KR20040002750A - 유기 발광 디스플레이 디바이스(ｏｌｅｄ)용 발광 층을침착시키는 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 하나 이상의 식별부를 갖는 유기 발광 디스플레이 디바이스(OLED) 기판을 제공하는 단계; 횡방향으로 또한 비스듬하게(angularly) 이동할 수 있는 광 빔을 제공하는 단계; 공여체 요소가 OLED 기판에 대해 적절하게 위치할 때, 광 빔이 에너지-흡수 층에 의해 흡수되어 발광 물질을 가열하고 그의 전달을 야기할 수 있도록 배열된, 발광 물질을 포함하고 에너지-흡수 층을 갖는 패턴화되지 않은 공여체 요소를 제공하는 단계; 빔의 위치에 대한 OLED 기판 상의 식별부의 위치를 감지하여 빔에 대한 OLED 기판의 위치 및 배향을 결정하는 단계; OLED 기판의 감지된 위치 및 배향에 따라 빔을 비스듬하게 이동시킨 후 빔을 래스터(raster) 방식으로 이동시키는 단계; 및 광 빔이 상이한 횡방향 위치로 이동할 때 광 빔의 작동 타이밍을 변화시키는 단계를 포함하는, OLED 발광 층을 침착시키는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 OLED 기판에 발광층을 침착시키는 방법에 관한 것이다.
적색, 녹색 및 청색 화소(통상 RGB 화소로 지칭됨) 같은 다수의 칼라 화소가 정렬된 칼라 또는 완전 칼라 유기 전기발광(electroluminescent, EL) 디스플레이에서, 칼라를 생성시키는 유기 EL 매질의 정밀한 패턴화에는 RGB 화소의 제조가 요구된다. 기본적인 EL 디바이스는 통상 애노드, 캐쏘드 및 애노드와 캐쏘드 사이에 위치하는 유기 EL 매질을 갖는다. 유기 EL 매질은 유기 박막의 하나 이상의 층으로 이루어질 수 있으며, 상기 층중 하나는 발광 또는 전기발광을 주로 담당한다. 이 특정 층을 일반적으로 유기 EL 매질의 발광 층으로 지칭된다. 유기 EL 매질에 존재하는 다른 유기 층은 주로 전자 수송 기능을 제공할 수 있으며, (정공 수송을 위한) 정공 수송 층 또는 (전자 수송을 위한) 전자 수송 층으로 일컬어진다. 완전 칼라 유기 EL 디스플레이 패널에 RGB 화소를 생성시키는 데에는, 유기 EL 매질의 발광 층 또는 전체 유기 EL 매질을 정밀하게 패턴화시키는 방법이 고안되어야 한다.
전형적으로, 전기발광 화소는 미국 특허 제 5,742,129 호에 제시되어 있는 것과 같은 쉐도우 마스킹(shadow masking) 기법에 의해 디스플레이 상에 생성된다. 이 방법은 효과적이기는 하지만 몇 가지 단점이 있다. 쉐도우 마스킹을 이용하여서는 고해상도의 화소 크기를 달성하기가 곤란하였다. 또한, 화소가 적절한 위치에 생성되도록 기판과 쉐도우 마스크를 정렬하기도 힘들다. 기판 크기를 증가시키고자 하는 경우에는, 정렬 과정의 일부로서 쉐도우 마스크를 조작하여 적절하게 위치된 화소를 생성시키기가 더욱 힘들다. 쉐도우-마스크 방법의 추가의 단점은 시간이 지남에 따라 마스크 정공이 막히게 될 수 있다는 것이다. 마스크의 정공이막히게 되면, EL 디스플레이 상의 화소가 제기능을 하지 못하여 원치 않는 결과를 초래한다.
쉐도우 마스크 방법과 관련하여 추가의 문제점이 있는데, 이는 한쪽이 수 인치보다 큰 치수를 갖는 EL 디바이스를 제조할 때 더욱 특히 두드러진다. EL 디바이스를 정확하게 제조하기 위해 요구되는 정밀도를 갖는 보다 큰 쉐도우 마스크를 제조하기가 매우 곤란하다.
고해상도 유기 EL 디스플레이를 패턴화시키는 방법은 그란드(Grande) 등의 통상적으로 양도된 미국 특허 제 5,851,709 호에 개시되어 있다. 이 방법은, 1) 대향하는 제 1 표면과 제 2 표면을 갖는 기판을 제공하는 단계; 2) 상기 기판의 제 1 표면상에 광-투과성의 열-절연 층을 형성시키는 단계; 3) 상기 열-절연 층 위에 광-흡수 층을 형성시키는 단계; 4) 제 2 표면으로부터 열-절연 층까지 연장되는 다수의 정렬된 개구를 기판에 제공하는 단계; 5) 상기 광-흡수 층 상에 형성된, 전달가능한 색-형성 유기 공여체 층을 제공하는 단계; 6) 기판의 개구와 디바이스의 상응하는 칼라 화소 사이의 배향된 관계로 공여체 기판을 디스플레이 기판과 정밀하게 정렬시키는 단계; 및 7) 개구 위의 광-흡수 층에 충분한 열을 발생시키기 위한 조사원을 사용하여 공여체 기판상의 유기 층이 디스플레이 기판으로 전달되도록 하는 단계로 이루어진다. 그란드 등의 방법에서의 문제점은 공여체 기판 상의 다수의 정렬된 개구를 패턴화시켜야 하는 것이다. 이로 인해, 공여체 기판과 디스플레이 기판 사이의 정밀한 기계적 얼라인먼트가 요구되는 것을 비롯하여 쉐도우-마스크 방법에서와 동일한 다수의 문제점이 야기된다. 추가의 문제점은 공여체 패턴이고정되어 쉽게 변할 수 없다는 것이다.
패턴화되지 않은 공여체 시이트 및 정밀 광원(예: 레이저)을 사용하여 패턴화된 공여체에서 발견되는 일부 어려운 점을 없앨 수 있다. 워크(Wolk) 등의 일련의 특허(미국 특허 제 6,114,088 호; 제 6,140,009 호; 제 6,214,520 호; 및 제 6,221,553 호)에서는 선택된 공여체 부분을 레이저 광으로 가열함으로써 EL 디바이스의 발광 층을 공여체 시이트로부터 기판으로 전달할 수 있는 방법을 교시하고 있다. 워크 등은, 광을 사용하면 큰 규모의 장치를 제조하는데 필요한 정밀한 맞춤(registration)이 가능해진다는 점에서, 광의 사용이 바람직한 열전달 양식일 수 있다고 기재하고 있다. 레이저 열 전달에 의해 정밀하게 맞춰질 수 있기는 하지만, 기판의 올바른 영역이 전달된 공여체 물질을 수용하도록 광 빔을 정렬 및 배향시키는 것이 필수적이다.
따라서, 본 발명의 목적은 레이저 빔 패턴을 OLED 기판의 화소 영역과 정렬시키고, 측방향 이동 및 비스듬한 이동을 위해 또한 통상적인 사진 석판술 또는 쉐도우 마스크 방법 또는 패턴화된 공여체 물질의 사용에 수반되는 한계점이 없는 열 팽창 효과를 위해 보정하는 방법을 제공하는 것이다.
도 1a는 다수의 정렬된 화소 영역, 식별부, 및 본 발명을 수행하는데 사용될 수 있는 기판 및 카메라의 한 실시태양을 포함하는 OLED 기판의 평면도이다.
도 1b는 본 발명을 수행하는데 사용될 수 있는 기판 및 카메라의 다른 실시태양이다.
도 2는 기판이 잘못 정렬되게 하는 여러 요인의 개략도이다.
도 3a는 본 발명에 따라 고정된 기판/공여체 요소 조합체에 광 빔을 조사하는 광원의 단면도이다.
도 3b는 본 발명을 실행함에 있어서의 OLED 기판 및 기판에 대해 적절하게 위치된 공여체 요소를 도시한 단면도이다.
도 3c는 칼라 OLED 기판 및 공여체 요소의 단면도이다.
도 4a는 식별부를 갖고 카메라 십자선이 도시된 기판, 및 다양한 치수 오프셋(offset)을 도시하는 도면이다.
도 4b는 식별부에 의해 한정되는 선의 위치를 도시하고 공칭 선과 비교한 도면이다.
도 5는 본원에 기재된 방법을 가능케 하는 이동가능한 광원 및 미세 위치조정 디바이스(micropositioning device)의 수송 장치의 한 실시태양을 도시한다.
도 6은 카메라 위치의 감지, 식별부의 감지 및 잘못 정렬된 것을 보정하는데 사용되는 전광 하부시스템(subsystem)의 블록 다이어그램이다.
도 7은 기판과 수송 시스템을 정렬시키는데 포함되는 전체적인 단계를 도시하는 블록 다이어그램이다.
도 8은 본 방법의 x-y 좌표 시스템에서 광원에 대한 카메라의 위치를 선정하는데 포함되는 단계를 더욱 상세하게 도시하는 블록 다이어그램이다.
도 9는 본 방법의 기준(fiducial) 오프셋을 수득하는데 포함되는 단계중 일부를 더욱 상세하게 도시하는 블록 다이어그램이다.
도 10은 본 방법의 중요한 변수중 일부를 계산하는데 포함되는 단계중 일부를 더욱 상세하게 도시하는 블록 다이어그램이다.
도 11은 확대율 조정을 위한 동적 얼라인먼트를 비롯한 기록 공정의 단계를 도시하는 블록 다이어그램이다.
이러한 목적은,
(a) 발광 층을 OLED 기판의 화소 영역에 대해 적절하게 침착시키기 위해 OLED 기판의 위치 및 배향을 선정하는데 사용될 수 있는 하나 이상의 식별부를 갖는 OLED 기판을 제공하는 단계;
(b) 선택된 위치를 향해 횡방향으로 또한 비스듬히 이동하여 광원에 의해 발생되는 광 빔의 상대적인 위치를 변화시킬 수 있는 광 빔을 제공하는 광원을 제공하는 단계;
(c) 공여체 요소가 OLED 기판에 대해 적절하게 위치될 때, 광 빔이 에너지-흡수 층에 의해 흡수되어 발광 물질을 가열하고 이러한 발광 물질을 OLED 기판으로 전달할 수 있도록 배열된, 발광 물질을 포함하고 에너지-흡수 층을 갖는 패턴화되지 않은 공여체 요소를 제공하는 단계;
(d) 공여체 요소를 OLED 기판에 대해 전달 관계로 위치시키는 단계;
(e) OLED 기판상의 식별부의 위치를 감지하여, 광원에 대한 OLED 기판의 위치 및 배향을 결정하는 단계; 및
(f) 광원을 비스듬히 이동시킨 후, 제 1 종점에 도달할 때까지 광 빔을 제 1 횡방향으로 이동시키고, 이어 광 빔을 수직 방향으로 이동시키고, 다시 제 1 방향에 평행하지만 반대쪽인 제 2 방향으로 제 2 종점까지 광 빔을 횡방향으로 이동시킨 후, 광 빔이 상이한 횡방향 위치로 이동될 때 광 빔의 작동 타이밍을 변화시킴으로써, OLED 기판의 감지된 위치 및 배향에 따라 제 1 방향, 제 2 방향 또는 양방향으로 광 빔을 횡방향으로 이동시키도록 작동시키는 단계를 포함하는, 유기 발광 디스플레이 디바이스(OLED)용 발광층을 침착시키는 방법에 의해 달성된다.
본 방법의 이점은 보다 적은 결함을 갖는 발광층을 생성시키는 효과적인 방법을 제공한다는 데 있다. 추가의 이점은, 본 발명에서는 주위 온도 변화에 기인한 기판의 치수 변화에 따른 조정이 허용된다는 것이다. 본 발명의 추가의 이점은 큰 EL 패널에서 EL 반점 정밀도를 유지할 수 있다는 것이다(이는 기존의 방법에서는 어려웠거나 불가능한 일이다). 추가의 이점은 본 발명의 방법이 상이한 크기의 쉐도우 마스크가 제조되기를 기다릴 필요 없이 임의의 크기의 EL 패널 및/또는 상이한 화소 크기를 신속하고 용이하게 변화시키고, 다른 방법보다 더욱 용이하게 크기를 변화시켜 더욱 큰 디스플레이 단위를 제조할 수 있다는 것이다. 추가의 이점은 본 방법이 공여체 및 기판 매질 취급을 포함하여 완전히 자동화될 수 있다는 것이다. 본 발명은 다수의 OLED 디스플레이 디바이스를 갖는 큰 면적에 걸쳐 유기 층을 생성시킴으로써 처리량을 증가시키는데 특히 적합하다.
용어 "디스플레이" 또는 "디스플레이 패널"은 비디오 이미지 또는 텍스트를 전자적으로 표시할 수 있는 스크린을 지칭하는데 이용된다. 용어 "화소"는 다른 구역과 무관하게 광을 방출하도록 자극될 수 있는 디스플레이 패널의 구역을 지칭하는 당해 분야에서 인정되는 용도로 사용된다. 용어 "OLED 디바이스"는 화소로서 유기 발광 다이오드를 포함하는 디스플레이 디바이스라는 당해 분야에서 인정된 의미로 사용된다. 칼라 OLED 디바이스는 둘 이상의 색의 광을 방출한다. 용어 "멀티칼라(multicolor)"는 상이한 구역에서 상이한 색조의 광을 방출할 수 있는 디스플레이 패널을 기재하는데 사용된다. 특히, 칼라 이미지를 표시할 수 있는 디스플레이 패널을 기재하는데 사용된다. 이들 구역은 반드시 인접할 필요는 없다. 용어 "완전 칼라"는 가시광 스펙트럼의 적색, 녹색 및 청색 영역에서 발광할 수 있고 광범위한 색조 또는 색조의 조합으로 이미지를 표시할 수 있는 멀티칼라 디스플레이 패널을 기재하는데 사용된다. 적색, 녹색 및 청색은 3원색을 구성하는데, 이들 3원색을 적절히 혼합함으로써 다른 모든 색을 만들어낼 수 있다. 용어 "색조"는 가시광 스펙트럼 내에서의 발광 강도의 프로필을 지칭하며, 상이한 색조는 육안으로 식별가능한 색의 차이를 나타낸다. 화소 또는 미세화소(subpixel)는 통상 디스플레이 패널에서 어드레스될 수 있는 최소단위를 지칭하는데 사용된다. 단색 디스플레이의 경우, 화소와 미세화소 사이에 차이가 없다. 용어 "미세화소"는 멀티칼라 디스플레이 패널에 사용되며, 특정 색을 방출하도록 독립적으로 어드레스될 수 있는 임의의 화소 영역을 지칭하는데 사용된다. 예를 들어, 청색 미세화소는 청색 광을 방출하도록 어드레스될 수 있는 화소의 영역이다. 완전 칼라 디스플레이에서, 화소는 일반적으로 3원색 미세화소, 즉 청색, 녹색 및 적색을 포함한다. 용어 "피치"는 디스플레이 패널에서 2개의 화소 또는 미세화소가 떨어져 있는 거리를 지칭하는데 사용된다. 따라서, 미세화소 피치는 두 미세화소 사이의 간격을 의미한다.
작은-화소의 디바이스에 필요한 엄격한 정렬 허용오차는 패턴화된 공여체 물질이 부적절할 수 있고 기판의 주위 온도로부터의 열 팽창 또는 기판의 다른 온도 변화에 대한 보정이 필요할 수 있음을 암시한다. 도 1a를 보면, 다수의 정렬된 화소 영역(12)을 포함하는 OLED 기판(10)의 평면도가 도시되어 있다. 이러한 화소 영역(12)은 각각 전극과 연결되어 있고, 전극의 중첩되는 열과 행을 갖는 소위 수동형(passive) 디스플레이의 일부, 또는 통상적인 애노드 및 개별적인 박막 트랜지스터(thin-film transistor, TFT)를 갖는 능동형(active) 디스플레이의 일부일 수 있다. 각 화소 영역(12)은 화소(단색 디스플레이의 경우) 또는 미세화소(완전 칼라 디스플레이의 경우)일 수 있다. 개별 화소 또는 미세화소 사이의 거리는 이러한 디바이스에서 100㎛ 미만인 것이 바람직할 수 있다.
기판(10)은 공여체로부터 발광 물질을 수용하기 위한 표면을 제공하는 유기 고체, 무기 고체 또는 유기 고체와 무기 고체의 조합물일 수 있다. 기판(10)은 경질이거나 가요성일 수 있으며, 시이트 또는 웨이퍼 같은 별도의 개별적인 조각으로서 또는 연속 롤로서 가공될 수 있다. 전형적인 기판 물질은 유리, 플라스틱, 금속, 세라믹, 반도체, 금속 산화물, 반도체 산화물, 반도체 질화물 또는 이들의 조합물을 포함한다. 기판(10)은 물질의 균질 혼합물, 물질의 복합체 또는 물질의 다층일 수 있다. 기판(10)은 OLED 디바이스를 제조하는데 통상적으로 사용되는 기판인 OLED 기판, 예를 들어 능동-매트릭스 저온 폴리실리콘 TFT 기판일 수 있다. 기판(10)은 의도하는 발광 방향에 따라 광 투과성이거나 불투명할 수 있다. 광 투과성은 기판을 통해 EL 발광을 보는데 바람직하다. 투명한 유리 또는 플라스틱이 이러한 경우에 통상적으로 사용된다. 상부 전극을 통해 EL 발광이 보이는 용도의 경우, 바닥 지지체의 투과 특성은 중요하지 않으며, 따라서 광 투과성이거나, 광 흡수성이거나 또는 광 반사성일 수 있다. 이 경우에 사용하기 위한 기판은 유리, 플라스틱, 반도체 물질, 세라믹 및 회로판 물질을 포함하지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 경우, 기판(10)은 OLED 기판이 바람직하며, 용어 "기판" 및"OLED 기판"은 호환적으로 사용될 것이다.
도 1a는 기판(10)상의 식별부를 추가적으로 도시하고 있다. 식별부는 특정 수단에 의해, 예컨대 광학적으로, 용량면에서 또는 다른 수단에 의해 감지가능한 기판(10)상의 특징부이며, 명백해질 방식으로 화소 영역(12)에 대해 발광층을 적절하게 침착시키기 위해 기판(10)의 위치 및 배향을 선정하는데 사용할 수 있다. 이러한 식별부는 본 예에서 2개의 이격된 기준 표시(40, 42)로서 도시되어 있으며, 이들 기준 표시중 하나 이상은 기판(10)의 제조동안 공지의 위치에 형성시킨다. 기준 표시(40, 42)는 기판(10)상의 특정 지점을 확인할 수 있도록 디자인되며, 교차하는 십자선, 삼각형, 원, 사각형, 엇갈리는 삼각형, "X"형 또는 특정 지점을 한정하는데 사용될 수 있는 임의의 다른 형상을 비롯한 다수의 형상일 수 있다. 본 발명에 있어서, 용어 "식별부" 및 "기준 표시"는 호환가능하게 사용될 것이다.
도 1a는 본 발명을 수행하는데 사용될 수 있는 기판(10) 및 카메라의 한 실시태양를 추가로 도시하고 있다. 카메라 시스템의 십자선은 기준 표시(40, 42)의 위치를 정의하는데 사용될 수 있다. 제 1 카메라는 십자선(44)을 포함하며, 이는 잘못 정렬된 것을 보정하는 과정에서 기준 표시(40)의 위치를 선정함을 의미한다. 제 2 카메라는 카메라의 가시 범위에 고정된 기준선(예컨대, 십자선(46))을 한정하는 수단을 포함하며, 이는 잘못 정렬된 것을 보정하는 과정에서 기준 표시(42)의 위치를 선정함을 의미한다. 카메라는 기판 기준 표시의 이미지를 잡아낼 수 있는 렌즈 시스템 및 내부 마커 또는 고정된 기준선(예컨대, 내부 십자선 및/또는 망선)이 장착된 비디오 카메라일 수 있다. 카메라 및 렌즈 시스템 해상도는 바람직하게는, 얻어지는 해상도가 이미지 평면 또는 기판 표면에서 1μ 이하의 수준이도록 바람직하게 선택된다. 이러한 카메라 시스템은 예를 들어 소니(Sony), 프린스턴 인스트루먼츠(Princeton Instruments), 마이크로-루메틱스(Micro-Lumetics) 및 아에기스 일렉트로닉스 그룹(Aegis Electronic Group)에서 시판중이다.
도 1b를 보면, 본 발명을 수행하는데 사용될 수 있는 기판(10) 및 카메라의 다른 실시태양이 도시되어 있다. 이 실시태양에서는, 화소 영역이 식별부이다. 카메라 시스템의 십자선은 기판상의 다른 특징부의 위치를 한정하는데 사용될 수 있다. 이러한 다른 실시태양에서, 십자선(44)은 화소 영역(50)의 모서리(51)의 위치를 선정하여 잘못 정렬된 부분을 한정함을 의미한다. 십자선(46)은 화소 영역(52)의 모서리(53)의 위치를 선정하여 잘못 정렬된 부분을 한정함을 의미한다.
도 2는 십자선(44, 46) 및 기판상의 상응하는 식별부(기준 표시(40, 42) 또는 모서리(51, 53))가 잘못 정렬되도록 할 수 있는 여러 요인의 개략도이다. 우선, 기판(10)은 잘못 정렬된 기판(10a)에 의해 도시된 바와 같이 통상 x 방향 및 y 방향으로 불리는 측방향으로 잘못 정렬될 수 있다. 둘째로, 기판(10)은 잘못 정렬된 기판(10b)에 의해 도시된 바와 같이 기울여져 잘못 정렬될 수 있다. 셋째, 기판(10)은 잘못 정렬된 기판(10c)에 의해 도시된 바와 같이 주위 온도에 의해 야기되는 온도 변화 또는 다른 온도 변화 및 변수에 따라 팽창 또는 수축될 수 있다. 이들 요인중 임의의 하나의 인자 또는 이들 인자의 임의의 조합에 의해 기판(10)이 잘못 정렬될 수 있다. 본원에 기재된 방법은 이렇게 다양하게 잘못 정렬된 것을 모두 정량하여 보정할 수 있다. (부적절하게 위치된 기준 표시(40, 42) 같은, 잘못 정렬되게 하는 다른 원인은 기판(10)을 폐기시키게 하는 결함이며, 이를 보정할 필요는 없다.)
도 3a는 고정된 기판/공여체 요소 조합체를 본 발명에 따라 광 빔으로 조사하는 광원(100)으로부터의 광 빔(24)의 단면도이다. 광원(100)은 본 방법에 사용가능한 임의의 광원, 예컨대 레이저, 플래쉬 램프 등일 수 있다. 광원(100)은 바람직하게는 레이저이고, 가장 바람직하게는 조절된 멀티채널 선형 레이저 광 빔을 방출하는 멀티채널 레이저이며, 이의 사용은 케이(Kay) 등의 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/055,579 호에 기재되어 있다. 간결함을 위해 미세 위치조정 디바이스는 도시되지 않는다. 공여체 요소(16)는 기판(10)과의 전달 관계로 위치된다. 즉, 공여체 요소(16)는 기판(10)과 접촉되어 위치되거나(도시되지 않음) 또는 기판(10)으로부터 조절된 양만큼 이격되어 유지된다. 공여체 요소(16)는 가압 수단(96)에 의해 제 위치에 유지된다. 가압 수단(96)은 투명 지지체일 수 있거나, 또는 필립스(Phillips) 등의 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/021,410 호에 교시된 바와 같이 공여체 요소(16)를 기판(10)과 긴밀한 관계로 고정시키도록 기체로 가압되는 챔버일 수 있다.
광원(10)은 렌즈(94)를 통해 멀티채널(즉, 직선 레이저 광 빔의 다수의 조절된 채널)일 수 있는 광 빔(24)을 방출한다. 광 빔(24)은 명확하게 도시하기 위해 일련의 선으로서 도시되어 있으며, 이로써 레이저 광의 개별적으로 어드레스가능한 다수의 채널로서 실제로 멀티채널일 수 있음을 강조한다. 이들 채널은 인접할 수 있으며, 조사시 레이저 광의 연속 밴드로서 작용할 수 있다. 광 빔(24)은 투명한가압 수단(96)을 통해 공여체 요소(16)로 향하며, 공여체 요소(16)의 비-전달 표면에 충돌한다. 광 빔(24)과 고정된 기판/공여체 요소(98)를 상대적으로 이동시키면서 광 빔(24)의 채널을 조절함으로써 목적하는 패턴을 수득할 수 있다.
도 3b를 보면, 본 발명을 실행함에 있어서 OLED 기판 및 기판에 대해 적절하게 위치된 공여체 요소를 나타내는 단면도가 도시되어 있다. 공여체 요소(16) 및 기판(10)은 전달 관계에 있다. 즉, 공여체 요소(16)가 기판(10)상에 또는 기판(10)에 인접하여 위치한다. 공여체 요소(16)는 지지체(18), 에너지-흡수 층(20) 및 발광물질의 층(22)을 포함한다. 공여체 요소(16)는 패턴화되지 않는다. 즉, 에너지-흡수 층(20)과 발광 물질(22)이 지지체(18)의 표면에 균일하게 피복되어 있다. 광 빔(24)(이는 에너지-흡수 물질(20)의 선택된 부분에 의해 흡수되어 상기 부분을 가열함으로써 발광 물질(22)의 선택된 부분을 가열함)에 의해 공여체 요소(16)의 비-전달 표면(26)을 선택적으로 조사함으로써 발광 물질(22)을 공여체 요소(16)의 전달 표면(28)으로부터 기판(10)으로 전달한다. 발광 물질(22)의 선택된 부분은 기화 또는 승화되어 기판(10)으로의 전달시 발광 층(32)이 된다.
도 3c에는, 칼라 OLED 기판 및 공여체 요소의 단면도가 도시되어 있다. 칼라 OLED 디스플레이를 제조하는 경우, 각각 상이한 색의 광을 발생시킬 수 있는 다수의 발광 층을 형성시킬 수 있다. 각각의 상이한 색의 발광 층은 에너지-흡수 층 및 개별 색의 광을 방출할 수 있는 발광 물질을 갖는 패턴화되지 않은 공여체 요소를 필요로 한다. 예를 들어, 3가지 상이한 색의 발광 층을 아래와 같이 연속적으로 침착시킬 수 있다: 청색-방출 발광물질(22)을 포함하는 제 1 공여체 요소(16)로제 1 화소 영역(12a)에 청색-방출 발광 층(32a)을 형성할 수 있고, 녹색-방출 발광 물질(22)을 포함하는 제 2 공여체 요소(16)로 제 2 화소 영역(12b)에 녹색-방출 발광 층(32b)을 형성할 수 있으며, 적색-방출 발광 물질(22)을 포함하는 제 3 공여체 요소(16)로 제 3 화소 영역(12c)에 적색-방출 발광 층(32c)을 형성할 수 있다. 청색-방출 층과 녹색-방출 층은 이전 단계에서 형성되었고, 이 도면은 적색-방출 발광 층(32c)의 형성을 도시하고 있다.
지지체(18)는 적어도 하기 조건을 충족시키는 몇 가지 물질중 임의의 것으로 제조될 수 있다: 지지체는 본 발명을 실행하는데 있어서 예비 피복 단계 및 롤-대-롤 또는 적층된 시이트 수송을 견디기에 충분히 가요성이고 적절한 인장 강도를 가져야 한다. 지지체는 한쪽에서 가압되면서 광-내지-가열-유도된 전달 단계동안 또한 수증기 같은 휘발성 성분을 제거하기 위해 고려되는 임의의 예비 가열 단계동안 구조적 일체성을 유지할 수 있어야 한다. 또한, 지지체는 유기 공여체 물질의 비교적 얇은 피막의 한쪽 표면에 수용될 수 있어야 하고 피복된 지지체의 예상되는 저장 기간동안 열화시키지 않으면서 이 피막을 보유할 수 있어야 한다. 이들 요건을 충족하는 지지체 물질은 예를 들어 금속 호일, 특정 플라스틱 호일, 및 섬유-보강된 플라스틱 호일을 포함한다. 적합한 지지체 물질은 공지된 엔지니어링 방법에 따라 선택될 수 있지만, 본 발명을 실행하는데 유용한 지지체로서 배열될 때 선택된 지지체 물질의 특정 외관도 추가로 고려할 만함을 알 것이다. 예를 들어, 지지체는 전달될 수 있는 유기 물질로 미리 피복되기 전에 다단계 세정 및 표면 제조 공정을 필요로 할 수 있다. 지지체 물질이 방사선-투과성 물질인 경우, 방사선-흡수성 물질을 지지체 내로 또는 지지체의 표면상에 혼입시키는 것은, 적합한 플래쉬 램프로부터의 방사선 플래쉬 또는 적합한 레이저로부터의 레이저 광을 사용할 때, 지지체를 더욱 효과적으로 가열하고 전달가능한 유기 공여체 물질의 지지체로부터 기판으로의 전달을 그에 상응하게 향상시키는데 유리할 수 있다.
에너지-흡수 층(20)은 스펙트럼의 소정 부분에서 방사선을 흡수하여 열을 생성시킬 수 있다. 에너지-흡수 층(20)은 통상적으로 양도된 미국 특허 제 5,578,416 호에 기재된 염료 같은 염료, 탄소 같은 안료, 또는 니켈, 티탄 등과 같은 금속일 수 있다.
전형적인 OLED 디바이스는 통상 아래와 같은 순서로 층을 함유할 수 있다: 애노드, 정공-주입 층, 정공-수송 층, 발광 층, 전자-수송 층, 캐쏘드. 이들 층중 임의의 층 또는 이들 층 모두는 정공-주입 물질, 정공-수송 물질, 전자-수송 물질, 발광 물질, 호스트 물질 또는 이들 물질의 임의의 혼합물일 수 있는 유기 물질을 포함할 수 있다. 이들 물질 중에서, 본 발명의 실행은 주로 발광 물질(22)을 포함하는 유기 물질 및 기판의 목적하는 위치에 이들 물질을 정확하게 전달하는 방법과 관련된다.
발광 물질
발광 물질(22)로서 유용한 광-방출 물질은 널리 공지되어 있다. 통상적으로 양도된 미국 특허 제 4,769,292 호 및 제 5,935,721 호에 상세하게 기재되어 있는 바와 같이, 유기 EL 소자의 발광 층(LEL)은 이 영역에서의 전자-정공 쌍 재조합의 결과로서 전기발광을 나타내는 발광성 또는 형광성 물질을 포함한다. 발광 층은단일 물질로 이루어질 수 있으나, 더욱 통상적으로는 게스트 화합물로 도핑된 호스트 물질 또는 주로 도판트에 의해 발광이 일어나며 임의의 색일 수 있는 화합물로 이루어질 수 있다. 발광 층의 호스트 물질은 아래 정의된 전자-수송 물질, 상기 정의된 정공-수송 물질 또는 정공-전자 재조합을 지지하는 다른 물질일 수 있다. 도판트는 통상 매우 형광성인 염료로부터 선택되지만, 인광성 화합물, 예컨대 WO 98/55561 호, WO 00/18851 호, WO 00/57676 호 및 WO 00/70655 호에 기재된 바와 같은 전이금속 착체도 또한 유용하다. 도판트는 전형적으로 0.01 내지 10중량%로 도판트 내로 피복된다.
도판트로서 염료를 선택하기 위한 중요한 관계는 분자의 점유된 가장 높은 분자 궤도와 점유되지 않은 가장 낮은 분자 궤도 사이의 에너지 차이로서 정의되는 밴드갭 포텐셜(bandgap potential)의 비교이다. 호스트로부터 도판트 분자로 에너지를 효율적으로 전달하기 위해, 필요한 조건은 도판트의 밴드 갭이 호스트 물질의 밴드 갭보다 더 작다는 것이다.
유용한 것으로 알려진 호스트 및 발광 분자는 통상적으로 양도된 미국 특허 제 4,768,292 호; 제 5,141,671 호; 제 5,150,006 호; 제 5,151,629 호; 제 5,294,870 호; 제 5,405,709 호; 제 5,484,922 호; 제 5,593,788 호; 제 5,645,948 호; 제 5,683,823 호; 제 5,755,999 호; 제 5,928,802 호; 제 5,935,720 호; 제 5,935,721 호; 및 제 6,020,078 호에 개시된 것을 포함하지만 이들로 한정되지는 않는다.
8-하이드록시퀴놀린 및 유사한 유도체(화학식 1)의 금속 착체는 전기발광을지지할 수 있는 유용한 호스트 화합물의 한 부류를 이루고, 특히 500nm보다 큰 파장(예: 녹색, 황색, 주황색 및 적색)의 발광에 적합하다:
상기 식에서,
M은 금속이고;
n은 1 내지 3의 정수이며;
Z는 각각의 경우 독립적으로 둘 이상의 융합된 방향족 고리를 갖는 핵을 완성시키는 원자이다.
상기로부터, 금속은 1가, 2가 또는 3가일 수 있음이 명백하다. 금속은 예컨대 리튬, 나트륨 또는 칼륨 같은 알칼리금속; 마그네슘 또는 칼슘 같은 알칼리토금속; 또는 붕소 또는 알루미늄 같은 토금속일 수 있다. 일반적으로, 유용한 킬레이트화 금속인 것으로 공지된 임의의 1가, 2가 또는 3가 금속을 사용할 수 있다.
Z는 둘 이상의 융합된 방향족 고리(이들 중 적어도 하나는 아졸 또는 아진 고리임)를 함유하는 헤테로환상 핵을 완성시킨다. 지방족 고리 및 방향족 고리 둘 다를 포함하는 추가적인 고리는 필요한 경우 2개의 요구되는 고리와 융합될 수 있다. 기능을 향상시키지 못하면서 분자 부피가 증가되는 것을 피하기 위해, 고리원자의 수는 통상 18개 이하로 유지된다.
유용한 킬레이팅된 옥시노이드 화합물의 대표적인 예는 다음과 같다:
CO-1: 알루미늄 트리스옥신[일명, 트리스(8-퀴놀리놀레이토)알루미늄(III)]
CO-2: 마그네슘 비스옥신[일명, 비스(8-퀴놀리놀레이토)마그네슘(II)]
CO-3: 비스[벤조{f}-8-퀴놀리놀레이토]아연(II)
CO-4: 비스(2-메틸-8-퀴놀리놀레이토)알루미늄(III)-μ-옥소-비스(2-메틸-8-퀴놀리놀레이토)알루미늄(III)
CO-5: 인듐 트리스옥신[일명, 트리스(8-퀴놀리놀레이토)인듐]
CO-6: 알루미늄 트리스(5-메틸옥신)[일명, 트리스(5-메틸-8-퀴놀리놀레이토)알루미늄(III)]
CO-7: 리튬 옥신[일명, (8-퀴롤리놀레이토)리튬]
9,10-디-(2-나프틸)안트라센(화학식 2)의 유도체는 전기발광을 지지할 수 있는 유용한 호스트의 한 부류를 구성하고, 400nm보다 긴 파장(예컨대, 청색, 녹색, 황색, 주황색 또는 적색)을 발광시키는데 특히 적합하다:
상기 식에서,
R1, R2, R3, R4, R5및 R6은 각 치환기가 하기 군으로부터 개별적으로 선택되는, 각 고리상의 하나 이상의 치환기이다:
1군: 수소, 또는 탄소수 1 내지 24의 알킬;
2군: 탄소수 5 내지 20의 아릴 또는 치환된 아릴;
3군: 안트라세닐의 융합된 방향족 고리를 종결시키는데 필요한 4 내지 24개의 탄소원자; 피레닐 또는 페릴레닐;
4군: 푸릴, 티에닐, 피리딜, 퀴놀리닐 또는 다른 헤테로사이클릭 시스템의 융합 헤테로방향족 고리를 완성시키는데 필요한 5 내지 24개의 탄소원자를 갖는 헤테로아릴 또는 치환된 헤테로아릴;
5군: 탄소수 1 내지 24의 알콕실아미노, 알킬아미노 또는 아릴아미노; 및
6군: 플루오르, 염소, 브롬 또는 시아노.
벤즈아졸 유도체(화학식 3)는 전기발광을 지지할 수 있는 유용한 호스트의 다른 부류를 구성하며, 400nm보다 긴 파장의 광(예: 청색, 녹색, 황색, 주황색 또는 적색)을 방출하는데 특히 적합하다:
상기 식에서,
n은 3 내지 8의 정수이고;
Z는 O, NR 또는 S이며;
R'은 수소; 탄소수 1 내지 24의 알킬, 예를 들어 프로필, 3급-부틸, 헵틸 등; 탄소수 5 내지 20의 아릴 또는 헤테로원자 치환된 아릴, 예컨대 페닐 및 나프틸, 푸릴, 티에닐, 피리딜, 퀴놀릴 및 다른 헤테로사이클릭 시스템; 또는 클로로, 플루오로 같은 할로; 또는 융합된 방향족 고리를 완성하는데 필요한 원자이고;
L은 여러 개의 벤즈아졸을 함께 공액 또는 비공액 결합시키는, 알킬, 아릴, 치환된 알킬 또는 치환된 아릴로 이루어진 결합 단위이다.
유용한 벤즈아졸의 예는 2,2',2"-(1,3,5-페닐렌)트리스[1-페닐-1H-벤즈이미다졸]이다.
바람직한 형광성 도판트는 안트라센, 테트라센, 크산텐, 페릴렌, 루브렌, 쿠마린, 로다민, 퀴나크리돈, 디시아노메틸렌피란 화합물, 티오피란 화합물, 폴리메틴 화합물, 피릴륨 및 티아피릴륨 화합물, 및 카보스티릴 화합물의 유도체를 포함한다.
유용한 도판트의 바람직한 예는 하기 화합물을 포함하지만, 이들로 한정되는 것은 아니다:
다른 유기 발광 물질은 중합체 성분, 예를 들어 워크 등의 통상적으로 양도된 미국 특허 제 6,194,119 B1 호 및 그에 인용된 문헌에 교시된 바와 같이 폴리페닐렌비닐렌 유도체, 디알콕시-폴리페닐렌비닐렌, 폴리-파라-페닐렌 유도체 및 폴리플루오렌 유도체일 수 있다.
중요한 문제는 발광 물질(22)이 화소 영역(12)으로 전달되고 사이에 끼인 부위(14)로는 전달되지 않도록 광 빔(24)을 공여체 요소(16)에 확실하게 적절히 조사시키는 것이다. 화소 영역(12) 사이의 거리가 100㎛ 미만일 수 있기 때문에, 이는 중요한 문제가 될 수 있다. 기판(10)을 위치시키는데 있어서 측방향으로 또한 비스듬하게 약간만 오차가 있어도, 또한 주위 온도에서의 변화로 인한 열팽창 효과가약간만 있어도, 레이저 조사와 화소 영역의 정렬에 바람직하지 못하게 영향을 끼칠 수 있다. 잘못 정렬되면 생산시 높은 불량율을 야기시키거나 품질이 낮은 디바이스를 생성시키게 된다. 전술한 정렬 인자들로 인해 광 빔과 기판의 정렬 상태를 유지하는 것은 중요한 문제이다.
도 4a는 식별부를 갖고 카메라 십자선이 도시된 기판, 및 다양한 치수 오프셋(offset)을 도시하고 있다. 도 4a는 간결하게 도시되어 있고, 카메라 십자선(44, 46)은 기판(10) 상에서는 보이지 않고 카메라 시스템 내에서만 보이며, 이러한 카메라 시스템을 통해서는 십자선 내의 기판(10) 부분만 보인다는 것을 알 것이다. x-y 좌표 시스템(92)은 디바이스의 제조동안 조사원의 움직임을 관리하는 정밀 계측 디바이스를 통한 x 방향(48) 및 y 방향(49)에 의해 정의될 수 있다. 카메라 십자선은 이 좌표 시스템에서 x 좌표 및 y 좌표로, 즉 카메라 십자선(44)의 경우 xc1, yc1으로, 카메라 십자선(46)의 경우 xc2, yc2로 도시되어 있다. 카메라를 x-y 좌표 시스템 내에 위치시키는 시스템 측정 절차를 통해 이러한 위치를 확립할 수 있다. 이 절차의 단계는 본원에 명확하게 기재된다.
x-y 좌표 시스템(92) 내에서 기판(10)이 잘못 정렬되는 것의 정의는 카메라 십자선(44, 46)에 대한 식별부, 즉 기준 표시(40, 42)의 위치를 한정하는데 달려있다. 카메라 십자선(44)은 Δx1(62) 및 Δy1(64)만큼 기준 표시(40)로부터 오프셋된다. 카메라 십자선(46)은 Δx2(66) 및 Δy2(68)만큼 기준 표시(42)로부터 오프셋된다. x-y 좌표 시스템(92)에서의 기준 표시의 위치는 카메라 십자선의 공지된 위치및 십자선과 상응하는 기판의 기준 표시 사이의 오프셋으로부터 계산된다. 계산된 위치는 x 및 y 좌표로 기재될 수 있는데, 기준 표시(40)는 xf1, yf1위치에 있고, 기준 표시(42)는 xf2, yf2위치에 있다.
도 4b에서는, 식별부에 의해 한정된 선의 위치 및 공칭 선과의 비교가 도시되어 있다. 감지된 선(74)은 그의 종점, 즉 기준 표시(40, 42)에 의해 한정된다. 감지된 선의 실제 길이(74)는 계산될 수 있으며, 두 식별부 사이의 실제 간격을 나타낸다. 공칭 선(80)은 두 식별부 사이의 공칭 간격을 나타내는 공칭 길이(78)를 갖는다. 공칭 선(80)과 그의 치수는 소정의 조건 하에서 공지 기판(10)으로부터 미리 결정되었다. 감지된 선(74)의 실제 길이(76)와 공칭 길이(78)의 비는 치수 변화의 척도이며, 기판(10)의 확대율로 일컬어진다. 이 비는 또한 보정 계수로도 불릴 수 있다. 기판(10)은 균일하게 팽창하는 것으로 추정한다. 감지된 선(74)의 감지된 중간점(82)과 공칭 선(80)의 표적 중간점(84) 사이의 오프셋은 측방향 오프셋 ΔxL(88) 및 ΔyL(90)을 나타낸다. 공칭 선(80)의 각에 대한 감지된 선(74)의 각은 기판(10)의 각도 오프셋(86)을 한정한다.
측방향 변화 ΔxL(88) 및 ΔyL(90) 및 각도 오프셋(86)과 동일한 양의 각도 변화를 기판, 프린트 헤드를 보유하는 수송 시스템, 또는 인쇄될 이미지 데이터에 적용하여, 이들을 각도 및 측방향 오프셋만큼 보정할 수 있다. 보정 정도는 이러한 상대적인 이동을 제공하는 시스템의 정확도 및 정밀도에 따라 달라진다. 열팽창으로 인한 확대율에 수반되는 에러는 이미지 파일을 만드는 동안 또는 프린트하는 동안 보정될 수 있으며; 프린트하는 동안 보정하는 것을 동적 보정이라고 일컫는다. 동적 보정 실시태양에서, 기판의 확대율로 인한 에러는 조사원을 작동시키는 원인이 된다.
도 5 및 도 4a에는, 본원에 기재된 방법을 가능케하는 이동가능한 광원 및 미세 위치조정 디바이스를 포함하는 수송 장치(116)의 한 가지 실시태양이 도시되어 있다. 수송 장치(116)는 광원(100)을 이동시킴으로써 광 빔(24)을 이동시키는 장치, 즉 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108) 및 카트리지(112)를 포함한다. 이 장치는 케이 등의 상기 인용된 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/055,579 호에 기재되어 있으며, 이 개시내용은 본원에 참고로 인용되어 있다.
광원(100)은 선택된 위치를 향해 횡방향으로 또한 비스듬하게 이동하여 이후 기재되는 방식으로 광 빔(24)의 상대적인 위치를 변화시킬 수 있다. 이동가능한 광원(100)은 미세 위치조정 디바이스(102) 위에 장착된다. 광원(100)은 예컨대 케이 등의 상기 인용된 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/055,579 호에 교시된 바와 같은 레이저 프린트헤드일 수 있다. 미세 위치조정 디바이스(102)는 ㎛ 단위보다 작은 정도의 최소식별거리로 횡방향(104)으로 광원(100)을 이동 및 위치시킬 수 있다. 미세 위치조정 디바이스(102)는 도버 인스트루먼츠 코포레이션(Dover Instruments Corp.) 같은 제조업체로부터 구입할 수 있다. 카트리지(112)는 미세 위치조정 디바이스(102)의 이동가능한 부분을 나타낸다. 미세 위치조정 디바이스(102)는 한 방향, 예를 들어 도 4b에서 x 방향(48)으로의 측방향 이동을 조정하여, 광원(100)의 위치를 기판(10) 및 공여체 요소(16)(이들은 서로 전달 관계에 있음)와 관련하여 조정하도록 광원(100)을 횡방향으로 이동시킬 수 있다.
미세 위치조정 디바이스(102)는 미세 위치조정 디바이스(106, 108)에 장착된다. 뒤의 두 디바이스는 미세 위치조정 디바이스(102)와 유사하지만, 이에 직교하는 방식으로 배치되며, 따라서 미세 위치조정 디바이스(102)의 각 말단을 수직 방향(110)으로 이동시킬 수 있다. 미세 위치조정 디바이스(106, 108)는 일치되게 이동하여 미세 위치조정 디바이스(102)의 방향에 수직인 방향, 예컨대 도 4b의 y 방향(49)으로 측방항 이동을 조정할 수 있다. 미세 위치조정 디바이스(106, 108)와 미세 위치조정 디바이스(102) 사이의 기계적 결합으로 인해 횡방향(104)과 수직 방향(110)에 의해 한정되는 평면 내에서의 한정적인 각도 조정이 가능해진다. 즉, 미세 위치조정 디바이스(106, 108)는 반대 방향으로 이동하여 각도 에러(86)를 조정함으로써 광원(100)과 광 빔(24)을 비스듬하게 이동시킬 수 있다.
도 6은 카메라 위치의 감지, 기준 표시의 감지 및 잘못 정렬된 것의 보정을 달성하는데 사용되는 전광 하부 시스템의 블록 다이어그램이다. 수송 시스템(152)은 이동 제어 전자장치(246) 및 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)를 포함한다. 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)는 광원(100)의 이동 및 위치를 조절한다. 본 도면에서 이러한 조절은 연결부(270)로 나타낸다. 이동 제어 전자장치(246)로부터의 구동 신호(252, 254, 256)는 각각 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)의 이동을 조절함으로써 광원(100)의 이동을 조절한다. 정밀 피드백 신호(258, 260, 262)는 이동 제어 전자장치(246)가 각각 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)의 위치를 모니터링함으로써 광원(100)의 위치를 모니터링하도록 한다. 이러한 피드백 신호는 광원(100)이 움직일 때 개별 미세 위치조정 디바이스의 위치 또는 이동에 의해 결정되는 소정 펄스를 포함할 수 있다. 소정 펄스는 예를 들어 개별 미세 위치조정 디바이스가 소정 거리만큼 이동할 때 펄스가 발생되는 펄스 열(pulse train)일 수 있다. 이러한 펄스는 리니어 인코더(linear encoder) 또는 레이저 간섭계 같은 정밀 계측 디바이스, 또는 당해 분야에 널리 공지되어 있는 다른 정밀 계측 디바이스에 의해 생성될 수 있다. 이러한 정밀 계측 디바이스는 미세 위치조정 디바이스의 일부일 수 있다. 예를 들어, 정밀 계측 디바이스(251)는 미세 위치조정 디바이스(102)의 일부이거나 또는 미세 위치조정 디바이스(102)에 부착될 수 있다. 정밀 계측 디바이스(251)는 광원(100)의 위치를 한정할 수 있는 하나 이상의 정밀 센서를 포함할 수 있다. 이러한 정밀 센서는 또한 x-y 좌표 시스템(92)을 한정할 수 있다.
시스템은 하나 이상의 감지기, 예를 들어 식별부, 예컨대 기판(10) 상의 기준 표시(40, 42)의 이미지를 감지하도록 디자인되고 임의적으로 소정 x-y 관찰 좌표 시스템을 가질 수 있는 디지털 카메라(248)를 포함할 수 있다. 디지털 카메라(248)는 x-y 관찰 좌표 시스템과 관련된 디지털 이미지를 만들어낸다. 디지털 이미지 데이터는 이미지 프로세서(250)로 전송될 수 있고, 이미지 프로세서는 이러한 디지털 이미지 데이터를 처리하기 위한 처리 연산을 포함하고 개별적인 디지털 카메라(248)의 중심에 대한 기준 표시(40, 42)의 위치를 계산할 수 있다. 디지털 카메라(248)는 이미지 프로세서(250)가 소정 x-y 좌표 시스템(92)에서의 위치를 보고할 수 있도록 조정된다. 디지털 카메라(248)는 또한 기판(10)상의 광빔(24)의 위치를 관찰하여 이미지 프로세서(250)에 보고할 수 있다.
개별 디지털 카메라(248)의 중심에 대한 기준 표시(40, 42)의 위치를 나타내는 데이터는 이미지 프로세서(250)로부터 주 PC(150)로 전송될 수 있으며, 주 PC는 이 정보를 이용하여 측방향 및 각도 오프셋뿐만 아니라 기판(10)의 확대율을 계산할 수 있다. 주 PC(150)는 이동 제어 전자장치(246)에게 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108), 따라서 광원(100)을 임의의 목적하는 위치까지 이동시키도록 지시할 수 있으며, 이동 제어 전자장치(246)로부터의 피드백에 의해 이러한 이동 및 위치를 모니터링할 수 있다. 이동 제어 전자장치(246)는 주 PC(150)로부터의 입력 데이터로서 각도 에러(86) 같은 각도 오프셋을 받아들이고 각도 오프셋을 제거하도록 지시될 때까지 이를 유지하도록 프로그램되어 있다. 또한, 이동 제어 전자장치(246)는 주 PC(150)로부터의 측방향 오프셋 보정 신호를 받아들여 기판의 노출 동안 적절한 구동 신호를 발생시키도록 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)를 조정하게 프로그램되어 있다. 이러한 조절에 의해, 주 PC(150)는 이미지 프로세서(250)로부터의 데이터에 기초하여 광원(100)의 출발 위치 및 각도 오프셋을 조정하도록 이동 제어 전자장치(246)에 지시할 수 있다. 주 PC(150)는 또한 광원(100)이 발광 물질의 기판으로의 전달에 대해 조사되도록 이동 제어 전자장치(246)에 지시할 수 있다. 시스템 보드(154)는 또한 카운트 기록기(146) 및 에러 누산기(148)를 포함할 수 있으며, 에러 누산기는 광원(100)의 구동을 조절하는데 이용될 수 있다.
기판으로의 발광 물질의 전달에 필요한 이동 동안, 미세 위치조정디바이스(102, 106, 108)는 각각 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)로부터의 정밀 피드백 신호(258, 260, 262)를 모니터링하고 구동 신호(252, 254, 256)를 발생시키는 이동 제어 전자장치(246)에 의해 조절된다. 이동 제어 전자장치(246)에서의 피드백 기구에 의한 자동 조절은 목적하는 피드백 신호(258, 260, 262) 값이 얻어지도록 구동 신호(252, 254, 256)를 발생시킬 수 있다. 또한, 피드백 신호(258, 260, 262)의 현재 값이 목적하는 값으로부터 벗어나는 경우, 목적하는 위치를 유지하기 위하여 구동 신호(252, 254, 256)를 통해 연속적으로 보정될 수 있다. 디바이스를 노출시키는 동안, 이동 제어 전자장치(246)는 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)에게 래스터 방식으로 인쇄 영역을 조사하도록 명령을 내리는 방식으로 계속 목적 위치를 갱신시킬 수 있다.
또한, 디바이스의 조사 및 노출 동안에는, 시스템 보드(154)가 광원(100)을 적절하게 구동시킨다. 시스템 보드(154)는 주 PC(150)로부터 받아들인 이미지 데이터 및 이동 제어 전자장치(246)로부터 받아들인 동적 보정 신호(264)에 기초하여 발광시킬지 여부를 광원(100)에게 지시한다. 동적 보정 신호(264)는 인코더 펄스 같은 반복 신호 및 구동 신호 같은 반복되지 않는 신호를 포함할 수 있다. 언급한 바와 같이, 디바이스의 노출 동안, 이동 제어 전자장치(246)는 광원이 래스터 방식으로 인쇄 영역을 횡단하도록 광원(100)의 이동을 조절한다.
당해 분야의 숙련자는, 광 빔(24)과 기판(10) 사이의 상대적인 이동을 제공하는 다른 수단이 가능하다는 것을 명백히 알 것이다. 예를 들어, 광원(100)을 고정시킬 수 있다. 기판(10)을 이동시킴으로써 이러한 상대적인 이동을 제공할 수있다. 다르게는, 거울 또는 회절격자를 배치하여 광 빔(24)이 기판(10)에 충돌하는 위치를 변화시킴으로써 상대적인 이동을 가능하게 할 수 있다.
도 7, 및 도 4a와 도 4b에는, 기판과 수송 시스템을 정렬시키는 기판 얼라인먼트 과정에 포함된 전체 단계가 도시되어 있다. 실제로 다중 단계인 도 7의 단계는 범례에 도시된 바와 같이 굵은 외곽선으로 표시되고, 다른 도면에 추가로 논의되어 있다. 공정의 개시(단계 122)시, 시스템은 카메라 1을 위치시킨다. 즉 시스템은 x-y 좌표 시스템(92)에 십자선(44)의 위치를 선정한다(단계 124, 카메라 위치 선정 과정이라고도 불릴 수 있음). 이어, 시스템은 카메라 2를 위치시키는데, 즉 시스템은 x-y 좌표 시스템(92)에 십자선(46)의 위치를 선정한다(단계 126, 카메라 위치 선정 과정이라고도 불릴 수 있음). 이어, 공여체 요소(16)와 기판(10)을 시스템 내에 놓는다(단계 123). 기판(10)은 디지털 카메라(들)(248)에 대해, 디지털 카메라(들)(248)가 처리를 위해 적절히 위치된 기준 표시(40, 42)를 갖는 디지털 이미지를 생성시킬 수 있도록 위치된다(이의 특성은 명백해질 것이다). 적절하게 위치시킨다는 것은, 식별부가 디지털 카메라(들)의 관찰 범위 내에, 바람직하게는 이미지의 중심 20% 내에 위치함을 의미한다. 이어, 시스템은 십자선(44)에 대한 제 1 기준 표시(40)의 오프셋을 얻고(단계 128, 이는 기준 표시 위치 선정 과정이라고 불릴 수 있음), 십자선(46)에 대한 제 2 기준 표시(42)의 오프셋을 얻는다(단계 130, 이는 기준 표시 위치 선정 과정이라고 일컬을 수 있음). 이렇게 하여, 시스템은 x-y 좌표 시스템(92)에 대한 기판(10)상의 식별부의 위치를 감지한다. 주 PC(150)는 x-y 좌표 시스템(92)에서의 기준 표시(40, 42)의 위치를 계산한(단계132) 다음, 열-팽창-보충 연산이 두 식별부 사이의 실제 간격(76)과 공칭 간격(78)을 비교하고 보정 계수(이는 실제 간격(76)과 공칭 간격(78)의 비임)를 산출해낸다. 이어, 시스템은 기판(10)의 각도 및 중심을 계산한다(단계 134). 이렇게 하여, 시스템은 광 빔(24)에 대한 기판(10)의 위치 및 배향을 결정한다.
필요한 경우, 이를 반복 과정으로 수행할 수 있다. 이 경우, 이동 제어 전자장치는 공급되는 측방향 및 각도 오프셋에 의한 이동을 명령하게 되고, 이들 오프셋의 계산이 반복된다. 예를 들어, 반복 과정이 선택되면(단계 136), 시스템은 x-y 좌표 시스템(92)을 감지된 중간점(82)과 정렬시킨(단계 138) 다음, 이동 제어 전자장치(246)에 신호(이 신호는 각도 보정을 시작하는데 필요한 미세 위치조정 디바이스(106, 108)의 필요한 오프셋을 나타냄)를 보내는 주 PC(150)에 의해 x-y 좌표 시스템(92)에 각도 에러(86)의 각도 정렬 보정을 가함으로써 광 빔(24)을 비스듬히 이동시킨다. 더욱 정밀하게 하기 위해 단계(128 내지 134)를 반복할 수 있다.
기준 표시(40, 42)의 이미지의 품질이 충분하고, 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108) 및 그에 연결된 정밀 계측 디바이스가, 하나의 측정치 세트에 의해 OLED 기판상에 발광 층을 적절히 침착시키는데 필요한 에러 범위 내에서 위치조정 정보가 제공되도록 위치를 측정 및 조절하기에 충분한 능력을 갖는다면, 반복 공정은 불필요하다.
최종 반복 과정 후, 또는 반복 과정이 이용되는 않는 경우(단계 136), 시스템은 시스템 보드 및 수송 시스템에 보정 계수와 나머지 측방향 및 각도 오프셋을제공하고(단계 142), 과정을 종결하기(단계 147) 전에 출발 위치(단계 144) 및 각도(단계 145)를 최종적으로 조정한다.
도 8 및 도 6에는, x-y 좌표 시스템에서의 카메라 위치 선정 과정에 포함되는 단계, 즉 도 7의 단계(124, 126)가 더욱 상세하게 도시되어 있다. 이들 단계는 광 빔(24)이 각 카메라의 관찰 범위 내로 이동하는 절차에 달려 있다. 이 과정의 개시(단계 156)시, 주 PC(150)는 다른 시스템에 명령을 내린다. 주 PC(150)는 시스템 보드(154)에게 광원(100)의 작동 동력을 정상적인 기록 동력에서 광 빔(24)의 조명 위치를 선정하기에 충분한 보다 낮은 동력으로 낮출 것을 명령한다(단계 158). 광원(100)이 멀티채널 광원인 경우, 주 PC(150)는 시스템 보드(154)에게 광원(100)의 단일 채널을 켤 것을 명령한다(단계 160). 주 PC는 이동 제어 전자장치(246)에게 광원(100)을 미세 위치조정 디바이스(102, 106, 108)를 거쳐 최후 공지 카메라 중심 위치로 이동시킬 것을 지시한다(단계 162). 최후 공지 카메라 중심 위치는 카메라 위치 선정 과정이 마지막으로 수행되었을 때 카메라 중심에 위치되는 광원의 위치이다. 카메라 위치 선정 과정이 이전에 수행되지 않은 경우에는, 최초의 최후 공지 카메라 중심 위치를 정하기 위해 수동 위치 선정 과정이 필요할 수 있다. 단계 162는 단계 158 및 160 전에, 동안 또는 후에 수행될 수 있다. 단계 162는 디지털 카메라(248)가 처리를 위해 적절히 위치된 방출된 광을 갖는 디지털 이미지를 생성시킬 수 있도록 디지털 카메라(248)에 대해 광 빔(24)을 효과적으로 위치시킨다(이의 특성은 명백해진다). 적절하게 위치된이란, 방출된 광이 디지털 카메라(들)(248)의 관찰 범위 내에, 바람직하게는 이미지의 중심 20%내에 위치함을 의미한다.
주 PC(150)는 이미지 프로세서(250)에게 디지털 카메라(들)(248)로부터의 이미지 데이터를 받아들일 것을 명령한다(단계 164). 이미지 프로세서(250)는 광원(100)에 의해 방출된 채널 이미지의 질량 중심을 계산하고(단계 168), 이어 카메라 중심으로부터 채널 이미지의 질량 중심으로의 x 및 y 오프셋을 주 PC(150)에 보고한다(단계 170). 광 빔(24)의 위치는 예컨대 상기 위치 선정 과정으로부터, 또는 위치 데이터를 주 PC(150)로 전송하는 수송 시스템(152)에 의해 알 수 있다. 디지털 카메라(248) 및 광 빔(24)의 위치를 x-y 좌표 시스템(92)에서 알게 되고, 따라서 광 빔(24)의 현재 위치에 대한 디지털 카메라(248)의 위치 또한 알게 된다.
일단 이미지 데이터가 포획, 계산되고 오프셋이 보고되면, 주 PC(150)는 수송 시스템(152)에게 카메라의 중심으로부터 채널 이미지의 질량 중심으로의 x 및 y 오프셋을 전송한다(단계 174). 수송 시스템(152), 특히 이동 제어 전자장치(246)는 최후 공지 카메라 위치로서 x-y 좌표 시스템(92)에서의 현재의 카메라 위치를 계산 및 저장한다(단계 180). 동시에, 주 PC(150)는 시스템 보드(154)에게 광원(100)의 채널을 끄고(단계 178) 광원(100)의 동력 설정치를 정상적인 기록 수준으로 회복시킬 것을 지시한다(단계 182). 이어, 과정을 종결시키는데(단계 184), 이는 시스템 보드(154) 또는 수송 시스템(152) 또는 둘 다로부터 주 PC(150)로의 준비된 신호를 포함할 수 있다.
제 2 카메라 시스템 및 임의의 후속 카메라 시스템에 대해 이 과정을 반복하여 카메라 십자선의 위치를 x-y 좌표 시스템(92)에서 알 수 있다.
도 9, 도 1a 및 도 6에서는, 기준 표시 위치 선정 과정, 즉 감지 카메라에 대한 기판(10)상의 식별부의 위치의 감지에 포함된 일부 단계를 더욱 상세하게 도시하는 블록 다이어그램을 볼 수 있다. 따라서, 도 9는 도 7의 단계 128 및 130의 더욱 상세한 도면이고, 식별부의 디지털 이미지를 처리하기 위한 처리 연산이다. 단계 190에서는, 이미지 프로세서(250)가 도 1a의 십자선(44 또는 46) 내의 면적을 포함하고 기준 표시(40 또는 42)를 포함하는 디지털 카메라(248)로부터의 이미지 데이터를 포획한다. 이미지 프로세서(250)는 이미지 데이터를 사용하여 기준 표시의 질량 중심을 계산한다(단계 192). 이어, 이미지 프로세서(250)는 기준 표시 위치를 카메라 시스템 화소 단위로부터 실제 치수로 전환하고, 따라서 기준 표시 중심의 위치를 한정하며, 결국 x-y 좌표 시스템(92)에 대한 기판(10)의 위치 및 배향을 한정한다(단계 194). 이렇게 하는 동안, 광 빔(24)에 대한 기판(10)의 위치 및 배향을 결정할 수 있다.
도 10, 및 도 4b, 도 5 및 도 6에는, 이 과정의 중요한 변수중 일부를 계산하는데 포함되는 몇몇 단계를 더욱 상세하게 나타내는 블록 다이어그램이 도시되어 있다. 따라서, 도 10은 도 7의 단계 134의 더욱 상세한 도면이다. 단계 200에서는, 주 PC(150)가 기준 표시(40, 42)의 질량 중심에 위치한 두 지점에 의해 한정되는 감지된 선(74) 길이를 계산하며, 그 위치는 x-y 좌표 시스템 내에 표시된다. 중간점(82)을 계산하고(단계 202), 주 PC(150)에서 목적하는 중간점(84)으로부터의 측방향 오프셋을 계산한다(단계 204). 주 PC(150)는 선(74, 80) 사이의 각도 오프셋(86)을 계산한다(단계 206). 그 결과, ΔxL(88) 및 ΔyL(90)으로 표현되는 각도 오프셋(86) 및 측방향 오프셋이 얻어진다. 단계 208에서는, 주 PC(150)가 보정 계수, 즉 선(74) 길이 대 선(80) 길이의 비를 계산한다. 이어, 주 PC(150)는 공칭 선 피치 및 확대율로부터 실제 선 피치를 계산한다(단계 212).
이제, OLED 디바이스를 제조하기 위한 이미지 파일의 작성에 대해 논의해야 한다. 이미지 파일은 기록될 각 화소 영역에 대한 값을 함유하는 데이터 파일이다. 현재 상태의 시스템에서는, 각 채널을 켜거나 끌 수 있다. 용어 "채널"은 케이 등의 상기 인용된 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/055,579 호에 기재된 바와 같이 멀티채널 광원의 단일 채널을 일컫는다. 이 이미지 데이터는 스웨쓰(swath)로 일컬어지는 스트립으로 조직화된다. 목적하는 이미지에 따라, 스웨쓰는 특정 길이 및 폭을 갖도록 구성된다. 패턴화된 기판과 일치되는 이 이미지의 노출을 통합시키는 것은, 먼저 기판을 x-y 좌표 시스템과 정렬시켜야 할 것을 요구하고, 이어 주 PC(150)와 수송 시스템(152)이 시스템 보드(154)에 몇가지 정보를 제공할 것을 요구한다. 우선, 시스템 보드(154)는 이미지의 포맷 및 선 피치를 가져야 한다. 또한, x-y 시스템에 대한 기판의 나머지 각도 오프셋을 가져야 할 필요가 있다. 뿐만 아니라, 기록 과정동안 스웨쓰를 따라 이동하는 거리에 대한 정보(계측 정보라고도 일컬어짐)를 가져야 할 필요도 있다.
도 11, 및 도 3b, 도 5 및 도 6에서는, 열-팽창-보충 연산이라고도 불리는, 확대율 조정을 위한 동적 정렬을 비롯한 기록 과정의 단계를 보여주는 블록 다이어그램이 도시되어 있다. 기록 과정동안, 횡방향으로 이동하는 광원(100)은, 광원이 상이한 횡방향 위치로 이동할 때 광원(100)의 작동 타이밍을 변화시킴으로써, 기판의 감지된 위치와 배향에 따라 작동된다. 광원(100)을 작동시키면 광 빔(24)이 작동된다. 이러한 방식으로, 광 빔(24)은 공여체 요소(16)의 상이한 영역을 비추게 되고, 이러한 과정에서, 기판(10) 상에 다수의 발광 층, 예컨대 발광 층(32, 33)을 침착시킨다. 계측 정보는 시스템 보드(154)가 기판(10)의 열팽창을 보충할 수 있게 한다. 또한, 계측 정보의 분석과 화소 부위의 피치가 동시성을 갖지 않을 수 있거나 또는 동일하게 분석되지 않을 수도 있기 때문에, 누적된 에러를 추적하고 보충하기 위한 열팽창 보충 연산이 포함되어야 한다.
개시시(단계 216), 광원(100)을 미세 위치조정 디바이스(102)에 의해 제 1 방향, 예를 들어 제 1 횡방향(105)으로 이동시킨다(단계 218). 이로 인해, 광 빔(24)이 제 1 방향으로 이동한다. 미세 위치조정 디바이스(102)는, 예컨대 정밀 계측 디바이스(251)로부터의 소정 펄스, 즉 광원(100)이 소정 거리만큼 이동할 때 발생되는 펄스를 포함하는 정밀 피드백 신호(258)에 의해, 이동 제어 전자장치(246)에 그의 위치에 대한 신호를 보낸다. 열-팽창-보충 연산은 횡방향으로 이동하는 광원(100)을 올바르게 작동시키는데 정밀 피드백 신호(258)를 이용한다. 소정 지점에서, 수송 시스템(152)은 보정 신호(264)를 통해 기록 과정을 개시하도록 시스템 보드(154)를 작동시킨다(단계 220). 이동 제어 전자장치(246)는 계측 펄스를 시스템 보드(154)에 보내고, 시스템 보드는 카운트 기록기(146)에 펄스를 누적시킨다(단계 222). 열-팽창-보충 연산은 거리의 척도인 누적된 펄스를 선피치(이는 실제 간격(76)과 공칭 간격(78)의 비로서 정의된 보정 계수에 의해 변경시킨 화소 영역(12)의 공칭 간격임)와 비교한다. 누적된 카운트가 선 피치 미만이면(단계 224), 시스템 보드(154)는 계속해서 계측 펄스를 카운트 기록기에 누적시킨다(단계 222). 누적된 카운트가 선 피치 이상인 경우에는(단계 224), 소정 화소 영역의 다음 세트의 기록이 개시된다(단계 226). 스웨쓰가 완성되지 않은 경우(단계 228), 즉 제 1 방향에 기록될 추가의 화소 영역이 있는 경우에는, 카운트를 선 피치와 비교한다(단계 229). 카운트가 선 피치와 동일하면, 시스템 보드(154)에 의해 카운트 기록기(146)의 카운트를 없애고(단계 230), 기록 과정 및 계측 펄스 누적을 계속한다.
카운트가 선 피치와 동일하지 않은 경우, 즉 카운트가 선 피치보다 큰 경우에는, 이 에러를 누적시켜야 한다. 카운트의 에러를 계산하고(단계 231), 카운트 기록기(146)의 카운트를 없애고(단계 232), 에러 기록기(148)를 계산된 에러만큼 높인다(단계 234). 에러 기록기(148)에 누적된 에러가 1 미만인 경우(단계 236), 시스템 보드(154)는 카운트 기록기(146)에 계측 펄스를 누적시키는 과정을 다시 개시시킨다(단계 222). 누적된 에러가 1 이상인 경우에는, 카운트 기록기(146)의 카운트를 에러 기록기(148)의 값의 정수 부분만큼 높이고(단계 238), 에러 기록기(148)에 누적된 에러는 동일한 양만큼 감소시킨다(단계 240). 이어, 시스템 보드(154)는 카운트 기록기(146)에 계측 펄스를 누적시키는 과정을 다시 개시시킨다(단계 222).
인쇄되는 스웨쓰가 완성되면(단계 228), 즉 광원(100)이 제 1 종점(118)에도달하면, 시스템 보드(154)는 카운트 기록기(146)의 카운트 및 에러 기록기(148)의 누적 에러를 없앤다(단계 242). 문서의 말단이 제 2 방향 또는 수직 방향(110)에 도달하면(단계 243), 즉 전 표면에 기록되면, 과정을 중단시킨다(단계 245). 기록될 추가의 스웨쓰가 있는 경우에는, 광원(100)을 제 2 방향으로 전진시킨다. 예를 들어, 미세 위치조정 디바이스(106, 108)가 광원(100)을 수직 방향(110)으로 이동시킨다(단계 244). 횡방향으로 광원(100)을 이동시키고 소정 화소 영역에 조사하는 과정을 단계 218부터 시작하여 반복한다. 광원(100)은 제 2 종점으로 향하는, 이전 스웨쓰의 반대 방향, 즉 제 1 횡방향(105)에 평행하지만 반대쪽인 제 2 횡방향(107)으로 이동할 수 있다(이는 2-방향 조사임). 다른 실시태양에서는, 광원(100)을 조사 전의 출발점(119)으로 이동시키고, 제 1 횡방향(105)으로 조사를 수행하여, 1-방향 조사를 수행할 수 있다.
상이한 공여체 요소(16)를 사용하여 이 방법을 반복함으로써, 상이한 색의 광을 생성시키는 상이한 색의 발광 층을 포함하는 칼라 OLED 디바이스를 제조할 수 있음이 분명하다. 예를 들어, 제 1 공여체 요소(16)는 제 1 색(예: 적색)의 광의 다수의 발광층을 침착시키도록 비춰질 수 있다. 제 2 공여체 요소(16)는 제 2 색(예: 녹색)의 광의 다수의 발광 층을 침착시키도록 비춰질 수 있다. 제 3 공여체 요소(16)는 제 3 색(예: 청색)의 광의 다수의 발광 층을 침착시키도록 비춰질 수 있다. 각 발광 층은 기판(10)상의 상응하는 전극(예: 화소 영역(12))과 관련하여 침착된다.
본 발명의 방법에 의해, 주위 온도 변화에 기인한 기판의 치수 변화까지 조정할 수 있어서, 종래의 방법보다 결함이 적고 보다 정밀한 발광층을 침착시킬 수 있다.
Claims (5)
- (a) 발광 층을 OLED 기판의 화소 영역에 대해 적절하게 침착시키기 위해 OLED 기판의 위치 및 배향을 선정하는데 사용될 수 있는 하나 이상의 식별부를 갖는 OLED 기판을 제공하는 단계;(b) 선택된 위치를 향해 횡방향으로 또한 비스듬하게(angularly) 이동하여 광원에 의해 발생되는 광 빔의 상대적인 위치를 변화시킬 수 있는, 광 빔을 제공하는 광원을 제공하는 단계;(c) 공여체 요소가 OLED 기판에 대해 적절하게 위치될 때, 광 빔이 에너지-흡수 층에 의해 흡수되어 발광 물질을 가열하고 이러한 발광 물질을 OLED 기판으로 전달할 수 있도록 배열된, 발광 물질을 포함하고 에너지-흡수 층을 갖는 패턴화되지 않은 공여체 요소를 제공하는 단계;(d) 공여체 요소를 OLED 기판에 대해 전달 관계로 위치시키는 단계;(e) OLED 기판상의 식별부의 위치를 감지하여, 광원에 대한 OLED 기판의 위치 및 배향을 결정하는 단계; 및(f) 광 빔을 비스듬하게 이동시킨 후, 제 1 종점에 도달할 때까지 광 빔을 제 1 횡방향으로 이동시키고, 이어 광 빔을 수직 방향으로 이동시키고, 다시 제 1 방향에 평행하지만 반대쪽인 제 2 방향으로 제 2 종점까지 광 빔을 횡방향으로 이동시킨 후, 광 빔이 상이한 횡방향 위치로 이동될 때 광 빔의 작동 타이밍을 변화시킴으로써, OLED 기판의 감지된 위치 및 배향에 따라 제 1 방향, 제 2 방향 또는 양방향으로 광 빔을 횡방향으로 이동시키도록 작동시키는 단계를 포함하는, 유기 발광 디스플레이 디바이스(OLED)용 발광층을 침착시키는 방법.
- 제 1 항에 있어서,단계 (f)에서 열-팽창-보충 연산을 사용함을 추가로 포함하는 방법.
- 제 1 항에 있어서,식별부가 OLED 기판에 형성된 둘 이상의 이격된 기준 표시를 포함하는 방법.
- (a) 발광 층을 OLED 기판의 화소 영역에 대해 적절하게 침착시키기 위해 OLED 기판의 위치 및 배향을 선정하는데 사용될 수 있는 하나 이상의 식별부를 갖는 OLED 기판을 제공하는 단계;(b) 선택된 위치를 향해 횡방향으로 또한 비스듬하게 이동하여 광원에 의해 발생되는 광 빔의 OLED 기판에 대한 위치를 변화시킬 수 있는, 광 빔을 제공하는 광원을 제공하는 단계;(c) 공여체 요소가 OLED 기판에 대해 적절하게 위치될 때, 광 빔이 에너지-흡수 층에 의해 흡수되어 발광 물질을 가열하고 이러한 발광 물질을 OLED 기판으로 전달할 수 있도록 배열된, 개별적으로 상이한 색의 광을 방출시킬 수 있는 발광 물질을 포함하고 각각 에너지-흡수 층을 갖는 둘 이상의 패턴화되지 않은 공여체 요소를 제공하는 단계;(d) 제 1 공여체 요소를 OLED 기판에 대해 전달 관계로 위치시키는 단계;(e) OLED 기판상의 식별부의 위치를 감지하여, 광원에 대한 OLED 기판의 위치 및 배향을 결정하는 단계;(f) 광 빔을 비스듬하게 이동시킨 후, 제 1 종점에 도달할 때까지 광 빔을 제 1 횡방향으로 이동시키고, 이어 광 빔을 수직 방향으로 이동시키고, 다시 제 1 방향에 평행하지만 반대쪽인 제 2 방향으로 제 2 종점까지 광 빔을 횡방향으로 이동시킨 후, 광 빔이 상이한 횡방향 위치로 이동될 때 제 1 공여체 요소의 상이한 부분을 비추기 위한 광 빔의 작동 타이밍을 변화시킴으로써, OLED 기판의 감지된 위치 및 배향에 따라 제 1 방향, 제 2 방향 또는 양방향으로 광 빔을 횡방향으로 이동시키도록 작동시키고, 이에 의해 제 1 색의 다수의 발광 층을 OLED 기판 상에 침착시키는 단계; 및(g) 모든 색의 발광 층이 OLED 기판에 전달될 때까지 제 2 공여체 요소에 대해 단계 (d) 내지 (f)를 반복하는 단계를 포함하는,유기 발광 디스플레이 디바이스(OLED)용의, 상이한 색의 광을 생성시키는 상이한 색의 발광층을 연속적으로 침착시키는 방법.
- (a) 발광 층을 OLED 기판의 화소 영역 및 각각 디스플레이 상의 특정 화소에 연결된 다수의 전극에 대해 적절하게 침착시키기 위해 OLED 기판의 위치 및 배향을 선정하는데 사용될 수 있는 하나 이상의 식별부를 갖는 OLED 기판을 제공하는 단계;(b) 선택된 위치를 향해 횡방향으로 또한 비스듬하게 이동하여 광원에 의해 발생되는 광 빔의 OLED 기판에 대한 위치를 변화시킬 수 있는, 광 빔을 제공하는 광원을 제공하는 단계;(c) 공여체 요소가 OLED 기판에 대해 적절하게 위치될 때, 광 빔이 에너지-흡수 층에 의해 흡수되어 발광 물질을 가열하고 이러한 발광 물질을 OLED 기판으로 전달할 수 있도록 배열된, 개별적으로 상이한 색의 광을 방출시킬 수 있는 발광 물질을 포함하고 각각 에너지-흡수 층을 갖는 둘 이상의 패턴화되지 않은 공여체 요소를 제공하는 단계;(d) 공여체 요소를 OLED 기판에 대해 전달 관계로 위치시키는 단계;(e) OLED 기판상의 식별부의 위치를 감지하여, 광원에 대한 OLED 기판의 위치 및 배향을 결정하는 단계;(f) 광 빔을 비스듬하게 이동시킨 후, 제 1 종점에 도달할 때까지 광 빔을 제 1 횡방향으로 이동시키고, 이어 광 빔을 수직 방향으로 이동시키고, 다시 제 1 방향에 평행하지만 반대쪽인 제 2 방향으로 제 2 종점까지 광 빔을 횡방향으로 이동시킨 후, 광 빔이 상이한 횡방향 위치로 이동될 때 제 1 공여체 요소의 상이한 부분을 비추기 위한 광 빔의 작동 타이밍을 변화시킴으로써, OLED 기판의 감지된 위치 및 배향에 따라 제 1 방향, 제 2 방향 또는 양방향으로 광 빔을 횡방향으로 이동시키도록 작동시키고, 이에 의해 제 1 색의 다수의 발광 층을 OLED 기판 상의 상응하는 전극과 관련하여 침착시키는 단계; 및(g) 모든 색의 발광 층이 OLED 기판에 전달될 때까지 제 2 공여체 요소에 대해 단계 (d) 내지 (f)를 반복하는 단계를 포함하는,유기 발광 디스플레이 디바이스(OLED)용의, 상이한 색의 광을 생성시키는 상이한 색의 발광층을 연속적으로 침착시키는 방법.
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