KR20040013837A - 포토 레지스트 자동공급장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토레지스트 자동공급장치에 관한 것으로서, 포토레지스트가 공급되며 그 상부에 용기덮개가 마련된 저장용기; 상기 용기를 소정의 위치로 이송하는 이송수단 및; 소정위치로 이송된 상기 용기의 상측에 승ㆍ하강 가능하게 설치되어 상기 용기로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급장치를 포함하며; 상기 포토레지스트 공급장치는 상기 포토레지스트 공급원과 연결된 연결배관과; 상기 연결배관의 단부측에 연결되어 상기 용기덮개의 상측에 끼워지는 커버부와; 상기 용기덮개 중앙부에 형성된 관통홀에 삽입되는 노즐부로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한 포토레지스트명 판독수단은 상기 포토레지스트 저장용기의 일측에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트와; 상기 이송수단의 일측에 상하로 승ㆍ하강 가능하게 설치되어 상기 포토레지스트명을 센싱하는 센싱수단과; 상기 포토레지스트명 인쇄시트의 위치를 상기 센싱수단에 대향시키도록 저장용기를 상ㆍ하 이동시키고, 회전시키는 회전판으로 구성된다.
이에 의하여 수작업으로 교환할 때의 번거로움을 덜고 포토레지스트 오투입을 방지하여 웨이퍼 파손을 방지할 수 있다.

Description

포토 레지스트 자동공급장치{PHOTO RESIST AUTO SUPPLY DEVICE}
본 발명은 포토레지스트 공급 시스템에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 제조라인 내의 포토레지스트를 수용하는 용기를 자동으로 교환하기 위한 포토레지스트 공급장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 공정에는 확산공정,포토공정, 식각공정, 임플란트공정, 씬필름공정의 순서대로 진행되며, 하나의 반도체가 공정이 완료되기까지는 이러한 공정순서가 수차례에서 수십차례 반복해야 하며 특히 포토공정은 반복되는 과정마다 거치게 되므로 매우 중요하고 어려운 과정이다.
상기 포토 공정의 진행에는 포토레지스트라는 화학물질이 필수적으로 사용되며, 이 포토레지스트를 라인내의 포토공정 설비로 공급하기 위해 소정의 용기에 공급하게 된다.
이때, 종래에는 포토레지스트가 포토레지스트 공급탱크에서 용기에 공급될 때 사람이 직접 용기를 교환한다. 따라서 수작업으로 용기를 교환함에 따라 용기를 떨어뜨릴시 포토레지스트에 의한 인체사고가 발생하거나, 포토레지스트가 공급되지 않은 빈 용기가 발생하거나 다양한 종류의 포토레지스트가 용기에 잘못 공급됨에 따라 도포불량을 발생시키는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은포토공정에 공급될 포토레지스트를 소정의 용기에 공급할 때 포토레지스트를 자동 교환하여 공급함으로서 작업 로스 및 포토레지스트 용기 교환 미스로 인한 도포불량에 따른 웨이퍼의 파손 방지를 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 실시예의 포토레지스트 자동공급장치 개략도,
도 2는 본 발명에 따른 실시예의 용기덮개,
도 3은 본 발명에 따른 실시예의 포토레지스트 공급장치 사시도,
도 4는 본 발명에 따른 실시예의 포토레지스트 공급장치 노즐부,
도 5는 본 발명에 따른 실시예의 포토레지스트명 판독수단이다.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
10 : 이송수단 20 : 저장용기
21 : 용기덮개 22 : 관통홀
23 : 커버시트 30 : 포토레지스트 공급장치
31 : 커버부 32 : 노즐부
33 : 포토레지스트 연결배관 34 : 포토레지스트 공급원
35 : 이동블럭 36 : 이송축
37 : 이동체 40 : 포토레지스트명 판독수단
41 : 포토레지스트명 인쇄시트 42 : 센싱수단
50 : 회전판 51 : 구동축
52 : 모터
상기 목적은, 본 발명에 따라 포토레지스트가 공급되며 그 상부에 용기덮개가 마련된 저장용기; 상기 용기를 소정의 위치로 이송하는 이송수단 및; 소정위치로 이송된 상기 용기의 상측에 승ㆍ하강 가능하게 설치되어 상기 용기로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급장치를 포함하며; 상기 포토레지스트 공급장치는 상기 포토레지스트 공급원과 연결된 연결배관과; 상기 연결배관의 단부측에 연결되어 상기 용기덮개의 상측에 끼워지는 커버부와; 상기 용기덮개 중앙부에 형성된 관통홀에 삽입되는 노즐부로 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치에 의해 달성된다.
여기서, 상기 이송수단의 일측에는 상기 포토레지스트 저장용기 외부에 부착된 포토레지스트명을 판독하기 위한 포토레지스트명 판독수단이 추가로 설치된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치가 바람직하다.
또한, 상기 포토레지스트명 판독수단은 상기 포토레지스트 저장용기의 일측에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트와; 상기 이송수단의 일측에 상하로 승ㆍ하강 가능하게 설치되어 상기 포토레지스트명을 센싱하는 센싱수단과; 상기 포토레지스트명 인쇄시트의 위치를 상기 센싱수단에 대향시키도록 저장용기를 상기 포토레지스트명 인쇄시트의 위치를 상기 센싱수단에 대향시키도록 저장용기를 상ㆍ하 이동시키고, 회전시키는 회전판으로 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치에 의해 달성된다.
한편, 상기 이송수단은 컨베이어 벨트인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치가 바람직하다.
그리고, 상기 저장용기의 관통홀은 상기 노즐 삽입시 관통이 용이하도록 얇게 제작된 커버시트로 덮여진 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치가 바람직하다.
또한, 상기 커버시트는 은박지로 된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치가 바람직하다.
이하 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 실시예의 포토레지스트 자동교환장치로서 도시된 바와 같이, 크게 이송수단(10), 저장용기(20), 포토레지스트 공급장치(30) 그리고, 포토레지스트명 판독수단(40)으로 구성된다.
상기 이송수단(10)은 대표적으로 컨베이어 벨트를 사용할 수 있는데, 상기 컨베이어 벨트는 양측에 롤러에 의해 구동되는 벨트를 구비하며, 컨베이어 벨트 하부에 위치한 회전판(50)이 벨트 사이로 승ㆍ하강할 수 있도록 저장용기(20)의 하면 양측 단부만 지지한다.
상기 저장용기(20)는 반도체 리소그래피(Lithography) 설비 중 포토 스피너(Photo spinner)설비에서 도포공정에 사용되는 화학약품인 포토레지스트를 저장하는 용기이다.
포토레지스트는 빛, 방사, 열 등 여러 형태의 에너지에 노출되었을 때 내부 구조가 바뀌는 특성을 가진 혼합물이므로 장시간 보관시 굳어버리는 성질이 있어서 중앙공급을 할 수 없다.
따라서, 포토레지스트는 포토레지스트 공급원(34)에 일정량을 확보하여 상기 저장용기(20)를 불투광성으로 마련하여 임시 저장하고 공급관으로 연결된 포토공정 설비에 공급된다.
또한 저장용기(20)는 용기덮개(21)를 구비하는데 상기 용기덮개(21)는 저장용기(20)에 포토레지스트 공급시 포토레지스트가 저장용기(20) 외부로 흘러내리는 것을 방지하기 위해 마련되므로 포토레지스트 분사 후 용기덮개(21)를 장착하는 번거로움을 덜기 위해서 저장용기(20)를 컨베이어 벨트에 세팅시 장착된다.
도 2는 본 발명에 따른 실시예의 용기덮개로서 도시된 바와 같이 가운데 관통홀(22)을 형성하고 노즐부(32)의 삽입시 관통이 용이하도록 은박지로 대표되는 얇은 커버시트(23)가 관통홀(22)을 포함하는 용기덮개(21)에 부착된다.
상기 포토레지스트 공급장치(30)는 도 3에 도시된 바와 같이 저장용기(20)가 이송되는 이송수단(10)의 일측에 승ㆍ하강구동수단(E)에 의해 상하로 승ㆍ하강 가능하게 설치되는 것으로서, 그 구성은 상기 승ㆍ하강구동수단(E)를 이루는 이동체(37)의 저면에 연결된 커버부(31)와, 일단이 이동체(37) 및 상기 커버부(31)에 관통 연결됨과 그 타단측이 포토레지스트 공급원(34)과 연결된 연결배관(33)과, 상기 커버부(31)의 저면에 설치되어 상기 연결배관(33)의 일단측과 연결됨과 아울러 그 단부가 상기 저장용기(20)의 관통홀(22)에 삽입되는 노즐부(32)로 구성된다.
상기 도 3에서 미설명부호(36)는 상기 이동체(37)를 상하로 구동시키는 이송축을 나타내며, 부호(35)는 상기 이동체(37)의 이동을 가이드하는 이동블럭을 나타내며, 이때, 상기 이동체(37)는 상기 이송축(36)과 나사 결합되도록 너트 형상을 취한다.
도 4는 본 발명에 따른 실시예의 노즐부로서 상기 노즐부(32)는 텔레스코프형으로 형성되어 승ㆍ하강 가능하나, 분사 할 수 있는 다른 형태로 형성될 수 있다.
또한 노즐부(32)는 커버부(31)와 이동체(37)를 관통하여 연결배관(33)과 연결된다.
상기 포토레지스트명 판독수단(40)는 다양한 포토레지스트의 종류를 확인하여 저장용기(20)에 부착된 포토레지스트명과 동일한 종류로 공급하기 위한 수단이다.
따라서 도 5에 도시된 바와 같이 이송수단(10)에 의해 일측에 위치한 센싱수단(42) 앞에 저장용기(20)가 이송되면 상기 이송수단(10) 하부에 위치한 회전판(50)이 모터(52)에 의해 구동되는 구동축(51)에 의해 회전하여 상기 저장용기(20)를 회전시켜 저장용기(20) 외부에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트(41)가 센싱될 수 있도록 센싱수단(42)과 대향되는 위치로 회전시키도록 구성된다.
이때, 상기 포토레지스트명 판독수단(40)은 포토레지스트명 판독이 목적이므로, 상기 포토레지스트 공급장치(30)와 일체이거나 같은 위치에 있지 않아도 되며 포토레지스트 공급전의 위치에 설치하면 된다.
또한, 본 발명에 따른 실시예에서 포토레지스트 판독수단(40)은 대표적으로 저장용기(2) 외부에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트(41)는 바코드로, 센싱수단(42)은 바코드 리더기가 사용될 수 있다.
이와 같은 구성에 의한 포토레지스트 자동공급장치는 먼저 포토공정에서 사용된 후 수거된 포토레지스트 저장용기(20)에 용기덮개(21)를 장착하여 이송수단(10)의 일측에 올려놓으면 상기 이송수단(10)이 동작되어 센싱수단(42)이 위치하는 곳으로 이송한다.
이때, 이송수단(10) 하부에 위치한 회전판(50)은 이송된 저장용기(20)를 감지하면 구동축(51)이 상승하여 저장용기(20) 외부에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트(41)가 센싱수단(42)과 대향되게 저장용기(20)를 회전시키고 센싱수단(42)은 포토레지스트명 인쇄시트(41)로 부터 저장용기(20)의 포토레지스트명을 센싱한다.
상기 센싱수단(42)에 의해 포토레지스트명이 확인되면 이동체(37)는 이송축(36)을 따라 하강하고 노즐부(32)가 하강하여 용기덮개(21)의 관통홀(22)을 통해 커버시트(23)를 뚫고 저장용기(20)에 삽입되면 포토레지스트 공급원(34)에 저장된 포토레지스트는 연결배관(33)를 통해 노즐부(32)로 분사된다.
여기에서, 상기 센싱수단(42)에 의해 포토레지스트명과 저장용기(20)에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트(41)가 맞지않아 포토레지스트명이 확인되지 않으면 포토레지스트 공급장치(30)는 작동을 멈추게 되어 포토레지스트가 공급되지 않는다.
한편, 상기 저장용기(20)에 포토레지스트 분사가 완료되면 노즐부(32)가 상승하며 이동체(37)는 이송축(36)을 따라 상승하고 포토레지스트를 저장한저장용기(20)는 이송수단(10)에 의해 이송되고, 새로운 저장용기(20)가 세팅되어 상기 동작을 반복한다.
또한, 상기 회전판(50)은 모터(52)로 구동되는 구동축(51)에 의해 회전하고, 도시되지 않은 볼스크류나 에어실린더 등의 수단으로 승ㆍ하강할 수 있다.
전술된 바와 같이, 포토레지스트 공급원(34)에서 저장용기(20)로 포토레지스트 공급시 포토레지스트 저장용기(20)가 자동교환된다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 저장용기에 정확한 포토레지스트가 공급되었는지 포토레지스트명을 확인하는 단계를 갖게 되고, 포토레지스트가 저장된 용기를 빈 용기와 교환 시 자동으로 교환하게 됨에 따라 수작업으로 교환시의 시간과 노력의 번거로움을 덜고, 포토레지스트 교환 미스나 포토레지스트 오투입으로 인한 도포불량으로 웨이퍼 파손방지가 제공된다.
또한, 포토 설비는 공정 진행중이 웨이퍼에 포토레지스트를 지속적으로 원활하게 공급 가능함에 따라 포토 공정 진행과정에서 발생하는 포토레지스트 공급 중단 사고를 방지하여 공정 진행중이던 웨이퍼는 안전하게 공정을 진행 할 수 있는 신뢰성을 확보할 수 있는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 포토레지스트가 공급되며 그 상부에 용기덮개가 마련된 저장용기;
    상기 용기를 소정의 위치로 이송하는 이송수단 및;
    소정위치로 이송된 상기 용기의 상측에 승ㆍ하강 구동수단을 매개로 승ㆍ하강 가능하게 설치되어 상기 용기로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급장치를 포함하며;
    상기 포토레지스트 공급장치는 상기 포토레지스트 공급원과 연결된 연결배관과;
    상기 연결배관의 단부측에 연결되어 상기 용기덮개의 상측에 끼워지는 커버부와;
    상기 용기덮개 중앙부에 형성된 관통홀에 삽입되는 노즐부로 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 이송수단의 일측에는 상기 포토레지스트 저장용기 외부에 부착된 포토레지스트명을 판독하기 위한 포토레지스트명 판독수단이 추가로 설치된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 포토레지스트명 판독수단은 상기 포토레지스트 저장용기의 일측에 부착된 포토레지스트명 인쇄시트와;
    상기 승ㆍ하강 구동수단의 가이드 블럭 일측에 설치되어 상기 포토레지스트명을 센싱하는 센싱수단과;
    상기 포토레지스트명 인쇄시트의 위치를 상기 센싱수단에 대향시키도록 저장용기를 상ㆍ하 이동시키고, 회전시키는 회전판으로 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 이송수단은 컨베이어 벨트인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 저장용기의 관통홀은 상기 노즐 삽입시 관통이 용이하도록 얇게 제작된 커버시트로 덮여진 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 커버시트는 은박지로 된 것을 특징으로 하는 포토레지스트 자동공급장치.
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WO2022230613A1 (ja) * 2021-04-28 2022-11-03 東京エレクトロン株式会社 容器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019088189A1 (ja) * 2017-11-01 2019-05-09 東京エレクトロン株式会社 処理液供給システム、処理液供給装置、及びキャリア保管装置
KR20200070383A (ko) * 2017-11-01 2020-06-17 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 처리액 공급 시스템, 처리액 공급 장치, 및 캐리어 보관 장치
WO2022230613A1 (ja) * 2021-04-28 2022-11-03 東京エレクトロン株式会社 容器

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