KR20030030278A - 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 배가스 중에 포함된 대기오염물질 동시제거에 관한 것으로, 플라즈마 반응기술 및 암모니아, 탄화수소와 같은 첨가제를 이용하여 동시제거 효율을 향상시키도록 한 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거방법에 관한 것이다.
이를 위하여 본 발명은 배가스 유입부, 폭인 좁은(<1㎲) 펄스형 고전압 발생장치, 펄스 코로나방전에 의한 대기오염물질 동시제거 반응기술 등을 포함하고 있으며, 특히 암모니아 및 탄화수소 첨가제에 의한 대기오염물질 제거효율 향상기법 및 공정 최적화 기술을 제공한다.

Description

펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거방법{Method for Simultaneous Removal of Air Pollutants from Flue Gas by Using Non-thermal Plasma Techniques}
본 발명은 배가스 중에 포함된 대기오염물질 동시제거에 관한 것으로, 플라즈마 반응기술 및 암모니아, 탄화수소와 같은 첨가제를 이용하여 동시제거 효율을 향상시키도록 한 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거방법에 관한 것이다.
발전소, 제철소, 소각로 및 기타 산업용 보일러 등은 오늘날 심각한 대기오염물질의 주요 배출원으로 잘 알려져 있으며, 연소기관 및 연소조건에 따라 오염물질 배출량 및 성분은 다양하다.
특히 다량의 황산화물, 질소산화물, 다이옥신 및 휘발성유기화합물은 주변 생활환경 및 인체건강에 심각한 악 영향을 미치고 있으며, 나아가 산성비 출현, 오존의 생성과 고갈 및 지구온난화와 같은 범 지구적 기후변화에 크게 기여한다.
지금까지 이러한 대기오염물질들을 제거하기 위한 종래의 기술들은 단위 오염물질 성분 및 조건에 따라 기술이 달리 적용되었다. 일반적으로 황산화물을 제거하기 위해서는 습식 석회석-석고법, 질소산화물을 제거하기 위해서는 SCR 및 SNCR 공정이 널리 적용되어 왔으며, 다이옥신 및 휘발성 유기화합물 등을 제거하기 위해서는 활성탄에 의한 흡착법 및 촉매를 이용한 산화방법 등이 많이 적용되어 있다. 그러나, 이들 각 공정들은 효과적임에도 불구하고 장치가 복잡하고 설치 및 운전비용이 많이 들뿐만 아니라, 2차 부산물 처리 문제점 등을 내포하고 있다.
1980년대부터 펄스 코로나방전(저온 플라즈마) 기술이 배가스 처리를 위한 대체기술로 큰 주목을 끌기 시작했다. 저온 플라즈마 기술은 "Pulsed corona discharge for removal of NOx from flue gases" 라는 제목의 논문에서 G. E. Vogtlin 등에 의해 폭넓게 검토되었다.(NATO ASI series, Vol. G34, Part B [Springer Verlag: Berlin, Heidelberg (1993)], 미국특허 제6,193,934호, 미국특허 제5,490,973호 참조).
상기 공정에서는 코로나 방전에서 생성된 활동적인 전자(energetic electron)는 기체 분자들을 여기, 해리시키며 이온화한다. 이 과정에서 활성라디칼이 생성되어 가스상 대기오염물질, 특히 SO2, NOx와 반응하여 제거된다고 보고하고 있으며, 따라서 석탄화력발전소를 대상으로 많은 연구개발이 진행되고 있다.
그러나, 상기 공정은 기술이 간단하고 건식공정의 장점이 있으나, 오염물질 제거효율이 낮고, 종래의 습식 석회법이나 SCR/SNCR 공정과 비교할 때 양질의 코로나 방전을 유도하는 에너지 소비(Whr/Nm3)가 비교적 높은 문제점이 있다.
또한, 최근 제철소 및 소각로 등에서 다이옥신 배출이 주변 생활환경에 새로운 이슈가 되고 있으며, 어떤 제철소의 경우 60ng TEQ/Nm3의 범위까지 발생될 수 있다고 보고하고 있다 [미국특허 제5,971,752호 및 미국특허 제5,807,491호 참조].
특히, 유독한 다이옥신의 대표적 성분으로 폴리클로리네이티드 디벤조다이옥신(PCDD), 폴리클로리네이티드 디벤조푸란(PCDF)을 들 수 있으며, 상기한 흡착법 및 촉매법 등이 다이옥신 및 휘발성유기화합물 제거에 일부 효과적이나, 흡착능 저하 및 촉매수명 단축 등의 문제점을 내포하고 있다.
따라서, 플라즈마 기술은 상기한 단위공정의 고비용 구조를 해결하고, 대기오염물질을 동시 제거하는 장점을 나타내고 있으나, 전력소비량이 전체 전력생산의 약5~10% 정도로 높으며, 제거효율이 낮은 문제점을 여전히 내포하고 있다 [Civitano, L. "Industrial application of pulsed corona processing to flue gas" [NATO ASI series, Vol. G34, Part B, Springer-Verlag: Berlin,Heidelberg(1993)].
지금까지, 이러한 문제점을 해결하기 위해, 급상승 펄스 및 높은 첨두전압을 얻는 플라즈마 성능향상, 펄스 발생기와 반응기간에 효과적인 정합(matching)에 의한 에너지 변환효율 개선 등을 통한 대기오염물질 제거효율 향상에 대한 연구가 일부 보고되고 있다 [Dinelli, G.등, "Industrial experiments on pulse corona simultaneous removal of NOxand SO2from flue gas" IEEE Ind. Appl. Trans., 26(3), 1990].
상기한 바와 같이, 플라즈마 기술에 대한 폭넓은 연구와 그에 대한 검토가 보고되고 있지만, 상용화를 위한 공정의 대용량화를 위해 대기오염물질 동시제거 효율 향상, 전력소비량 절감(<5Whr/Nm3), 펄스 발생 시스템의 내구성 증가 등에 있어 많은 문제점을 안고 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 그 목적은 다양한 산업설비에서 배출되는 배가스에 포함된 황산화물, 질소산화물, 다이옥신, 휘발성 유기화합물 등을 펄스형 저온 플라즈마 기술을 이용하여 동시에 제거하는 방법에 있어서, 전력소비량 저감, 대기오염물질 동시제거 효율향상 기법 및 공정최적화에 대한 정량적 기술을 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 공정을 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 반응기에 인가되는 펄스 전압 및 전류를 나타내는 그래프이다.
도 3은 코로나 방전과 반응 첨가제의 SO2/NOx동시제거에 대한 효과를 비에너지(specific energy) 함수로 나타낸 그래프이다.
도 4는 암모니아 주입량 α=0.8, 프로필렌 주입량 약 50ppm 조건 하에서 코로나 방전에 의한 다이옥신(PCDD/F) 분해성능을 나타내는 그래프이다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 플라즈마를 이용한 배가스 중의대기오염물질 제거방법에 있어서, 외부로부터 배가스를 유입하는 단계와; 유입된 상기 배가스에 반응 첨가제를 주입하는 단계와; 펄스 고전압을 플라즈마 반응기에 인가하여 코로나 방전을 일으킴으로써, 상기 배가스를 플라즈마 상태로 만들어 대기오염물질을 분해하는 단계를 포함하고,
상기 대기오염물질은 황산화물, 질소산화물, 다이옥신, 휘발성 유기화합물이 동시에 제거되고, 상기 반응 첨가제로는 암모니아 및 탄화수소를 함께 주입하는 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거 방법을 제공한다.
여기서, 상기 펄스 고전압은 첨두전압이 110㎸ 이상이고, 펄스폭 FWHM<500nsec으로 설정하여 인가하는 것이 바람직하다.
또한, 반응 첨가제로 암모니아의 주입량은 암모니아에 대한 황산화물 및 질소 산화물의 몰비(α)가 0.7-0.9 범위에 속하도록 주입하고, 탄화수소의 주입량은 30-120ppm의 범위에 속하도록 주입하는 것이 바람직하며, 반응 첨가제로 상기 탄화수소는 에틸렌(C2H4), 프로필렌(C3H6), 부텐(C4H8)으로 이루어지는 군에서 선택되어질 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 공정을 개략적으로 도시한 구성도이다.
본 발명에 따른 공정을 실시하기 위하여 이용되는 주요 설비는 도 1에서 보는 바와 같이, 직류 고전압 전원공급장치, 펄스 고전압 발생장치, 코로나 방전 플라즈마 반응기, 배가스 분석 및 첨가제 주입시스템으로 구성될 수 있다.
유입된 배가스는 펄스 고전압 코로나 방전에 의해 대기오염물질이 동시에 제거 및 분해되고, 암모니아 및 탄화수소와 같은 반응 첨가제를 첨가함으로써 제거효율이 향상되고 전력 소비량은 저감될 수 있다.
도 2는 플라즈마 반응기에 인가되는 펄스 전압 및 전류를 나타내는 그래프이다.
대기오염물질을 포함하는 배가스에 코로나 방전을 효과적으로 유도하기 위해서는 도 2에 나타난 바와 같이, 펄스 폭이 좁고 피크 값이 높은 펄스 고전압이 요구되는 바, 상기 펄스 폭 FWHM는 500nsec 이하이고 상기 피크 값은 110㎸ 이상인 펄스 고전압을 인가하는 것이 바람직하다.
이러한 고전압 펄스는 에너지가 전달되는 플라즈마 반응기의 구조에 따라 조금씩 특성을 달리할 수 있지만, 코로나 방전극(+)과 집진극(-)의 거리에 대한 함수로 전기장의 세기 범위가 6.0-15㎸/㎝ 일 때가 효과적이다.
일실시예로 제철소 소결공장에서 배출되는 배가스로부터 본 발명에 따른 플라즈마 공정을 이용하여 대기오염물질을 제거하였다.
여기서, 상기 배가스는 100-150ppm SO2/NOx, 5% CO2, 10% H2O, 15% O2, 약 20㎎/Nm3의 먼지 및 소량의 다이옥신(< 2ng TEQ/Nm3) 을 포함하고 있었으며, 상기 실시에 따른 결과를 도 3 및 도 4에 나타내었다.
상기에서 대기오염물질 동시 제거 성능을 향상시키고, 에너지 소비를 저감시키기 위하여 암모니아 및 프로필렌(C3H6)을 포함하는 반응 첨가제를 주입하였다.
주입된 암모니아의 양은 암모니아에 대한 황산화물 및 질소산화물의 몰 비(α=[NH3]/(2[SO2]+[NOx]))로 규격화되며, 프로필렌은 NOx의 양에 따라 주입된다(β=[C3H6]/[NOx]).
도 3은 코로나 방전과 반응 첨가제의 SO2/NOx동시제거에 대한 효과를 비에너지(specific energy) 함수로 나타낸 그래프이다.
도 3의 그래프의 가로축은 투입된 전력(P)을 배가스 유량(Q)으로 나눈 에너지 밀도를 나타낸 것으로, 여기서 배가스 유량(Q)은 표준 상태인 0℃, 1기압으로 환산된 것이다.
도 3에 나타낸 바와 같이, SO2제거효율을 암모니아 주입과 함께 약 95%까지 달성되었으며, 이 때 암모니아 주입량은 α값이 0.7-0.9 의 범위에서 최적 조건임을 나타내고 있다. 그러나, 암모니아를 주입하지 않았을 경우 제거효율은 상기 배가스 조건에서 약 20%정도에 그치며, 이는 비에너지에 대한 의존도가 무시할 수 있을 정도임을 가리킨다.
한편, NOx제거효율은 비에너지가 증가함에 따라 증가하는 바, 공정의 신뢰성 및 대용량화가 가능한 비에너지 범위는 3.0Whr/Nm3이하로 나타났으며, 이 경우 탄화수소 첨가제 없이는 NOx제거효율이 40% 이하로 달성된다.
이것은 탄화수소 첨가제의 주입 없이는 낮은 에너지 소비(5 Whr/Nm3이하) 및 대용량 배가스 조건에서는 활성라디칼 발생이 낮기 때문에 NO의 NO2로의 전환은 상당히 제한된다는 것을 의미한다. 따라서, 탄화수소인 프로필렌(C3H6)의 주입은 활성라디칼의 생성을 활발히 촉진시켜 최종 NOx의 제거효율을 현저히 증가시킨다.
일례로, 3.0Whr/Nm3에서 73ppm 또는 121ppm의 프로필렌을 주입했을 때, 각각 50% 또는 70%의 NOx가 제거되었다.
상기 반응 첨가제로 주입되는 탄화수소로 플로필렌(C3H6)을 대신하여 CH4, C2H6, C2H4, C4H8, C4H10으로 이루어지는 군에서 선택되어지는 것을 주입할 수 있으며, 이들 탄화수소의 주입에 의하여도 정도의 차이는 있으나 유사한 제거특성을 나타낸다.
도 4는 암모니아 주입량 α=0.8, 프로필렌 주입량 약 50ppm 조건 하에서 코로나 방전에 의한 다이옥신(PCDD/F) 분해성능을 나타내는 그래프이다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 프로필렌(C3H6)을 주입하지 않았을 경우 다이옥신 제거효율은 약 20% 이하로 유지되었으나, 프로필렌(C3H6)을 반응 첨가제로 주입하였을 경우에는 약 93%의 다이옥신이 코로나 방전에 의해 분해되었다.
이는 프로필렌의 주입에 따른 활성라디칼, 즉 O, OH, HO2및 O3와 같은 화학종의 활발한 생성이 다이옥신의 분해를 촉진시킨 것으로 볼 수 있다.
여기서, 탄화수소 첨가제의 주입량은 약 30-120ppm의 범위가 되도록 주입하는 것이 바람직하며, 30ppm 미만일 경우 그 효과가 적고 120ppm을 초과할 경우 2차 부산물의 배출되는 문제가 발생한다.
본 발명에 따른 플라즈마 공정에 의하면, 상기 설명한 황산화물, 질소산화물 및 다이옥신뿐만 아니라, 휘발성 유기화합물인 디클로로벤젠, 트리클로로에탄, 톨루엔과 같은 화합물도 상기 조건에서 효과적으로 분해될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거 방법에 의하면, 양질의 코로나방전을 위한 펄스 고전압의 특성을 찾고, 암모니아 및 탄화수소와 같은 반응 첨가제의 주입량을 최적화함으로써, 황산화물, 질소산화물, 다이옥신 및 휘발성 유기화합물을 포함하는 대기오염물질을 효율적으로 동시에 제거할 수 있으며, 또한 이를 대용량화할 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 플라즈마를 이용한 배가스 중의 대기오염물질 제거방법에 있어서,
    외부로부터 배가스를 유입하는 단계;
    유입된 상기 배가스에 반응 첨가제를 주입하는 단계;
    펄스 고전압을 플라즈마 반응기에 인가하여 코로나 방전을 일으킴으로써, 상기 배가스를 플라즈마 상태로 만들어 대기오염물질을 분해하는 단계;
    를 포함하고,
    상기 대기오염물질은 황산화물, 질소산화물, 다이옥신, 휘발성 유기화합물이 동시에 제거되고,
    상기 반응 첨가제로는 암모니아 및 탄화수소를 함께 주입하는 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 펄스 고전압은 첨두전압이 110㎸ 이상이고, 펄스폭 FWHM<500nsec인 것을 특징으로 하는 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    반응 첨가제로 암모니아의 주입량은 암모니아에 대한 황산화물 및 질소 산화물의 몰비(α)가 0.7-0.9의 범위에 속하도록 주입하고, 탄화수소의 주입량은 30-120ppm의 범위에 속하도록 주입하는 것을 특징으로 하는 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거 방법.
  4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    반응 첨가제로 탄화수소는 에틸렌(C2H4), 프로필렌(C3H6), 부텐(C4H8)으로 이루어지는 군에서 선택되어지는 것을 특징으로 하는 펄스형 저온 플라즈마를 이용한 대기오염물질 동시제거 방법.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100513165B1 (ko) * 2002-09-04 2005-09-09 제주대학교 산학협력단 송이와 플라즈마를 이용한 배기가스 중의 질소산화물처리방법
KR100907819B1 (ko) * 2007-10-08 2009-07-16 재단법인 포항산업과학연구원 배기가스 중의 질소산화물을 선택적 무촉매 환원 제거하는방법
US9586178B2 (en) 2014-04-17 2017-03-07 General Electric Company System and method for reducing nitrogen oxide in exhaust
CN113046101A (zh) * 2021-03-16 2021-06-29 山东驰盛新能源设备有限公司 一种焦炉处理化产voc烟道废气循环系统

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100619237B1 (ko) 2006-03-08 2006-09-05 한국기계연구원 난분해성 가스의 플라즈마 반응방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS548163A (en) * 1977-06-21 1979-01-22 Toshiba Corp Method and apparatus for denitrating exhaust gas
JPH05228330A (ja) * 1991-08-26 1993-09-07 Sumitomo Heavy Ind Ltd 乾式排ガス処理方法
JPH06106025A (ja) * 1992-09-29 1994-04-19 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 窒素酸化物分解装置のプラズマ反応容器
JPH07198124A (ja) * 1993-12-28 1995-08-01 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 燃焼排ガスの脱硝方法
US5985222A (en) * 1996-11-01 1999-11-16 Noxtech, Inc. Apparatus and method for reducing NOx from exhaust gases produced by industrial processes
KR100428841B1 (ko) * 1998-10-10 2004-08-06 주식회사 포스코 프로필렌및오존을이용한저온플라즈마공정의질소산화물제거방법
KR200258740Y1 (ko) * 2001-09-26 2001-12-29 두산중공업 주식회사 열교환형 분사장치를 이용한 유해가스 제거장치

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100513165B1 (ko) * 2002-09-04 2005-09-09 제주대학교 산학협력단 송이와 플라즈마를 이용한 배기가스 중의 질소산화물처리방법
KR100907819B1 (ko) * 2007-10-08 2009-07-16 재단법인 포항산업과학연구원 배기가스 중의 질소산화물을 선택적 무촉매 환원 제거하는방법
US9586178B2 (en) 2014-04-17 2017-03-07 General Electric Company System and method for reducing nitrogen oxide in exhaust
GB2529502B (en) * 2014-04-17 2017-09-20 Gen Electric Plasma assisted nitrogen oxide (NOx) abatement system
CN113046101A (zh) * 2021-03-16 2021-06-29 山东驰盛新能源设备有限公司 一种焦炉处理化产voc烟道废气循环系统

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