KR20030097810A - 컬러 이색성 편광판 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

전컬러 이색성 편광판을 제조하기 위하여는 몇 개의 흡수 최대치를 갖는 흡수 밴드를 만드는 것이 필요하다. 지금까지 만들어진 흡수 밴드는 항상 편광층에 침전된 비구형 입자들의 형태로 결정되는 단순한 밴드를 가졌다.

완전하게 이완되지 않은 비구형 실버 입자들을 구비하는 층의 부분층을 간단하게 가열하므로써 주어진 축비의 조정이 단지 상기 부분층에서 발생하며, 몇 개의 흡수 최대치를 갖는 흡수 밴드들이 중첩된 부분층들에서 서로 다르게 조정된 축비에 의하여 생산될 수 있다. 전컬러 편관판은 픽셀 형태 구조에서 몇 개의 상기 흡수 밴드들을 조합하는 방법으로 생산될 수 있다.

Description

컬러 이색성 편광판 및 그 제조방법{Colar Dichroic Polarizers and Method for the Production Thereof}

이색성 흡수 밴드를 만들 수 있는 기판 물질 내에서 균일한 방향을 가진 비구형 물질이 공지되어 있다. 전형적인 예로는 글라스 내의 실버, 동 또는 금 입자들이다. 예컨대, 글라스 내에서 방향을 가진 비구형 금속 실버 입자들은 가시광선, 자외선 및 적외선 근처에서 이색성 흡수 밴드를 만든다. 가시광선 영역에서는 이색성 흡수는 편광 방향에 대한 컬러 효과를 나타낸다. 실버 입자들의 경우에는, 이색성 행동이 단일 흡수 밴드에 의하여 만들어진다는 특징이 있다. 가시광선 스펙트럼영역 내의 흡수 밴드는 원칙적으로 가시광선 스펙트럼의 다른 점에 위치하므로서, 다양한 컬러 효과가 조정될 수 있다. 스펙트럼에서 흡수 밴드 최대치 사이트는 본질적으로 입자들의 형태에 의하여 결정된다. 타원형 입자들의 경우에는 상기 흡수 밴드의 스펙트럼 사이트는 입자들의 반축비(semiaxial ratio)에 의하여 결정된다.

이 효과를 특정한 응용에 이용하는 수 많은 제안들이 있다.

액정 디스플레이 장치용 이색성 편광자의 제조방법이 DE 29 27 230 C2인 "편광된 글라스막의 제조방법과 이에 의하여 제조된 글라스 필름 및 상기 액정 디스플레이 장치의 사용방법(Method for the production of a polarized glass film, glass film produced accordingly, and use of such a film in liquid crystal displays)"에 공지되어 있다. 시작점은 바늘 형태의 바디가 도입되어 용해된 유기 또는 무기 글라스이며, 상기 글라스로부터 글라스막이 만들어진다.

상 분리된 실버 할라이드 글라스을 기초로하여 고편광 글라스를 만드는 방법이 공지되어 있는데, 상기 글라스 내에서 원하는 크기의 실버 할라이드 입자들은 템퍼링에 의하여 만들어진다(US 3,653,869). 이는 두 개의 단계가 더 수행되어야 하는데, 먼저 상기 실버 할라이드 입자를 타원형으로 하고, 동일한 방향으로 하기 위하여 상부 냉각점과 글라스 전이 온도 사이에서 상기 글라스는 신축되고, 압출성형되며, 회전압연된다. 다음으로, 상기 글라스는 UV 방사와 같은 방사에 노출된다. 금속 실버는 이에 의하여 실버 할라이드 입자의 표면 상에 침전된다. 이러한 글라스는 방사에 의하여 밝은 비편광과 어두운 편광 사이에서 조정된다.

또한, 적어도 10μm 두께의 글라스의 표면층 내에 길게 늘어선 실버 입자들을 만들기 위하여 감압하에 냉각점 아래에서 글라스를 템퍼링하는 것이 공지되어 있다(US 4,304,584). 라미네이트를 생성하기 위하여 조합된 글라스의 생산이 기술되어 있는데, 이에 의하여 편광성과 광색성의 글라스층이 조합되고 라미네이팅된다.

금속 입자들의 더 높은 이심률을 달성하기 위하여 변형 과정 전에 금속 할라이드 포함 글라스를 또 다른 글라스에 라미네이트하는 것이 공지되어 있다(US 4,486,213).

금속 입자들의 형성이 금속 이온들과 템퍼링의 도입으로 반복된 변화에 의하여 금속 입자들이 글라스 표면에서 발생하는 UV 편광판을 만드는 것이 알려져 있다(DE 198 29 970). 이로서 일정한 크기 분포를 갖는 구형의 입자들의 형성된다. 연속되는 글라스의 변형으로 다른 반축비를 갖는 다른 크기의 비구형 입자들이 형성된다.

상술한 방법들은 공통적으로 대체적으로 기판 매트릭스 내에서 극소의 구형의 이질적 형상의 입자들이 만들어지고, 상기 입자들이 연속적으로 변형 과정에서 변형되며 원하는 방향으로 균일하게 방향을 갖는다. 그러므로, 변형된 이질적인 형상의 입자들의 최종 이색성 흡수 밴드들은 입자들의 형상에 의하여 본질적으로 결정되며, 그러므로 고정된다.

또한, 기판들이 상기 글라스의 변형 온도 근처 또는 그 이상의 온도로 가열될 때, 상기 입자들의 완화로 인하여 구형 형태의 되돌아 가는 것으로 알려져 있다. 이색성 흡수의 변화는 이와 관련되어 있다. 온도와 처리의 지속에 의존하여,초기 조건과 구형 형태 사이에서 어떠한 원하는 완화도를 갖는 입자들이 형성될 수 있다. 그러나, 보통 수 시간의 범위에서 지속하는 템퍼링 과정은 단지 일정한 컬러로의 이색성 편광 글라스의 단색 조정만 허용할 수 있다.

상기 글라스의 전이점 상당히 위의 온도를 사용하므로서, 반축비를 더 작게하며 수초 범위 이하로 금속 입자들의 전이를 위한 완화 시간을 짧게 하는 방법이 공지되어 있다(DE 196 42 116). 에너지 전이는 전자빔을 갖는 구조 방식에서 발생한다. 추가적으로 상기 방법은 흡수 밴드와 컬러 효과를 기판의 다른 측면 영역 내에 특정한 방식에서 다르게 조정할 수 있다. 이러한 방식에서는 100μm 훨씬 이하의 측면 치수를 갖는 다른 컬러의 플랫 요소가 또한 만들어질 수 있다.

종래 기술의 주요 단점으로는 실버 단일 밴드의 경우에, 만들어 지는 흡수 밴드가 입자의 형태에 의하여 결정되는 밴드 형상으로 항상 고정되는 것이다. 더 복잡한 밴드 형상들이 만들어 질 수 없다.

만약에 주요 컬러들 빨강, 녹색, 및 파랑을 섞어서 여분의 색상에 의한 전색상을 만들기 원한다면, 종래기술에서 충족할 수 없는 특정한 요구사항이 흡수 스펙트럼 상에서 만들어져야 한다. 빛이 비춰질 때 세 가지 주요 컬러들의 하나를 얻기 위해서는 다른 두 가지 컬러들은 각각 강하게 흡수되어야만 한다. 예컨대, 빛이 비춰질 때, 각각 빨강과 파랑색을 얻기 위해서는 요구되는 광역 흡수 밴드는 각각 파랑과 녹색 또는 빨강과 녹색 스펙트럼 영역을 흡수한다. 녹색을 얻기 위해서는, 빨강과 파랑 스펙트럼 영역에서 최대치를 갖는 두 개의 흡수 밴드가 필요하다. 이는 종래기술에서는 제공될 수 없다.

그러나, 컬러 디스플레이용 이색성 편광판을 사용하기 위하여는 주요 컬러의 추가적인 혼합이 관찰자에게 생리학적으로 효과적으로 하기 위하여 가까이 인접하는 흡수 밴드를 갖는 작은 영역들을 정렬하는 것이 필요하다.

본 발명은 컬러, 바람직하게는 다컬러 이색성 편광판과 그 제조방법에 관한 것이다. 이러한 형태의 편광판에서, 컬러와 편광 효과는 기판 물질로서 글라스에 침전된 주로 금속 입자들과 같은 비구형 입자들의 이색성 흡수에 의하여 만들어진다. 본 발명은 기판 물질 내에 입자들이 형태 및 흡수 밴드들의 형태와 스펙트럼 위치에 관한 것이며, 뿐만아니라 동일한 것의 조정을 위한 방법에 관한 것이다.

본 발명의 사용 분야는 바람직하게는 특정한 방법에 의하여 측면으로 다르게 조정된 이색성 흡수 밴드를 가진 가시광선, 자외선 및 적외선 스펙트럼 영역 근처 의 편광판이다.

본 발명은 실시예와 도면들에 의하여 더 상세하게 기술된다.

도 1은 본 발명에 따른 스트립형 이미지 요소를 갖는 다중 컬러 이색성 편광판의 부분 확대 사시도이다.

도 2는 실버 입자들의 축비와 지정 흡수 밴드의 스펙트럼 사이트 사이의 관련도면이다.

도 3은 빨강(도 3a), 녹색(도 3b), 파랑(도 3c)을 디스플레이하기 위한 다중 컬러 편광자의 서로 다른 측면 영역들의 이중층에서 조정되어진 흡수 스펙트럼이다.

본 발명의 목적은 측면 정렬로 스트립 또는 픽셀 등과 같은 가까이 인접하는 플랫 영역을 포함하는 다중 컬러 이색성 편광자를 생성하는 것으로서, 상기 영역들은 흡수 밴드의 스펙트럼 사이트 내에서 서로 다르며, 바람직하게는 빨강, 녹색, 및 파랑으로 조정된다. 또한 본 발명의 목적은 이를 위하여 요구되는 흡수 밴드를 이색성 편광 글라스 내에 만들 수 있는 방법을 개시한다.

다른 흡수 밴드들을 중첩시키므로서 거의 원하는 어떠한 흡수 스펙트럼을 만들수 있는 것으로 간주된다. 흡수 밴드들의 중첩은 서로 다른 스펙트럼 영역을 갖는 부분층들의 하나를 다른 하나 뒤에 정렬시키므로써 얻어진다. 시차도(parallx freedom)는 예컨대 픽셀 구조 등과 같은 매우 작은 지역 상에 원하는 흡수 스펙트럼이 만들어지기를 요구한다. 이를 위해서, 하나가 다른 하나의 뒤에 위치하는 부분층은 가능한 치밀하게 정렬하여야 한다.

본 발명에 따른 이러한 치밀한 정렬은 흡수층을 서로 다른 흡수 밴드들을 특징으로 하는 두 개의 부분층인 적어도 이중층으로 형성하므로서 가능하게 할 수 있다.바람직하게는, 이 원리로 구성된 컬러 이색성 편광판은 비구형 금속 입자들, 특히 실버 입자들을 포함하는 이중층을 적어도 부분적으로 구비하는 공지된 규산나트륨(sodium silicate) 글라스 기판을 포함한다. 이중층의 두 개의 부분층들의 하나 내에서의 평균 축비는 이중층의 두 개의 부분층의 각각 다른 것 내의 평균 축비와 다르다. 그러므로, 다른 단일 밴드들에 의한 실버 입자들의 경우에는, 두 개의 부분층들은 서로 다른 흡수 스펙트럼을 특징으로 한다. 따라서, 최종적인 흡수 스펙트럼은 하나가 다른 하나의 뒤에 위치하는 이중층인 두 개의 부분층의 서로 다른 스펙트럼 사이트의 흡수 밴드의 중첩으로부터 형성된다. 이러한 방식으로, 컬러들은 단지 다중 밴드 흡수 스펙트럼에 의하여 만들어질 수 있고 디스플레이 될 수 있다. 만약에 작은 인접 영역들이 서로 너무 다르게 바람직하게는 다중 밴드 흡수 스펙트럼 형상으로 취급된다면, 다른 흡수 스펙트럼으로 야기되는 컬러들이 부가적으로 혼합될 수 있다.

다중 컬러 이색성 편광판으로서 일실예로서, 바람직하게는 세 가지 다른 최종적인 흡수 스펙트럼이 이중층의 서로 다른 측면 영역에서 이 방식으로 이루어지며, 여기에서 두 개의 단일 밴드들은 각각 이중층의 부분층의 측면 영역에 의한 흡수의 적당한 조정으로 조합되거나 또는 중첩된다. 이러한 측면 영역들은 스트립 또는 픽셀들의 규칙적인 정렬로 그룹되어 진다. 이중층의 부분층의 흡수 밴드의 적당한 조정에 의하여 백색광이 통과할 때 각각 빨강, 녹색, 및 파랑으로 나타나는 이러한 측면 영역들의 세 가지는 그룹지워져 추가적인 컬러 혼합에 의하여 디스플레이될 수 있는 컬러를 수용할 수 있는 플랫 요소를 만든다. 빨강과 파랑 스트립들 또는 픽셀들에서 이중층인 두 개의 부분층들 내에 금속 입자들의 축비는 조정되어 각각 파랑과 녹색 또는 빨강과 녹색 영역 내에 위치하는 인접하는 흡수 밴드들을 특징으로 하는 반면에, 녹색 영역에서는 이중층인 두 개의 부분층들 내에 금속 입자들의 축비는 조정되어 각각 파랑 또는 빨강 스펙트럼 영역내에서 흡수한다. 그러므로, 이러한 측면 영역들 내에서 빨강과 파랑 스펙트럼 영역 내에 두 개의 분리된 최대치를 갖는 흡수 스펙트럼이 형성되어, 빛의 녹색 요소만이 기판의 측면 영역들로 통과할 수 있다. 세 가지 주요 컬러들을 모두 준비하는 것은 서로 멀리 떨어져 위치하는 흡수 최대치를 갖는 흡수 스펙트럼의 생성과 적당한 광학 밀도이며, 본 발명에 따른 이색성 편광판의 전컬러 능력을 위한 필요조건이다. 고포화 혼합 컬러들은 특히 각각 흡수 최대치가 1 이상인 개개 부분층들의 광학 밀도에서 만들어 질 수 있다.

이색성 편광자의 제조방법은 먼저 글라스 기판, 바람직하게는 규산나트륨 글라스 기판의 표면층의 제조로서 공지된 방식으로 시작하며, 상기 층은 필요한 밀도내에서 적당한 장축비와 방향성이 있는 정렬을 갖는 비구형 금속 입자들, 바람직하게는 실버 입자들을 포함한다. 종래기술에 따르면 이를 위하여 요구되는 주요 공정 단계들은 이온 교환, 템퍼링, 및 변형이다. 일정한 흡수 밴드들로 측면 표면 영역들의 조정은 표면 상에서 적당한 전자빔의 작용에 의하여 금속 입자들을 포함하는 표면층의 최소한 두께 위로 각각의 표면층의 가단열 가열(quasi-adiabatic warming)에 의한 공지된 방법으로 발생한다.

이중층으로 형성된 표면층들 내에 금속 입자들의 서로 다른 축비를 조정하기 위하여, 본 발명에 따르면 대응 표면 영역들은 전자빔의 순간적인 작용에 노출되며, 이에 의하여 바람직하게 기판 물질 내에서 전자들의 범위는 전자빔의 적당한 가속전압에 의하여 선택되며, 금속 입자들의 원하는 완화를 위하여 필요한 온도는 단지 이중층의 상부층에서만 이루어지는 반면에 이중층의 하부층에서는 근본적으로 금속 입자들은 초기 형상을 유지한다. 만약에 금속 입자들의 완화가 표면에 인접하는 부분층 내에서 직접 이루어질 수 있다면 이는 받아들일 수 있다. 전자빔의 가속 전압을 선택은 기판 물질 내에 전자 범위가 이중층의 상부층의 두께의 두세배 사이로 만드는 것이 특히 바람직하다는 것이 증명되었다.

도 1.

다중 컬러 편광판은 이중층으로 구성된 표면층(surface layer, 2) 내에 극미소의 실버 입자(3)들을 갖는 규산 나트륨 글라스 기판(1)을 포함한다. 상기 실버 입자들은 반축비로 설명되는 타원형을 형성한다. 타원형의 평균 치수는 10nm의 범위이다. 상기 실버 입자들은 제조 공정에 의하여 주축이 서로 평행하고 기판 표면에 평행한 방향을 갖는다.

하나 뒤에 다른 하나가 위치하는 부분층 4a와 4b, 5a와 5b, 6a와 6b에서, 실버 입자들의 축비는 조정되어서 각각 파랑과 녹색, 파랑과 빨강, 또는 녹색과 빨강 영역에서 흡수 밴드의 특징을 그린다. 결과적으로, 기판(1)이 상기 입자들의 장반축에 평행한 편광방향으로 선형적으로 편광된 백색광이 통과될 때, 기판(1)의 인접한 스트립(4, 5, 6)들은 각각 빨강, 녹색, 또는 파랑을 나타낸다. 표면 상에서 접하는 부분층(4a, 4b, 4c)들의 두께는 동일하며, 표면층(2)의 두께 및 표면층(2) 내의 입자들의 밀도와 크기 분포에 따라서 정해진다.

도 2.

비구형의 실버 입자는 이색성 흡수 효과를 나타내며, 이에 의하여 흡수 밴드의 스펙트럼 최대 위치는 실버 입자들의 반축비의 작용이다. a/b=3인 실버 입자들의 반축비는 630nm에서 빨강 스펙트럼 영역 내에 지정된 흡수 밴드의 최대 영역에 이르게 된다. 더 작은 축비에서, 대응 흡수 밴드의 최대치는 더 작은 파장에서 위치한다. 축비가 1에 접근하면, 흡수 밴드는 420nm에서 파랑 스펙트럼 영역에 위치한다.

도 3a-c

표면층(2)의 흡수 스펙트럼은 개개의 인접하는 스트립(4, 5, 6)들 내에서 각각의 부분층 3a;b, 5a;b, 및 6a;b의 두 개의 중첩으로부터 형성된다.

스트립 형태로 컬러 이미지 요소를 갖는 다중 컬러 이색성 편광판의 본 발명에 따른 제조방법은 아래에 설명된다. 도 1에 따라서 빨강, 녹색, 파랑 색으로 스트립의 형태로 측면 영역을 갖는 다중 컬러 이색성 편광판의 제조의 시작은 이후에는 이중층인 전 영역 내에 실버 입자들이 제공되는 글라스 기판이며, 실버 입자들의 평균 반축비는 빨강 스펙트럼 영역 내 흡수 밴드를 야기한다. 다음으로, 첫 번째 단계로 편광판이 완성된 후에 빨강을 나타내는 측면 영역(4) 내에서, 기판(1)은 표면층(2) -이후에는 이중층-의 전 두께 위로 가단열 에너지 전이에 의한 전자빔으로 가열하여 상기 흡수 밴드를 빨강 스펙트럼 영역에서 녹색 스펙트럼 영역으로 이동한다.

두 번째 단계에서, 첫 번째 단계보다 더 낮은 전자빔의 단지 상부 영역에만 전압을 가속하며, 이 때 편광판은 이중층의 상부층인 4a, 5a, 및 6a이 형성되며, 마찬가지로 가단열 에너지 전이에 의한 전자빔으로 데워져 부분층 4a 내 흡수 밴드는 녹색에서 파랑으로, 부분층 5a는 빨강에서 파랑으로, 그리고 부분층 6a는 빨강에서 녹색으로 이동한다. 개개의 스트립(4, 5, 6)로 전이된 에너지 밀도는 각각의 흡수 밴드의 필요한 스펙트럼 이동에 요구되는 온도 조건에 따라서 선택된다.

10 내지 20μm의 이중층의 전형적인 두께를 위하여, 첫 번째 단계에서 50 내지 70kV의 전자빔을 위한 가속 전압이 사용되며, 두 번째 단계에서 25 내지 35kV의 가속전압이 사용된다. 단열 에너지 전이를 위한 필요조건으로는 전자빔의 가속전압에 따라서 주어진 표면 영역이 수 마이크로초에서 수십 마이크로초 내에서 발생한다면 적절하다

글라스의 특성, 표면층의 두께 및 입자 분포 제시로 어쩔 수 없는 비균질성을 제거하기 위하여, 공정 제어가 필요할 수 있다. 전자빔의 가속 전압이 구동기로서 사용되어 광학 밀도내에서 편향을 제어하며, 전이된 에너지 밀도는 구동기로 사용되어 흡수 밴드의 스펙트럼 영역내에서 편향을 제어한다.

Claims (15)

1. 비구형 금속 입자들이 방위설정된 구성체로 표면층내에 증착되어 있는 글라스 기판을 포함하는 컬러 이색성 편광판에 있어서,

   상기 글라스 기판의 적어도 하나의 측면 영역 내에서, 상기 표면층은 서로 다른 평균 축비를 갖는 금속 입자들을 포함하며 서로 다른 흡수 스펙트럼을 갖는 두 개의 부분층들을 가진 이중층을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 비구형 금속 입자들은 실버를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

   상기 흡수 스펙트럼이 동일한 몇 개의 측면 영역들은 스트립 또는 픽셀들로된 규칙적인 구성체를 형성하는 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
4. 제 3 항에 있어서,

   상기 규칙적인 구성체의 각각의 스트립 또는 픽셀의 다음에는 각각 또 다른 흡수 스펙트럼을 형성하는 두 개의 추가의 스트립 또는 픽셀이 있는 것을 특징으로하는 컬러 이색성 편광판.
5. 제 1 항 내지 제 4 항의 어느 한 항에 있어서,

   세 개의 스트립 또는 픽셀이 각각 그룹을 형성하여 이미지 요소를 형성하며, 이러한 이미지 요소들이 규칙적인 구성체를 형성하는 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
6. 제 5 항에 있어서,

   각각의 이미지 요소들은 상기 이중층의 상기 부분층들이 파랑과 녹색, 파랑과 빨강, 빨강과 녹색 스펙트럼 영역에서 최대 흡수값을 갖는 픽셀들 또는 스트립들을 포함함으로써, 상기 스트립들은, 상기 입자들의 장반축에 평행한 편광 방향으로 선형으로 편광된 백색광이 조사할 때, 색깔을 빨강, 녹색 및 파랑색으로 하는 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
7. 제 1 항 내지 제 6 항 중의 어느 한항에 있어서,

   상기 부분층 각각은 광학 밀도가 1이상인 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
8. 제 1 항 내지 제 7 항 중의 어느 한항에 있어서,

   상기 표면층은 10 내지 20μm의 두께를 가지며, 상기 표면층 근처의 모든 부분층들은 5 내지 10μm의 범위로 동일 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 컬러 이색성 편광판.
9. 표면층내의 방위설정된 구성체로 있는 비구형 금속 입자들과 개개의 측면 영역내의 적어도 완전히 이완되지 않은 금속 입자들을 포함하는 글라스 기판에서 컬러 이색성 편광판의 제조방법에 있어서,

   상기 비구형 금속 입자와 상기 적어도 완전히 이완되지 않은 금속 입자들이 방위설정된 구성체로 증착되어져 있는 상기 표면층의 부분 영역들내에, 상기 부분 영역의 상기 표면층의 부분층내의 축비를 간단한 가열로 인한 상기 비구형 금속의 이완에 의하여, 상기 표면층의 부분 영역의 다른 부분층내의 비구형 금속 입자들보다 더 작게 조정하는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제 9 항에 있어서,

    상기 축비를 더 작게 조정하는 것은 표면에 접하는 상기 부분층내에서 발생하는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,

    표면에 접하는 상기 표면층의 부분층의 가열은 전자빔으로 가단열 에너지 전이에 의하여 발생하며, 상기 전자 빔의 침투 깊이는 가속 전압을 통하여 상기 부분층의 두께에 부합하는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제 9 항 내지 제 11 항 중의 어느 한항에 있어서,

    상기 전자빔의 가속전압을 기판 물질내의 전자 범위가 표면에 접하는 표면층의 상기 부분층의 두께의 두세배 사이에서 선택되도록 선택하는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제 9 항 내지 제 12 항의 어느 한 항에 있어서,

    상기 에너지 전이는 펄스의 연속으로 몇 개의 부분영역(partial amounts)내에서 발생하는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제 9 항 내지 제 13 항의 어느 한 항에 있어서,

    상기 부분층들의 동일한 광학 밀도를 보장하기 위하여, 상기 전자빔의 가속 전압을 제어 과정에서 조절 변수로서 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제 9 항 내지 제 14 항의 어느 한 항에 있어서,

    흡수 밴드의 원하는 스펙트럼 영역을 보장하기 위하여, 상기 전이 에너지 밀도를 제어 과정에서 조절 변수로서 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.