KR20030032036A - 폴리머 플라스틱재질을 과립상으로 열적 후처리하기 위한장치 및 방법 - Google Patents

폴리머 플라스틱재질을 과립상으로 열적 후처리하기 위한장치 및 방법 Download PDF

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카밀레 보러
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뷔흘러 에이지
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Abstract

본 발명은 직사각형 단면으로 된 평평한 샤프트 반응기내에서 플라스틱재질, 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 폴리에스테르 재질을 과립상으로 열치리 또는 후처리하기 위한 장치에 관한 것이다. 상기 샤프트(1)는 상부영역(4)과 하부영역(5)으로 구성되며, 상기 하부영역의 수평단면(Q5)은 수직방향으로 내려가면서 테이퍼져 있다. 상기 수직 샤프트벽(4a) 및 (4b)의 단면은 스크린형 가스처리영역을 갖는다. 상기 하부영역(5)의 대향하는 샤프트벽(5a),(5b)는 가스처리영역이다. 상기 가스처리영역은 왯지-와이어 스크린으로 구성되고, 필용에 따라 다양한 갭 배열을 가질 수 있다. 왯지-와이어 스크린에서의 특별한 갭 배열은 샤프트 영역에서의 수평단면에 대해 과립의 속도를 표준화시킬 수 있도록 한다. 상기 장치의 진동과 충격력은 구성요소("다이아몬드")의 설치에 의해 감소되고, 과립의 속도도 최적화된다.

Description

폴리머 플라스틱재질을 과립상으로 열적 후처리하기 위한 장치 및 방법{Device and method for the thermal secondary treatment of polymer plastic material in granulate form}
폴리머 플라스틱을 결정화하고 고체상으로 후-축합(post-condensation)하는 방법 및 장치는 잘 알려져 있다. 예를 들어, PET의 후-축합은 적당한 반응기내에서 몇시간동안에 200℃이상의 온도에서 고체상으로 된다.
폴리머 과립의 추가 사용에 따라서, 재질의 다양한 요구조건들이 있다. 예를들어, 음식포장용 산업에 사용하기 위해서는 폴리머에 아세트알데히드(acetaldehyde)가 없는 것이 중요하다. 재생용 또는 복원용 음료수병을 제조하기 위한 공정에 있어서는, 특히 높은 기계적 강도와 투명성이 요구된다. 높은 기계적 강도를 얻기 위해서는, 보다 높은 반응온도 및/또는 보다 긴 반응시간에 의해 달성되는 높은 중합도(degree of polymerization)가 필요하다. 그러나, 이것은 노란 변색이 발생할 수 있기 때문에 재질의 열분해나 산화가 그런 공정에서 일어나지 않는 것이 중요하다. 한편, 과립의 연화가 방지되어야만 하고, 그래서 그들이 함께 녹지 말아야 한다.
그러므로, 폴리머 과립의 추가 사용에 따라 최적의 반응 조건을 유지하는 것이 중요하고, 또한 반응기를 통과한 폴리머 과립의 모든 낟알들이 반응기간동안에 동일한 반응 조건에 노출되는 것이 중요하다. 비록, 샤프트 반응기의 작동조건이 이러한 목적을 위한 시간동안 일정하게 유지된다 하더라도, 과립의 모든 낟알들이 거의 동일한 시간동안 반응기에 남아 있는 것을 보장해야만 한다.
이것은 과립 흐름방향에 직각인 단면에 대해 과립의 속도배분이 샤프트 내에서의 각각의 수직위치에서 일정해야만 한다는 것을 의미한다. 만약에 샤프트 내에서 어떤 수직위치들에서의 속도 배분이일정하지 않다면, 그들은 다른 수직위치에서의 속도 배분을 방해함으로써 보정되어야만 하고, 과립들의 유선형 흐름 동작을 추정할 수 있다.
그러나, 바람직하게는 만약에 샤프트내에서의 모든 수직위치에서 과립의 속도 배분이 일정하다면, 그 목적을 위해 과립들내에서 및 과립과 샤프트 내벽 사이에서의 점착마찰력 및 활주마찰력의 상호작용으로 인해 과립들의 요구되는 연속한 흐름 동작이 이루어진다는 것이 보장되어야만 한다.
본 발명은 플라스틱재질, 특히 청구항 1의 전문에 따른 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 폴리에스테르 재질을 과립상으로 열처리 또는 후처리하기 위한 장치와, 본 발명에 따른 장치에 의해 실행될 수 있는 청구항 20에 따른 방법에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 샤프트의 개략적인 사시도.
도 2, 3, 4, 5 및 6은 본 발명에 따른 슬롯형 홀 스크린의 다양한 실시예를 도시한 도면.
도 7은 도 1에서 측벽 4a 및 4b에 평행한 면을 따라 절취한 개략적인 단면도.
도 8은 샤프트 반응기의 제 1실시예를 도시한 개략적인 측면도.
도 9는 샤프트 반응기의 제 2실시예를 도시한 개략적인 측면도.
도 10a, 10b, 11a 및 11b는 도 1로부터 샤프트 반응기를 통해 서로 다른 수평 단면 Q4 및 Q5를 상세하게 도시한 도면.
그러므로, 본 발명의 목적은 한편으로는 샤프트의 단면에 대해 폴리머 과립의 균일한 속도 배분을 얻는 것과 다른 한편으로는 아무런 방해없이 과립의 원활하고 연속적인 흐름을 얻는 것이다.
이러한 목적은 장치와 관련한 청구항 1의 특징과 공정과 관련한 청구항 21을 통해 달성된다.
적어도 어떤 영역에서는 샤프트의 내벽이 부드럽지만 특별한 방향으로는 거칠게 구성되어 있기 때문에, 폴리머 과립과 내벽 사이에서 상호 작용이 일어나고, 그로인해 과립의 흐름 동작이 영향을 받게 된다.
이러한 부분적인 영역들은 슬롯 및/또는 홀 형상의 개구부를 갖는 가스침투용 가스처리영역에 의해 형성된다.
횡방향의 가스처리는 편의상 상부 및 하부 영역, 즉 샤프트 벽의 출구영역에서 실행된다. 이것은 샤프트의 설정된 구조적인 높이에서 최대한 가스를 방출시킨다.
과립들의 횡방향 가스처리를 위한 스크린형 영역들은 슬롯형 홀 스크린들로 구성되는데, 상기 슬릿 폭은 과립들의 최소 치수보다도 작다. 이것은 샤프트의 내벽에 근접한 영역으로부터 출발하는 과립들의 운동에 영향을 미치지만, 이것은 또한 입자들 사이의 상호간의 마찰력이나 뒤섞임으로 인해 샤프트의 내부영역까지 부분적으로 전달된다. 샤프트의 얕은 구조로 인해 모든 과립들이 샤프트의 벽에 근접하게 위치되기 때문에 직사각형의 단면을 갖는 샤프트의 얕은 설계의 경우에 있어서는 과립들에 대한 샤프트 내부의 상기와 같은 영향은 기본적으로 나타나는 현상이다.
상기 샤프트의 출구는 바람직하게는 깔대기 형상으로 제작된다. 제작기술과 관련해서, 일측에는 깔대기 형상으로 제작되고 타측에는 샤프트 전체 폭이 출구의 전체 높이에 걸쳐 유지되도록, 한 쌍의 대향하는 직사각형 면과 한쌍의 대향하는 사다리꼴 면으로 구성된 깔대기 형상의 출구가 바람직하다. 그러므로, 이런 디자인에 있어서, 커다란 가스처리영역이 출구영역에서 가능하고, 직사각형 측면 및 사다리꼴 측면들이 슬롯형 홀 스크린의 전체를 구성한다. 상기 슬롯형 홀 스크린 내의 슬롯의 방향 분배는 과립의 형태나 처리 조건에 따라 선택될 수 있다. 다른 슬롯 구조를 갖는 상호교환가능한 슬롯 그리드(grid)들은 이런 목적을 위해 생각될 수 있다.
그러나, 바람직하게는 슬롯형 홀 스크린들은 영역을 이루고, 상기 슬롯들은 그 영역내에서 서로 평행하다.
샤프트의 다른 양호한 실시예에 있어서, 깔대기형 출구는 한 쌍의 대향하는 제 1사다리꼴 면과 한 쌍의 대향하는 제 2사다리꼴 면으로 구성된다. 이것은 원추형 콘과 같은 구조를 형성한다.
편의상, 출구영역에서 횡방향 가스처리는 대향하는 커다란 영역의 측면들을 통해서 이루어진다. 상기에 언급된 바와 같이, 이들은 사다리꼴 면이나 직사각형 면들 중 하나일 수 있다.
특히 비용이 많이 들지 않는 실시예에 있어서, 대향하는 커다란 영역의 가스처리용 측면들은 서로 평형해고 직사각형이나 사다리꼴 면의 베이스면에 대해 수직으로 연장한 슬롯을 갖는 슬롯형 홀 스크린으로 구성된다.
본 발명에 따른 샤프트 반응기의 얕은 디자인에 있어서, 출구쪽의 구조와 샤프트 내부의 구조를 통해서 샤프트 반응기내의 속도에 영향을 주는 것이 바람직하다. 샤프트의 수평 폭은 샤프트의 수평 깊이보다 5 - 10배 크고, 또한 과립의 입자크기에 근거한 샤프트의 수평 깊이는 그다지 크지 않다. 그래서 샤프트의 깊이에 따른 과립의 속도 배분은 상대적으로 균일하다. 그러나, 만약에 샤프트의 폭에 대해 과립의 속도 배분을 생각하고 있다면, 중간부분에서의 낟알들의 속도는 테두리영역에서의 속도보다 훨씬 크다는 것을 알 것이다.
이렇게 일정치않은 속도 배분을 동일하게 하기 위해서, 사다리꼴 면 내에 다양한 슬롯형 홀 스크린이 샤프트 폭을 따른 깔대기 모양의 출구의 제작과 연관되어 제안되었다.
슬롯이 사다리꼴 면의 대칭축에 대해 대칭으로 위치되고 대칭축의 양측면에 있는 사다리꼴 면의 경사면에 평행하게 진행하는 그런 사다리꼴 면이 바람직하다. 오리걸음과 같은 패턴으로 슬롯형 홀 스크린의 슬롯을 배열함으로써, 과립들이 영향을 받게 되고, 결과적으로 샤프트 출구의 중앙부에 있는 과립들이 감속되고 그로인해 속도가 더욱 균일해지는 것이다. 슬롯형 홀 스크린은 사다리꼴의 경사면에 평행하게 배열되기 때문에, 이러한 슬롯형 홀 스크리 구조는 그 제작 시에 낭비를 줄일 수 있는 장점이 있다.
슬롯형 홀 스크린 구조의 다른 양호한 실시예는 사다리꼴 면의 대칭축에 대해 대칭으로 배열되고 대칭축의 양측에서 서로에 대해 평행하고 동시에 대칭축과 사다리꼴 면의 각각의 경사면 사이의 각도 절개선에 대해 평행한 슬롯들을 구비한다. 이 디자인에 있어서는, 속도의 균일함은 우수하지만, 슬롯형 홀 스크린의 제작시에 비용이 많이 든다.
슬롯형 그리드의 양호한 실시예에 있어서, 상기 사다리꼴 면은 그것의 대칭축에 대해 대칭으로 연장한 직사각형 영역을 구비하고 그 직사각형 영역의 측면부들은 상기 사다리꼴 면의 베이스면에 대해 평행하거나 수직이며, 상기 슬롯들은 직사각형 영역내에서 사다리꼴 면의 대칭축에 대해 평행이다. 이러한 디자인은 균일한 속도의 측면에서 이전의 단락에서 서술되었던 것만큼 동등하지만, 제작시 비용이 덜 든다. 또한, 상기 직사각형영역은 직사각형 폭을 증가시키거나 줄임으로써 슬롯형 스크린 구조에 사소한 변경을 가하기에 적합하다. 이것은 사다리꼴으 경사면에 평행한 슬롯을 갖는 두개의 분리식 사다리꼴 반쪽들과 그것의 긴 측면부와 평행한 슬롯을 갖는 직사각형으로 된 사다리꼴 슬롯형 홀의 디자인을 통해 달성될 수 있다. 중앙의 직사각형 영역은 상기 그리드의 우측과 좌측 반쪽을 다소 중첩시킴으로써 변화를 줄 수 있다.
본 발명에 따른 샤프트 출구에 있어서, 사다리꼴 면의 대칭축과 경사면 사이의 각도는 10°- 30°이고, 바람직하게는 20°이다.
중앙의 직사각형 영역을 갖는 사다리꼴 슬롯형 그리드의 실시예에 있어서, 사다리꼴 면들의 베이스면에 평행한 직사각형 측면들의 길이는 사다리꼴 면의 긴쪽 베이스면의 길이의 약 1/10 만큼이고, 사다리꼴 면의 작은쪽 베이스면에 대응하는최대값을 추정할 수 있다.
본 발명에 따른 샤프트의 얕은 디자인에 있어서, 과립들의 흐름방향에 수직한 수평단면의 긴쪽의 직사각형 측면 대 짧은쪽의 직사각형 측면의 비율은 20 : 1 내지 5 : 1 이다. 특히 우수한 결과는 10 : 1의 비율에서 달성된다.
상기 샤프트의 모든 실시예에서, 수평단면들이 다각형이나 타원형(스타디움 보울 형상) 또는 팔각형이 되도록 상기 샤프트의 상부영역 및 하부영역의 모든 내부 테두리들을 경사지게 하거나 둥글게 라운드지게 하는 것이 좋다. 그러므로 상기 수평단면들은 대략적인 검사에 의하면 거의 직사각형이다. 이것은 과립들의 웨징이 내부테두리에서 발생하지 않도록 한다는 점에서 중요하다. 과립들은 특히, 고온에서 들러붙는 경향이 있다. 그들은 정입방체나 직입방체 또는 원통형 형상이기 때문에 두개의 수직벽면이 고착면으로 존재하지는 않는 다. 내부테두리의 이러한 경사때문에 과립들은 들러붙거나 뭉치지 않는다.
샤프트안에서 과립의 속도에 양향을 주는 것은 루프의 설치를 통해서도 이루어질 수 있는데, 상기 루프는 그들의 피크부가 과립의 흐름 방향에 대항하여 상방으로 향하는 방식으로 배열된다. 이들 루프들은 샤프트의 중앙부에 장착된다.
샤프트의 상부영역에 위치한 여러개의 수평 열내에 다수의 작은 루프들이 배열되어 있는 것은 바람직하고, 여기서 상기 루프의 열들은 그들 사이에 수직방향으로는 이격된 상태로 배열된다. 이것은 샤프트 안에 포함된 전체 과립들의 갑작스런 운동을 제한하는 데 유용하다는 것을 입증했고, 보다 작은 단면 때문에 하나의 지역으로부터 다른 지역으로 바이패스 가스가 덜 이동하다는 장점이 있다. 상부 샤프트 영역안에 그런 수평의 루프 열들이 없다면, 과립들 서로의 그리고 어떤 처리조건 및 과립 조건들 하에서 샤프트의 내벽과의 점착마찰력 및 활주마찰력의 상호작용이 불만족스러울 수 있다. 여기서 상기 처리 조건 및 과립 조건들은 모든 과립들의 거대한 전체 양 때문에 전체 설비에 강력한 진동을 초래할 수도 있다. 수평 루프 열들은 전체 과립들을 서로 다른 영역에 분리함으로서, 상기 점착마찰력과 활주마찰력("slip-stick")의 상호작용이 각각의 영역에서 개별적으로 발생하고, 그 결과 더 작은 전체량과 더 짧은 낙하 높이로 인해 진동이 크게 감소될 수 있는 것이다. 상기 루프에서의 과립의 속도 변화 때문에, 과립 전체량을 통해 비동기식 움직임대신에 샤프트 안에서 전체 과립의 일부 소량의 비동기식 진동이 발생한다.
상기 루프들은 대향하는 긴 샤프트 벽의 내부에 장착되는 것이 바람직하다. 이것은 전체 샤프트 구조의 안정화를 위한 추가의 구성물이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 다양한 실시예를 설명하지만, 이러한 실시예들이 본 발명의 범위를 제한하지는 않는다.
도 1은 상부영역(4)와 하부영역(5)로 구성된 본 발명에 따른 샤프트(1)의 개략적인 사시도이다. 입구포트(2)는 상부영역(4)의 상단부에 제공되고, 출구포트(3)은 하부영역(5)의 하단부에 제공된다. 상부영역(4)은 4개의 수직 샤프트벽(4a, 4b, 4c, 4d)에 의해 경계를 이루고, 그 전체의 높이에 걸쳐 일정한 수평단면(Q4)를 갖는다.
4개의 수직 샤프트벽(5a, 5b, 5c, 5d)에 의해 경계를 이루고 있는 하부영역(5)은 상부영역(4)의 하부에 연결되어 있다.
상기 하부영역(5)의 수평단면(Q5)는 정부로부터 바닥부까지 연속적으로 작아진다.
하부영역의 측벽(5a, 5b)는 사다리꼴 형상으로 제작되고, 하부영역의 측벽(5c, 5d)는 직사각형으로 제작된다. 그러므로, 하부영역(5)은 일차원적으로 볼때 정부로부터 바닥부까지 점직적으로 테이퍼져 있다.
가스처리는 대향하는 대형 측벽(4a)와 (4b) 및 측벽(5a)와 (5b) 내의 스크린형 가스처리영역(미도시)을 통해 실행된다. 처리될 과립들은 상부의 입구포트(2)를 통해 추가되고, 샤프트(1)을 통해 중력에 의해 이동하고, 출구포트(3)에서 배출된다.
샤프트(1)의 내부 테두리영역에서 끈적한 PET 과립들이 들러붙는 것을 방지하기 위하여, 상부영역(4)의 테두리(4e, 4f, 4g, 4h)와 하부영역(5)의 테두리(5e, 5f, 5g, 5h)는 내부에서 테이퍼져 있거나 둥글게 라운드져(미도시) 있으며, 그 결과 인접한 샤프트벽들 사이의 모든 내부각들이 90°이상이다.
PET과립들이 보통 입방체 또는 원통형 형상이기 때문에, 상기 벽들의 경사나 라운딩은 과립의 2개 표면이 내부테두리 부분에서의 2개의 수직한 내부표면에 들러붙지 않도록 한다.
도 2, 3, 4, 5 및 6은 본 발명에 따른 슬롯형 홀 스크린의 다양한 실시예를 도시한 도면이고, 여기서 슬롯형 스크린은 하부영역(5)의 대향하는 측벽(5a),(5b)를 형성한다.
도 2는 사다리꼴의 슬롯형 그리드(10)을 도시하고 있고, 그 슬롯형 그리드의 평행한 슬롯들은 대칭축(A)에 평행하고 사다리꼴의 베이스면(11),(12)에 수직하다. 사다리꼴의 경사면(13, 14)은 대칭축(A)과 각도(α)를 형성하는데, 각도는 10°와 30°사이이고, 바람직하게는 대략 20°이다.
슬롯들의 기본적인 수직한 방향성때문에, 샤프트(1)의 정부로부터 바닥부까지 흘러가는 과립들은 좀처럼 속력을 늦출수가 없고, 그로인해 샤프트의 내부영역에서 하방으로 이동하는 과립과 샤프트의 테두리영역에서 하방으로 이동하는 과립 사이의 속력의 차이를 크게 줄일 수 있다. 샤프트의 상부영역(4)에 있는 가스처리영역도 슬롯형 홀 스크린에 의해 형성되며, 상기 슬롯들은 정부로부터 바닥부까지수직하게 진행된다.
도 3은 도 2로부터 사다리꼴로 된 슬롯형 홀 스크린(10)을 도시한 것으로, 상기 스크린(10)의 중앙에는 대칭축(A)에 평행하게 장애물, 즉 다이아몬드(15)가 제공된다. 다이아몬드(15)는 각각 샤프트(1)의 하부영역(5)의 측벽(5a),(5b)을 형성하는 두개의 슬롯형 홀 스크린(10) 사이를 연속적으로 연장한다. 당이아몬드는 3가지 기능을 갖는다.
첫째, 샤프트(1)의 중앙부에서, 그것은 정부로부터 바닥부까지 과립의 이동을 지연시켜서 하방으로 이동하는 과립의 수직 속도를 더욱 일정하게 해준다.
둘째, 그것의 체적변위로 인해, 다이아몬드는 출구영역을 감소시킨다. 만약에, 다이아몬드가 설치되지 않는다면 설치되었을 때보다도 과립들의 속도배분이 훨씬 덜 일정할 것이다.
세째, 하부영역(5)의 대향하는 측벽(5a),(5b)와 다이아몬드(15)의 고정된 연결부는 전체 설치면에서의 안정성을 증대시킨다. 이것은 샤프트벽에 대한 힘이 하부영역(5)에서 기본적으로 크기 때문에 매우 중요하다.
도 4는 하부영역(5)의 측벽(5a),(5b)를 위한 사다리꼴로 된 슬롯형 홀 스크린(20)의 다른 실시예를 도시한 것이다. 상기 슬롯형 홀 스크린(20)은 대칭축(A)을 중심으로 대칭적으로 배열된 두개의 반쪽부로 구성된다. 두개의 반쪽부 각각에 있어서, 슬롯형 홀 스크린의 슬롯들은 서로에 대해 평행하고, 각각의 경사면(23) 또는 (24)에 대해 평행하다. 그러므로, 상기 슬롯들은 사다리꼴의 베이스면(21)(22)에 대해 수직하지는 않다. 다양한 슬롯형 홀 스크린영역들의 이러한 배열들로 인해, 상부영역(4)의 수평단면(Q4)과 하부영역(5)의 수평단면(Q5) 전체에 대해 수직 속도의 균일성이 우수해지는 것이다.
물론, 이러한 사다리꼴로 된 슬롯형 홀 스크린의 형성은 다이아몬드(15)에 의해 보충될 수도 있고, 또는 두개의 실시예들이 결합되어 사용될 수도 있다.
도 5는 하부영역(5)의 측벽(5a),(5b)를 위한 사다리꼴로 된 슬롯형 홀 스크린(20)의 다른 실시예를 도시한 것이다.
도 4에서와 마찬가지로, 여기서도 다시 사다리꼴로된 슬롯형 홀 스크린은 대칭축(A)에 대해 대칭인 두개의 영역으로 구성된다. 두개의 영역 각각에 있어서, 슬롯들은 서로에 대해 평행하고 동시에 대칭축(A)과 사다리꼴의 경사면(33),(34) 사이의 각도 절개선(W)에 대해 평행한다. 여기서 다시, 상기 슬롯들은 사다리꼴의 베이스면(31),(32)에 대해서 수직하지는 않다. 이러한 슬롯형 홀 스크린의 형태를 통해 수평단면(Q4),(Q5)에 대해 특별히 균일한 수직 속도를 얻을 수 있다.
도 6은 하부영역(5)의 측벽(5a),(5b)를 위한 사다리꼴로 된 슬롯형 홀 스크린(20)의 또 다른 실시예를 도시한 것이다. 여기에서 사다리꼴은 베이스면(41)과 경사면(43),(44)로 구성된다.
슬롯형 홀 스크린(40)은 슬롯형 홀 스크린(4)와 기본적으로는 동일하지만, 그러나 대칭축(A)을 중심으로 대칭을 이루는 직사각형 영역을 중심부에 구비하고 있고 그것의 슬롯은 대칭축(A)에 대해 평행하다. 상부면 및 하부면(46),(47)은 사다리꼴로 된 슬롯형 홀 스크린의 베이스면(41),(42)의 일부분을 형성한다. 이 슬롯형 홀 스크린(40)은 기본적으로 샤프트(1)의 전체 수평단면에 대한 과립의 속도를거의 완벽하게 균일하게 한다. 그런 결과는 도 5의 슬롯형 홀 스크린(30)에 의해 얻어진 결과와 동일하다.
그러나, 이것은 다양한 슬롯형 홀 스크린 영역을 절단할때에 재료의 소비가 덜하기 때문에 도 5의 슬롯형 홀 스크린과 비교해서 제조기술에 장점을 가지고 있다. 다른 장점으로는 중앙에 위치한 직사각형 영역의 폭, 즉 직사각형 상부면 및 하부면(46),(47)의 길이는 필요에 다라 변경될 수 있다.
샤프트의 수평단면에 대한 과립의 속도가 샤프트의 치수, 내벽면의 거칠기 및 과립의 특성 및 치수에 따라 다르기 때문에, 다양한 샤프트 크기 및 과립의 종류에 대한 적합한 보정이 중앙에 있는 직사각형 영역의 폭을 조정함으로써 이루어질 수 있다.
물론, 도 2 내지 도 6의 다양한 설계들은 필요에 따라 결합될 수도 있다.
도 7은 도 1에서 대향하는 샤프트 측벽(4a),(4b)에 대해 평행한 평면을 따라 절취한 개략적인 단면도이다. 이것은 도면의 평면에 대해 수직(즉, 샤프트의 상부영역(4)의 측벽(4a),(4b)에 대해 수직)으로 연장한 10개의 루프(50)를 도시하고 있다. 상기 루프의 피크(51)는 상방으로 가리키고 있다. 전체 루프 열은 보강용 결합영역(52) 내에서 측벽(4a),(4b)에 결합된다. 슬롯형 홀 스크린 영역(53)은 상기 결합영역(52)의 양쪽 측벽을 향해 연장한다.
도 8은 샤프트 반응기의 제 1실시예를 개략적으로 도시한 측면도이다. 샤프트(1)의 상부영역(4)은 가스처리영역(6, 7, 8)을 구비하고, 샤프트(1)의 하부영역(5)은 가스처리영역(9)를 구비한다. 각각의 가스처리영역(6, 7, 8, 9)들사이에는 하나의 결합영역(52)이 있고, 그것은 전체 샤프트(1)의 안정성을 높여준다. 각각의 가스처리영역(6, 7, 8, 9)는 하나의 슬롯형 홀 스크린 영역(53)으로 구성된다.
도 9는 본 발명에 따른 샤프트 반응기의 다른 실시예를 개략적으로 도시한 측면도이다. 도 9의 실시예는 샤프트 내부에 있는 다양한 방해물 때문에도 8의 실시예와는 다르다. 즉, 루프(50)를 구성하는 하나의 루프 열은 가스처리영역(6)과 (7) 사이에 배열되고, 다른 루프 열은 가스처리영역(7)과 (8) 사이에 배열되며, 하부영역(5)에는 다이아몬드(15)가 위치한다.
서로에 대한 과립들의 움직임 때문에, 그리고 상기 과립들내의 점착마찰력과 활주마찰력 사이의 상호작용과 과립들과 샤프트의 내벽 사이의 상호작용 때문에, 과립 흐름에 응력이 발생할 수 있고, 때때로 갑작스럽게 응력이 해제될 수도 있다. 이러한 것은 전체 샤프트 반응기사에 큰 부하가 걸리게 한다. 샤프트(1)으 상부영역(4) 안에 다양한 높이로 장착된 루프 열과 그로인한 과립들의 속도변화 때문에, 샤프트(1) 안에서의 전체 체적의 과립들은 가스처리영역(6, 7, 8)에 대응하는 서로 다른 영역들로 나뉜다.
이런 분리화 때문에, 과립들의 갑작스런 응력의 해제는 단지 각각의 부영역(6, 7, 8)안에서 일어나서, 그 결과 응력의 갑작스런 해제시에 내재된 양은 과립의 전체 양보다 훨씬 적다. 도 8 및 9에서의 결합영역(52)은 샤프트(1)의 외벽으로부터 수직으로 연장한 평평한 강봉(bar of steel)에 의해 보강될 수 있다.
도 10a 및 11a는 수평단면(Q4)의 상세한 도면이다. 그 도면에 도시된 바와같이, 수평단면(Q4)은 거의 직사각형이다.
샤프트(1)의 상부영역의 모든 내부 테두리들은 경사지거나 둥글게 라운드지고, 이러한 경사부(60) 또는 라운딩부(61)로 인해 테두리 영역안의 모든 내부 각도들은 90°이상일 수 있고, 대부분은 과립들이 들러붙는 것을 방지하며, 형상은 주로 입방체나 원통형이다.
도 10b 및 11b는 샤프트(1)의 하부영역(5) 내에서의 수평단면(Q5)의 상세한 도면이다.
여기서 다시, 모든 내부 테두리들은 경사지거나 둥글게 라운드지고, 이러한 경사부(60) 또는 라운딩부(61)로 인해 테두리 영역안에서의 과립의 뭉침이 방지된다. 물론, 상기 경사부(60)는 코너가 둥근 라운딩부(61)들로 대치될 수 있는데, 이러한 라운딩부들은 상기에 언급된 경사부보다 제작비용이 싸다.
상기에 언급된 바와 같이, 슬롯형 홀 스크린들은 마찰로 인한 물질들의 유동에 어떤 큰 저항없이도 가스처리가능한 용기의 벽들을 생산할 수 있다. 과립들이 하부영역(5)의 이송로의 작은 단면에 함께 들어오게 될 때, 슬롯의 방향은 과립의 유동율 및 출구에서의 과립의 정지시간 스펙트럼에 큰 영향을 미친다. 만약에 과립이 슬롯에 대해 평행하게 흐르지 않는다면 슬롯형 홀 스크린 안의 다량의 긴 슬롯은 높는 유동 저항을 초래하고, 그로 인해 슬롯의 방향을 통해서 과립의 방향이 빗나갈 수도 있는 것이다.
속도와 정지시간 스펙트럼은 슬롯들의 특별한 배열(특히, 샤프트(1)의 하부영역(5)에서의)을 통해서 영향을 받을 수 있다.
도면부호의 리스트
1샤프트
2입구포트
3출구포트
4상부영역
5하부영역
6, 7, 8. 9가스처리영역
4a, 4b, 4c, 4d상부영역의 샤프트 벽
5a, 5b, 5c, 5d하부영역의 샤프트 벽
Q4상부영역의 수평단면
Q5하부영역의 수평단면
4e, 4f, 4g, 4h상부영역의 샤프트 테두리
5e, 5f, 5g, 5h하부영역의 샤프트 테두리
10사다리꼴로된 슬롯형 홀 스크린
20사다리꼴로된 슬롯형 홀 스크린
30사다리꼴로된 슬롯형 홀 스크린
40사다리꼴로된 슬롯형 홀 스크린
11, 12 슬롯형 홀 스크린(10)의 베이스면
13, 14슬롯형 홀 스크린(10)의 경사면
15다이아몬드형 방해물
21, 22슬롯형 홀 스크린(20)의 베이스면
23, 24슬롯형 홀 스크린(20)의 경사면
31, 32 슬롯형 홀 스크린(30)의 베이스면
33, 34슬롯형 홀 스크린(30)의 경사면
41, 42슬롯형 홀 스크린(40)의 베이스면
43, 44슬롯형 홀 스크린(40)의 경사면
45슬롯형 홀 스크린(40)의 직사각형 영역
46, 47직사각형영역(45)의 직사각형 측벽
A대칭축
α대칭축(A)과 경사진 사다리꼴측면부 사이의 각
50루프
51루프의 상부 피크부
52결합영역
53슬롯형 홀 스크린 영역
60경사부
61라운딩부

Claims (21)

  1. 플라스틱재질, 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 폴리에스테르 재질을 과립상으로 열처리 또는 후처리하기 위한 장치로서, 상부 입구포트(2)와 하부 출구포트(3)를 가지며 과립들이 정부로부터 바닥부까지 수직으로 안내되는 수직 샤프트(1)을 구비하고, 상기 샤프트(1)는 수직방향으로 진행함에 따라 일정한 직사각형 수평단면(Q4)을 갖는 상부영역(4)과, 수직방향으로 진행함에 따라 테이퍼진 수평단면(Q5)을 갖는 하부영역(5)을 구비하며, 상기 수직 샤프트벽들은 질소를 함유한 가스혼합물과 함께 과립들의 횡방향 가스처리를 허용하는 일부영역에 스크린형 영역을 구비하는데, 상기 횡방향 가스처리용 스크링형 부분영역은 대향하는 샤프트 벽(4a, 4b, 5a, 5b)들 내에 배열되고, 그 벽들의 수평방향 폭은 상기 각각의 단면(Q4),(Q5)의 긴 측면부에 대응하는 형태의 플라스틱재질의 열처리 또는 후처리 장치에 있어서,
    상기 샤프트벽(4a, 4b, 4c, 4d, 5a, 5b, 5c, 5d)의 내부 벽면은 적어도 일부 영역(6, 7, 8, 9)에서 부드러운 표면을 갖는 재료로 만들어지고, 상기 재료는 과립의 낟알들의 치수에 대응하는 우선적인 방향을 갖는 표면구조를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 일부영역(6, 7, 8, 9)은 가스침투용 가스처리영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 샤프트 벽(4a, 4b, 5a, 5b)들은 상부영역(4)과 하부영역(5) 둘 다에 과립들의 횡방향 가스처리용 스크린형 영역 또는 일부영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    과립의 횡방향 가스처리를 위한 스크린형 영역 또는 일부영역들은 슬롯형 홀 스크린(10, 20, 30, 40)들로 구성되고, 상기 스크린의 슬롯 폭은 가장 작은 과립의 치수보다도 작은 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 슬롯형 홀 스크린(10)의 슬롯들은 수직방향으로 진행하는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 하부영역(5)의 수평단면(Q5)은 깔대기형 출구가 형성되도록 정부로부터 바닥부까지 수직방향으로 줄어드는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 깔대기형 출구(5)는 한쌍의 대향하는 직사각형 면과 한쌍의 대향하는 사다리꼴 면으로 구성되며, 상기 직사각형 면들은 수평단면(Q4) 중 짧은 쪽의 직사각형 측면에 대응하는 수평 폭을 갖는 상부영역(4)의 대향하는 샤프트벽들에 인접한 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 직사각형 면들은 상기 직사각형 측면에 대해 평행하게 진행하는 슬롯을 갖는 슬롯형 홀 스크린으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 제 6항에 있어서,
    상기 깔대기형 출구(5)는 한쌍의 대향하는 제 1사다리꼴 면과 한 쌍의 대향하는 제 2사다리꼴 면으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  10. 제 9항에 있어서,
    넓은쪽의 샤프트벽(4a, 4b)에 연결된 한쌍의 사다리꼴 면(5a, 5b)들 중 어느 하나에서, 상기 사다리꼴 면들은 서로에 대해 평행하게 진행하고 상기 각각의 사다리꼴 면의 베이스면(11, 12)에 대해 수직인 슬롯들을 갖는 슬롯형 스크린(10)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제 9항에 있어서,
    넓은쪽의 샤프트벽(4a, 4b)에 연결된 한쌍의 사다리꼴 면(5a, 5b)들 중 어느 하나에서, 상기 사다리꼴 면들은 사다리꼴 면의 대칭축(A)에 대해 대칭으로 배열되고 대칭축(A)의 양측에서 각각의 사다리꼴 면의 경사면(23,24)에 대해 평행으로 진행하는 슬롯들을 갖는 슬롯형 스크린(20)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  12. 제 9항에 있어서,
    넓은쪽의 샤프트벽(4a, 4b)에 연결된 한쌍의 사다리꼴 면(5a, 5b)들 중 어느 하나에서, 상기 사다리꼴 면들은 사다리꼴 면의 대칭축(A)에 대해 대칭으로 배열되고 대칭축(A)의 양측에서 서로에 대해 평행으로 진행하고 대칭축(A)과 상기 사다리꼴 면의 각각의 경사면(33, 34) 사이의 각도 절개선(W)에 대해 평행으로 진행하는 슬롯들을 갖는 슬롯형 스크린(30)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제 11항에 있어서,
    상기 사다리꼴 면은 직사각형 영역을 가지며, 그 직사각형 영역은 대칭축(A)에 대해 대칭으로 연장하고 그것의 측면부들은 상기 각각의 사다리꼴 면의 베이스면(41, 42)과 평행하거나 그에 대해 수직이며, 상기 슬롯들은 직사각형 영역(45) 내에서는 사다리꼴 면의 대칭축(A)에 대해 평행으로 진행하는 것을 특징으로 하는 장치.
  14. 제 10항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 사다리꼴 면의 대칭축(A)과 사다리꼴 면의 경사면(23, 24; 33, 34; 43, 44) 사이의 각도(α)는 10°- 30°범위내이고, 바람직하게는 20°인 것을 특징으로 하는 장치.
  15. 제 13항에 있어서,
    사다리꼴 면의 베이스면(41, 42)에 평행으로 연장한 직사각형 측면(46, 47)의 길이는 사다리꼴면의 긴쪽 베이스면(41)의 1/10 길이로부터 상기 사다리꼴 면의 짧은쪽 베이스면(42)의 길이까지 연장하는 것을 특징으로 하는 장치.
  16. 제 1항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 있어서,
    수평단면(Q4)의 긴쪽 직사각형 측면(L4)와 짧은쪽 직사각형 측면(K4) 사이으 비율은 상부영역(4)에서 20 : 1 - 5 : 1 이고, 바람직하게는 10 : 1 인 것을 특징으로 하는 장치.
  17. 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서,
    수평단면(Q4),(Q5)이 다각형 또는 타원형(스타디움 보울 형상)이고, 특히 팔각형이고, 수평단면(Q4),(Q5)단지 직사각형이 되도록, 모든 내부 테두리(4e, 4f, 4g, 4h, 5e, 5f, 5g, 5h)은 샤프트(1)의 영역(4,5)에서 경사지거나 둥글게 라운드진 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 제 1항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서,
    피크부(51)가 상방을 향해 있는 루프(50)들은 샤프트의 내부에 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.
  19. 제 18항에 있어서,
    상기 루프들은 샤프트(1)에서 여러개의 수평 열로 배열되고, 상기 열들은 수직으로 일정거리만큼 이격되는 것을 특징으로 하는 장치.
  20. 제 18항 또는 제 19항에 있어서,
    상기 루프(50)들은 대향하는 샤프트 벽(4a, 4b)들의 내부에 장착되는 것을 특징으로 하는 장치.
  21. 청구항 1 내지 청구항 19 중 어느 한 항에 따른 장치를 이용하여, 플라스틱재질, 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)와 같은 폴리에스테르 재질을 과립상으로 열처리 또는 후처리하기 위한 방법으로서,
    상기 샤프트의 상부영역으로 과립을 공급하는 단계;
    과립들이 샤프트를 통해 하방으로 이동할 때 공기나 가스와 함께 양측부로부터 과립들의 가스를 처리하는 단계, 특히 샤프트의 상부영역의 스크린형 일부영역을 통해서 횡방향으로 180℃-250℃의 온도로 순수한 질소와 함께 과립들의 가스를처리하는 단계;
    과립들이 샤프트의 하부영역의 스크린형 일부영역을 통해서 80℃-120℃의 온도로 하방으로 이동할 때 에어나 가스와 함께, 특히 순수한 질소와 함께 양측부에서 과립들의 가스를 처리하는 단계; 및
    깔대기형 출구를 통해 샤프트로부터 과립들을 배출하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
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