liquid crystal panel 120. In 120D, the pixels of the liquid crystal panel are actually arranged in a matrix.
상기 구성의 액정 표시장치는 액정 패널 (120) 의 표시영역 (120D) 상에 도광판 (112) 이 배치되고, 이 도광판 (112) 을 투과하여 액정 패널 (120) 의 표시를 시인할 수 있도록 되어 있다. 또한, 외광이 얻어지지 않는 어두운 곳에서는 발광소자 (115) 를 점등시키고, 그 광을 중간도광체 (113) 를 통하여 도광판 (112) 의 입광면 (112a) 으로부터 도광판 내부로 도입하고, 도광판 (112) 의 도시 하면 (112b) 에서 액정 패널 (120) 을 향해 출사시켜 액정 패널 (120) 을 조사하도록 되어 있다.In the liquid crystal display device having the above-described configuration, the light guide plate 112 is disposed on the display area 120D of the liquid crystal panel 120, and the display of the liquid crystal panel 120 can be visually recognized through the light guide plate 112. . In a dark place where no external light is obtained, the light emitting element 115 is turned on, and the light is introduced into the light guide plate from the light incidence surface 112a of the light guide plate 112 through the intermediate light guide 113, and then the light guide plate 112 is turned on. ) Is emitted toward the liquid crystal panel 120 from the lower surface 112b to irradiate the liquid crystal panel 120.
프런트라이트 (110) 의 도광판 (112) 은 액정 패널 (120) 의 표시영역 상에 배치되어 발광소자 (115) 로부터 출사된 광을 액정 패널 (120) 에 낙사 (落射) 시키는 평판형상 부재로 투명한 아크릴수지 등으로 구성되어 있다. 도 13 의 부분 단면도에 나타낸 바와 같이, 도광판 (112) 의 도시 상면 (액정 패널 (120) 과 반대측 면) 은 단면에서 보아 쐐기형상의 프리즘홈 (114) 이 서로 평행하게 평면에서 보아 스트라이프형상으로 형성된 반사면 (112c) 으로 되어 있고, 도시 하면 (액정 패널 (120) 과 대향하는 면) 은 액정 패널 (120) 을 조명하기 위한 조명광이 출사되는 출사면 (112b) 으로 되어 있다. 상기 프리즘홈 (114) 은 반사면 (112c) 의 기준면 (N) 에 대해 경사지게 형성된 한쌍의 사면부로 구성되고, 이들 사면부의 한쪽이 완사면부 (114a) 로 되고, 다른 쪽이 이 완사면부 (114a) 보다 급한 경사각도로 형성된 급사면부 (114b) 로 되어 있다. 이 완사면부 (114a) 는 도광판 (112) 의 광전반 방향의 길이가 짧을수록 경사각도를 크게, 또 상기 길이가 길수록 경사각도를 작게 형성함으로써 프런트라이트 (110) 의 휘도 균일성을 높일 수 있다. 그리고, 도광판 (112) 내부를 도시 우측에서 좌측으로 전반하는 광을 반사면 (112c) 의 급사면부 (114b) 에 의해 출사면 (112b) 측으로 반사시켜 도광판 (112) 의 배면측에 배치된 액정 패널 (120) 을 향해 출사시키도록 되어 있다.The light guide plate 112 of the front light 110 is disposed on the display area of the liquid crystal panel 120 and is a flat acrylic member that flattens the light emitted from the light emitting element 115 to the liquid crystal panel 120. It consists of resin etc. As shown in the partial sectional view of FIG. 13, the upper surface of the light guide plate 112 (the surface opposite to the liquid crystal panel 120) is formed in a stripe shape in which the wedge-shaped prism grooves 114 are parallel to each other and viewed in plan view. It is a reflecting surface 112c, and when it shows in figure (the surface which opposes the liquid crystal panel 120), it becomes the emitting surface 112b which the illumination light for illuminating the liquid crystal panel 120 is radiate | emitted. The prism groove 114 is constituted by a pair of slope portions formed to be inclined with respect to the reference plane N of the reflection surface 112c, one of these slope portions is a slope surface portion 114a, and the other is the slope surface portion 114a. A steep slope 114b formed at a more steep inclination angle. The gentle slope 114a can increase the uniformity of the inclination angle of the light guide plate 112 as the length of the light guide plate 112 becomes shorter, and decrease the inclination angle of the light guide plate 112 as the length of the light guide plate 112 increases the luminance uniformity of the front light 110. And the liquid crystal panel arrange | positioned at the back side of the light-guide plate 112 by reflecting the light which propagates inside the light-guide plate 112 from the right side to the left side to the exit surface 112b side by the sudden-surface part 114b of the reflection surface 112c. It is made to exit toward 120.
액정 패널 (120) 은 컬러표시가 가능한 반사형의 패시브 매트릭스형 액정 패널로, 도 13 에 나타내는 바와 같이 대향 배치된 상부기판 (121) 과 하부기판 (122) 사이에 액정층 (123) 을 끼워 구성되고, 상부기판 (121) 의 내면측에 도시좌우 방향으로 연재되는 평면에서 보아 직사각형상의 복수 투명전극 (126a) 과 이 투명전극 (126a) 상에 형성된 배향막 (126b) 을 구비하고, 하부기판 (122) 의 내면측에는 반사층 (125), 컬러필터층 (129), 평면에서 보아 직사각형상의 복수 투명전극 (128a) 및, 배향막 (128b) 이 순착적으로 형성되어 있다.The liquid crystal panel 120 is a reflective matrix matrix liquid crystal panel capable of color display, and is formed by sandwiching the liquid crystal layer 123 between the upper substrate 121 and the lower substrate 122 which are arranged to face each other as shown in FIG. And a plurality of rectangular transparent electrodes 126a and an alignment film 126b formed on the transparent electrodes 126a in a planar view extending in the left-right direction on the inner surface side of the upper substrate 121, and having a lower substrate 122. ), A reflective layer 125, a color filter layer 129, a plurality of rectangular transparent electrodes 128a, and an alignment film 128b are formed in sequence on the inner surface side.
상부기판 (121) 의 투명전극 (126a) 과 하부기판 (122) 의 투명전극 (128a) 은 모두 직사각형상의 평면형상으로 형성되어 있고, 평면에서 보아 스트라이프형상으로 배열되어 있다. 그리고, 투명전극 (126a) 의 연재 방향과, 투명전극 (128a) 의 연재 방향은 평면에서 보아 서로 직교하도록 배치되어 있다. 따라서, 하나의 투명전극 (126a) 과 하나의 투명전극 (128a) 이 교차하는 위치에 액정 패널 (120) 의 1 도트가 형성되고, 각각의 도트에 대응하여 후술하는 3 색 (적,녹,청) 의 컬러필터 중 1 색의 컬러필터가 배치되도록 되어 있다. 그리고, R (적), G (녹), B (청) 으로 발색하는 3 도트가 액정 패널 (120) 의 1 화소를 구성하고 있다.The transparent electrode 126a of the upper substrate 121 and the transparent electrode 128a of the lower substrate 122 are both formed in a rectangular planar shape and are arranged in a stripe view in plan view. And the extending direction of the transparent electrode 126a and the extending direction of the transparent electrode 128a are arrange | positioned so that they may mutually orthogonally cross in plan view. Accordingly, one dot of the liquid crystal panel 120 is formed at a position where one transparent electrode 126a and one transparent electrode 128a intersect, and three colors (red, green, blue) described later corresponding to each dot are formed. The color filter of 1 color is arrange | positioned among the color filters of (). And three dots which generate | occur | produce in R (red), G (green), and B (blue) comprise one pixel of the liquid crystal panel 120. FIG.
컬러필터층 (129) 은 적, 녹, 청 각각의 컬러필터 (129R,129G,129B) 가 주기적으로 배열된 구성으로 되어 있고, 각 컬러필터는 각각 대응하는 투명전극 (128a) 의 하측에 형성되고, 각 화소마다 컬러필터 (129R,129G,129B) 의 쌍이 배치되어 있다. 그리고, 각각의 컬러필터 (129R,129G,129B) 와 대응하는 전극을 구동 제어함으로써 화소 표시색이 제어되도록 되어 있다.The color filter layer 129 has a configuration in which the red, green, and blue color filters 129R, 129G, and 129B are periodically arranged, and each color filter is formed below the corresponding transparent electrode 128a, A pair of color filters 129R, 129G, and 129B is disposed for each pixel. The pixel display color is controlled by driving control of the electrodes corresponding to the respective color filters 129R, 129G, and 129B.
다음으로, 도 13 에 나타낸 하부기판 (122) 의 내면측에 형성된 반사층 (125) 은 도 1 의 사시 구성도에 나타내는 구성을 구비한 것으로, 도 1 에 나타낸바와 같이 Al 이나 Ag 등의 고반사율의 금속 반사막 (12) 과, 이 금속 반사막 (12) 에 소정 표면형상을 부여하기 위한 아크릴 수지 재료 등으로 이루어지는 유기막 (11) 을 구비하여 구성되어 있다. 이 유기막 (11) 표면에 복수의 오목부 (13) 가 형성되어 있고, 이 오목부 (13) 상에 형성된 금속 반사막 (12) 에 의해 소정의 반사성을 얻고 있다. 따라서, 본 실시형태에 관련되는 액정 표시장치의 반사층 (125) 의 오목부 (13) 는 도 2 에 나타낸 형상을 갖고 있고, 도 3 에 나타낸 반사 특성을 갖고 있으므로 넓은 각도 범위로 고휘도의 반사표시가 가능한 동시에, 반사 휘도의 피크가 정반사 방향보다 패널 법선 방향으로 시프트되고 있기 때문에, 통상 액정 표시장치의 관찰자가 배치되는 패널 정면 방향의 휘도를 높일 수 있어 실질적으로 밝은 표시를 얻을 수 있다.Next, the reflective layer 125 formed on the inner surface side of the lower substrate 122 shown in FIG. 13 has the configuration shown in the perspective configuration diagram of FIG. 1, and as shown in FIG. The metal reflecting film 12 and the organic film 11 which consists of acrylic resin materials etc. for giving a predetermined surface shape to this metal reflecting film 12 are comprised. A plurality of recesses 13 are formed on the surface of the organic film 11, and predetermined reflectivity is obtained by the metal reflective film 12 formed on the recesses 13. Therefore, the concave portion 13 of the reflective layer 125 of the liquid crystal display device according to the present embodiment has the shape shown in FIG. 2 and the reflection characteristic shown in FIG. At the same time, since the peak of the reflected luminance is shifted in the panel normal direction rather than the specular reflection direction, the luminance in the panel front direction in which the observer of the liquid crystal display device is normally arranged can be increased, and a substantially bright display can be obtained.
본 실시형태에 관련되는 액정 패널 (120) 에 구비된 유기막 (11) 은 본 발명에 관련되는 제조방법에 의해 제작할 수 있고, 앞에 기재된 반사체의 제조방법에 의해 용이하며 재현성있게 제조할 수 있다. 또, 본 발명에 관련되는 반사체의 제조방법에 의하면 반사면의 요철형상의 배열 방향을 임의로 변경할 수 있으므로, 상기 제조방법을 적용함으로써 전극 (126a,128a) 이나 컬러필터층 (129) 의 피치에 변경이 생긴 경우라도 매우 용이하게 반사층 (125) 의 요철의 배열 패턴을 변경하여 무아레 모양이 생기는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.The organic film 11 with which the liquid crystal panel 120 which concerns on this embodiment can be manufactured can be manufactured by the manufacturing method which concerns on this invention, and can be manufactured easily and reproducibly by the manufacturing method of the reflector described above. In addition, according to the manufacturing method of the reflector according to the present invention, since the arrangement direction of the concave-convex shape of the reflecting surface can be arbitrarily changed, the pitch of the electrodes 126a and 128a and the color filter layer 129 can be changed by applying the manufacturing method. Even if it occurs, it is possible to change the arrangement pattern of the unevenness of the reflective layer 125 very easily to effectively prevent the moire shape from occurring.
이상 설명에서는 패시브 매트릭스형 반사형 액정 표시장치에 적용한 예를 설술하였지만, 본 발명의 반사체의 제조방법 및 액정 표시장치의 제조방법은 반사형 또는 반투과 반사형 액정 표시장치에도 적용할 수 있고, 또 액티브 매트릭스형 액정 표시장치에도 적용할 수 있다. 이들 액티브 매트릭스형 액정 표시장치에 적용한 경우, 기판 제작비용을 저감시킬 수 있어 유효하다.In the above description, the example applied to the passive matrix reflective liquid crystal display device has been described, but the method of manufacturing the reflector and the liquid crystal display device of the present invention can be applied to a reflective or transflective liquid crystal display device. The present invention can also be applied to an active matrix liquid crystal display device. When applied to these active matrix liquid crystal display devices, the substrate fabrication cost can be reduced, which is effective.
이상 상세하게 설명한 바와 같이, 본 발명의 반사체의 제조방법은 유기막과, 이 유기막 상에 형성된 금속 반사막을 구비하고, 상기 유기막 표면에 다수의 오목부 또는 볼록부가 연속적으로 형성된 반사체를 제조할 때, 대략 원주형상의 모형 기재 표면에 요철형상이 형성된 모형을 사용하고, 이 모형을 전사수지막 상에 압압하면서 회전시켜 상기 전사수지막에 모형 표면형상을 전사하는 공정을 갖는 구성을 채택함으로써, 전사수지막 상에서 상기 모형을 누르면서 돌림으로써 전사수지막에 모형의 미세 요철형상을 효율적으로 전사할 수 있다. 이 전사수지막은 유기막으로 사용하여 반사체를 구성할 수도 있고, 또는 전사수지막을 전사형으로 사용하여 유기막에 미세 요철형상을 형성하는 등의 수법에 의해 표면에 미세 요철형상을 갖는 유기막을 형성하여 반사체를 제작할 수도 있다. 또, 상기 모형이 대략 원주형상이기 때문에 모형의 전회 방향으로는 전사수지막의 길이에 제한이 없고, 대형 기판을 사용한 반사체의 제조에도 용이하게 사용할 수 있어 반사체의 미세 요철형상의 형성을 매우 효율적으로 실시할 수 있다.As described in detail above, the method for manufacturing a reflector of the present invention includes an organic film and a metal reflecting film formed on the organic film, and a reflector having a plurality of concave portions or convex portions continuously formed on the surface of the organic film can be manufactured. In this case, by employing a model having a roughly cylindrical model substrate surface having irregularities formed thereon, and adopting a configuration in which the model is rotated while being pressed on the transfer resin film to transfer the model surface shape to the transfer resin film. By pressing and rotating the model on the transfer resin film, the fine concavo-convex shape of the model can be efficiently transferred to the transfer resin film. The transfer resin film may be used as an organic film to form a reflector, or by using a transfer resin film as a transfer type to form an organic film having a fine concavo-convex shape on the surface by a method such as forming a fine concavo-convex shape on the organic film. You can also make. In addition, since the model is substantially cylindrical in shape, there is no limitation on the length of the transfer resin film in the previous direction of the model, and it can be easily used for the manufacture of the reflector using a large substrate, thus forming the fine concavo-convex shape of the reflector very efficiently. can do.
다음으로, 본 발명의 액정 표시장치의 제조방법은 대향 배치된 상부기판과 하부기판 사이에 액정층을 끼우고, 상기 하부기판의 내면측에 반사층을 구비한 액정 표시장치를 제조할 때, 상술한 본 발명의 반사체의 제조방법에 의해 상기 하부기판 상에 상기 반사층을 형성하는 구성으로 함으로써 우수한 반사 특성을 갖는 반사층을 재현성있게 매우 효율적으로 형성할 수 있고, 또 제조 효율이 높은 액정 표시장치의 제조를 가능하게 하는 것이다.Next, the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, when sandwiching the liquid crystal layer between the opposing upper substrate and the lower substrate, and manufacturing a liquid crystal display device having a reflective layer on the inner surface side of the lower substrate, According to the configuration of forming the reflective layer on the lower substrate by the method of manufacturing the reflector of the present invention, it is possible to form a reflective layer having excellent reflective characteristics very efficiently and reproducibly, and to manufacture a liquid crystal display device having high manufacturing efficiency. To make it possible.
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