KR200300383Y1 - 웨이퍼 처리 경보장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 웨이퍼 처리 경보장치에 관한 것으로, 본 고안은 웨이퍼를 실은 보트를 로딩 및 언로딩하는 보트실에 확산 공정이 완료된 후 보트실에서 열을 식히기 위해 대기하는 보트에 실린 웨이퍼의 언로딩 시점을 알리는 경보 수단이 설치된 것을 그 특징으로 한다. 따라서, 확산 공정이 완료된 후 웨이퍼를 석영 튜브에서 보트실로 다시 이동시켜 뜨거운 보트 및 웨이퍼를 식히기 위한 대기 시간이 완료되면 경보 수단이 경보음을 발생시켜 알려줌으로써 안전한 상태에서 처리할 수 있게 된다.
Description
본 고안은 웨이퍼 처리 경보장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 확산 공정이 완료된 후 웨이퍼를 석영 튜브에서 보트실로 다시 이동시켜 뜨거운 보트 및 웨이퍼를 안전하게 처리할 수 있도록 한 것이다.
일반적으로, 종래 웨이퍼의 확산 공정을 진행하고자 할 때에는 보트실(3a)에서 확산 공정을 진행하고자 하는 웨이퍼(1)를 보트(2)에 싣고 확산 공정이 이루어지는 석영 튜브(8)의 내부로 이동시키면, 콘트롤러(도시는 생략함)에 의해 확산 공정에 필요한 조건이 세팅된 석영 튜브(8)에서 석영 도어(9)가 닫히고 일정한 시간이 경과됨에 따라 상기 보트(2)에 실려 있는 웨이퍼(1)의 확산 공정이 도 1a와 같이 완료된다.
그 후, 도 1a와 같은 상태에서 확산 공정이 완료된 웨이퍼(1)를 다른 공정으로 이동시키기 위해 석영 튜브(8)로부터 웨이퍼(1)를 실은 보트(2)가 보트실(3a)로 다시 도 2b와 같이 이동하게 되고, 뜨거운 보트(2)와 웨이퍼(1)를 식히기 위해 임의의 시간동안 대기하게 되며, 임의의 시간이 경과되면, 다음 공정으로 이동하기 위해 상기 보트(2)에 로딩된 웨이퍼(1)를 트랜스퍼(10)로 언로딩시키게 된다.
그러나, 이와 같이 종래의 확산 공정이 완료된 후 뜨거운 보트(2) 및 웨이퍼(1)를 식히기 위해 임의의 시간동안 보트실(3a)에 대기시키게 되는데, 종래에는 대기 시간을 항상 일정하게 유지할 수가 없으므로 인해 예컨대, 대기 시간이 짧아 뜨거운 웨이퍼(1)를 트랜스퍼(10)로 언로딩시키게 되면 트랜스퍼(10)의 홀더(11) 부분이 열에 의해 손상되고, 또한 열에 의해 손상되어 발생된 이물질이웨이퍼(1)에 붙어 웨이퍼(1)를 오염시키게 되는 등의 많은 문제점이 있었다.
따라서, 본 고안은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 확산 공정이 완료된 후 웨이퍼를 석영 튜브에서 보트실로 다시 이동시켜 뜨거운 보트 및 웨이퍼를 식히기 위한 대기 시간을 항상 일정하게 유지할 수 있는 한편, 대기 시간을 카운트하여 설정값에 도달하면 웨이퍼를 언로딩시키기 위한 경보음을 발생시킴으로써 웨이퍼의 언로딩시 트랜스퍼의 홀더 부분이 열에 의해 손상되거나, 웨이퍼에 이물질이 붙은 것이 방지되도록 안전한 상태에서 처리할 수 있는 웨이퍼 처리 경보장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1a는 종래의 확산 공정을 진행하기 위한 웨이퍼를 실은 보트가 보트실에서 석영 튜브로 이동된 상태를 나타낸 정면도
도 1b는 도 1a에서 확산 공정이 완료된 웨이퍼를 실은 보트가 석영 튜브로부터 보트실로 이동된 상태를 나타낸 정면도
도 2는 1a 및 도 1b의 보트에 웨이퍼를 로딩 및 언로딩시키기 위한 트랜스퍼를 나타낸 정면도
도 3은 본 고안에 따른 확산공정이 완료된 웨이퍼를 실은 보트가 석영 튜브로부터 보트실로 이동된 상태를 나타낸 정면도
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1 ; 웨이퍼 2 ; 보트
3 ; 보트실 4 ; 경보 수단
5 ; 스위치 6 ; 패널
7 ; 부져
상기한 목적을 달성하기 위해 본 고안은 웨이퍼를 실은 보트를 로딩 및 언로딩하는 보트실의 일측 하단부에 설치되어 대기 시간의 카운트를 시작할 수 있도록 신호를 전달하는 스위치와, 상기 스위치의 신호 전달에 의해 설정 시간 및 대기 시간을 표시하는 패널과, 상기 대기 시간의 카운트가 시작되어 설정값에 도달시 웨이퍼의 언로딩을 알리는 경보음을 발생하는 부져로 이루어져 확산 공정이 완료된 후 보트실에서 열을 식히기 위해 대기하는 보트에 실린 웨이퍼의 언로딩 시점을 알리는 경보 수단이 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 경보장치를 제공한다.
따라서, 본 고안에 의하면, 확산 공정이 완료된 후 웨이퍼를 석영 튜브에서 보트실로 다시 이동시켜 뜨거운 보트 및 웨이퍼를 식히기 위한 대기 시간이 완료되면 경보 수단이 경보음을 발생시켜 알려줌으로써 안전한 상태에서 처리할 수 있게 된다.
이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 고안의 바람직한 실시예를 첨부 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 고안에 따른 확산 공정이 완료된 웨이퍼를 실은 보트가 석영 튜브로부터 보트실로 이동된 상태를 나타낸 정면도로서, 종래의 기술과 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하여 본 고안을 설명한다.
본 고안은 웨이퍼(1)를 실은 보트(2)를 로딩 및 언로딩하는 보트실(3)의 일측 하단부에 확산 공정이 완료된 후 보트실(3)에서 열을 식히기 위해 대기하는 보트(2)에 실린 웨이퍼(1)의 언로딩 시점을 알리는 경보 수단(4)이 설치된다.
상기 경보 수단(4)은 보트실(3)의 일측 하단부에 설치되어 대기 시간의 카운트를 시작할 수 있도록 신호를 전달하는 스위치(5)와, 상기 스위치(5)의 신호 전달에 의해 설정 시간 및 대기 시간을 표시하는 패널(6)과, 상기 대기 시간의 카운트가 시작되어 설정값에 도달시 웨이퍼(1)의 언로딩을 알리는 경보음을 발생하는 부져(7)로 구성된다.
상기와 같이 구성된 본 고안은 도 3에 나타낸 바와 같이, 확산 공정이 완료된 웨이퍼(1)를 다른 공정으로 이동시키기 위해 석영 튜브(8)로부터 웨이퍼(1)를 실은 보트(2)가 보트실(3)로 다시 이동하게 되어 상기 보트(2)가 보트실(3)로 완전히 빠져나오게 되면, 보트실(3)의 일측 하단부에 설치된 경보 수단(4)의 스위치(5)가 동작함에 따라 상기 경보 수단(4)으로 신호가 전달되어 대기 시간의 카운트가 시작되고, 설정값에 도달하게 되면 상기 웨이퍼(1)를 언로딩시키라는 경보음을 부져(7)가 발생하게 되며, 계속 시간 카운트를 진행하게 된다.
그 후, 상기 웨이퍼(1)를 언로딩시킨 후, 작업자가 경보 수단(4)을 리셋시키게 되면 다음 공정을 진행할 때까지 카운트는 더 이상 진행하지 않게 된다.
이상에서와 같이, 본 고안은 확산 공정이 완료된 후 웨이퍼를 석영 튜브에서 보트실로 다시 이동시켜 뜨거운 보트 및 웨이퍼를 식히기 위한 대기 시간이 완료되면 경보 수단이 경보음을 발생시켜 알려줌으로써 대기 시간을 항상 일정하게 유지할 수 있고, 웨이퍼의 언로딩시 트랜스퍼의 홀더 부분이 열에 의해 손상되거나, 웨이퍼에 이물질이 붙은 것이 방지되도록 안전한 상태에서 처리할 수 있으므로 인해 장비의 효율성 및 신뢰성을 대폭 향상시킨 매우 유용한 고안이다.
이상에서는 본 고안의 바람직한 실시예를 도시하고 또한 설명하였으나, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하 청구범위에서 청구하는 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.
Claims (1)
- 웨이퍼를 실은 보트를 로딩 및 언로딩하는 보트실의 일측 하단부에 설치되어 대기 시간의 카운트를 시작할 수 있도록 신호를 전달하는 스위치와, 상기 스위치의 신호 전달에 의해 설정 시간 및 대기 시간을 표시하는 패널과, 상기 대기 시간의 카운트가 시작되어 설정값에 도달시 웨이퍼의 언로딩을 알리는 경보음을 발생하는 부져로 이루어져 확산공정이 완료된 후 보트실에서 열을 식히기 위해 대기하는 보트에 실린 웨이퍼의 언로딩 시점을 알리는 경보 수단이 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리 경보장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019970043800U KR200300383Y1 (ko) | 1997-12-30 | 1997-12-30 | 웨이퍼 처리 경보장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019970043800U KR200300383Y1 (ko) | 1997-12-30 | 1997-12-30 | 웨이퍼 처리 경보장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990031091U KR19990031091U (ko) | 1999-07-26 |
KR200300383Y1 true KR200300383Y1 (ko) | 2003-03-31 |
Family
ID=49398382
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019970043800U KR200300383Y1 (ko) | 1997-12-30 | 1997-12-30 | 웨이퍼 처리 경보장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR200300383Y1 (ko) |
-
1997
- 1997-12-30 KR KR2019970043800U patent/KR200300383Y1/ko not_active IP Right Cessation
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KR19990031091U (ko) | 1999-07-26 |
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