KR20030038479A - 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 케라틴 섬유의염색방법 중 후처리제로서의 특정 아미노실리콘의 용도 - Google Patents

직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 케라틴 섬유의염색방법 중 후처리제로서의 특정 아미노실리콘의 용도 Download PDF

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본 발명은 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발의 염색 방법 중 후처리제로서의, 하나 이상의 특정 아미노실리콘을 함유하는 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 또한 하나 이상의 특정 아미노실리콘을 포함한 조성물을 이용하여 후처리하는 것을 포함하는, 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발의 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 염색 방법에 관한 것이다.

Description

직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 케라틴 섬유의 염색방법 중 후처리제로서의 특정 아미노실리콘의 용도{USE OF PARTICULAR AMINOSILICONES AS A POST-TREATMENT OF PROCESSES FOR COLORING KERATIN FIBERS WITH DIRECT DYES OR WITH OXIDATION DYES}
본 발명은 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발의 염색 방법 중 후처리제로서의, 하나 이상의 특정 아미노실리콘을 함유하는 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 또한 하나 이상의 특정 아미노실리콘을 포함한 조성물을 이용하여 후처리하는 것을 포함하는, 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발의 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 염색 방법에 관한 것이다.
케라틴 섬유의 염색방법의 두가지 주요형태는 다음과 같다: 산화제의 존재 또는 부재하에 직접적인 염색제 및/또는 염색된 분자인 색소를 이용하는 "직접적인 염색" (이는 상기 섬유에 일시적인 색상을 제공하고 몇 번의 샴푸 후에는 희미해진다), 및 산화 염색제 전구체 및 산화제를 사용하는 사용하는 "산화 염색" (이는 상기 직접적인 염색 형태에서 얻어지는 것보다 상기 섬유에 더욱 저항성 있는 색상을제공한다).
산화제의 사용은 일반적으로 케라틴 섬유의 일정 수준의 분해를 초래한다.
현재 샴푸 횟수의 매우 현저한 증가 경향이 있고, 이는 두 적용 사이에서 염색 결과가 더욱 현저하게 분해되는 것으로 나타난다.
따라서, 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 염색의 저항성, 특히 샴푸에 대한 저항성을 개선시킬 필요가 있다.
이 문제에 대해 수많은 연구가 진행되었고, 본 출원인은 하나 이상의 특정 아미노실리콘을 포함하는 조성물을 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발에 대해 후처리제로서 사용할 경우, 상기한 문제가 해결될 수 있음을, 상당히 놀랍게도 예기치 못하게 발견하였다.
이러한 발견을 본 발명의 기초를 이룬다.
또한 상기 후처리제는, 특히 산화제의 존재하에서 사전 염색한 경우에, 섬유의 상태를 개선시킨다.
표현 "섬유 상태의 개선"은 상기 섬유의 다공성 또는 알칼리 용해도의 감소, 및 미용성의 개선, 특히 매끄러움성, 부드러움성, 및 얽힘풀기 및 스타일 내기의 용이성에 대한 개선을 의미한다.
이러한 효과는, 잔류, 즉 오래지속된다.
다공성은 에탄올/pH 10 완충액 혼합물 (10/90 부피비) 중의 0.25% 2-니트로-p-페닐렌디아민에서, 37℃ 및 pH 10으로 2분간 고정시키는 것에 의해서 측정된다.
알칼리성 용해도는, 65℃에서 30분 동안의 데시노르말 수산화나트륨의 작용하에, 100㎎의 케라틴 섬유 샘플의 질량 감소에 해당한다.
따라서, 본 발명의 제 1 의 주제는, 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발의 산화 염색제 또는 직접적인 염색제에 의해 염색 방법 중 후처리제로서의, 하기 기재 화학식 (1) 또는 (2)의 아미노실리콘을 하나 이상 함유하는 조성물의 용도에 관한 것이다.
상기 용도의 목적은, 특히 산화제에 의한 염색의 경우, 염색 후에, 상기 염색의 샴푸에 대한 저항성 및/또는 섬유의 상태를 개선하는 것이다. 상기 후처리는 염색 후에 즉시 수행하여 임의로 헹구거나, 간격을 두고 행할 수 있으며, 두 염색 사이에 단지 한번 또는 반복적으로 수행할 수 있다.
본 발명의 제 2 의 주제는, 인간 케라틴 섬유 및 더욱 구체적으로는 모발에 직접적인 염색제 조성물 또는 산화 염색제 조성물을 색상 발현에 요구되는 충분한 시간 동안 적용하고, 이러한 적용에 이어서, 임의의 헹굼 및 임의의 건조 후에 화학식 (1) 또는 (2)의 아미노실리콘을 하나 이상 함유하는 조성물을 적용하는 것으로 이루어진 염색 방법에 관한 것이다.
아미노실리콘
본 발명에 따른 아미노실리콘은 하기 화학식 (1) 또는 (2)를 갖는다.
[식 중,
m 및 n은 (n + m)의 합이 특히 1 내지 1000, 특별하게는 50 내지 250, 더욱 특별하게는 100 내지 200의 범위일 수 있는 숫자이고, n은 0 내지 999, 특히 49 내지 249, 더욱 특별하게는 125 내지 175의 숫자를 나타낼 수 있고, m은 1 내지 1000, 특히 1 내지 10, 더욱 특별하게는 1 내지 5의 숫자를 나타낼 수 있으며;
R1, R2, R3은 동일하거나 상이하고, 히드록실 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내며, 라디칼 R1내지 R3중 하나 이상은 알콕시 라디칼을 나타낸다].
바람직하게는, 상기 알콕시 라디칼은 메톡시 라디칼이다.
히드록실/알콕시 몰비는 바람직하게는 0.2:1 내지 0.4:1, 바람직하게는 0.25:1 내지 0.35:1이고, 더욱 특별하게는 0.3과 같다.
화학식 (1)의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 바람직하게는 2000 내지 1 000 000, 더욱 특별하게는 3500 내지 200 000의 범위이다.
[식 중,
p 및 q는 (p + q)의 합이 특히 1 내지 1000, 특별하게는 50 내지 350, 더욱 특별하게는 150 내지 250의 범위일 수 있는 숫자이고, p는 0 내지 999, 특히 49 내지 349, 더욱 특별하게는 159 내지 239의 숫자를 나타낼 수 있고, q는 1 내지 1000, 특히 1 내지 10, 더욱 특별하게는 1 내지 5의 숫자를 나타낼 수 있으며;
R1, R2는 상이하고, 히드록실 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내며, 라디칼 R1내지 R2중 하나 이상은 알콕시 라디칼을 나타낸다].
바람직하게는, 상기 알콕시 라디칼은 메톡시 라디칼이다.
히드록실/알콕시 몰비는 바람직하게는 1:0.8 내지 1:1.1, 바람직하게는 1:0.9 내지 1:1이고, 더욱 특별하게는 1:0.95와 같다.
화학식 (2)의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 바람직하게는 2000 내지 200 000, 더욱 특별하게는 5000 내지 100 000, 보다 더욱 특별하게는 10 000 내지 50 000의 범위이다.
이들 아미노실리콘의 중량-평균 분자량은 실온에서 폴리스티렌 등가로서 겔투과 크로마토그래피 (GPC)로 측정된다. 사용되는 칼럼은 스티라겔 μ 칼럼이다. 용출액은 THF이고, 유속은 1 ㎖/분이다. THF 중 0.5 중량%의 실리콘을 함유하는 용액 200 ㎕를 주입한다. 검출은 굴절률계 및 UV 분광법으로 이루어진다.
화학 구조 (1) 또는 (2)를 갖는 상기 실리콘에 해당하는 시판 제품은, 그 조성물에 구조 (1) 또는 (2)와는 상이한 구조를 갖는 기타 아미노실리콘을 하나 이상 포함할 수 있다.
구조 (1)을 갖는 아미노실리콘을 함유하는 제품은 Belsil ADM 652라는 상표명 하에 Wacker 사에 의해 제시되었다.
구조 (2)를 갖는 아미노실리콘을 함유하는 제품은 Fluid WR 1300및 Belsil ADM 6057이라는 상표명 하에 Wacker 사에 의해 제시되었다.
이들 아미노실리콘 사용시, 특별히 바람직한 구현예는 이들을 수중유 에멀젼 형태로 사용하는 것과 관련된다. 수중유 에멀젼은, 하나 이상의 계면활성제를 함유할 수 있다. 계면활성제는 어떤 특성의 것도 가능한데, 특별하게는 양이온성 및/또는 비이온성의 것이다.
에멀젼 내의 실리콘은 일반적으로 3nm 내지 500nm 범위의 평균 크기를 가진다.
바람직하게, 특히 화학식 (2)의 아미노실리콘 경우에는, 5nm 내지 60nm 크기 범위의 마이크로에멀젼, 더욱 바람직하게는 10nm 내지 50nm 범위의 마이크로에멀젼을 사용한다.
화학식 (2)의 아미노실리콘의 마이크로에멀젼은 Wacker 사에 의해 Finish CT 96 E및 SLM 28020으로 시판되며, 본 발명에서 사용 가능하다.
바람직하게는, 화학식 (1) 또는 (2)의 아미노실리콘은, 본 발명에 따른 상기 실리콘의 2 % AM (활성 물질)을 함유하는 조성물로 처리된 모발의 물과의 접촉각이 한계 포함하여 90 내지 180°, 바람직하게는 90 내지 130°이 되도록 선택된다.
바람직하게는, 화학식 (1) 또는 (2)의 아미노실리콘을 함유하는 조성물은, 상기 조성물로 처리된 모발의 접촉각이 한계 포함하여 90 내지 180°, 바람직하게는 90 내지 130°이 되도록 선택된다.
접촉각의 측정은 정제수 내의 모발의 침액을 기초로 한다. 이는, 정제수 내 침액 동안 및 제거 동안 물에 의해 모발에 가해지는 힘을 평가하는 것으로 이루어진다. 그렇게 측정된 힘은 물과 모발의 표면간의 접촉각 θ와 직접적으로 연관이 있다. 상기 각도 θ가 한계 포함하여 0 내지 90°이면, 모발은 친수성인 것으로, 상기 각도가 90° 내지 180°이면 소수성인 것으로 본다.
시험은, 동일한 조건 하에서 표백된 후 세정된 천연 모발을 가지고 수행된다.
1 g씩의 각 모발을 직경 75 ㎜의 결정화 디쉬에 놓은 후, 시험할 제형 5 ㎖로 균일하게 코팅한다. 모발을 그 상태로 실온에서 15 분간 방치한 후, 30 초간 헹군다. 탈수된 모발을 공기 중에서 완전 건조될 때까지 방치한다.
각 평가에 있어서, 동일한 처리를 거친 10 가닥의 모발을 분석한다. 각 시료는 정밀 미세저울 (precision microbalance)에 부착되어, 정제수로 채워진 용기에 끝쪽으로 침액된다. Cahn Instruments 사의 이 DCA 저울 (동적 접촉각 분석기)은 물에 의해 모발에 가해진 힘 (F)을 측정할 수 있게 한다.
동시에, 모발의 둘레길이 (P)를 현미경 관찰을 통해 측정한다.
10 개의 모발 가닥에 대한 평균 습윤성 힘 및 분석된 모발의 단면은, 하기 식에 따라 물에 대한 모발의 접촉각을 수득할 수 있게 한다:
F = P * Γlv * cosθ
[식 중, F는 뉴톤으로 표시된 습윤성 힘이고, P는 미터로 표시된 모발의 둘레길이이며, Γlv는 J/㎡로 표시되는 물의 액체/증기 계면 장력이고, θ는 접촉각이다].
수중 12 % 의 Wacker 사의 제품 SLM 28020(즉, 2% 아미노실리콘)은, 상기 시험에서 접촉각이 93°이다.
아미노 실리콘은, 바람직하게는 후처리제 조성물내에, 조성물 총 중량에 대하여 0.01 중량% 내지 20 중량% 범위의 양으로 사용된다. 더욱 바람직하게는, 상기 양은 0.1 중량% 내지 15 중량% 범위이고, 가장 바람직하게는 0.5 중량% 내지 10 중량%이다.
상기 후처리제 조성물은 미용품, 특히 헤어 케어 분야에서 통상적으로 사용되는 임의의 함유물을 포함할 수 있다. 특히, 이는 추가적인 계면활성제 및/또는 중합체를 함유할 수 있다. 상기 계면활성제 및 중합체는 비이온성, 양이온성, 음이온성 또는 양쪽성일 수 있다. 상기 추가적인 중합체 중에서, 본 발명의 것과 다른 아미노실리콘이 특히 바람직하다.
본 후처리제 조성물은, 2 내지 11, 바람직하게는 4 내지 9 범위의 pH를 갖는다.
이는 로션, 겔, 크림, 샴푸, 스틱, 무스 또는 스프레이와 같은 다양한 형태일 수 있다. 상기 형태 중 일부의 경우에, 펌프 디스펜서(dispenser) 또는 에어로솔 용기에 포장될 수 있다. 에어로솔의 경우에, 상기 조성물은 예를 들어 알칸, 또는 알칸 혼합물, 디메틸 에테르, 질소, 질소 산화물, 이산화탄소 또는 할로알칸, 및 이들의 혼합물일 수 있는 추진제와 조합된다.
본 발명에 따른 하나의 특히 바람직한 형태는 샴푸 형태이다.
이 경우에, 상기 조성물은 하나 이상의 계면활성제 (바람직하게는 음이온성임)을 함유한다. 이 경우에, 상기 조성물은 하나 이상의 음이온성 계면활성제, 그외 바람직하게는 비이온성 또는 양쪽성인 계면활성제(들)를 포함하는 계면활성제의 혼합물을 함유한다.
상기에서 언급한 바와 같이, 후처리제 조성물은 탈색 후에 즉시 또는 간격을 둔 후에 적용할 수 있다. 상기 표현 "간격을 둔 후에"는, 탈색 후에 수 시간, 하루 또는 몇 일 (1 내지 60일)이 지난 후에 수행된 적용을 의미한다.
바람직하게는, 일부 적용은 두 번의 탈색 시행 사이에 수행된다.
두 번의 탈색 시행 사이의 적용 횟수는 바람직하게는 1 내지 60 번, 더욱 바람직하게는 2 내지 30 번이다.
상기 후처리제 조성물은, 린스-아웃 또는 리브-인 모드에 사용할 수 있고, 즉 그의 적용이 헹구는 작업을 수반하거나 수반하지 않을 수 있다.
첫 번째 경우에 있어서, 전처리제 또는 후처리제 조성물의 작동 시간은 수초 내지 60 분, 바람직하게는 30초 내지 15분이다.
전처리제 또는 후처리제 조성물의 적용 시간은, 10℃ 내지 70℃의 범위 일 수 있다. 바람직하게는, 적용은 10℃ 내지 60℃, 더욱 구체적으로는 상온에서 수행될 것이다.
염색제 조성물내에 존재하는 염색제의 특성 및 농도는 중요하지 않다.
직접적인 염색제에 의한 염색 (산화제의 존재 또는 부재하에)의 경우, 염색제 조성물은, 중성, 산성 또는 양이온성 니트로벤젠계 직접적인 염색제; 중성, 산성 또는 양이온성 아조 또는 메틴계 직접적인 염색제; 중성, 산성 또는 양이온성 퀴논, 및 특히 안트라퀴논계 직접적인 염색제; 아진계 직접적인 염색제; 트리아릴메탄계 직접적인 염색제; 인도아민계 직접적인 염색제; 및 천연계 직접적인 염색제 또는 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 염색제를 포함한다.
산화 염색제에 의한 염색의 경우에, 염색제 조성물은 하나 이상의 산화 기재를 포함한다.
상기 산화 기재는, 산화 염색에 통상적으로 사용되는 것들로부터 선택되고, 이 중에서, 오르토- 및 파라-페닐렌디아민, 이중기재(double base), 오르토- 및 파라-아미노페놀, 헤테로사이클 기재(heterocyclic base), 및 이들의 산 부가 염이 언급되어질 수 있다.
일반적으로 산화 염색제 조성물은 하나 이상의 커플러(coupler)를 포함한다.
사용될 수 있는 커플러는 산화 염색제 조성물에 통상적으로 사용되는 것들,즉 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀 및 메타-디페놀, 모노- 또는 폴리히드록실화 나프탈렌 유도체, 세사몰(sesamol) 및 그의 유도체, 및 헤테로사이클 화합물 (예컨대, 인돌 커플러, 인돌린 커플러 및 피리딘 커플러), 및 이들의 산 부가 염이 있다.
밝게하기 위한 직접적인 염색 (산화제에 의한 적접적인 염색) 또는 산화염색에 사용되는 산화제의 특성은 중요하지 않다.
산화제는, 바람직하게는, 과산화 수소, 유레아 과산화물, 알칼리 금속 브롬화물 또는 페리시아나이드, 및 과붕산염 및 과황산염과 같은 과염(persalt)으로 구성되는 군으로부터 선택된다. 하나 이상의 산화환원 효소, 예컨대 라카아제 (laccase), 퍼옥시다아제 및 2-전자 옥시도리덕타아제 (예컨대, 유리카아제 (uricase))가 산화제로서 사용될 수 있고, 적합한 경우에는 각각의 공여자 및 그의 보조 인자 (cofactor)가 존재할 수 있다.
하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것을 의도한다. 그러나, 상기 발명이 이들 구현예에 의해서 제한되는 것은 아니다.
실시예
하기 세 개의 후처리제 조성물 A, B, C, D 및 E가 제조되었다.
(활성 물질(AM)의 그람 (g)으로서 표현됨).
조성물 A
Wacker 사에서 Belsil ADM 652로 시판되는, 본 발명에 따른 화학식 (1)의 폴리디메틸실록산: 2.0
용매 100이 되도록
조성물 B
Wacker 사에서 Belsil ADM 6057로 시판되는, 본 발명에 따른 화학식 (2)의 폴리디메틸실록산: 2.0
미네랄 없는 물 100이 되도록
조성물 C
Wacker 사에서 SLM 28020로 시판되는, 본 발명에 따른 화학식 (2)의 폴리디메틸실록산: 2.0
미네랄 없는 물 100이 되도록
조성물 D
2.2㏖의 에틸렌 산화물을 함유하는나트륨 라우릴 에테르 술페이트 7
코코일베타인 2.5
글리콜 디스테아레이트 1.5
Wacker 사에서 SLM 28020로 시판되는, 본 발명에 따른 화학식 (2)의 폴리디메틸실록산: 1.5
2,3-에폭시프로필트리메틸암모늄 클로라이드로4차화된 히드록시에틸셀룰로오스(유니온 카르바이드(Union Carbide)사에 의해상품명 Ucare Polymer JR-400로 시판) 0.4
에멀젼으로서 아크릴 중합체(노베온(Noveon)에 의해 상품명 Aqua SF1로 시판) 0.8
보존제 적당량
pH 조절제 pH 5가 되도록
미네랄 없는 물 100이 되도록
조성물 E
2.2㏖의 에틸렌 산화물을 함유하는나트륨 라우릴 에테르 술페이트 7
코코일베타인 2.5
글리콜 디스테아레이트 1.5
다우 코닝(Dow Corning)사로부터 다우 코닝 200 Fluid로 시판되는 점성도 60 000mm2/s의 폴리디메틸실록산 1.0
Wacker 사에서 Belsil ADM 652로 시판되는, 본 발명에 따른 화학식 (1)의 폴리디메틸실록산: 2
2,3-에폭시프로필트리메틸암모늄 클로라이드로4차화된 히드록시에틸셀룰로오스(유니온 카르바이드(Union Carbide)사에 의해상품명 Ucare Polymer JR-400로 시판) 0.4
에멀젼으로서 아크릴 중합체(노베온(Noveon)에 의해 상품명 Aqua SF1로 시판) 0.8
보존제 적당량
pH 조절제 pH 5가 되도록
미네랄 없는 물 100이 되도록
조성물 A 및 B를, 시판되는 산화 염색제 Majirouge(명도: 7.40)을 이용하여 염색되어 적당히 탈색된 모발 타래(lock)에 대해 2분 동안 적용하였다.
헹구고 건조한 후, 5개의 표준 삼푸 세척을 이들 모발 타래에 수행하였다.
비교의 목적으로, 모발 타래를 동일한 조건하에서 염색하고, 동일한 샴푸 프로토콜을 수행하되, 조성물 A 및 B를 이용한 후처리 대신 미네랄 없는 물로 후처리하였다.
결과: 샴푸되지 않은 모발 타래와 비교한 색상의 분해 (L*a*b 시스템에서의 DE)를, 본 발명에 따라 후처리하는 것을 미네랄 없는 물로 후처리하는 경우로 대체한 경우와 비교하여 측정한다.
하기의 결과를 수득하였다:
조성물 A DE = 6.0
조성물 B DE = 5.7
대조군 DE = 8.0
DE 값이 낮을 수록 분해가 적은 것이다. Majirouge7.40 산화 염색제로 염색 후, 후처리로 조성물 A 및 B를 사용한 경우, 샴푸에 의한 분해로부터 보호되었다.
또한, 모발 섬유의 상태도 만족스러웠다.
연속적 린스 없이 Majirouge명도 6.64 산화 염색제로 착색된 백모를 90% 가지는 자연모발에 조성물 C를 적용한다. 건조 후, DOP 샴푸를 8회 실시한다.
결과: 샴푸되지 않은 모발 타래와 비교한 색상의 분해 (L*a*b 시스템에서의 DE)를, 본 발명에 따라 후처리를 실시하지 않는 경우와 비교하여 측정한다.
하기의 결과를 수득하였다:
조성물 C DE = 4.6
대조군 DE = 7.3
DE 값이 낮을 수록 분해가 적은 것이다. Majirouge6.64 산화 염색제로 염색 후에 후처리로 조성물 C를 사용한 경우, 샴푸에 의한 분해로부터 보호되었다.
또한, 모발 섬유의 상태도 만족스러웠다.
조성물 D 및 E를, 산화 염색제와 함께 또는 직접 염색제로 염색한 경우의 케어용 삼푸로 사용한다. 초기 명도의 분해는, 표준 케어 샴푸(본 발명의 아미노실리콘이 없는 것)가 사용된 경우보다 낮았다. 모발 섬유의 상태가 더욱 우수한 것으로 판명되었다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따른 후처리제 조성물은, 샴푸에 의한 염색의 분해를 유발하지 않으면서도, 모발에 매끈하고 부드럽운 느낌을 제공하면서, 얽힘풀기가 더욱 용이하게 할 수 있음을 알 수 있다.

Claims (55)

  1. 하기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘을 하나 이상 함유하는, 직접적인 염색제 또는 산화 염색제에 의한 모발과 같은 인간 케라틴 섬유의 염색 방법의 후처리 중의 후처리제 조성물:
    [화학식 1]
    [식 중,
    m 및 n은 (n + m)의 합이 1 내지 1000의 범위일 수 있는 숫자이며, n은 0 내지 999의 숫자를 나타낼 수 있고, m은 1 내지 1000의 숫자를 나타낼 수 있으며;
    R1, R2, R3은 동일하거나 상이하고, 히드록실 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내며, 라디칼 R1내지 R3중 하나 이상은 알콕시 라디칼을 나타낸다],
    [화학식 2]
    [식 중,
    p 및 q는 (p + q)의 합이 1 내지 1000의 범위일 수 있는 숫자이며, p는 0 내지 999의 숫자를 나타낼 수 있고, q는 1 내지 1000의 숫자를 나타낼 수 있으며;
    R1, R2는 상이하고, 히드록실 또는 C1-C4알콕시 라디칼을 나타내며, 라디칼 R1내지 R2중 하나 이상은 알콕시 라디칼을 나타낸다].
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 C1-C4알콕시 라디칼은 메톡시 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1의 아미노실리콘에 있어서, 히드록실/알콕시 몰비는 0.2:1 내지 0.4:1인 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 2의 아미노실리콘에 있어서, 히드록실/알콕시 몰비는 1:0.8 내지 1:1.1임을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 2000 내지 1 000 000인 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 2의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 2000 내지 200 000인 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘이 계면활성제를 포함하는 수중유(oil-in-water) 에멀젼의 형태임을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 에멀젼이 하나 이상의 양이온성, 비이온성, 또는 양이온성 및 비이온성 계면활성제를 포함함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  9. 제 7 항에 있어서, 에멀젼내 실리콘 입자가 3 내지 500 ㎚ 범위의 크기를 가짐을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘은, 상기 실리콘의 2% AM (활성 물질)을 함유하는 조성물로 처리된 모발의 물과의 접촉각이 한계 포함하여 90 내지 180°이 되도록 선택되는 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘은, 본 발명에 따른 상기 실리콘의 2% AM (활성 물질)을 함유하는 조성물로 처리된 모발의 물과의 접촉각이 한계 포함하여 90 내지 130°이 되도록 선택되는 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘을 하나 이상 함유하는 조성물은, 상기 조성물로 처리된 모발의 접촉각이 한계 포함하여 90 내지 180°이 되도록 선택되는 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘(들)이, 후처리제 조성물내에, 조성물 총 중량에 대하여 0.01 중량% 내지 20 중량% 범위의 양으로 존재함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘(들)이, 후처리제 조성물 내에, 조성물 총 중량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량% 범위의 양으로 존재함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 화학식 1 또는 2의 아미노실리콘(들)이, 후처리제 조성물 내에, 조성물 총 중량에 대하여 0.5 중량% 내지 10 중량% 범위의 양으로 존재함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 로션, 겔, 크림, 샴푸, 스틱, 무스 또는 스프레이 형태임을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  17. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 펌프 디스펜서(dispenser) 병 또는 에어로솔 용기내에 포장됨을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 알칼, 디메틸 에테르, 질소, 질소 산화물, 이산화탄소 및 할로알칸의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 추진제와 조합됨을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  19. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 비이온성, 양이온성, 음이온성 또는 양쪽성 계면활성제 중 하나 이상의 계면활성제를 포함함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  20. 제 19 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 비이온성 또는 양쪽성인 그외의 계면활성제(들)을 함유하는 게면활성제의 혼합물을 포함함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  21. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 상기 화학식 1 또는 2의 실리콘과 다른 하나 이상의 추가 중합체를 포함함을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  22. 제 21 항에 있어서, 상기 중합체가 비이온성, 양이온성 또는 양쪽성임을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 중합체가 상기 화학식 1 또는 2의 실리콘과 다른 아미노실리콘임을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  24. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 2 내지 11 범위의 pH를 가짐을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  25. 제 1 항에 있어서, 염색의 저항성을 개선시킴을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  26. 제 1 항에 있어서, 인간 케라틴 섬유의 상태를 개선시킴을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  27. 제 26 항에 있어서, 산화제를 포함하는 염색 후에, 섬유의 상태를 개선시킴을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  28. 첫번째 단계로 직접적인 염색제 조성물을 인간 케라틴 섬유에 적용하고, 색상이 발현되는데 요구되는 충분한 작용 시간 동안 염색제를 방치한 다음, 가능하게는 상기 섬유를 헹구고 건조시킨 후; 두 번째 단계로, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 화학식 1 또는 2의 실리콘 하나 이상을 포함하는 후처리제 조성물을 적용하는 것으로 이루어지며, 상기 후처리제 조성물은 염색 후에 즉시 또는 간격을 둔 후 적용하고, 상기 조성물의 적용은 두 번의 염색 사이에 반복될 수 있음을 특징으로 하는, 모발과 같은 인간 케라틴 섬유의 염색 방법.
  29. 첫번째 단계로 산화 염색제 조성물을 인간 케라틴 섬유에 적용하고, 색상이 발현되는데 요구되는 충분한 작용 시간 동안 염색제를 방치한 다음, 가능하게는 상기 섬유를 헹구고 건조시킨 후; 두 번째 단계로, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 화학식 1 또는 2의 실리콘 하나 이상을 포함하는 후처리제 조성물을 적용하는 것으로 이루어지며, 상기 후처리제 조성물은 염색 후에 즉시 또는 간격을 둔 후 적용하고, 상기 조성물의 적용은 두 번의 염색 사이에 반복될 수 있음을 특징으로 하는, 모발과 같은 인간 케라틴 섬유의 염색 방법.
  30. 제 28 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물을 수초 내지 60분의 작용 시간 동안 방치함을 특징으로 하는 방법.
  31. 제 1 항에 있어서, m 및 n은 (n + m)의 합이 50 내지 250인 조성물.
  32. 제 1 항에 있어서, m 및 n은 (n + m)의 합이 100 내지 200인 조성물.
  33. 제 1 항에 있어서, n은 49 내지 249인 조성물.
  34. 제 1 항에 있어서, n은 125 내지 175인 조성물.
  35. 제 1 항에 있어서, m은 1 내지 10인 조성물.
  36. 제 1 항에 있어서, m은 1 내지 5인 조성물.
  37. 제 1 항에 있어서, p 및 q는 (p + q)의 합이 50 내지 350인 조성물.
  38. 제 1 항에 있어서, p 및 q는 (p + q)의 합이 150 내지 250인 조성물.
  39. 제 1 항에 있어서, p 는 49 내지 349인 조성물.
  40. 제 1 항에 있어서, p 는 159 내지 239인 조성물.
  41. 제 1 항에 있어서, q는 1 내지 10인 조성물.
  42. 제 1 항에 있어서, q는 1 내지 5인 조성물.
  43. 제 3 항에 있어서, 히드록실/알콕시 몰비가 0.25:1 내지 0.35:1임을 특징으로하는 후처리제 조성물.
  44. 제 3 항에 있어서, 히드록실/알콕시 몰비가 0.3과 동일함을 특징으로하는 후처리제 조성물.
  45. 제 4 항에 있어서, 히드록실/알콕시 몰비가 1:0.9 내지 1:1임을 특징으로하는 후처리제 조성물.
  46. 제 4 항에 있어서, 히드록실/알콕시 몰비가 1:0.95와 같은 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  47. 제 5 항에 있어서, 상기 화학식 1의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 3500 내지 200 000인 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  48. 제 6 항에 있어서, 상기 화학식 2의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 5000 내지 100 000인 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  49. 제 6 항에 있어서, 상기 화학식 2의 아미노실리콘은 중량-평균 분자량이 10 000 내지 50 000인 것을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  50. 제 9 항에 있어서, 에멀젼내 실리콘 입자가 5 내지 60 ㎚ 범위의 크기를 가짐을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  51. 제 9 항에 있어서, 에멀젼내 실리콘 입자가 10 내지 50 ㎚ 범위의 크기를 가짐을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  52. 제 24 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물이 4 내지 9 범위의 pH를 가짐을 특징으로 하는 후처리제 조성물.
  53. 제 30 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물을 30초 내지 15분의 작용 시간 동안 방치함을 특징으로 하는 방법.
  54. 제 29 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물을 수초 내지 60분의 작용 시간 동안 방치함을 특징으로 하는 방법.
  55. 제 54 항에 있어서, 상기 후처리제 조성물을 30초 내지 15분의 작용 시간 동안 방치함을 특징으로 하는 방법.
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