KR200370586Y1 - Exhaust control system of installation production - Google Patents
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Abstract
본 고안은 스트립 공정, 에칭 공정 등을 필수적으로 실행하는 반도체, LCD 생산 공정 등의 제조 산업에서 다량으로 발생되는 화학적 성분과 수분을 효율적으로 제어하여 배기 시키기 위한 생산설비에서의 배기가스 제어장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas control device in a production facility for efficiently controlling and exhausting chemical components and moisture generated in a large amount in a manufacturing industry such as a semiconductor and an LCD production process that essentially perform a strip process, an etching process, and the like. will be.
본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는, 생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와, 상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서, 상기 제어장치는, 상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과. 상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과, 상기 사이클론트랩 하우징과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일을 구비하는 열교환부와, 상기 열교환부와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Exhaust gas control device of the production facility according to the present invention, the main duct for transporting the exhaust gas containing the moisture and chemicals formed in any process during operation of the production facility to the destination, and the exhaust conveyed through the main duct A control apparatus of a production equipment comprising a reprocessing system for adsorbing and concentrating a gas through a concentrator to discharge filtered air, wherein the control apparatus includes an inlet installed on a flow path of the main duct to introduce exhaust gas. And a cyclone trap configured to form an upper portion of the upper portion and a narrower portion toward the lower portion to guide the exhaust gas flowing into the reprocessing system into a cyclone flow to form liquid particles in the exhaust gas. A cyclone trap housing having an outlet for forming the outside of the cyclone trap and forming a flow space of the exhaust gas and sending the exhaust gas to the reprocessing system, and a cold water coil coupled to the cyclone trap housing to heat-exchange liquid particles. And a heat exchanger having a heat exchanger and a discharge unit configured to discharge water from the heat exchanged liquid by being combined with the heat exchanger.
Description
본 고안은 스트립 공정, 에칭 공정 등을 필수적으로 실행하는 반도체, LCD 생산 공정 등의 제조 산업에서 다량으로 발생되는 화학적 성분과 수분을 효율적으로 제어하여 배기 시키기 위한 생산설비에서의 배기가스 제어장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas control device in a production facility for efficiently controlling and exhausting chemical components and moisture generated in a large amount in a manufacturing industry such as a semiconductor and an LCD production process that essentially perform a strip process, an etching process, and the like. will be.
반도체 제조 설비 및 액정디스플레이 제조 설비는 가공물의 연마를 위한 스트립 공정(Strip), 가공물의 도금을 포함한 산 세척, 부식, 전해 연마 등의 에칭 공정 (Etching) 등을 필요로 한다.The semiconductor manufacturing equipment and the liquid crystal display manufacturing equipment require a strip process for polishing a workpiece, an etching process such as acid washing including plating of the workpiece, corrosion, electrolytic polishing, and the like.
도 1은 화학적 처리를 갖는 반도체 및 LCD 생산 공정에서 중요한 스트립 공정(10)과 에칭 공정(20) 그리고 여기서 발생되는 배기가스 처리를 도식적으로 나타낸 것이다.FIG. 1 schematically shows the strip process 10 and the etching process 20 and the exhaust gas treatment generated here which are important in semiconductor and LCD production processes with chemical treatment.
즉, 스트립 공정(10)과 에칭 공정(20)을 통해 가공물을 원하는 상태로 가공하고 이는 다시 린스공정(30)을 통해 재처리 과정을 거친다.That is, the workpiece is processed to a desired state through the strip process 10 and the etching process 20, which is then reprocessed through the rinse process 30.
이때, 상당량의 화학적 물질과 반응 물질은 가공물의 가공과 세척에 사용되고, 그 과정에서 화학 반응으로 나타나는 배기가스는 이송관(41)을 통해 메인덕트(40)로 보내 강제로 재처리하여 배기 시킨다. 여기서, 메인덕트(40)로 보내는 배기가스는 스트립, 에칭 공정(10)(20), 또는 린스 공정(30) 등에서 택일적으로 보내거나 동시에 보낼 수 있다.At this time, a considerable amount of chemicals and reactants are used for processing and washing the workpiece, and the exhaust gas, which appears as a chemical reaction in the process, is sent to the main duct 40 through the transfer pipe 41 to be forcibly reprocessed and exhausted. Here, the exhaust gas sent to the main duct 40 may alternatively be sent to the strip, the etching process 10, 20, the rinse process 30, or the like.
메인덕트(40)로 이송되거나 반송되어 배기 되는 배기가스에는 입자성 수분과 화학 성분 등을 다량으로 함유하고 있으며, 이러한 가공물 생산 과정에서 발생되는 배기가스를 그대로 대기중으로 방출시키면 대기오염원이 되어 재처리 시스템(50)을 별도로 운영하여 여과 및 정화 처리하게 되는데, 재처리 시스템(50)으로는 보통 지오라이트(Zeolite) 농축기를 사용하고, 이 농축기는 농도가 낮은 물질을 흡착 농축시켜 제거하는데 효율적이어서 반도체 및 LCD 생산 설비의 배기가스 처리용으로 운용상 적당하지만, 지오라이트가 수분에 대한 처리 효율이 현저히 떨어져 수분이 접촉되면 효율이 급격히 저하되는 특성이 있다.Exhaust gas transported or returned to the main duct 40 contains a large amount of particulate moisture and chemical components, and if the exhaust gas generated during the production of such workpieces is released into the atmosphere as it is, it becomes an air pollution source and is reprocessed. The system 50 is operated separately to filter and purify. The reprocessing system 50 generally uses a zeolite concentrator, and the concentrator is efficient for adsorption concentration of low-density substances to be removed. And although it is suitable for the operation of the exhaust gas treatment of LCD production equipment, geolite has a characteristic that the efficiency of the water drops sharply when the contact efficiency is significantly reduced.
한편, 발생된 배기가스의 처리효율은 정해진 메인덕트(40)를 통해 재처리 시스템(50)측으로 원만히 이송시켜 재처리 시스템(50)에서 만족할만한 배기가스 처리 결과를 얻는 것이지만, 재처리 시스템(50)에 도달하기 전후 과정에서 다량의 수분과 화학성분이 메인덕트(40) 이송도중 응축되어 메인덕트(40)에 고이는 현상이 발생한다.On the other hand, the treatment efficiency of the generated exhaust gas is to smoothly transfer to the reprocessing system 50 side through the determined main duct 40 to obtain a satisfactory exhaust gas treatment result in the reprocessing system 50, but the reprocessing system 50 In the process before and after reaching a), a large amount of water and chemicals are condensed during the transfer of the main duct 40, and a phenomenon that the water collects in the main duct 40 occurs.
특히, 솔벤트류를 사용하는 스트립 공정(10)의 배기로부터 유입되는 수분은 재처리 시스템(50)의 농축기로 직접 유입되어 배기가스의 흡착 농축 처리 효율을 현저히 떨어뜨리는 문제점이 있었다.In particular, the water flowing from the exhaust of the strip process 10 using the solvent flows directly into the concentrator of the reprocessing system 50, which significantly reduces the adsorption concentration treatment efficiency of the exhaust gas.
도 2는 반도체 및 LCD 생산 설비(60)에서 발생되는 배기가스 처리를 위해, 지오라이트 농축조를 갖는 재처리 시스템(50)에 의한 배기가스 처리 효율 저하를 방지하기 위한 종래의 배기 제어장치 구성 예로서, 재처리시스템(50)을 향하는 배기 메인덕트(40)의 일단에 터미널박스(61)를 설치하여 수분을 제거하여 배기가스만 재처리 시스템(50)으로 보내기 위한 것이다. 이 구조는 터미널박스(61)를 통해 수분을 중력 낙하시켜 회수하여 가스만 재처리 시스템(50)으로 보내기 위한 구조이지만, 메인덕트(40)를 따라 흐르거나 재처리 시스템(50)을 통해 작용하는 유동 기류에 의해 수분 입자가 충분히 수거되지 못하고 그대로 재처리 시스템(50)으로 이동하는 현상이 발생되어 재처리 시스템(50) 농축기에 의한 충분한 흡착 농축 효과를 얻지 못하는 단점이 있었다.2 is a configuration example of a conventional exhaust control apparatus for preventing the exhaust gas treatment efficiency from being lowered by the reprocessing system 50 having a zeolite concentration tank for the exhaust gas treatment generated in the semiconductor and LCD production facility 60. In order to remove the moisture by installing a terminal box 61 at one end of the exhaust main duct 40 facing the reprocessing system 50, only the exhaust gas is sent to the reprocessing system 50. This structure is a structure for recovering gravity by dropping moisture through the terminal box 61 and sending only gas to the reprocessing system 50, but flowing along the main duct 40 or acting through the reprocessing system 50. Due to the flow of air, the water particles may not be sufficiently collected and move to the reprocessing system 50 as it is, and thus, there is a disadvantage in that sufficient adsorption concentration effect by the reprocessing system 50 concentrator is not obtained.
도 3은 도 2의 경우와 마찬가지로 메인덕트를 따라 유동하는 배기가스에 포함된 수분을 제거하여 재처리 시스템(50)으로 보내주기 위한 구조로서, 재처리 시스템(50)으로 연결되는 지점의 전방 부근 메인덕트(40)에 냉수코일하우징(43)을 설치하고, 이 냉수코일하우징(43)에 냉수코일(42)을 장착하여 냉각수공급(44)을 통해 냉수코일(42)과 메인덕트(40)를 유동하는 배기가스를 열교환 시켜 재처리 시스템(50)으로 향하는 배기공기를 건공기로 변화시켜 수분이 제거되도록 한 구조이며, 냉수코일(42)을 따라 흐르는 냉각수는 냉수배출(45)이 되도록 한 구조이다.3 is a structure for removing moisture contained in the exhaust gas flowing along the main duct and sending it to the reprocessing system 50 as in the case of FIG. 2, and near the front of the point connected to the reprocessing system 50. The cold water coil housing 43 is installed in the main duct 40, and the cold water coil 42 is mounted in the cold water coil housing 43 to supply the cold water coil 42 and the main duct 40 through the cooling water supply 44. The exhaust gas flowing through the heat exchanger is a structure in which the exhaust air directed to the reprocessing system 50 is changed to a dry air to remove moisture, and the cooling water flowing along the cold water coil 42 becomes the cold water discharge 45. Structure.
그러나, 이 구조는 메인덕트(40)를 향하는 배기가스 공기의 풍력을 강하게 유지시키기 위하여 대풍량이 필요하여 인위적으로 조성된 고압대의 송풍량이 필요하여 에너지 소모가 많고, 또한 지속적으로 냉각수를 공급하여 열교환 시켜야 하며, 열교환 과정에서 냉수코일(42) 표면상에 지속적으로 수분이 발생되어 그대로 재처리시스템(50)으로 이동되어 수분의 충분한 제거 목적을 달성할 수 없는 문제점이 있었다.However, this structure requires a large amount of wind to maintain a strong wind power of the exhaust gas air toward the main duct 40, and requires an air volume of a high pressure band artificially created, which requires a lot of energy, and continuously supplies heat to the heat exchanger. In addition, there is a problem in that water is continuously generated on the surface of the cold water coil 42 in the heat exchange process, and thus, the water is transferred to the reprocessing system 50 as it is, so that a sufficient removal purpose of the water cannot be achieved.
이렇게 종래에는 반도체, LCD 등의 생산 및 제조 설비 운전 및 그 공정에서 다량으로 발생되는 화학성분과 오염물을 재처리 시스템을 통해 효과적으로 처리하기 위하여 수분입자의 중력낙하에 의한 회수, 열교환을 통한 건조공기의 조성 등 재처리 시스템을 통해 적합한 배기공기를 만들어 주기 위하여 다양한 시도가 있었으나, 배기가스에 포함된 수분 제거를 위해 대풍량 조성 등의 인위적인 운전 조성이 지나치게 커서 효율이 떨어졌고, 그 결과 또한 유동공기를 따라 수분의 유동을 충분히 제어할 수 없는 문제점이 있었다. 또한 수분이 지속적으로 재처리 시스템으로 유입되어 수명을 단축시키는 문제점도 있었다.Thus, in order to effectively treat chemical components and contaminants generated in production and manufacturing facilities such as semiconductors and LCDs and their processes through reprocessing systems, recovery of dry air by gravity drop of water particles and heat exchange Various attempts have been made to make suitable exhaust air through reprocessing systems such as composition, but the artificial air composition such as large air volume composition is too large to remove moisture contained in exhaust gas, resulting in low efficiency. Accordingly, there was a problem that the flow of moisture can not be sufficiently controlled. In addition, there is a problem that water is continuously introduced into the reprocessing system to shorten the life.
따라서, 본 고안의 목적은, 반도체 및 LCD 등의 생산을 위해 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비에 비교적 간단한 구조로 적용하여 배기가스의 처리효율을 높힐 수 있는 배기가스 제어장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to apply a chemical treatment operation and process for the production of semiconductors and LCDs, and to apply a relatively simple structure to an industrial manufacturing facility that requires reprocessing of the exhaust gas to increase the exhaust gas treatment efficiency It is to provide a gas control device.
본 고안의 다른 목적은, 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비의 배기가스 처리에 있어서, 수분에 포함된 화학물질을 회수하여 재활용할 수 있는 제어장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a control device capable of recovering and recycling chemical substances contained in water in the exhaust gas treatment of an industrial manufacturing facility which has a chemical treatment operation and a process and requires reprocessing of the exhaust gas. .
본 고안의 또 다른 목적은, 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비의 배기가스 처리에 있어서, 유동 배기가스의 인위적인 조성 없이 수분의 고 회수율을 갖는 배기가스 제어장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an exhaust gas control apparatus having a high recovery rate of moisture in an exhaust gas treatment of an industrial manufacturing facility having a chemical treatment operation and a process and requiring re-treatment of the exhaust gas. To provide.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는,Exhaust gas control device of the production equipment according to the present invention for achieving this object,
생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와,A main duct for transporting the exhaust gas containing moisture and chemicals formed in any process during operation of the production facility to the destination;
상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서,In the control device of the production equipment consisting of a reprocessing system for releasing the filtered and purified air by the adsorption concentration of the exhaust gas transported through the main duct through a concentrator,
상기 제어장치는,The control device,
상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과.It is provided on the flow path of the main duct and has an inlet for introducing the exhaust gas, the upper portion is wider and narrower toward the lower portion to guide the exhaust gas flowing into the reprocessing system to the cyclone flow to form a liquid in the exhaust gas liquid phase Cyclone trap made of particles.
상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과,A cyclone trap housing having an outlet that forms an exterior of the cyclone trap and forms a flow space of exhaust gas and sends exhaust gas to the reprocessing system;
상기 사이클론트랩 하우징과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일을 구비하는 열교환부와,A heat exchanger coupled to the cyclone trap housing and having a cold water coil to heat-exchange liquid particles;
상기 열교환부와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Coupled with the heat exchanger is characterized in that consisting of a discharge unit for discharging the water of the heat exchanged liquid.
본 고안의 다른 특징은, 생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와,Another feature of the present invention, the main duct for transporting the exhaust gas containing the moisture and chemicals formed in any process during operation of the production facility to the destination,
상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서,In the control device of the production equipment consisting of a reprocessing system for releasing the filtered and purified air by the adsorption concentration of the exhaust gas transported through the main duct through a concentrator,
상기 제어장치는,The control device,
상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과.It is provided on the flow path of the main duct and has an inlet for introducing the exhaust gas, the upper portion is wider and narrower toward the lower portion to guide the exhaust gas flowing into the reprocessing system to the cyclone flow to form a liquid in the exhaust gas liquid phase Cyclone trap made of particles.
상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과,A cyclone trap housing having an outlet that forms an exterior of the cyclone trap and forms a flow space of exhaust gas and sends exhaust gas to the reprocessing system;
상기 사이클론트랩을 통해 조성된 액상의 수분입자를 집수하여 배출하기 위해 상기 사이클론트랩 하우징과 결합된 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Characterized in that it consists of a discharge portion coupled to the cyclone trap housing to collect and discharge the liquid moisture particles formed through the cyclone trap.
도 1은 생산설비에서의 배기가스 발생과 그 처리를 설명하기 위한 도식도1 is a schematic diagram for explaining the generation of exhaust gas and its treatment in a production facility;
도 2는 종래의 배기가스 제어장치의 구성 예를 설명하기 위한 참고도2 is a reference diagram for explaining a configuration example of a conventional exhaust gas control device.
도 3은 종래의 또 다른 배기가스 제어장치의 구성 예를 설명하기 위한 참고도3 is a reference diagram for explaining a configuration example of another conventional exhaust gas control device;
도 4는 본 고안의 실시 예에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치의 구성을 설명하기 위한 참고 사시도Figure 4 is a reference perspective view for explaining the configuration of the exhaust gas control apparatus of the production facility according to an embodiment of the present invention
도 5는 본 고안의 실시 예에 따른 배기가스 제어장치의 동작을 설명하기 위한 참고도5 is a reference view for explaining the operation of the exhaust gas control apparatus according to an embodiment of the present invention
도 6은 본 고안의 실시 예에 따른 열교환부의 다른 구성 예를 설명하기 위한 도면6 is a view for explaining another configuration example of the heat exchanger according to an embodiment of the present invention;
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
40 : 메인덕트 50 : 재처리시스템40: main duct 50: reprocessing system
70 : 제어장치 71 : 입구70: control unit 71: entrance
72 : 출구 73 : 하우징 캡72: exit 73: housing cap
74 : 사이클론트랩 하우징 75 : 열교환부74: cyclone trap housing 75: heat exchanger
76 : 집수조 77 : 드레인파이프76: sump tank 77: drain pipe
78 : 플로트 79.79a : 냉수코일78: float 79.79a: cold water coil
80 : 플랜지 81 : 사이클론트랩80: flange 81: cyclone trap
82 : 유출홈 83 : 경사면82: outflow groove 83: slope
85 : 배출부85: discharge part
이하, 본 고안의 실시 예를 도면을 참고하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 4는 본 고안의 실시 예에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치의 구성을 설명하기 위한 참고 사시도 이다. 도 5는 본 고안의 실시 예에 따른 배기가스 제어장치의 동작을 설명하기 위한 참고도 이다.Figure 4 is a reference perspective view for explaining the configuration of the exhaust gas control apparatus of the production facility according to an embodiment of the present invention. 5 is a reference view for explaining the operation of the exhaust gas control apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 고안의 실시 예에 따른 열교환부의 다른 구성 예이다.6 is another configuration example of a heat exchanger according to an embodiment of the present invention.
본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치(70)는, 도 2 내지 도 5와 같이, 생산설비 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트(40)와, 상기 메인덕트(40)를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템(50)으로 이루어진다.Exhaust gas control device 70 of the production facility according to the present invention, as shown in Figure 2 to 5, the main duct for transporting the exhaust gas containing the moisture and chemicals formed in any process during operation of the production facility to the destination 40, and a reprocessing system 50 for adsorbing and concentrating the exhaust gas transferred through the main duct 40 through a concentrator to discharge the filtered and purified air.
주요부분은, 도 4 및 도 5와 같이, 메인덕트(40)의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구(71)를 구비하고, 상기 재처리 시스템(50)으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 경사면(83)으로 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩(81)과, 상기 사이클론트랩(81)의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템(50)으로 보내는 출구(72)를 구비하는 사이클론트랩 하우징(74)과, 상기 사이클론트랩 하우징(74)과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일(79)을 구비하는 열교환부(75)와, 상기 열교환부(75)와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부(85)로 이루어진다.The main part, as shown in Figs. 4 and 5, is provided on the flow path of the main duct 40, the inlet 71 for introducing the exhaust gas, the cyclone flows to the reprocessing system 50 The cyclone trap 81 is formed as an inclined surface 83 to have a wider upper portion and a narrower portion toward the lower portion to guide the flow, and forms an exterior of the cyclone trap 81 to form moisture in the exhaust gas as liquid particles. Cold water, which is combined with the cyclone trap housing 74 and the cyclone trap housing 74, has an outlet 72 that forms a flow space and sends exhaust gas to the reprocessing system 50. A heat exchanger 75 having a coil 79 and a discharge unit 85 coupled to the heat exchanger 75 to discharge moisture of the liquid phase heat exchanged.
또한 본 고안은, 메인덕트(40)의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구(71)를 구비하고, 상기 재처리 시스템(50)으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁아지는 경사면(83)으로 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩(81)과, 상기 사이클론트랩(81)의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템(50)으로 보내는 출구(72)를 구비하는 사이클론트랩 하우징(74)과, 상기 사이클론트랩(81)을 통해 조성된 액상의 수분입자를 집수하여 배출하기 위해 상기 사이클론트랩 하우징(74)과 결합된 배출부(85)로 이루어질 수 있다.In addition, the present invention, the inlet 71 is provided on the flow path of the main duct 40, the inlet 71 for introducing the exhaust gas, the upper portion to guide the exhaust gas flowing to the reprocessing system 50 to the cyclone flow The cyclone trap 81 is formed as an inclined surface 83 that is wider and narrower toward the lower part, and forms the outside of the cyclone trap 81 to form moisture in the exhaust gas as liquid particles. A cyclone trap housing 74 having an outlet 72 for sending gas to the reprocessing system 50 and the cyclone trap housing for collecting and discharging the liquid moisture particles formed through the cyclone trap 81. It may be composed of a discharge portion (85) combined with (74).
또한, 상기 사이클론트랩(81)은 원추형으로 형성되며, 그 말단은 수분 유출홈(82)을 구비하여 구성된다.In addition, the cyclone trap 81 is formed in a conical shape, the end of which is provided with a water outlet groove (82).
또한, 상기 사이클론트랩(81)에 형성되는 배기가스 입구(71)는 사이클론트랩(81)의 상단부 일측에 일체형으로 형성될 수 있다. 여기서, 배기가스 입구(71)는 사이클론트랩(81)과 일체형이 아닌 분리형으로 형성될 수 있으나, 배기가스의 사이클론 유동이 사이클론트랩(81)의 전체 체적에서 나타나 효율적인 공간을 이용할 수 있도록 배기가스 입구(71)의 위치는 상단부에 두는 것이 바람직하다.In addition, the exhaust gas inlet 71 formed in the cyclone trap 81 may be integrally formed on one side of the upper end of the cyclone trap 81. Here, the exhaust gas inlet 71 may be formed separately from the cyclone trap 81, but the cyclone flow of the exhaust gas in the entire volume of the cyclone trap 81 to use the efficient space so that the exhaust gas inlet It is preferable to place the position of 71 at the upper end.
또한, 상기 사이클론트랩 하우징(74)은, 상기 사이클론트랩(71)과 분리형으로 형성되며, 상부는 하우징 캡(73)을 구비하여 사이클론트랩(81)을 분해할 수 있도록 구성되며, 단부상으로는 상대 구조물과 플랜지 결합으로 분해 결합 가능한 플랜지(80)를 구비할 수 있다.In addition, the cyclone trap housing 74 is formed to be separated from the cyclone trap 71, the upper portion has a housing cap 73 is configured to disassemble the cyclone trap 81, on the end relative structure And a flange 80 that can be disassembled and coupled to the flange coupling.
또한, 상기 열교환부(75)는, 상기 사이클론트랩(81)과 결합 가능한 플랜지(80)를 단부상에 구비하여 사이클론트랩 하우징(74)과 결합되도록 구성할 수 있다.In addition, the heat exchange part 75 may be configured to be coupled to the cyclone trap housing 74 by having a flange 80 that is engageable with the cyclone trap 81 on an end thereof.
또한, 상기 열교환부(75)는 도 6과 같이 구성할 수 있다. 즉, 사이클론트랩(81)의 형상에 따라 형성되는 사이클론트랩(81)의 두께 상에 냉수코일(79a)을 냉수공급과 냉수배출이 가능하도록 설치하여 구성할 수 있다. 냉수코일(79a)을 사이클론트랩(81)을 따라 이와 같이 설치하면, 사이클론트랩(81) 내에서 유동되는 배기가스를 직접 열교환시켜 회수할 수 있게 된다.또한, 상기 배출부(85)는, 액상의 수분이 집수되는 하부측으로 갈수록 폭이 좁아지는 집수조 본체(76)와, 상기 집수조 본체(76) 내부에 안착되어 집수된 수분의 수면을 따라 부상하는 플로트(78)와, 상기 플로트(78)의 부상에 따라 집수된 상기 집수조 본체(76)내의 드레인수를 배출하는 드레인파이프(77)로 구성할 수 있다.In addition, the heat exchanger 75 may be configured as shown in FIG. That is, the cold water coil 79a may be installed on the thickness of the cyclone trap 81 formed according to the shape of the cyclone trap 81 so as to enable cold water supply and cold water discharge. If the cold water coil 79a is provided along the cyclone trap 81 in this manner, the exhaust gas flowing in the cyclone trap 81 can be directly exchanged and recovered. The discharge unit 85 is a liquid phase. The sump main body 76 is narrowed toward the lower side where the water of the water is collected, the float 78 which floats along the water surface of the water collected and settled inside the sump main body 76, and the float 78 It can be configured as a drain pipe 77 for discharging the drain water in the sump main body 76 collected by the floating.
이와 같이 구성된 본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치의 작용 및 효과를 도 4 및 도 6을 참고로 설명하면 다음과 같다.The operation and effects of the exhaust gas control device of the production facility according to the present invention configured as described above will be described with reference to FIGS. 4 and 6.
본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는, 반도체, LCD생산 공장 등과 같은 산업 현장 생산설비 운용중 발생되는 화학물질 등의 배기가스를 지오라이트 농축조 등을 운용하여 흡착 농축 등의 방법으로 배기가스를 정화 처리하는 재처리 시스템(50)의 처리 효율 및 성능을 안정적으로 유지하기 위하여 배기가스를 재처리 효율에 맞게 사전에 조성하기 위한 제어장치이다.Exhaust gas control device of the production facility according to the present invention, the exhaust gas of the chemical substances, etc. generated during the operation of industrial production facilities, such as semiconductor, LCD production plant, etc. by operating a zeolite concentration tank, etc. In order to stably maintain the processing efficiency and performance of the reprocessing system 50 for purifying the gas, it is a control device for forming the exhaust gas in advance according to the reprocessing efficiency.
즉, 배기가스에 함유된 수분은 흡착 농축조에 의한 재처리에서 치명적인 문제를 야기 시켜 종전에는 배기가스에 함유된 수분을 사전 제거하여 재처리 시스템(50)으로 보내기 위하여 건조 및 열교환 등의 방법으로 배기가스를 조성하는 방법이 알려져 있으나, 만족할만한 배기가스 조성은 앞서 설명한 바와 같이 미흡했다.That is, the moisture contained in the exhaust gas causes a fatal problem in the reprocessing by the adsorption concentrator, and previously, the moisture contained in the exhaust gas is exhausted by drying and heat exchange, etc. in order to remove the moisture contained in the exhaust gas and send it to the reprocessing system 50. Although a method of forming a gas is known, a satisfactory exhaust gas composition has been insufficient as described above.
본 고안은 배기가스를 사이클론 유동으로 활성화시킨 뒤 수분은 낙하시켜 집수하고 가스만을 분리하여 재처리 시스템(50)으로 보내주도록 되어 있다.The present invention is to activate the exhaust gas by the cyclone flow, the water is collected by dropping, and the gas is separated and sent to the reprocessing system 50.
도 5와 같이, 메인덕트(40)를 따라 유동되는 배기가스는 초기에 사이클론트랩(81)의 상단부에 마련된 입구(71)를 따라 유입되어 사이클론트랩(81)의 내부를 유동한다. 이 과정에서 배기가스는 사이클론 회전작용을 나타내면서 하부로 갈수록 좁아지는 체적으로 밀도가 높아지면서 배기가스에 포함된 수분 알갱이 입자를 유출홈(82)을 중심으로 모으고 가스는 유출홈(82)을 통해 사이클론트랩(81)의 외부를 두르고 있는 사이클론트랩 하우징(74)의 빈 공간을 통해 출구(72)를 따라 유동시켜 재처리 시스템(50)으로 내보내서 최종척으로 수분이 없는 건조된 가스만을 재처리 시스템(50)으로 보내 배기가스의 처리 효율을 높혀 주는 작용을 한다.As shown in FIG. 5, the exhaust gas flowing along the main duct 40 initially flows along the inlet 71 provided at the upper end of the cyclone trap 81 to flow inside the cyclone trap 81. In this process, the exhaust gas exhibits a cyclone rotational action, and the density becomes narrower toward the lower portion, so that the moisture grains contained in the exhaust gas are collected around the outlet groove 82 and the gas is cyclone through the outlet groove 82. The reprocessing system only flows dry gas free of moisture to the final chuck by flowing along the outlet 72 through the empty space of the cyclone trap housing 74 enclosing the outside of the trap 81 to the reprocessing system 50. It serves as (50) to increase the treatment efficiency of the exhaust gas.
한편, 사이클론트랩(81)의 유출홈(82)을 따라 낙하되는 수분 입자는 그 하부에 마련된 배출부(85)의 집수조(76)에 고이게 되어 그 고이는 수분은 수위를 변동시켜 플로트(78)를 수면위로 부상시키며 플로트(78)의 부상으로 드레인파이프(77)쪽으로 통하는 통로가 열려 드레인수로 배출시킨다. 집수조(76)를 통해 고가의 화학물질과 물 등으로 분류시켜 고가의 화학물질은 회수하여 재 사용할 수 있도록 할 수 있고, 물은 그대로 방출시킬 수 있다.On the other hand, the water particles falling along the outflow groove 82 of the cyclone trap 81 is accumulated in the water collecting tank 76 of the discharge portion 85 provided in the lower portion thereof so that the moisture changes the water level to float the float 78. It floats on the surface of water and the passage to the drain pipe 77 is opened by the float 78 and is discharged to the drain water. By collecting the expensive chemicals and water through the water collecting tank 76, the expensive chemicals can be recovered and reused, and the water can be discharged as it is.
여기서, 사이클론트랩(81)의 유출홈(82)을 따라 집수되는 수분을 열교환시켜 배출하면 수분입자의 회수율을 더 높일 수 있다. 즉, 사이클론트랩 하우징(74)과 플랜지(80) 등의 결합으로 냉수코일(79)을 구비하는 열교환부(75)에 의해 사이클론트랩(81)을 통해 분류된 수분 입자를 단 시간에 냉수코일(79)을 통해 열교환시켜 드레인수로 배출시킬 수 있으며, 도 6과 같이 사이클론트랩(81)의 두께 상에 냉수코일(79a)을 직접 설치하여 유동되는 배기가스를 열교환시켜 수분으로 배출시킬 수 있다.Here, when the water collected through the outflow groove 82 of the cyclone trap 81 is discharged by heat exchange, the recovery rate of the water particles may be further increased. That is, the water particles classified through the cyclone trap 81 by the heat exchanger 75 having the cold water coil 79 by the combination of the cyclone trap housing 74 and the flange 80 may be cold water coils (for a short time). The heat exchange through 79 may be discharged into the drain water, and as shown in FIG. 6, the cold water coil 79a may be directly installed on the thickness of the cyclone trap 81 to heat the exhaust gas to be discharged as moisture.
이와 같이 본 고안에 따른 배기가스 제어장치를 반도체 및 LCD 제조 설비 등에 적용하는 경우 재처리 시스템에 의한 배기가스의 처리 효율을 항상 시킬 수 있고, 또한 배기가스에 포함된 수분을 효과적으로 회수하여 이중 고가의 화학 성분은 회수하여 재활용이 가능하면서도 배기가스의 인위적 조성에서 별도의 보조장비 없이 연속적인 운용이 가능하다.As described above, when the exhaust gas control device according to the present invention is applied to semiconductor and LCD manufacturing facilities, the exhaust gas treatment efficiency by the reprocessing system can always be improved, and the moisture contained in the exhaust gas can be effectively recovered to double the expensive. The chemical composition can be recovered and recycled, but it can be operated continuously without any additional equipment in the artificial composition of exhaust gas.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는, 반도체 및 LCD 등의 생산을 위해 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비에 비교적 간단한 구조로 적용하여 배기가스의 처리효율을 높힐 수 있는 효과가 있다.As described above, the exhaust gas control device of the production equipment according to the present invention has a chemical treatment operation and process for the production of semiconductors and LCDs, and is applied to an industrial manufacturing facility that requires reprocessing of exhaust gas with a relatively simple structure. There is an effect that can increase the treatment efficiency of the exhaust gas.
또한, 고안에 따른 배기가스 제어장치를 반도체 및 LCD 제조 설비 등에 적용하는 경우 재처리 시스템에 의한 배기가스의 처리 효율을 항상 시킬 수 있고, 배기가스에 포함된 수분을 효과적으로 회수하여 이중 고가의 화학 성분은 회수하여 재활용이 가능하면서도 배기가스의 인위적 조성에서 별도의 보조장비나 재정비 없이 연속적인 운용이 가능한 효과가 있다.In addition, when the exhaust gas control device according to the present invention is applied to semiconductor and LCD manufacturing facilities, the efficiency of exhaust gas treatment by the reprocessing system can always be improved, and the moisture contained in the exhaust gas can be effectively recovered to double the expensive chemical components. The silver can be recovered and recycled, but the artificial composition of the exhaust gas can be operated continuously without any auxiliary equipment or rearrangement.
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