KR20040012178A - 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치 - Google Patents

감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20040012178A
KR20040012178A KR1020020045620A KR20020045620A KR20040012178A KR 20040012178 A KR20040012178 A KR 20040012178A KR 1020020045620 A KR1020020045620 A KR 1020020045620A KR 20020045620 A KR20020045620 A KR 20020045620A KR 20040012178 A KR20040012178 A KR 20040012178A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photosensitive material
pressure
flow rate
cavity
slit coater
Prior art date
Application number
KR1020020045620A
Other languages
English (en)
Inventor
손형원
강호민
오세준
정성기
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020020045620A priority Critical patent/KR20040012178A/ko
Publication of KR20040012178A publication Critical patent/KR20040012178A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/161—Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
    • G03F7/0022—Devices or apparatus
    • G03F7/0025—Devices or apparatus characterised by means for coating the developer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및 이를 이용한 감광물질 도포 장치가 개시되어 있다. 감광물질을 공급받아 토출되기 이전에 내부에서 감광물질을 적어도 2 개의 캐비티 영역에 저장함으로써 감광물질의 공급량 및 토출량의 균일성을 향상시켜, 기판에 도포된 감광물질의 두께 균일성을 향상시켜 감광물질의 도포 불량에 따른 공정 불량을 최소화하는 효과를 갖는다.

Description

감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및 이를 이용한 감광물질 도포 장치{METHOD FOR COATING PHOTO SENSITIVE MATERIAL AND SLIT COATER AND APPARATUS FOR COATING PHOTO SENSITIVE MATERIAL}
본 발명은 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및 이를 이용한 감광물질 도포 장치에 관한 것으로, 특히, 기판에 띠 형상으로 도포되는 감광물질의 토출 압력을 균일하게 하여 감광물질로 이루어진 감광막의 두께 변화를 최소화함으로써 감광막에 얼룩 등이 발생하지 않도록 한 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및 이를 이용한 감광물질 도포 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 분야, 액정표시장치 분야에서는 특정 기능을 수행하는 박막, 예를 들면, 산화 박막, 금속 박막, 반도체 박막 등을 원하는 형상으로 패터닝하기 위해서는 광과 화학 반응하는 감광물질(sensitive material)이 사용된다.
이때, 감광물질은 박막이 형성된 기판에 매우 균일한 두께로 형성되어야 공정 중 불량이 발생하지 않는다.
예를 들어, 감광물질이 지정된 두께보다 두껍게 형성될 경우, 박막 중 원하는 부분이 식각 되지 않게 된다. 반면, 감광물질이 지정된 두께보다 얇게 형성될 경우, 박막이 원하는 식각량보다 더 많이 식각 되는 문제점이 발생된다.
스핀 코팅(spin coating) 방법은 기판에 감광물질을 떨어뜨린 후, 기판을 고속 회전시켜, 감광물질이 기판에 균일한 두께로 형성되도록 하는 대표적이 감광물질 코팅 방법이다.
이와 같은 스핀 코팅 방법은 웨이퍼(wafer)와 같이 크기가 작은 기판에 감광물질을 코팅하는데 특히 적합하다.
반면, 이와 같은 스핀 코팅 방법은 크기가 크고 중량이 무거운 기판, 예를 들면, 액정표시패널과 같이 웨이퍼에 비하여 크기가 매우 큰 액정표시장치에 사용되는 기판에 감광물질을 코팅하기에는 적합하지 않다.
이는 감광물질이 코팅될 기판이 크고 중량이 무거울수록 기판을 고속으로 회전시키기 매우 어려우며 기판 파손 등이 발생할 수 있으며, 에너지 소모가 매우 큰문제점을 갖기 때문이다.
최근에는 크기가 크고 중량이 무거운 기판에 감광물질을 코팅하기 위하여 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상의 노즐을 통하여 감광물질을 공급하여 면 형태로 감광물질을 도포하는 슬릿 코팅 방법이 개시된 바 있다.
그러나, 이와 같은 슬릿 코팅 방법은 폭은 좁고 길이가 긴 슬릿 형태의 노즐로 감광물질을 토출하여 기판에 코팅하기 때문에 중량이 무거운 기판에는 적합하지만, 토출 압력이 불 균일하여 감광막의 두께가 불균일해지고, 이로 인한 감광막 코팅 불량이 빈번하게 발생하는 또 다른 문제점을 갖는다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 제 1 목적은 감광물질의 토출 압력을 균일하게 함으로써 감광막 코팅 불량을 최소화한 감광물질 코팅 방법을 제공한다.
본 발명의 제 2 목적은 감광물질의 토출 압력을 균일하게 함으로써 감광막의 코팅 불량을 최소화한 슬릿 코터를 제공한다.
본 발명의 제 3 목적은 감광물질의 토출 압력을 균일하게 함으로써 감광막의 코팅 불량을 최소화한 감광물질 도포 장치를 제공한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 감광물질 코팅 방법을 도시한 순서도이다.
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 슬릿 코터의 외관 사시도이다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 제 2 슬릿 코터 몸체의 내부를 B 방향에서 본 측면도이다.
도 4는 도 2의 Ⅱ-Ⅱ 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 의한 감광물질 도포장치의 개념도이다.
이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 제 1 압력 및 제 1 유속으로 공급된 감광물질의 토출 압력이 균일하게 되도록 하기 위해 감광 물질을 제 1 폭 및 제 1 면적을 갖는 제 1 캐비티 영역으로 공급하여, 감광물질의 제1 압력 및 제 1 유속을 제 2 압력 및 제 2 유속으로 변경하는 단계, 제 2 압력 및 제 2 유속을 공급된 감광물질의 토출 압력이 보다 균일하게 되도록 제 1 폭 및 제 2 면적을 갖는 제 2 캐비티 영역으로 공급하여, 감광물질의 제 2 압력 및 제 2 유속을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경하는 단계, 제 2 캐비티 영역으로부터 제 3 압력 및 제 3 유속을 갖는 감광물질을 띠 형상으로 가공하여 토출하는 단계 및 토출된 감광물질을 기판에 균일한 두께로 도포하는 단계를 포함하는 감광막 도포 방법을 제공한다.
또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 직직육면체 형상으로 제 1 폭 및 제 1 높이로 제작된 평평한 측면을 갖는 제 1 슬릿 코터 몸체 및 제 1 폭 및 제 1 높이로 제 1 슬릿 코터 몸체의 측면에 결합되며, ⅰ) 외부로부터 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질을 공급받기 위한 감광물질 공급 홈, ⅱ) 제 1 면적으로 감광물질 공급 홈과 연결되어 감광물질이 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖도록 제 1 폭 방향으로 스프레드시키는 제 1 캐비티 홈, ⅲ) 제 1 캐비티 홈으로부터 공급된 감광물질의 제 2 압력 및 제 2 유속을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경하여 감광물질의 토출량을 균일하게 하기 위한 제 2 캐비티 홈 및 ⅳ) 제 2 캐비티 홈에 연결되며 감광물질을 토출하기 위한 노즐 홈을 포함하는 제 2 슬릿 코터 몸체를 포함하는 슬릿 코터를 제공한다.
또한, 본 발명의 제 3 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 감광물질을 공급하는 감광물질 공급 장치, 직육면체 형상으로 제 1 폭 및 제 1 높이로 제작된 평평한 측면을 갖는 제 1 슬릿 코터 몸체 및 제 1 폭 및 제 1 높이로 제 1 슬릿 코터 몸체의 측면에 결합되며, ⅰ) 감광물질 공급 장치로부터 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질을 공급받기 위한 감광물질 공급 홈, ⅱ) 제 1 면적으로 감광물질 공급 홈과 연결되어 감광물질이 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖도록 제 1 폭 방향으로 스프레드시키는 제 1 캐비티 홈, ⅲ) 제 1 캐비티 홈으로부터 공급된 감광물질의 제 2 압력 및 제 2 유속을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경하여 감광물질의 토출량을 균일하게 하기 위한 제 2 캐비티 홈 및 ⅳ) 제 2 캐비티 홈에 연결되며 감광물질을 토출하기 위한 노즐 홈을 포함하는 제 2 슬릿 코터 몸체를 포함하는 슬릿 코터, 슬릿 코터로부터 토출된 감광물질이 도포되는 기판, 슬릿 코터 및 기판을 상대 운동시켜 기판에 감광물질을 도포하기 위한 이송 장치를 포함하는 감광막 도포 장치를 제공한다.
본 발명에 의하면, 감광물질이 통과하는 경로 상에 적어도 2 개의 캐비티를 형성하여 감광물질의 토출량 및 토출 압력을 보다 안정화시킴으로써 대형 기판에 감광막을 띠 형상으로 도포하는 과정에서 발생하는 감광막 공정 불량을 극소화하는 효과를 갖는다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 감광물질 코팅 방법을 도시한 순서도이다.
먼저, 외부로부터 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질을 공급하는 단계가 수행된다(단계1).
이어서, 제 1 압력 및 제 1 유속으로 공급된 감광물질은 제 1 캐비티 영역으로 이송되어 제 1 캐비티 영역에서 제 2 압력 및 제 2 유속으로 변경된다(단계 2). 이때, 제 2 압력 및 제 2 유속은 제 1 압력 및 제 1 유속보다 낮다.
제 1 캐비티 영역에 저장된 감광물질은 제 2 압력 및 제 2 유속으로 연결 영역을 경유하여 제 2 캐비티 영역으로 공급되고, 제 2 캐비티 영역에서 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경된다(단계 3).
단계 2 및 단계 3을 거치면서 감광물질의 토출량은 순차적으로 균일해진다.
제 2 캐비티 영역에 저장된 감광물질은 제 3 압력 및 제 3 유속으로 다시 노즐 영역으로 이송되고, 감광물질은 노즐 영역에 의하여 띠 형상으로 형상이 가공된 후 토출된다(단계 4).
노즐 영역에서 토출된 감광물질은 기판에 균일한 박막 형태로 도포되기 시작한다(단계 5).
도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 슬릿 코터의 외관 사시도이다.
슬릿 코터(100)는 전체적으로 보아 제 1 슬릿 코터 몸체(110) 및 제 2 슬릿 코터 몸체(120)로 구성된다.
제 1 슬릿 코터 몸체(110) 및 제 2 슬릿 코터 몸체(120)는 개별 제작된 후 상호 조립된다.
제 1 슬릿 코터 몸체(110)는 전체적으로 보았을 때 속이 찬 직육면체 형상을 갖는다. 보다 구체적으로, 4 개의 측면 중 어느 한 면은 테이퍼(taper)진 형상을 갖는다.
이하, 제 1 슬릿 코터 몸체(110)중 제 1 폭(W1) 및 제 1 높이(H1)를 갖는 측면을 제 1 측면(112)이라 정의하기로 하며, 제 1 폭(W1) 및 제 2 높이(H2)를 갖는 측면을 제 2 측면(114)이라 정의하기로 한다.
또한, 제 1 두께(T1) 및 제 1 폭(W1)을 갖는 측면을 제 3 측면(116)이라 정의하기로 한다. 제 3 측면(116)과 마주보는 측면을 제 4 측면(118)이라 정의하기로 한다.
제 2 슬릿 코터 몸체(120)는 제 1 슬릿 코터 몸체(110)와 동일한 형상을 갖는다.
구체적으로, 제 2 슬릿 코터 몸체(120)는 속이 찬 직육면체 형상을 갖으며, 보다 구체적으로, 4 개의 측면 중 어느 한 면이 테이퍼(taper) 지도록 한 형상을 갖는다.
이하, 제 2 슬릿 코터 몸체(120)중 제 1 폭(W2) 및 제 1 높이(H3)를 갖는 측면을 제 1 측면(122)이라 정의하기로 하며, 제 1 폭(W2) 및 제 2 높이(H4)를 갖는 측면을 제 2 측면(124)이라 정의하기로 한다.
또한, 제 1 두께(T2) 및 제 1 폭(W2)을 갖는 측면을 제 3 측면(126)이라 정의하기로 한다. 제 3 측면(126)과 마주보는 측면을 제 4 측면(128)이라 정의하기로 한다.
이와 같은 제 1 슬릿 코터 몸체(110)의 제 1 측면(112) 및 제 2 슬릿 코터 몸체(120)의 제 1 측면(122)이 서로 맞닿도록 제 1 슬릿 코터 몸체(110) 및 제 2 슬릿 코터 몸체(120)는 상호 조립된다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 의한 제 2 슬릿 코터 몸체의 내부를 B 방향에서 본 측면도이다. 도 4는 도 2의 Ⅱ-Ⅱ 단면도이다.
도 3 또는 도 4를 참조하면, 제 2 슬릿 코터 몸체(120)는 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질이 공급되는 감광물질 공급 홈(126a), 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질을 제 2 압력 및 제 2 유속으로 변경시키는 제 1 캐비티 홈(124a), 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖는 감광물질을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경시키는 제 2 캐비티 홈(124b) 및 노즐 홈(124c)으로 구성된다.
감광물질 공급 홈(126a)은 제 3 측면(126)으로부터 제 4 측면(128)을 향하는 방향으로 형성되며, 바람직하게 경사지게 형성된다.
감광물질 공급 홈(126a)으로는 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질이 공급된다.
제 1 캐비티 홈(124a)은 감광물질 공급 홈(126a)과 연결된 홈이다. 제 1 캐비티 홈(124a)은 도 3에 도시된 바와 같이 감광물질 공급 홈(126a)의 단부로부터 제 1 구간(G1)에 이르기까지 점차 제 1 폭(W2) 방향으로 면적이 확대되는 형상을 갖는다.
이와 같은 제 1 캐비티 홈(124a)은 감광물질 공급 홈(126a)에서 공급된 감광물질이 스프레드되도록 함과 동시에 일정량의 감광물질이 제 1 캐비티 홈(124a)에서 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖도록 하여 감광물질이 균일한 압력으로 후술될 제 2 캐비티 홈(124b)으로 공급되도록 한다.
제 1 캐비티 홈(124a) 및 후술될 제 2 캐비티 홈(124b)의 사이에는 선택적으로 연결 홈(124d)이 2 구간(G2)에 형성된다.
연결 홈(124d)에는 제 2 캐비티 홈(124c)이 연결된다.
제 2 캐비티 홈(124c)은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이 제 1 폭(W2) 방향으로 적어도 1 개가 형성된 홈이다. 형상은 도시된 도 3에 자세하게 도시되어 있다.
이 제 2 캐비티 홈(124c)은 제 2 구간(G2)과 인접한 제 3 구간(G3)에 형성되며, 제 1 캐비티 홈(124a)에서 임시적으로 저장되었던 감광물질을 다시 한번 임시적으로 저장하여, 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖는 감광물질이 제 3 압력 및 제 3 유속을 갖도록 한다.
감광물질이 이처럼 제 1 캐비티 홈(124a) 및 제 2 캐비티 홈(124b)에 임시적으로 저장됨으로써 감광물질의 토출량 및 토출 압력을 보다 정밀하게 조절할 수 있다.
본 실시예에서는 바람직한 일실시예로 3 개의 제 2 캐비티 홈(124b)들이 형성되며, 제 2 캐비티 홈(124b)들은 상호 단속적으로 형성된다.
이때, 각각의 제 2 캐비티 홈(124b)은 감광물질의 압력 및 유량을 보다 균일하게 하기 위해서 오목한 단면을 갖는다.
노즐 홈(124c)은 제 2 캐비티 홈(124b)에 저장된 감광물질이 안정된 토출 압력 및 안정된 토출량으로 토출될 수 있도록 한다.
미설명 도면부호 124e는 에어 벤트(vent)홀이다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시예에 의한 감광물질 도포장치의 개념도이다.
도 5를 참조하면, 감광물질 도포 장치(600)는 다시 제어 유닛(200), 감광물질 공급장치(300), 슬릿 코터(100) 및 기판(400)이 탑재된 이송 장치(500)로 구성된다.
이들 구성 요소 중 슬릿 코터(100)는 앞서 첨부된 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 동일함으로 그 중복된 설명은 생략하기로 하며, 앞서 설명된 부분과 동일한 부분에 대해서는 동일한 도면부호 및 명칭을 사용하기로 한다.
감광물질 공급장치(300)는 감광물질을 저장하는 감광물질 탱크(310) 및 감광물질을 제 1 압력 및 제 1 유속으로 펌핑 하는 펌프(320)로 구성된다.
감광물질 공급장치(300)에서 펌핑 되는 감광물질의 제 1 압력 및 제 1 유속은 제어 유닛(200)의 제어 신호에 따른다.
감광물질 공급장치(300)에 연결된 감광물질 공급배관(330)은 슬릿 코터(100)의 감광물질 공급 홈(126a)에 연결되어 감광물질 공급 홈(126a)에 감광물질을 제 1 압력 및 제 1 유속으로 공급한다.
감광물질 공급 홈(126a)으로 제 1 압력 및 제 1 유속으로 공급된 감광물질의 압력 및 유속은 제 1 캐비티 홈(124a)에서 제 2 압력 및 제 2 유속으로 변경되고, 연결 홈(124d)을 거친 후, 제 2 캐비티 홈(124b)에서 제 3 압력 및 제 3 유속으로 압력 및 유속이 변경된 후 노즐 홈(124c)을 경유하여 슬릿 코터(100)의 외부로 토출된다.
슬릿 코터(100)의 외부로 토출된 감광물질을 기판(400)에 도포하기 위해서 슬릿 코터(100)의 노즐 홈(124c) 아래에는 기판(400)이 위치한다.
이때, 기판(400)에 감광물질을 도포하기 위해서는 이송 장치(500)를 필요로 한다.
이송 장치(500)는 슬릿 코터(100)와 기판(400)을 상대 운동시킨다. 본 실시예에서는 바람직하게 이송 장치(500)가 기판(400)을 슬릿 코터(100)에 대하여 상대 운동시킨다.
이때, 이송 장치(500)의 움직이는 속도, 이송 개시 시점은 모두 제어 유닛(200)의 제어 신호에 따른다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 부정형 감광물질이 적어도 1 개의 캐비티 영역을 통과하는 과정에서 띠 형상으로 가공되도록 함은 물론 매우 균일한 도포량으로 대형 기판의 전면에 걸쳐 박막 형태로 도포되도록 함으로써 감광막의 도포 불량을 최소화할 수 있는 효과를 갖는다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (10)

  1. 제 1 압력 및 제 1 유속으로 공급된 감광물질의 토출 압력이 균일하게 되도록 하기 위해 상기 감광 물질을 제 1 폭 및 제 1 면적을 갖는 제 1 캐비티 영역으로 공급하여, 상기 감광물질의 제 1 압력 및 제 1 유속을 제 2 압력 및 제 2 유속으로 변경하는 단계;
    제 2 압력 및 제 2 유속으로 공급된 상기 감광물질의 토출 압력이 보다 균일하게 되도록 제 1 폭 및 제 2 면적을 갖는 제 2 캐비티 영역으로 공급하여, 상기 감광물질의 제 2 압력 및 제 2 유속을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경하는 단계;
    상기 제 2 캐비티 영역으로부터 제 3 압력 및 제 3 유속을 갖는 상기 감광물질을 띠 형상으로 가공하여 토출하는 단계; 및
    토출된 상기 감광물질을 기판에 균일한 두께로 도포하는 단계를 포함하는 감광막 도포 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 영역은 상기 제 1 폭 방향으로 3 개가 단속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 감광막 도포 방법.
  3. 직육면체 형상으로 제 1 폭 및 제 1 높이로 제작된 평평한 측면을 갖는 제 1 슬릿 코터 몸체; 및
    상기 제 1 폭 및 제 1 높이로 상기 제 1 슬릿 코터 몸체의 측면에 결합되며,ⅰ) 외부로부터 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질을 공급받기 위한 감광물질 공급 홈, ⅱ) 제 1 면적으로 상기 감광물질 공급 홈과 연결되어 상기 감광물질이 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖도록 상기 제 1 폭 방향으로 스프레드시키는 제 1 캐비티 홈, ⅲ) 상기 제 1 캐비티 홈으로부터 공급된 상기 감광물질의 제 2 압력 및 제 2 유속을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경하여 상기 감광물질의 토출량을 균일하게 하기 위한 제 2 캐비티 홈 및 ⅳ) 상기 제 2 캐비티 홈에 연결되며 상기 감광물질을 토출하기 위한 노즐 홈을 포함하는 제 2 슬릿 코터 몸체를 포함하는 슬릿 코터.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 홈은 복수개가 단속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 홈은 3 개가 단속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
  6. 제 3 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 홈은 단면이 오목한 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.
  7. 감광물질을 공급하는 감광물질 공급 장치;
    직육면체 형상으로 제 1 폭 및 제 1 높이로 제작된 평평한 측면을 갖는 제 1슬릿 코터 몸체; 및
    상기 제 1 폭 및 제 1 높이로 상기 제 1 슬릿 코터 몸체의 측면에 결합되며, ⅰ) 상기 감광물질 공급 장치로부터 제 1 압력 및 제 1 유속을 갖는 감광물질을 공급받기 위한 감광물질 공급 홈, ⅱ) 제 1 면적으로 상기 감광물질 공급 홈과 연결되어 상기 감광물질이 제 2 압력 및 제 2 유속을 갖도록 상기 제 1 폭 방향으로 스프레드시키는 제 1 캐비티 홈, ⅲ) 상기 제 1 캐비티 홈으로부터 공급된 상기 감광물질의 제 2 압력 및 제 2 유속을 제 3 압력 및 제 3 유속으로 변경하여 상기 감광물질의 토출량을 균일하게 하기 위한 제 2 캐비티 홈 및 ⅳ) 상기 제 2 캐비티 홈에 연결되며 상기 감광물질을 토출하기 위한 노즐 홈을 포함하는 제 2 슬릿 코터 몸체를 포함하는 슬릿 코터;
    상기 슬릿 코터로부터 토출된 상기 감광물질이 도포되는 기판;
    상기 슬릿 코터 및 상기 기판을 상대 운동시켜 상기 기판에 상기 감광물질을 도포하기 위한 이송 장치를 포함하는 감광막 도포 장치.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 홈은 복수개가 단속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 감광막 도포 장치.
  9. 제 8 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 홈은 3 개가 단속적으로 형성된 것을 특징으로 하는 감광막 도포 장치.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 캐비티 홈은 단면이 오목한 것을 특징으로 하는 감광막 도포 장치.
KR1020020045620A 2002-08-01 2002-08-01 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치 KR20040012178A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020045620A KR20040012178A (ko) 2002-08-01 2002-08-01 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020020045620A KR20040012178A (ko) 2002-08-01 2002-08-01 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20040012178A true KR20040012178A (ko) 2004-02-11

Family

ID=37320186

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020045620A KR20040012178A (ko) 2002-08-01 2002-08-01 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20040012178A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101025103B1 (ko) * 2004-03-30 2011-03-25 엘지디스플레이 주식회사 슬릿노즐을 구비하는 포토레지스트 도포장치
CN108043662A (zh) * 2018-01-23 2018-05-18 佛山市雅路斯工业设备有限公司 一种涂布头

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101025103B1 (ko) * 2004-03-30 2011-03-25 엘지디스플레이 주식회사 슬릿노즐을 구비하는 포토레지스트 도포장치
CN108043662A (zh) * 2018-01-23 2018-05-18 佛山市雅路斯工业设备有限公司 一种涂布头

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4708726B2 (ja) 洗浄ユニット、これを有するコーティング装置及び方法
JP6804850B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法
US7452422B2 (en) Apparatus for coating photoresist having slit nozzle
KR100867893B1 (ko) 슬릿 노즐 및 이 노즐을 구비한 코팅 장치
US5773083A (en) Method for coating a substrate with a coating solution
JP2008253981A (ja) 塗布装置及びこれを利用したコーティング液の塗布方法
JPH09164357A (ja) 液体塗布装置
JP2006263535A (ja) スリットコータ
KR100923022B1 (ko) 감광물질 코팅 방법 및 장치
KR20070079820A (ko) 표시장치 제조용 슬릿 코터와 이를 이용한 표시장치의제조방법
KR20040012178A (ko) 감광물질 도포 방법, 이를 구현하기 위한 슬릿 코터 및이를 이용한 감광물질 도포 장치
US20060147621A1 (en) Slit coater
JP2004050026A (ja) 塗工装置
KR20050116417A (ko) 코팅물질 도포장치
KR101309037B1 (ko) 슬릿코터
KR100775122B1 (ko) 토출제어구조 및 이를 이용한 코팅장치
JP2644457B2 (ja) ダイコータによるガラス基板への塗布方法
KR101425812B1 (ko) 고속형 슬릿코터의 노즐구조
JP7367446B2 (ja) 塗布方法及び塗布装置
CN109870880A (zh) 涂胶设备及涂胶方法
JP7219562B2 (ja) 塗布方法及び塗布装置
JP2001179168A (ja) 塗布膜形成方法
JP2003305395A (ja) 塗布装置および塗布方法
JPS6311939B2 (ko)
JP6901616B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination