KR20030069068A - 광경화성 조성물 및 이를 이용하여 흑색 패턴을 형성한플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

광경화성 조성물 및 이를 이용하여 흑색 패턴을 형성한플라즈마 디스플레이 패널 Download PDF

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Abstract

본 발명은 내열성 흑색 안료의 이차 응집을 초래하지 않으면서 페이스트화할 수 있고, 더구나 보존 안정성이 우수하며, 건조, 노광, 현상, 소성의 각 공정에서는 기판에 대한 우수한 밀착성, 해상성, 소성성을 손상시키지 않고, 소성 후에도 충분한 흑색을 갖는 소성 피막을 형성할 수 있는 광경화성 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 광경화성 조성물의 기본적인 제1형태는 (A) 최대 입경 5 ㎛ 이하의 내열성 흑색 안료를 용제에 균일하게 분산시킨 슬러리, (B) 유기 결합제, (C) 광중합성 단량체, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하고, 또한 제2형태는 상기 각 성분에 추가하여 (E) 유기산 및(또는) (F) 중합 금지제를 함유하는 것을 특징으로 한다.

Description

광경화성 조성물 및 이를 이용하여 흑색 패턴을 형성한 플라즈마 디스플레이 패널{Photocurable Composition and Plasma Display Panel Having Black Pattern Formed by Use of the Same}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 약칭함)의 전방면 기판에 정밀한 전극 회로, 블랙 패턴을 형성하는 데 유용한 알칼리 현상형에 추가하여, 또한 광경화형 조성물, 및 그것을 사용하여 흑백 2층 구조를 갖는 버스 전극의 하층(흑층), 블랙 매트릭스를 형성한 전방면 기판을 포함하는 PDP에 관한 것이다.
PDP는 플라즈마 방전에 의한 발광을 이용하여 영상 및 정보의 표시를 하는 평면 디스플레이인데, 패널 구조, 구동 방법에 의해 DC형과 AC형으로 분류된다. PDP에 의한 컬러 표시의 원리는 리브(칸막이 벽)에 의해서 이격된 전방면 유리 기판과 배면 유리 기판에 형성된 대향하는 양 전극 사이의 셀 공간(방전 공간) 내에서 플라즈마 방전을 발생하게 하여, 각 셀 공간내에 봉입되어 있는 He, Xe 등의 가스 방전에 의해 발생되는 자외선으로 배면 유리 기판 내면에 형성된 형광체를 여기하고, 3원색 가시광을 발생시키는 것이다. 각 셀 공간은 DC형 PDP에서는 격자형 리브에 의해 구획되는 한편, AC형 PDP에서는 기판면에 평행하게 줄지어 설치된 리브에 의해 구획되지만, 어느 셀 공간에서도 구획은 리브에 의해 이루어져 있다. 이하, 첨부 도면을 참조하면서 간단하게 설명한다.
도 1은 풀 컬러 표시의 3 전극 구조의 면방전 방식 PDP의 구조예를 부분적으로 나타내고 있다. 전방면 유리 기판 (1)의 하면에는 방전을 위한 투명 전극 (3a) 또는 (3b)와 상기 투명 전극의 라인 저항을 저감시키기 위한 버스 전극 (4a) 또는 (4b)를 포함하는 한쌍의 표시 전극 (2a), (2b)가 소정의 피치로 다수 줄지어 설치되어 있다. 이러한 표시 전극 (2a), (2b) 상에는 전하를 축적하기 위한 투명 유전체층 (5)(저융점 유리)가 인쇄, 소성에 의해서 형성되고, 그 위에 보호층(MgO) (6)이 증착되어 있다. 보호층 (6)은 표시 전극의 보호, 방전 상태의 유지 등의 역할을 갖고 있다. 한편, 배면 유리 기판 (11)의 위에는 방전 공간을 구획하는 스트라이프형의 리브(칸막이 벽) (12)와 각 방전 공간내에 배치된 어드레스 전극(데이터 전극) (13)이 소정의 피치로 다수 줄지어 설치되어 있다. 또한, 각 방전 공간의 내면에는 적(14a), 청(14b), 녹(14c)의 3색의 형광체막이 규칙적으로 배치되고, 풀 컬러 표시에서는 상기한 바와 같이 적, 청, 녹의 3원색의 형광체막 (14a), (14b), (14c)에서 1개의 화소가 구성된다.
또한, 방전 공간을 형성하는 한쌍의 표시 전극 (2a), (2b)의 양측부에는 화상 콘트라스트를 더욱 높이기 위해서 동일하게 스트라이프형 블랙 매트릭스 (10)이 형성되어 있다.
또한, 상기 구조의 PDP에서는 한쌍의 표시 전극 (2a), (2b)의 사이에 교류의 펄스 전압을 인가하고, 동일 기판상의 전극 사이에서 방전시키기 때문에 "면방전 방식"이라고 한다.
또한, 상기 구조의 PDP에서는, 방전에 의해 발생된 자외선은 배면 기판 (11)의 형광체막 (14a), (14b), (14c)를 여기하고, 발생된 가시광을 전방면 기판 (1)의 투명 전극 (3a), (3b)를 워터마킹(watermarking)하여 보는 구조로 되어 있다.
이러한 구조의 PDP에서 상기 버스 전극 (4a), (4b)의 형성은 종래, Cr-Cu-Cr의 3층을 증착이나 스퍼터링에 의해 막을 제조한 후, 포트리소그래피법으로 패터닝이 행해져 왔다.
그러나, 공정수가 많고 고비용이 되기 때문에 최근에는 은페이스트 등의 도전성 페이스트를 스크린 인쇄한 후 소성하는 방법, 또는 150 ㎛ 이하의 선폭으로 하기 위해서는 감광성 도전성 페이스트를 도포하고, 패턴 마스크를 통해서 노광한 후 현상하고, 계속해서 소성하는 방법이 행해지고 있다.
이와 같이 하여 버스 전극 (4a), (4b)가 형성되는 PDP의 전방면 기판에서는 최근, 화면의 콘트라스트를 향상시키기 위해 버스 전극을 형성할 때에 표시측이 되는 하층(투명 전극 (3a), (3b)와 접촉하는 층)에 흑색 페이스트의 흑층을 인쇄하고, 그 위에 도전성 은페이스트의 백층을 인쇄하여 흑백 2층 구조의 전극을 형성하는 것이 행해지고 있다. 이 경우, 흑색 페이스트로는 구리-철계, 구리- 크롬계 등의 흑색 복합 산화물, 43산화 코발트 등의 내열성 흑색 안료를 배합시킨 수지 조성물이 사용되고 있다.
또한, 상기 블랙 매트릭스의 형성은 종래부터 CRT 디스플레이나 액정 디스플레이 패널 등의 블랙 매트릭스 형성에 사용되고 있는 차광막 형성용 감광성 수지 조성물을 전용하는 것이 시도되어 왔다.
그러나, PDP의 제조에 있어서는 고온 소성 공정이 있고, 이 공정에서 차광막 형성용 감광성 수지 조성물 중에 함유되는 카본 블랙이 분해되어 만족할 수 있는 블랙 매트릭스의 형성은 곤란하였다.
그래서, 광중합성 조성물, 광중합 개시제 및 차광성 재료를 함유하는 차광막 형성용 감광성 수지 조성물에서도 상기 차광성 재료로서, 구리-철계, 구리-크롬계 등의 흑색 복합 산화물, 43산화 코발트 등의 내열성 흑색 안료를 배합시킨 수지 조성물이 사용되고 있다.
그러나, 구리-철계, 구리-크롬계 등의 흑색 복합 산화물, 43산화 코발트 등의 내열성 흑색 안료를 배합한 수지 조성물은 페이스트로서의 보존 안정성이 나쁘고, 특히 광중합성 단량체 및 광중합 개시제와 같이 배합하여 광경화성 조성물에 구성한 경우, 광중합성 단량체의 중합이 개시하여 겔화되어 버린다. 그 때문에, 이러한 수지 조성물은 저온에서 보관할 필요가 있고, 또한 겔화나 유동성 저하에 의해 도포 작업성이 열등하여 양산성에 대응할 수 없다고 하는 문제가 있었다.
또한, 고정밀한 패턴형성의 요구에 따라 내열성 흑색 안료는 그 입경을 소경화(小徑化)할 필요가 있었다. 그러나, 내열성 흑색 안료는 그 입경을 작게 하면 페이스트 중에서의 분산시에 이차 응집을 초래하기 쉽고, 나아가 도막층에 돌기로 존재하여 라인 형상의 결함을 초래하는 문제가 발생된다.
그래서 본 발명은 이러한 종래 기술이 안고 있는 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 그 주된 목적은 내열성 흑색 안료의 이차 응집을 초래하지 않으면서 페이스트화할 수 있고, 더구나 보존 안정성이 우수하고, 건조, 노광, 현상, 소성의 각 공정에서는 기판에 대한 우수한 밀착성, 해상성, 소성성을 손상시키지 않고, 소성 후에도 충분한 흑색을 갖는 소성 피막을 형성할 수 있는 광경화성 조성물을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은 이러한 광경화성 조성물로부터 고정밀 흑색 패턴, 특히 전방면 기판에 형성되는 흑백 2층 구조의 버스 전극에서 충분한 층간 도전성(투명 전극과 버스 전극백층과의 층간도통)과 흑색을 동시에 만족할 수 있는 흑층(하층) 전극 회로, 및 블랙 매트릭스를 형성한 PDP를 제공하는 데에 있다.
도 1은 면방전 방식의 AC형 PDP의 부분 분해 사시도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1: 전방면 유리 기판
2a, 2b: 표시 전극
3a, 3b: 투명 전극
4a, 4b: 버스 전극
5: 투명 유전체층
6: 보호층
10: 블랙 매트릭스
11: 배면 유리 기판
12: 리브 (rib)
13: 어드레스 전극
(14a), (14b), (14c): 형광체막
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 광경화성 조성물의 기본적인 제1형태는,
(A) 최대 입경 5 ㎛ 이하의 내열성 흑색 안료, 바람직하게는 43산화 코발트 흑색 미립자를 용제에 균일하게 분산시킨 슬러리, (B) 유기 결합제, (C) 광중합성 단량체, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하며, 또한 제2형태는 상기 각 성분에 추가하여, (E) 유기산 및(또는) (F) 중합 금지제를 함유하는 것을 특징으로 한다.
이러한 본 발명의 광경화성 조성물은 페이스트형 형태일 수도 있고, 또한 미리 필름형으로 제막된 드라이필름의 형태일 수도 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 이러한 광경화성 조성물의 소성물로부터 전방면 기판의 전극 회로(흑층), 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 PDP가 제공된다.
발명자들은 상기 목적의 실현을 위하여 예의 연구한 결과, 최대 입경 5 ㎛ 이하인 내열성 흑색 안료를 용제에 균일하게 분산시킨 슬러리를 이용한 점에 특징이 있다.
이에 따라, 본 발명의 광경화성 조성물은 쉽게 이차 응집물이 없는 페이스트로 할 수 있다. 그 결과, 고정밀한 전극 회로, 및 블랙 매트릭스를 형성한 PDP를제공할 수 있다.
한편, 내열성 흑색 안료등의 필러를 포함하는 광경화성 조성물은 안정제가 없으면 실온에서 증점되어 버리는 결점이 있었다. 그 때문에, 광중합성 단량체의 중합이나 내열성 흑색 안료와 유기 결합제 중의 카르복실기와의 반응에 기인된다고 생각되는 광경화성 조성물의 겔화를 억제하기 위해 종래부터 안정제로서 인산에스테르가 사용되고 있다. 그러나, 본 발명의 광경화성 조성물에서는 인산에스테르를 안정제로 사용하면 슬러리 중의 내열성 흑색 안료의 침강을 초래하고, 분체 응집이 발생되기 쉽고, 도리어 페이스트의 보존 안정성에 악영향을 미치게 한다는 문제가 있었다.
이에 대하여, 본 발명자들은 더욱 연구를 거듭한 결과, 안정제로서 유기산, 바람직하게는 유기산과 열 중합 금지제를 배합함으로써 실온에서도 보존 안정성이 매우 우수하고, 양산성에도 충분히 대응할 수 있는 광경화성 조성물을 제공할 수 있는 것을 밝혀내었다.
또한, 본 발명의 광경화성 조성물에 의하면, 상기 내열성 흑색 안료로서 43산화 코발트 흑색 미립자를 사용하면 형성되는 흑색피막이 치밀하게 되어 박막에서도 충분한 흑색을 나타낼 수 있고, 그 결과, 건조, 노광, 현상, 소성의 각 공정에서 기판에 대한 우수한 밀착성, 해상성, 소성성을 손상시키지 않고 소성 후에 충분한 층간 도전성(투명 전극과 버스 전극 백층과의 층간 도통) 및 흑색을 동시에 만족할 수 있는 패턴을 얻을 수 있다.
따라서, 이러한 광경화성 조성물을 PDP 전방면 기판에 형성되는 흑백 2층 구조의 버스 전극의 흑층 재료로 사용하면 버스 전극은 흑층이 ITO나 네사와 같은 투명 전극과 백층 사이에 협지된 샌드위치 구조를 갖기 때문에 투명 전극과 백층과의 층간 도통, 및 화면측에서 보았을 때 흑색을 동시에 충분히 만족시킬 수 있게 된다.
더구나, 본 발명의 광경화성 조성물은 상기한 바와 같이 보존 안정성이 우수하고, 또한 얇은 막 두께로 충분한 콘트라스트를 얻을 수 있기 때문에, PDP의 양산성, 저비용화에 매우 유용한 것이다.
이하, 본 발명의 광경화성 조성물에 대해서 구체적으로 설명한다.
우선, 최대 입경 5 ㎛ 이하의 내열성 흑색 안료를 용제에 균일하게 분산시킨 슬러리 (A)는 종래부터 공지된 방법에 따라서 용제 중에 내열성 흑색 안료를 균일하게 분산시킴으로써 제조할 수 있다. 예를 들면, 용제와 분산제와 내열성 흑색 안료를 볼밀과 같은 혼합기를 이용하여 충분히 혼합 분산시켜 제조한다.
여기에서 내열성 흑색 안료로는, PDP의 기판 제조 공정에서 500 내지 600 ℃의 고온에서 소성을 행하기 위해서 고온에서의 색조 안정성을 갖는 무기 안료를 사용할 수 있다. 구체적으로는 Cr, Co, Cu, Ni, Fe, Mn 등의 산화물 및 복합 산화물 등이 있지만 이들에 한정되는 것이 아니고, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 특히 본 발명에서는 구리-크롬계 흑색 복합 산화물, 구리-철계 흑색 복합 산화물, 43산화 코발트 등이 소성 후에 형성되는 흑색 피막이 치밀한 것이 되고, 또한 색조가 우수하기 때문에 바람직하게 사용된다.
이 내열성 흑색 안료는 평균 입경 2 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.01 ㎛ 이상 1㎛ 이하의 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 이 이유는 평균 입경을 2 ㎛ 이하로 하면, 소량의 첨가에도 밀착성 등을 손상시키지 않고 치밀한 소성 피막을 형성할 수 있고, 충분한 층간 도전성(투명 전극과 버스 전극 백층과의 층간 도통) 및 흑색을 동시에 만족할 수 있는 하층(흑층) 전극용 수지 조성물을 제공할 수 있기 때문이다. 한편, 내열성 흑색 안료의 평균 입경이 2 ㎛보다 커지면 소성 피막의 조밀성이 나빠지고 형성되는 하층 전극막의 흑색도가 저하되기 쉽다. 또한, 0.01 ㎛보다 작아지면 은폐력이 저하되어 투명감이 나타나는 경우가 있어서 적당하지 않다.
또한, 내열성 흑색 안료는 비표면적이 1.0 내지 20 m2/g의 범위인 43산화 코발트 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 이 이유는 그 비표면적이 1.0 m2/g 미만에서는 노광에 의한 회로 패턴 형성의 정밀도가 저하되어 라인 엣지의 직선성, 또는 충분한 흑색의 소성 피막을 얻기 어렵게 되기 때문이다. 한편, 20 m2/g을 초과하면, 입자의 표면적이 과잉으로 커져 현상 시에 언더컷트가 발생되기 쉽다.
이 슬러리 중의 내열성 흑색 안료의 배합량은 유기 결합제 (B) 100 질량부당 1 내지 120 질량부, 바람직하게는 30 내지 100 질량부의 범위가 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 이 이유는 내열성 흑색 안료의 배합량이 상기 범위보다도 적으면 소성 후에 충분한 흑색을 얻을 수 없는 한편, 상기 범위를 초과하는 배합량에서는 광의 투과성이 열화되어 해상성이 저하되는 것 외에, 고비용이 되어 바람직하지 않기 때문이다.
상기 슬러리에 사용하는 용제는 임의로 선택할 수 있지만, 용매 쇼크를 막기위해서 페이스트 중에 사용되는 용제와 종류를 동일하게 하는 것이 바람직하다.
또한, 슬러리중의 고형분 농도는 임의로 선택할 수 있지만, 작업성 등을 고려하면 50 내지 80 질량%가 바람직하다. 즉, 바람직한 용제 배합량의 비율은 슬러리 100 질량부당 20 내지 50 질량부이다.
또한, 상기 슬러리에 사용되는 분산제는 내열성 흑색 안료를 균일하게 분산시킬 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 일본유지 제조 마리아림 시리즈 및 교에이샤 화학 제조 플로렌 등의 고분자 분산제를 들 수 있다.
이 분산제의 배합량은 내열성 흑색 안료 100 질량부당 1 내지 20 질량부가 바람직하다. 이 분산제의 배합량이 상기 범위보다도 적은 경우, 충분한 분산 효과를 얻을 수 없는 한편, 상기 범위를 초과하여 다량으로 첨가하더라도 한층 더 나은 분산 효과는 얻을 수 없다.
다음으로, 상기 유기 결합제 (B)로서는, 카르복실기를 갖는 수지, 구체적으로는 그 자체가 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실기 함유 감광성 수지 및 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖지 않은 카르복실기 함유 수지 중의 어느 것도 사용 가능하다. 바람직하게 사용할 수 있는 수지(올리고머 및 중합체 중 어느 것일 수도 있다)로는 이하와 같은 것을 들 수 있다.
(1) (a) 불포화 카르복실산과 (b) 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 공중합시킴으로써 얻을 수 있는 카르복실기 함유 수지,
(2) (a) 불포화 카르복실산과 (b) 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 에틸렌성 불포화기를 팬던트(pandant)로 부가시킴으로써 얻을 수 있는 카르복실기 함유감광성 수지,
(3) (c) 에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과 (b) 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 (a) 불포화 카르복실산을 반응시켜 생성된 2급의 히드록실기에 (d) 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지,
(4) (e) 불포화 이중 결합을 갖는 산무수물과 (b) 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에, (f) 히드록실기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지,
(5) (g) 다관능 에폭시 화합물과 (h) 불포화 모노카르복실산을 반응시켜 생성된 2급의 히드록실기에 (d) 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유한 감광성 수지,
(6) (b) 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과 글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체의 에폭시기에, (i) 1분자 중에 1개의 카르복실기를 가지며, 에틸렌성 불포화 결합을 갖지 않는 유기산을 반응시켜 생성된 2급의 히드록실기에 (d) 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 수지,
(7) (j) 히드록실기 함유 중합체에 (d) 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 수지, 및
(8) (j) 히드록실기 함유 중합체에 (d) 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 수지에, (c)에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 더욱 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지.
상기한 바와 같은 카르복실기 함유 감광성 수지 및 카르복실기 함유 수지는 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수도 있지만, 어느 경우에도 이들은 합계로 조성물전량의 10 내지 80 질량%의 비율로 배합하는 것이 바람직하다. 이러한 중합체의 배합량이 상기 범위보다 너무 적은 경우, 형성되는 피막 중의 상기 수지의 분포가 불균일하게 되기 쉽고, 충분한 광경화성 및 광경화 심도를 얻기 어렵고, 선택적 노광, 현상에 의한 패터닝이 곤란해진다. 한편, 상기 범위보다도 과잉으로 많으면 소성시의 패턴의 꼬임 및 선폭 수축이 발생되기 쉽기 때문에 바람직하지 않다.
또한, 상기 카르복실기 함유 감광성 수지 및 카르복실기 함유 수지로는 각각 중량 평균 분자량 1,000 내지 100,000, 바람직하게는 5,000 내지 70,000, 및 산가 50 내지 250 mgKOH/g, 또한, 카르복실기 함유 감광성 수지의 경우, 그 이중 결합 당량이 350 내지 2,000, 바람직하게는 400 내지 1,500인 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 상기 수지의 분자량이 1,000보다 낮은 경우, 현상시의 피막의 밀착성에 악영향을 제공하며, 한편 100,000보다도 높은 경우, 현상 불량이 생기기 쉽기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 산가가 50 mgKOH/g보다 낮은 경우, 알칼리 수용액에 대한 용해성이 불충분하고 현상 불량이 생기기 쉬운 한편, 250 mgKOH/g보다 높은 경우, 현상시에 피막의 밀착성의 열화나 광경화부(노광부)의 용해가 생기기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 카르복실기 함유 감광성 수지의 경우, 감광성 수지의 이중 결합 당량이 350보다 작으면, 소성시에 잔사가 남기 쉬운 한편, 2,000보다 크면 현상시의 작업 여유도가 좁고, 또한 광경화시에 고노광량을 필요로 하기 때문에 바람직하지 않다.
다음에, 본 발명의 광경화성 조성물에 있어서 광중합성 단량체 (C)는 조성물의 광경화성의 촉진 및 현상성을 향상시키기 위해서 사용한다. 이 광중합성 단량체(C)로는 예를 들면, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리우레탄디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 트리메틸올프로판에틸렌옥시드 변성 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판프로필렌 옥시드 변성 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 및 상기 아크릴레이트에 대응하는 각 메타크릴레이트류; 프탈산, 아디프산, 말레산, 이타콘산, 숙신산, 트리멜리트산, 테레프탈산 등의 다염기산과 히드록시알킬(메트)아크릴레이트와의 모노-, 디-, 트리- 또는 그 이상의 폴리에스테르 등을 들 수 있지만, 특정한 것에 한정되는 것이 아니고, 또한 이들을 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 광중합성 단량체 중에서도 1분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 다관능 단량체가 바람직하다.
이러한 광중합성 단량체 (C)의 배합량은 상기 유기 결합제(카르복실기 함유감광성 수지 및(또는) 카르복실기 함유 수지) (B) 100 질량부당 20 내지 100 질량부가 적당하다. 광중합성 단량체 (C)의 배합량이 상기 범위보다 적은 경우, 조성물이 충분한 광경화성을 얻기 어렵게 되는 한편, 상기 범위를 초과하여 다량이 되면 피막의 심부에 비하여 표면부의 광경화가 빨라지기 때문에 경화 얼룩이 생기기 쉽다.
다음으로, 본 발명의 광경화성 조성물에 있어서 광중합 개시제(D)로는 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인과 벤조인알킬에테르류; 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논 등의 아세토페논류; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 아미노아세토페논류; 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2,4-디이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤류; 아세토페논디메틸케탈, 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논 등의 벤조페논류; 또는 크산톤류; (2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-펜틸포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 에틸-2,4,6-트리메틸벤조일페닐포스피네이트 등의 포스핀옥시드류; 각종 퍼옥시드류 등을 들 수 있고, 이들 공지 관용의 광중합 개시제를 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 광중합 개시제 (D)의 배합 비율은 상기 유기 결합제(카르복실기 함유 감광성수지 및(또는) 카르복실기 함유 수지) (B) 100 질량부당 1 내지 30 질량부가 적당하고, 바람직하게는, 5 내지 20 질량부이다.
또한, 상기한 바와 같은 광중합 개시제 (D)는 N,N-디메틸아미노벤조산염 에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산 이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 삼급 아민류와 같은 광증감제의 1종 또는 2종 이상과 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 보다 깊은 광경화 심도가 요구되는 경우, 필요에 따라 가시 영역에서 라디칼 중합을 개시하는 시바스페셜리티 케미컬사 제조 이루가큐어 784 등의 티타노센계 광중합 개시제, 로이코 염료 등을 경화조제로서 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명에서 광경화성 조성물에 다량의 무기 충전제나 유리 분말을 배합한 경우, 얻어지는 조성물의 보존 안정성은 나쁘고, 겔화나 유동성 저하에 의해 도포 작업성이 나빠지는 경향이 있다. 따라서, 본 발명의 조성물로는 조성물의 보존 안정성 향상을 위해 무기 충전제나 유리 분말의 성분인 금속 또는 산화물 분말과의 착체화 또는 염 형성 등에 효과가 있는 화합물, 즉 유기산 (E)를 안정제로 첨가하는 것이 바람직하다. 이 유기산 (E)로는 말론산, 아디프산, 포름산, 아세트산, 아세토아세트산, 시트르산, 스테아르산, 말레산, 푸마르산, 프탈산 등의 산을 들 수 있고, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 유기산은 상기한 유리 분말이나 무기 미립자 100 질량부당 0.1 내지 10 질량부의 비율로 첨가하는 것이 바람직하다.
한편, 지금까지 코발트의 안정제로서 인산 에스테르가 사용되고 있지만, 43산화 코발트에 대해서는 충분한 효과가 없다.
또한 한편으로, 본 발명과 같이 광경화성 조성물에 광중합성 단량체를 배합한 경우, 얻어지는 조성물의 보존 안정성은 나쁘고, 겔화나 유동성 저하에 의해 도포작업성이 나빠지는 경향이 있다. 따라서, 본 발명의 조성물로는 조성물의 보존 안정성 향상을 위해, 광중합성 단량체의 열 중합 금지제 (F)를 첨가하는 것이 바람직하다. 이 열 중합 금지제 (F)로는 페노티아딘, 히드로퀴논, N-페닐나프틸아민, 클로라닐, 피로갈롤, 벤조퀴논, t-부틸카테콜 등을 들 수 있고, 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 열 중합 금지제 (F)는 상기한 유기 결합제 (B) 100 질량부당 0.01 내지 1 질량부의 비율로 첨가하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 광경화성 조성물은 필요에 따라서 연화점 400 내지 600 ℃의 유리 분말, 도전성 분말을 본 발명의 광경화성 조성물의 특성을 손상하지 않는 양적 비율로 배합할 수 있다.
유리 분말은 소성 후에 있어서 도체 회로의 밀착성 향상을 위해 43산화 코발트(Co304) 흑색 미립자 등의 내열성 흑색 안료 100 질량부당 200 질량부 이하, 바람직하게는 150 질량부 이하의 비율로 첨가할 수 있다. 이 유리 분말로는 유리 전이점(Tg)이 300 내지 500 ℃, 유리 연화점 (Ts)이 400 내지 600 ℃인 것이 바람직하다. 또한, 해상도의 면에서는 평균 입경 20 ㎛ 이하, 바람직하게는 5 ㎛ 이하의 유리 분말을 사용하는 것이 바람직하다.
상기한 바와 같은 유리 분말을 광경화성 조성물에 첨가함으로써, 노광ㆍ현상 후의 피막은 600 ℃ 이하에서 쉽게 소성할 수 있다. 단, 본 발명의 조성물로는 연소성이 양호한 유기 결합제가 사용되고, 유리 분말이 용융하기 전에 탈결합제가 완료되도록 조성되어 있지만, 유리 분말의 연화점이 400 ℃보다 낮으면 이 보다도 낮은 온도에서 용융이 발생하여 유기 결합제를 감싸기 쉽게 되고, 잔존하는 유기 결합제가 분해됨으로써 조성물 중에 기포가 발생되기 쉽기 때문에 바람직하지 않다.
유리 분말로는 산화 납, 산화 비스무스, 또는 산화 아연 등을 주성분으로 하는 비결정성 프릿을 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서 조성물의 페이스트화를 위한 희석제, 또는 각종 도포 공정에 따른 점도조정을 위한 희석제로서 적절한 양의 유기 용제를 배합할 수 있다. 구체적으로는 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 등의 아세트산에스테르류; 에탄올, 프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 테피놀 등의 알코올류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유에테르, 석유나프타, 수소 첨가 석유나프타, 솔벤트 나프타와 같은 석유계 용제를 들 수 있고, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
본 발명의 광경화성 조성물은 또한 필요에 따라서 실리콘계, 아크릴계 등의 소포ㆍ레벨링제, 피막의 밀착성 향상을 위한 실란 커플링제와 같은 다른 첨가제를 배합할 수 있다. 또한, 더욱 필요에 따라서 공지 관용의 산화 방지제나 소성시에 기판과의 결합 성분으로서의 금속 산화물, 규소 산화물, 붕소 산화물 등의 미립자를 첨가할 수 있다.
본 발명의 광경화성 조성물은 미리 필름형으로 막이 제조되어 있는 경우에는 기판상에 적층할 수 있지만, 페이스트형 조성물의 경우, 스크린 인쇄법, 바코터, 블레이드코터 등의 적절한 도포 방법으로 기판, 예를 들면 PDP의 전방면 기판이 되는 유리 기판에 도포하고, 계속해서 지촉 건조성(指觸乾燥性)을 얻기 위해서 열풍순환식 건조로, 원적외선 건조로 등에서 예를 들면 약 60 내지 120 ℃로 5 내지 40분 정도 건조시켜 유기 용제를 증발시켜 무점성(tack-free)의 도막을 얻는다. 그 후, 선택적 노광, 현상, 소성을 행하고, 소정의 패턴의 전극 회로를 형성한다.
노광 공정으로는 소정의 노광 패턴을 갖는 네가티브 마스크를 사용한 접촉 노광 및 비접촉 노광이 가능하다. 노광 광원으로는 할로겐램프, 고압수은등, 레이저광, 메탈할로겐 램프, 블랙램프, 무전극램프 등이 사용된다. 노광량으로는 50 내지 1000 mJ/cm2정도가 바람직하다.
현상 공정으로는 스프레이법, 침지법 등이 사용된다. 현상액으로는 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 규산나트륨 등의 금속 알칼리 수용액이나, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 아민 수용액, 특히 약 1.5 질량% 이하의 농도의 묽은 알칼리 수용액이 적합하게 사용되지만, 조성물 중의 카르복실기 함유 수지의 카르복실기가 비누화되어 미경화부(미노광부)가 제거될 수 있고, 상기한 바와 같은 현상액에 한정되는 것이 아니다. 또한, 현상 후에 불필요한 현상액 제거를 위해 수세나 산중화를 행하는 것이 바람직하다.
소성 공정에서는, 현상 후의 기판을 공기 중 또는 질소 분위기하에 약 400 내지 600 ℃의 가열 처리를 행하고, 원하는 흑색 패턴을 형성한다. 또한, 이 때의 승온 속도는 20 ℃/분 이하로 설정하는 것이 바람직하다.
<실시예>
이하에 실시예 및 비교예를 나타내며 본 발명에 대해서 구체적으로 설명하지만, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, "부" 및 "%"라고 되어 있는 것은 특별히 언급하지 않는 한 전부 질량 기준이다.
(합성예 1)
온도계, 교반기, 적하 로트 및 환류냉각기를 구비한 플라스크에, 메틸메타크릴레이트와 메타크릴산을 0.76:0.24의 몰비로 넣고, 용매로서 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 촉매로서 아조비스이소부티로니트릴을 넣고, 질소분위기하에 80 ℃에서 2 내지 6 시간 교반하고, 수지 용액을 얻었다. 이 수지 용액을 냉각하고, 중합 금지제로서 메틸하이드로퀴논, 촉매로서 테트라부틸포스포늄브로마이드를 사용하고, 글리시딜메타크릴레이트를 95 내지 105 ℃에서 16 시간의 조건으로 상기 수지의 카르복실기 1 몰에 대하여 0.12 몰의 비율의 부가몰비로 부가 반응시켜, 냉각 후 추출하여, 유기 결합제 A를 생성하였다. 이 유기 결합제 A의 수지는 중량 평균 분자량이 약 10,000, 산가가 59 mgKOH/g, 이중 결합 당량이 950이었다. 또한, 얻어진 공중합 수지의 중량 평균 분자량의 측정은 (주) 시마즈 제작소 제조 펌프 LC-6AD와 쇼와 덴꼬(주) 제조 컬럼 Shodex(등록상표) KF-804, KF-803, KF-802를 3개로 연결시킨 고속 액체 크로마토그래피에 의해 측정하였다.
(합성예 2)
메틸메타크릴레이트와 메타크릴산의 투입비를 몰비로 0.87:0.13으로 하고, 글리시딜메타크릴레이트를 부가 반응시키지 않은 것 이외에는 상기 합성예 1과 동일하게 유기 결합제 B를 생성하였다. 이 유기 결합제 B의 수지는 중량 평균 분자량이 약 10,000, 산가가 74 mgKOH/g이었다.
이와 같이 하여 얻어진 유기 결합제 A 또는 B를 사용하고, 이하에 나타내는 조성비로 조성물을 배합하고, 교반기에 의해 교반 후 3개 롤밀에 의해 연육하여 페이스트화를 행하였다. 연육 조건은 샘플량 1 kg을 실온에서 30분이다.
또한, 본 실시예에서 최대 입경 5 ㎛ 이하의 내열성 흑색 안료를 용제에 균일하게 분산시킨 슬러리(A)는 최대 입경이 5 ㎛ 이하이고 평균 입경이 0.2 ㎛인 43산화 코발트 흑색 미립자를 TPM(트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르) 중에 농도 70%가 되도록 흑색 미립자 100 부에 대하여 10 부의 분산제를 사용하고, 볼밀로 균일하게 분산하여 제조하였다 (슬러리 중의 용제 농도: 슬러리 100부에 대하여 용제 23부). 여기에서, 분산제로 일본유지 제조 고분자 분산제: AKM-0531를 사용한 것 을 슬러리(A-1), 교에이샤화학 제조 고분자 분산제: DOPA-15B를 사용한 것을 슬러리(A-2)로 한다.
또한, 유리 분말로는 PbO 60 %, B20320 %, SiO215 %, Al2035 %를 분쇄하고, 열팽창 계수 α300=70×10-7/℃, 유리 전이점 445 ℃, 평균 입경 1.6 ㎛으로 한 것을 사용하였다.
백층 전극(상층)용 도전 페이스트;
유기 결합제 A 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 5.0부
트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 80.0부
은가루 450.0부
유리 분말 22.0부
인산에스테르 1.0부
흑층 전극(하층)용 페이스트;
(조성물예 1)
유기 결합제 B 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 5.0부
트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 40.0부
슬러리(A-1) 50.0부
(조성물예 2)
유기 결합제 B 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 7.5부
2,4-디에틸티오크산톤 1.0부
트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 40.0부
슬러리(A-1) 50.0부
(조성물예 3)
유기 결합제 B 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 7.5부
2,4-디에틸티오크산톤 1.0부
트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 40.0부
슬러리(A-1) 50.0부
말론산 1.0부
(조성물예 4)
유기 결합제 B 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 7.5부
2,4-디에틸티오크산톤 1.0부
트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 40.0부
슬러리(A-1) 50.0부
말론산 1.0부
페노티아딘 0.1부
(조성물예 5)
유기 결합제 B 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 7.5부
2,4-디에틸티오크산톤 1.0부
트리프로피온글리콜모노메틸에테르 40.0부
슬러리(A-2) 50.0부
말론산 1.0부
페노티아딘 0.1부
(비교 조성물예 1)
유기 결합제 B 100.0부
펜타에리트리톨트리아크릴레이트 50.0부
2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 5.0부
트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 80.0부
43산화 코발트(Co3O4) 평균 입경; 0.2 ㎛ 35.0부
인산에스테르 1.0부
이와 같이 하여 얻어진 조성물예 1 내지 5 및 비교 조성물예 1의 각 페이스트에 대해서 43산화 코발트의 최대 입경, 소성 후의 라인 형상, 페이스트 안정성, 비저항치, 층간 도통, L*값을 평가하였다. 그 평가 방법은 이하와 같다.
(43산화 코발트의 최대 입경)
상기 조성에서 얻어진 흑층 전극(하층)용 페이스트에 대해서, 5 내지 25 ㎛을 2.5 ㎛ 단위로 측정할 수 있는 글라인드 게이지를 사용하여 43산화 코발트의 최대 입경을 측정하였다.
(페이스트 안정성)
조성물예 3, 4, 비교 조성물예 1의 각 페이스트를 300 g 씩 밀폐 용기에 넣어 40 ℃에서 1개월간 방치한 후의 페이스트 증점율(%)로 평가하였다.
(소성 후의 라인 형상)
ITO막 부착 유리 기판상에 평가용 페이스트를 300 메쉬의 폴리에스테르스크린을 사용하여 전체 면에 도포하고, 계속해서 열풍 순환식 건조로로 90 ℃에서 20분간 건조하여 지촉 건조성이 양호한 피막을 형성하였다. 다음으로 이 피막상에, 백층 전극(상층)용 도전성 페이스트를 300 메쉬의 폴리에스테르스크린을 이용하여 전체 면에 도포하고, 계속해서 열풍 순환식 건조로로 90 ℃에서 20분간 건조하여 지촉 건조성이 양호한 흑백 2층의 피막을 형성하였다. 그 후, 광원을 메탈할로겐 램프로 하고, 라인/스페이스= 50/100 ㎛이 되는 네가티브 필름을 사용하고, 조성물상의 적산 광량이 300 mJ/cm2가 되게 패턴 노광하고, 계속해서 액온이 25 ℃인 0.5중량% Na2CO3수용액으로 현상하고, 수세하여 마지막으로 공기 분위기하에 5℃/분으로 승온하고, 550 ℃에서 30분간 소성하여 패턴 소성 기판을 제조하였다. 그 후, 소성하는 것 이외에는 상기 비저항치 평가의 경우와 같이 패턴 소성 기판을 제조하였다.
이렇게 해서 얻어진 소성 기판에 대해서 패턴을 현미경 관찰하여 라인에 불규칙한 변동이나 꼬임 등의 유무로 평가하였다.
(비저항치, 층간 도통)
패턴 치수 0.4cm×10 cm의 네가티브 마스크를 사용하여 노광하는 것 이외에는 상기 (소성 후의 라인 형상)의 평가와 동일하게 하여 시험 기판을 제조하였다.
이렇게 해서 얻어진 시험 기판에 대해서 밀리옴(milliohm) 하이테스터를 사용하여 소성 피막의 저항치를 측정하고, 계속해서 서프 코터를 사용하여 소성 피막의 막 두께를 측정하고, 소성 피막의 비저항치를 산출하였다.
또한, 소성 피막의 백층 전극(상층)과 ITO 막에 테스터를 대고 도통의 확인을 하고, 도통되는 경우를 ○으로 하고, 도통되지 않은 경우를 ×로 하였다.
(L*값)
패턴 치수 3 cm×10 cm의 네가티브 마스크를 사용하여 노광하는 것 이외에는 상기 (소성 후의 라인 형상)의 평가와 동일하게 하여 시험 기판을 제조하였다.
이렇게 해서 얻어진 시험 기판에 대해서, 색채 색차계(미놀타 카메라(주) 제조, CR-221)를 사용하여 L*a*b*표색계의 값을 JIS-Z-8729에 따라서 측정하고, 명도를 나타내는 지수인 L*값을 흑색도의 지표로 평가하였다. 이 L*값이 작을 수록 흑색도가 우수하다.
이러한 평가 결과를 하기 표 1에 나타낸다.
상기 표 1에 나타난 결과로부터 분명히 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 광경화성 조성물은 페이스트 중의 43산화 코발트의 최대 입경이 작고, 균일하게 분산되어 있는 것을 알 수 있다. 또한, 본 발명의 광경화성 조성물에 의하면, 소성 후의 라인 형상에 불규칙한 변동이나 꼬임 등이 없고, 고정밀한 전극 회로를 형성할 수 있는 것을 알 수 있다.
또한, 본 발명의 광경화성 조성물은 고정밀한 소성 패턴을 형성할 수 있음에도 불구하고 보존 안정성이 우수하고, 소성 후에도 충분한 층간 도통성과 흑색을 동시에 만족할 수 있는 흑층 전극(하층)을 형성할 수 있는 것을 알 수 있었다. 특히, 유기산과 중합 금지제를 배합시킨 경우는 보존 안정성이 우수한 것을 알 수 있다.
또한, 상기 평가용 페이스트에 대해서, 소성 후의 밀착성을 평가하였지만 문제는 없었다. 이 밀착성은 셀로판 점착 테이프를 사용하여 박리함으로써 패턴의박리 여부를 평가하였다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 광경화성 조성물에 의하면, 내열성 흑색 안료의 이차 응집을 초래하지 않으면서 페이스트화할 수 있으며, 더구나 보존 안정성이 우수하고, 건조, 노광, 현상, 소성의 각 공정에서는 기판에 대한 우수한 밀착성, 해상성, 소성성을 손상시키지 않고, 소성 후에도 충분한 흑색을 갖는 소성 피막을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 광경화성 조성물에 의하면 PDP의 전방면 기판에 형성되는 흑백 2층 구조의 버스 전극에 있어서 충분한 층간 도전성(투명 전극과 버스 전극 백층과의 층간 도통)과 흑색을 동시에 만족할 수 있는 흑층(하층) 전극 회로등, 고정밀한 흑색 패턴을 제공할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 광경화성 조성물은 페이스트의 생산성이 향상되고, 보존 안정성이 우수하며, 박막 두께로 충분한 콘트라스트를 얻을 수 있기 때문에, PDP의 양산성, 저비용화에 매우 유용한 것이다.

Claims (9)

  1. (A) 최대 입경 5 ㎛ 이하의 내열성 흑색 안료를 용제에 균일하게 분산시킨 슬러리, (B) 유기 결합제, (C) 광중합성 단량체, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, (E) 유기산을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  3. 제1항 내지 제2항에 있어서, (F) 중합 금지제를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  4. (A) 최대 입경 5 ㎛ 이하의 내열성 흑색 안료를 고분자 분산제로 용제중에 균일하게 분산시킨 슬러리, (B) 유기 결합제, (C) 광중합성 단량체, 및 (D) 광중합 개시제를 함유하며,
    상기 슬러리 (A) 중의 내열성 흑색 안료는 유기 결합제 (B) 100 질량부당 1 내지 120 질량부의 비율이 되도록 배합되고, 상기 슬러리 (A) 중의 고분자 분산제는 내열성 흑색 안료 100 질량부당 1 내지 20 질량부의 비율로 배합되고, 상기 슬러리 (A) 중의 용제는 슬러리 100 질량부당 20 내지 50 질량부의 비율로 배합되어 있고,
    상기 광중합성 단량체 (C)는 유기 결합제 (B) 100 질량부당 20 내지 100 질량부의 비율로 배합되고,
    상기 광중합 개시제 (D)는 유기 결합제 (B) 100 질량부당 1 내지 30 질량부의 비율로 배합되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 상기 내열성 흑색 안료를 더 포함하는 무기 충전제 성분 100 질량부당 0.01 내지 1 질량부의 유기산 (E)를 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 유기 결합제 (B) 100 질량부당 0.01 내지 1 질량부의 중합 금지제 (F)를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  7. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 내열성 흑색 안료가 43산화 코발트 흑색 미립자인 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 플라즈마 디스플레이 패널의 흑색 재료로 사용되는 것을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 광경화성 조성물의 소성물로부터 흑색 패턴이 형성되어 이루어지는 전방면 기판을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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