KR20030013046A - Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus - Google Patents

Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20030013046A
KR20030013046A KR1020010047330A KR20010047330A KR20030013046A KR 20030013046 A KR20030013046 A KR 20030013046A KR 1020010047330 A KR1020010047330 A KR 1020010047330A KR 20010047330 A KR20010047330 A KR 20010047330A KR 20030013046 A KR20030013046 A KR 20030013046A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
housing
plating
electroplating apparatus
electrolyte
anode
Prior art date
Application number
KR1020010047330A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
박용범
박준
Original Assignee
주식회사 미래소재
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 미래소재 filed Critical 주식회사 미래소재
Priority to KR1020010047330A priority Critical patent/KR20030013046A/en
Publication of KR20030013046A publication Critical patent/KR20030013046A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/10Agitating of electrolytes; Moving of racks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/007Current directing devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/06Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

PURPOSE: An integral type electroplating apparatus is provided which has superior mobility as a simple and micro electroplating apparatus by integrally constructing the anode, cathode and agitator and driving the agitator using a motor, enables plating treatment even in a small space and small plating solution, and obtains plating layer of superior properties by maximization of agitation effect. CONSTITUTION: In an electroplating apparatus which is installed in an electrolytic cell(31) to perform electroplating, the integral type electroplating apparatus comprises a cylindrical housing(30); a driving means that is mounted on the inner part of the housing to generate rotational driving force; an agitator that is rotated by the driving means to agitate an electrolyte(32) inside the electrolytic cell; an anode(21) which is extended by vertically penetrating the housing, the lower part of which is dipped into the electrolyte, and to the upper part of which a (+) terminal(23a) of plating D.C current is connected; and a cathode(22) which is extended by vertically penetrating the housing with the cathode being spaced apart from the anode in a certain distance, the lower part of which is dipped into the electrolyte, and to the upper part of which a (-) terminal(23b) of plating D.C current is connected. The integral type electroplating apparatus comprises a cylindrical housing(30); a driving means that is mounted on the inner part of the housing to generate rotational driving force; a cathode(22) which is physically removably connected to a rotational shaft(25a) of the driving means to agitate an electrolyte(32) inside the electrolytic cell(31), and to the upper part of which a (-) terminal(23b) of plating D.C current is electrically connected through the rotational shaft and the housing; and an anode(21) which is extended by vertically penetrating the housing, which is dipped into the electrolyte with the anode being formed in a cylindrical structure so that the lower part of the anode encircles the cathode, and to the upper part of which a (+) terminal(23a) of plating D.C current is connected.

Description

양극-음극-교반기 결합 일체형 전기도금장치{Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus}Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus}

본 발명은 양극-음극-교반기 결합 일체형 전기도금장치에 관한 것으로, 특히 양극-음극-교반기를 일체형으로 구성하여 단순하고 초소형으로서 이동성이 우수하고 작은 공간과 작은 도금용액에서도 도금처리가 가능하며 교반효과의 극대화에 따라 우수한 물성의 도금층을 얻을 수 있는 일체형 전기도금장치에 관한 것이다.The present invention relates to a positive electrode-cathode-stirrer integrated electroplating apparatus, and in particular, the positive electrode-cathode-stirrer is integrated into a single body, simple and ultra-portable, excellent in mobility, plating is possible in a small space and a small plating solution, stirring effect It relates to an integrated electroplating apparatus that can obtain a plated layer of excellent properties according to the maximization of.

종래의 전기도금 장치는 양극-음극의 분리와 추가적인 교반장치 설치가 요구되므로 넓은 공간이 확보되어야 하는 문제점이 있다.The conventional electroplating apparatus has a problem in that a large space is secured because separation of the anode and the cathode and installation of an additional stirring device are required.

종래의 전기도금 장치는 배치 플레이팅(batch plating) 방법과 배럴 플레이팅(barrel plating) 방법 등이 있다(J.-P. Celis, M. De Bonte and J.R. Roos, Trans. I. M. F., 72(2), 1994, 89-93 참조). 이러한 전기도금방법 원리를 응용하여 연속생산라인에 적용시키기도 한다.Conventional electroplating apparatuses include a batch plating method and a barrel plating method (J.-P. Celis, M. De Bonte and JR Roos, Trans. IMF, 72 (2)). , 1994, 89-93). The principle of the electroplating method is also applied to the continuous production line.

먼저, 배치 플레이팅 방법은 일반적으로 가장 많이 사용되고 있는 기술이다. 이 방법은 도 1과 같이 전해조(11) 내부의 전해액(또는 도금용액이나 도금욕)(10)에 각각 양극(1)과 음극(2)을 설치하고 전원공급장치(7)로부터 도금용 전류를 양극으로 흘려줌에 의해 음극(2)의 표면에 원하는 도금층(9)을 전착시키는 방법이다.First, the batch plating method is generally the most used technique. In this method, the positive electrode 1 and the negative electrode 2 are respectively installed in the electrolytic solution (or plating solution or plating bath) 10 in the electrolytic cell 11 as shown in FIG. It is a method of electrodepositing the desired plating layer 9 on the surface of the cathode 2 by flowing to an anode.

이 방법은 교반방법에 따라서 표면특성 및 도금층 물성이 달라지는(교반방법에 의존적인) 문제점이 있다. 또한, 교반장치를 추가로 설치해야 되고 교반효과의불균일이 가장 큰 문제이다. 도금층의 물성이 교반방법에 따라 달라지고, 적합한 교반장치를 찾기 어렵다. 교반장치를 추가로 설치하여야 되므로 장치가 복잡해지고, 도금장치의 크기가 대형화되는 문제점이 있다.This method has a problem in that the surface properties and the plated layer properties vary depending on the stirring method (depending on the stirring method). In addition, agitation apparatus must be additionally installed and nonuniformity of agitation effect is the biggest problem. The physical properties of the plating layer vary depending on the stirring method, and it is difficult to find a suitable stirring device. Since the stirring apparatus must be additionally installed, the apparatus becomes complicated and there is a problem that the size of the plating apparatus is enlarged.

배럴 플레이팅 방법은 음극자체를 회전시켜 교반을 하는 방법이다. 이 방법은 도 2에 도시된 바와 같이 양극(1)이 원통형으로 구성되고, 그의 내부에 회전 구동되는 음극(2)이 내장되어 있는 구조이다.The barrel plating method is a method of stirring by rotating the cathode itself. This method has a structure in which the anode 1 is formed in a cylindrical shape as shown in Fig. 2, and a cathode 2, which is rotationally driven, is embedded therein.

이 방법은 도금효율을 높일 수 있으나, 도금이 되는 재료가 원통형 양극(1)의 내부에 존재하여 피도금체의 교체가 다른 장치들에 비해서 번거롭다는 문제점이 있고 피도금체의 형상에 제약을 받는다. 또한 양극(1)의 내부와 외부에서 전해액(10)의 유동이 활발치 못해 전해액의 농도구배가 발생하는 문제점이 있다.This method can improve the plating efficiency, but there is a problem that the material to be plated is present inside the cylindrical anode 1 so that the replacement of the plated body is more cumbersome than other devices, and the shape of the plated body is limited. Receive. In addition, there is a problem in that the concentration gradient of the electrolyte is not generated because the flow of the electrolyte 10 is not active inside and outside the anode (1).

더욱이 배럴 플레이팅 방법에서도 구조적으로 소형화시키는 데는 한계가 있어, 사용자가 원하는 장소로 이동하여 좁은 공간에 설치하는 것이 곤란하며, 도금액(전해액)의 소모량이 비교적 크고 다양한 형상을 가진 피도금체에 적용하는 것이 어렵다는 문제가 있다.In addition, there is a limit in structurally miniaturization in the barrel plating method, so that it is difficult to move to a desired place and install it in a narrow space, and the consumption of the plating liquid (electrolyte) is relatively large and applied to a plated body having various shapes. There is a problem that it is difficult.

상기한 전기도금방법들은 모두 대량생산을 위한 용도로 개발된 기술로서 양극/음극/교반기가 서로 분리된 구조를 갖고 있어 연구소나 실험실 등의 소량 다종류의 도금용액을 개발하는 데 적합한 실험용 소형 전기도금장치로는 적합하지 못하다.All of the above electroplating methods are technologies developed for mass production and have a structure in which anode / cathode / stirrers are separated from each other. Not suitable as a device.

따라서 본 발명은 이러한 종래기술의 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 그의 제1목적은 양극-음극-교반기를 일체형으로 구성하여 단순하고 초소형으로서 이동성이 우수하고 작은 공간에서도 도금처리가 가능한 일체형 전기도금장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the problems of the prior art, and its first object is an integrated electroplating apparatus which is simple and ultra-compact and has excellent mobility as a monolithic-cathode-stirrer as an integrated type, and is capable of plating even in a small space. To provide.

본 발명의 제2목적은 전체적인 크기를 초소형으로 구현함에 의해 종래의 전기도금장치에 필요한 전해액의 절대량보다 훨씬 적은 전해액으로도 전기도금이 가능한 전기도금장치를 제공하는 데 있다.The second object of the present invention is to provide an electroplating apparatus capable of electroplating with an electrolyte much smaller than the absolute amount of the electrolyte required for the conventional electroplating apparatus by implementing the overall size in a very small size.

본 발명의 제3목적은 음극 및 음극과 양극 자체가 고속으로 회전되면서 전해액을 교반하므로 전해액의 농도구배가 발생하지 않아 도금층 표면의 조도가 균질하고 치밀하며, 기판과 도금층 간의 결합력이 우수한 도금층을 얻을 수 있는 일체형 전기도금장치를 제공하는 데 있다.The third object of the present invention is to agitate the electrolyte while rotating the cathode and the cathode and the anode itself at a high speed, so the concentration gradient of the electrolyte does not occur, so that the roughness of the surface of the plating layer is uniform and dense, thereby obtaining a plating layer having excellent bonding strength between the substrate and the plating layer. To provide an integrated electroplating apparatus that can be.

본 발명의 제4목적은 전해액의 교반속도 및 방식의 제어에 따라 충분한 교반에 의해 교반효과의 극대화를 도모하여 우수한 물성의 도금층을 얻을 수 있는 일체형 전기도금장치를 제공하는 데 있다.A fourth object of the present invention is to provide an integrated electroplating apparatus which can achieve a plating layer having excellent physical properties by maximizing the stirring effect by sufficient stirring under the control of the stirring speed and the method of the electrolyte solution.

본 발명의 제5목적은 음극이 개방된 위치에 위치하여 다양한 형상을 가진 피도금체에 도금이 가능한 전기도금장치를 제공하는 데 있다.A fifth object of the present invention is to provide an electroplating apparatus capable of plating a plated body having various shapes by being located at an open position of the cathode.

도 1은 종래의 배치 플레이팅 방법에 따른 전기도금장치의 개략 단면도,1 is a schematic cross-sectional view of an electroplating apparatus according to a conventional batch plating method,

도 2는 종래의 배럴 플레이팅 방법에 따른 전기도금장치의 개략 단면도,2 is a schematic cross-sectional view of an electroplating apparatus according to a conventional barrel plating method;

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제1실시예에 따라 교반막대를 사용한 전기도금장치의 개략 사시도 및 그의 설치 상태를 나타내는 사시도,3A and 3B are schematic perspective views showing an installation state thereof and a schematic perspective view of an electroplating apparatus using a stirring rod according to a first embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 제2실시예에 따라 교반막대를 사용하면서 건전지를 내장한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도,4 is a schematic perspective view showing an electroplating apparatus incorporating a battery while using a stirring rod according to a second embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제3실시예에 따라 음극형 교반기를 사용한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도,5 is a schematic perspective view showing an electroplating apparatus using a cathode type stirrer according to a third embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명의 제4실시예에 따라 음극형 교반기를 사용하면서 건전지를 내장한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도,6 is a schematic perspective view showing an electroplating apparatus incorporating a battery while using a cathode stirrer according to a fourth embodiment of the present invention;

도 7은 본 발명의 제5실시예에 따라 양극과 음극 동시 교반형 교반기를 사용한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도,7 is a schematic perspective view showing an electroplating apparatus using a positive and negative simultaneous stirring type stirrer according to a fifth embodiment of the present invention;

도 8은 본 발명의 제6실시예에 따라 양극과 음극 동시 교반형 교반기를 사용하면서 건전지를 내장한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도,8 is a schematic perspective view showing an electroplating apparatus incorporating a battery while using a positive and negative asynchronous stirring mixers according to a sixth embodiment of the present invention;

도 9a 및 도 9b는 종래의 전기도금장치를 사용하여 얻어진 100%Ni 코팅막 시편의 표면과 단면 특성을 보여주는 ATM 이미지,9A and 9B are ATM images showing the surface and cross-sectional properties of 100% Ni coating film specimens obtained using a conventional electroplating apparatus,

도 10a 및 도 10b는 본 발명에 따른 전기도금장치를 사용하여 얻어진 100%Ni 코팅막 시편의 표면과 단면 특성을 보여주는 ATM 이미지,10A and 10B are ATM images showing the surface and cross-sectional properties of 100% Ni coating film specimens obtained using the electroplating apparatus according to the present invention;

도 11은 기판과 도금층 사이의 상관관계와 도금층의 두께 차이를 비교하기 위한 종래기술 시편의 측면에 대한 금속현미경 확대사진,11 is an enlarged photograph of a metal microscope of a side of a prior art specimen for comparing the correlation between the substrate and the plated layer and the thickness difference of the plated layer,

도 12는 기판과 도금층 사이의 상관관계와 도금층의 두께 차이를 비교하기 위한 본 발명의 시편의 측면에 대한 금속현미경 확대사진,12 is an enlarged photograph of a metal microscope of a side of a specimen of the present invention for comparing the correlation between the substrate and the plated layer and the thickness difference of the plated layer,

도 13은 도금층의 내부구조를 알기 위해 X선 회절기를 이용하여 종래기술 시편의 100 극점도,13 is a 100 pole figure of a prior art specimen using an X-ray diffractometer to know the internal structure of the plating layer,

도 14는 도금층의 내부구조를 알기 위해 X선 회절기를 이용하여 본 발명 시편의 100 극점도이다.14 is a 100-pole diagram of the specimen of the present invention using an X-ray diffractometer to know the internal structure of the plating layer.

* 도면의 주요부분에 대한 부호설명 ** Explanation of Signs of Major Parts of Drawings *

21,21a,21b ; 양극22,22a,22b ; 음극21,21a, 21b; Anodes 22, 22a and 22b; cathode

23 ; 전류공급장치24 ; 교반막대23; Current supply device 24; Stirring Rod

25 ; 모터25a ; 회전축25; Motor 25a; Axis of rotation

26 ; 속도조절장치27 ; 전원공급장치26; Speed regulating devices 27; Power supply

28 ; 밧데리29 ; 교환척28; Battery 29; Exchange chuck

30 ; 하우징31 ; 전해조30; Housing 31; Electrolyzer

32 ; 전해액33 ; 수직 프레임32; Electrolyte solution 33; Vertical frame

33a ; 수평 프레임33b ; 클램프33a; Horizontal frame 33b; clamp

34 ; 베이스34; Base

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 전해조에 설치되어 전기도금을 수행하는 전기도금장치에 있어서, 통형 하우징과, 상기 하우징 내부에 장착되어 회전 구동력을 발생하는 구동수단과, 상기 구동수단에 의해 회전되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반하기 위한 교반기와, 상기 하우징을 상/하로 관통하여 연장되고하단부가 전해액 내로 침지되고, 상단부에 도금용 DC 전류의 (+)단자가 연결된 양극과, 상기 양극과 일정한 거리를 두고 하우징을 상/하로 관통하여 연장되고 하단부가 전해액 내로 침지되고, 상단부에 도금용 DC 전류의 (-)단자가 연결된 음극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is an electroplating apparatus installed in the electrolytic cell to perform electroplating, the cylindrical housing, the drive means mounted to the inside of the housing to generate a rotational drive force, by the drive means A stirrer for rotating and agitating the electrolyte in the electrolytic cell, an anode extending through the housing up and down, the lower end being immersed in the electrolyte, and having a positive terminal connected to a positive terminal of a plating DC current at an upper end thereof; It provides an integrated electroplating apparatus, characterized in that it extends through the housing up and down at a certain distance, the lower end is immersed in the electrolyte, and the negative end is connected to the upper end of the plating DC current.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 본 발명은 전해조에 설치되어 전기도금을 수행하는 전기도금장치에 있어서, 통형 하우징과, 상기 하우징 내부에 장착되어 회전 구동력을 발생하는 구동수단과, 상기 구동수단의 회전축에 물리적으로 착탈 가능하게 결합되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반함과 동시에 전기적으로는 회전축과 하우징을 통하여 상단부로 연장되어 도금용 DC 전류의 (-)단자가 연결된 음극과, 상기 하우징을 상/하로 관통하여 연장되고 하단부가 상기 음극을 둘러싸도록 원통구조로 형성되어 전해액 내로 침지되고, 상단부에 도금용 DC 전류의 (+)단자가 연결된 양극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치를 제공한다.According to another feature of the invention, the present invention is an electroplating apparatus installed in the electrolytic cell to perform the electroplating, the cylindrical housing, the drive means mounted to the inside of the housing to generate a rotational drive force, the rotating shaft of the drive means It is physically detachably coupled to the agitator and agitates the electrolyte solution in the electrolytic cell, and electrically extends to the upper end through the rotating shaft and the housing to connect the negative terminal of the DC current for plating and the housing up and down. It provides a one-piece electroplating apparatus, characterized in that formed in a cylindrical structure so as to extend through and the lower end to surround the negative electrode is immersed in the electrolyte, the positive electrode is connected to the upper end of the plating DC current.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 본 발명은 전해조에 설치되어 전기도금을 수행하는 전기도금장치에 있어서, 통형 하우징과, 상기 하우징 내부에 장착되어 회전 구동력을 발생하는 구동수단과, 상기 구동수단의 회전축에 물리적으로 착탈 가능하게 결합되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반함과 동시에 전기적으로는 회전축과 하우징을 통하여 상단부로 연장되어 도금용 DC 전류의 (+)단자가 연결된 양극과, 상기 구동수단의 회전축에 물리적으로 착탈 가능하게 결합되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반함과 동시에 전기적으로는 회전축과 하우징을 통하여 상단부로 연장되어 도금용 DC 전류의 (-)단자가 연결된 음극과, 상기 양극 및 음극의 하단부가 전해액 내부로 침지되게 하우징을 지지하기 위한 지지수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치를 제공한다.According to still another aspect of the present invention, the present invention provides an electroplating apparatus installed in an electrolytic cell to perform electroplating, comprising: a cylindrical housing, driving means mounted inside the housing to generate a rotational driving force, and the driving means. A positively coupled to the rotating shaft physically detachable and agitating the electrolyte in the electrolytic cell and electrically extending to the upper end through the rotating shaft and the housing to connect the positive terminal of the DC current for plating, and the rotating shaft of the driving means. The negative electrode coupled to the physically detachably coupled to the electrolytic solution and electrically extending to the upper end through the rotating shaft and the housing while being electrically connected to the negative terminal of the DC current for plating, and the lower end of the positive electrode and the negative electrode. Is characterized in that the support means for supporting the housing to be immersed into the electrolyte solution Provide a body electroplating apparatus.

상기 양극은 도금을 원하는 용해성 재료 또는 Ti에 IrO2를 코팅시킨 불용성재료로 이루어지며, 음극은 전도성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The anode is made of a soluble material to be plated or an insoluble material coated with IrO 2 on Ti, and the cathode is made of a conductive material.

상기 회전형 음극은 전도성을 와이어 또는 판재로 이루어지며, 상기 교반기는 전해액에 불용성이면서 플라스틱재로 이루어진 교반막대로 구성되는 것이 바람직하다.The rotatable cathode is made of a conductive wire or plate, the stirrer is preferably insoluble in the electrolyte solution and composed of a stirring rod made of a plastic material.

또한, 본 발명 장치는 상기 회전축의 선단부에는 이에 지지되는 교반기 또는 교반기능을 갖는 음극과 양극을 착탈 가능하게 지지하기 위한 교환척과, 상기 하우징의 상부에 내장되어 구동수단의 동작전원과 도금용 DC 전류를 공급하기 위한 전원공급장치와, 상기 하우징에 장착되어 구동수단의 회전축에 대한 회전속도를 제어하여 전해액의 교반량을 조절하기 위한 속도조절장치를 더 포함한다.In addition, the device of the present invention, the chuck for supporting the detachable stirrer or the cathode and the anode having a stirring function supported on the front end of the rotating shaft, and the built-in upper portion of the housing the operating power supply of the drive means and the DC current for plating It further comprises a power supply for supplying a speed control device for controlling the stirring amount of the electrolyte by controlling the rotational speed of the rotating means of the drive means is mounted to the housing.

본 발명은 일체형 전원공급장치 대신에, 상기 구동수단의 동작전원과 도금용 DC 전류를 공급하기 위한 분리형 전원공급장치를 포함하는 것도 가능하다.The present invention may also include a separate power supply for supplying the operating power of the driving means and the DC current for plating, instead of the integrated power supply.

더욱이, 상기 양극은 내부의 음극을 볼 수 있게 원통형 메쉬 구조로 이루어진 것이 바람직하다.Further, the anode is preferably made of a cylindrical mesh structure so that the cathode inside.

상기한 바와같이 본 발명에서는 양극-음극-교반기를 일체형으로 구성하여 단순하고 초소형으로서 이동성이 우수하고 작은 공간과 작은 전해액에서도 처리가 가능하며 교반효과의 극대화에 따라 우수한 물성의 도금층을 얻을 수 있다.As described above, in the present invention, the anode-cathode-stirrer is integrally formed to provide a simple, ultra-portable, excellent mobility, and can be processed even in a small space and a small electrolyte, and a plating layer having excellent physical properties can be obtained by maximizing the stirring effect.

이하에 상기한 본 발명을 바람직한 실시예가 도시된 첨부도면을 참고하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제1실시예에 따라 교반막대를 사용한 전기도금장치의 개략 사시도 및 그의 설치 상태를 나타내는 사시도, 도 4는 본 발명의 제2실시예에 따라 교반막대를 사용하면서 건전지를 내장한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도이다.3a and 3b is a perspective view showing a schematic perspective view of the electroplating apparatus using a stirring rod according to the first embodiment of the present invention and its installation state, Figure 4 is a stirring rod according to a second embodiment of the present invention A schematic perspective view showing an electroplating apparatus incorporating a battery while in use.

먼저 도 3a 및 도 3b를 참고하면 제1실시예의 전기도금장치는 원통형 하우징(30)의 중간에 교반막대(24)를 회전 구동하는데 사용되는 모터(25)가 내장되어 있고, 모터(25)의 회전축(25a)에는 전해액(32)에 불용성이면서 비교적 가벼운 재질, 예를들어 플라스틱재로 이루어진 교반막대(24)를 착탈 가능하게 지지하기 위한 교환척(29)이 장착되어 있다.First, referring to FIGS. 3A and 3B, the electroplating apparatus of the first embodiment includes a motor 25, which is used to rotationally drive the stirring bar 24 in the middle of the cylindrical housing 30, of the motor 25. The rotating shaft 25a is equipped with an exchange chuck 29 for detachably supporting a stirring rod 24 made of a relatively light material, for example, a plastic material, which is insoluble in the electrolyte solution 32.

상기 전기도금장치에는 도 3b와 같이 각각 하우징(30)을 상/하로 관통하여 선단부가 전해조(31)의 전해액(32) 내로 침지되고, 후단부에 도금용 DC 전류를 공급하기 위한 전류공급장치(23)의 (+) 및 (-) 단자(23a,23b)가 연결된 양극(21)과 음극(22)이 일정한 거리를 두고 배치되어 있다.In the electroplating apparatus, as shown in FIG. 3B, the front end penetrates the housing 30 up and down, respectively, and the front end part is immersed into the electrolyte solution 32 of the electrolytic cell 31, and a current supply device for supplying the DC current for plating to the rear end part ( The positive electrode 21 and the negative electrode 22 to which the positive and negative terminals 23a and 23b of 23 are connected are arranged at a predetermined distance.

상기 양극(21)에는 용해성 전극을 사용할 때 도금을 원하는 재료 또는 Ti(티타늄)에 IrO2(이리듐 옥사이드)를 코팅시킨 불용성재료를 사용하고, 음극(22)에는 도금되는 전도성 재료 혹은 전도성 와이어를 사용한다. 상기 양극과 음극(21,22) 사이의 거리와 교반막대(24)와의 거리는 10mm - 100mm 범위에서 설정하는 것이 가능하다.When the soluble electrode is used, the anode 21 uses a material to be plated or an insoluble material coated with IrO 2 (iridium oxide) on Ti (titanium), and a conductive material or a conductive wire plated on the cathode 22 is used. do. The distance between the positive electrode and the negative electrode 21, 22 and the distance between the stirring bar 24 can be set in the range of 10mm-100mm.

상기 전기도금장치는 또한 하우징(30)의 후단부에 전해액(32)의 적절한 교반을 위해 교반막대(24)를 회전 구동하는 모터(25)의 회전속도를 제어하기 위해 속도조절장치(26)와 이에 대한 동작전원을 공급하는 전원공급장치(27)를 포함하고 있다.The electroplating apparatus also includes a speed regulating device 26 for controlling the rotational speed of the motor 25 that drives the stirring rod 24 to rotate for proper agitation of the electrolyte solution 32 at the rear end of the housing 30. It includes a power supply device 27 for supplying an operating power for this.

이 경우 상기 전원공급장치(27)는 도 4와 같이 필요에 따라 하우징(30)의 후단부에 밧데리(28)를 일체로 내장하여 구성하는 것도 물론 가능하다.In this case, as shown in FIG. 4, the power supply device 27 may also include a battery 28 integrally formed at the rear end of the housing 30 as necessary.

또한 도금용 전류공급장치(23)는 정류기를 내장하고 AC 전원을 DC로 정류하여 균일하게 DC 전류를 공급하거나 밧데리를 사용하여 DC 전류를 공급하도록 구성될 수 있다.In addition, the plating current supply device 23 may be configured to supply a DC current uniformly by rectifying the AC power supply with a built-in rectifier or using a DC or a battery.

상기한 전기도금장치는 도 3b와 같이 베이스(34)에 전해조(31)를 설치하고 수직 프레임(33)의 상부로부터 수평 연장된 수평 프레임(33a)의 클램프(33b)에 상단부가 고정된다.In the electroplating apparatus, as shown in FIG. 3B, the electrolytic cell 31 is installed on the base 34 and the upper end is fixed to the clamp 33b of the horizontal frame 33a extending horizontally from the top of the vertical frame 33.

상기와 같이 구성된 제1 및 제2 실시예에서는 교반막대(24), 즉 모터(25)의 회전속도를 속도조절장치(26)에 의해 1,000 - 15,000 RPM 범위로 맞추어 전해액(32)을 교반하면서, 전류공급장치(23)의 전류밀도를 피도금체(시편)에 비례하여 적당하게 걸어 준 후에 도금을 실시한다.In the first and second embodiments configured as described above, while stirring the electrolyte solution 32 by adjusting the rotation speed of the stirring rod 24, that is, the motor 25, in the range of 1,000 to 15,000 RPM by the speed adjusting device 26, Plating is performed after the current density of the current supply device 23 is appropriately hung in proportion to the plated body (sample).

본 발명에서는 도시된 바와 같이 양극(21), 음극(22) 및 교반막대(24)와 모터(25)가 일체형으로 구성되어 있고, 양극(21)과 음극(22)의 거리를 10mm - 100mm 범위로 설정하는 것이 가능하여, 초소형의 이동성이 우수한 전기도금장치를 구성하는 것이 가능해지며, 그 결과 작은 전해조로 작은 전해액을 사용하여 전기도금이 이루어질 수 있다.In the present invention, as shown, the positive electrode 21, the negative electrode 22, and the stirring bar 24 and the motor 25 are integrally formed, and the distance between the positive electrode 21 and the negative electrode 22 is in the range of 10 mm to 100 mm. It is possible to set to, it is possible to constitute an electroplating device excellent in ultra-portable, as a result electroplating can be made using a small electrolyte in a small electrolytic cell.

이 경우 음극(22)에 예를들어 집게 등을 사용하여 고정되는 피도금체는 모터(25)에 의해 교반막대(24)를 적당한 회전속도로 회전시켜 전해액(32)이 피도금체에 골고르게 미치도록 하므로 전해액의 농도구배가 발생되지 않아 도금층의 표면 조도가 균질하게 얻어질 수 있게 된다.In this case, the plated body to be fixed to the cathode 22 using, for example, tongs, etc. is rotated by the motor 25 to the stirring rod 24 at an appropriate rotational speed, the electrolyte solution 32 evenly to the plated body. Since the concentration gradient of the electrolyte is not generated, the surface roughness of the plating layer can be obtained homogeneously.

또한 제2실시예에 따라 모터(5)를 구동할 때 제1실시예와 같이 전원공급장치(27)를 사용하지 않고, 내장 밧데리(28)를 이용하여 전해액 교반을 실시할 수 있다.In addition, when driving the motor 5 according to the second embodiment, the agitation of the electrolyte may be performed using the built-in battery 28 without using the power supply device 27 as in the first embodiment.

한편, 도 5 및 도 6을 참고하면, 도 5는 본 발명의 제3실시예에 따라 음극형 교반기를 사용한 전기도금장치, 도 6은 본 발명의 제4실시예에 따라 음극형 교반기를 사용하면서 건전지를 내장한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도이다.Meanwhile, referring to FIGS. 5 and 6, FIG. 5 is an electroplating apparatus using a cathodic agitator according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cathodic agitator according to a fourth embodiment of the present invention. A schematic perspective view showing an electroplating apparatus incorporating a battery.

도시된 바와 같이 제3 및 제4 실시예의 전기도금장치는 양극(21a)은 예를들어, Ti(티타늄)에 IrO2(이리듐 옥사이드)를 코팅시킨 불용성재료를 사용하여 원통형 모양으로 제작하고, 음극(22a)은 원통형 양극(21a)의 중심에 전도성을 가진 와이어 또는 판재로 이루어지며 후단부가 모터(25)의 회전력을 전달받을 수 있는 교환척(29)에 착탈 가능하게 결합되어 회전 가능한 구조를 이룬다.As shown in the electroplating apparatus of the third and fourth embodiments, the anode 21a is manufactured in a cylindrical shape using, for example, an insoluble material coated with IrO 2 (iridium oxide) on Ti (titanium), and a cathode. (22a) is made of a conductive wire or plate in the center of the cylindrical anode (21a) and the rear end is detachably coupled to the exchange chuck 29 that can receive the rotational force of the motor 25 to form a rotatable structure. .

이 경우 상기 음극(22a)은 교환척(29)에 물리적으로 결합됨과 동시에 전기적으로는 교환척(29)에 결합될 때 전기적으로 연결되어 회전축(25a)의 내/외부에 절연된 구조로 통과하여 전류공급장치(23)의 (-) 단자(23b)에 연결된 구조를 이룬다.In this case, the cathode 22a is physically coupled to the exchange chuck 29 and electrically connected when coupled to the exchange chuck 29, and passes through an insulated structure inside / outside the rotating shaft 25a. It forms a structure connected to the negative terminal (23b) of the current supply device (23).

양극(21a)의 구조는 피도금체가 지지된 음극(22a)이 그 내부에 위치되므로 내부의 음극(22a)을 관찰할 수 있도록 메쉬(mesh) 구조를 이루는 것이 바람직하다.The structure of the anode 21a is preferably a mesh structure so that the cathode 22a on which the plated body is supported is located therein so that the cathode 22a can be observed.

상기 제3 및 제4 실시예는 제1 및 제2실시예와 비교할 때 상기 양극(21a)과 음극(22a)의 구조를 제외하고 제1 및 제2 실시예와 동일하게 구성되므로 이에 대하여는 동일한 부재번호를 부여하고 이에 대한 설명은 생략한다. 제3 및 제4 실시예의 차이는 모터(25)를 구동하기 위해서 전원공급장치(27) 또는 내장 밧데리(28)를 채용한 것에 있다.The third and fourth embodiments are the same as those of the first and second embodiments except for the structures of the positive electrode 21a and the negative electrode 22a when compared with the first and second embodiments, and thus the same members. The numbers are given and the description is omitted. The difference between the third and fourth embodiments is that the power supply device 27 or the built-in battery 28 is employed to drive the motor 25.

상기 제3 및 제4 실시예에서는 제1 및 제2 실시예와 같이 별도의 교반기를 사용하지 않고 음극(22a) 자체를 모터(25)에 의해 회전시켜 전해액(32)을 교반하는 방법이다.In the third and fourth embodiments, as in the first and second embodiments, the cathode 22a is rotated by the motor 25 without using a separate stirrer to stir the electrolyte solution 32.

상기한 제3 및 제4 실시예 구조의 전기도금장치를 이용하여 전기도금을 실시할 때 도 3b와 같이 전해조(31)의 전해액(32)에 양극(21a)과 음극(32a)이 침지되게 하우징(30)을 지지한 상태로 이루어진다. 이 경우는 피도금체가 지지된 음극(22a)이 원통형 양극(21a)의 내부에 위치된 상태로 회전되므로 상기 실시예와 같이 전해액의 농도구배가 발생하지 않으며, 양극과 음극 사이의 거리 및 전류 분포가 비교적 일정하게 되어 도금층의 균일한 전착성을 도모할 수 있게 된다.When the electroplating is performed using the electroplating apparatus of the third and fourth embodiments described above, as shown in FIG. 3B, the housing is formed so that the positive electrode 21a and the negative electrode 32a are immersed in the electrolyte solution 32 of the electrolytic cell 31. It consists of the state which supported 30. In this case, since the cathode 22a on which the plated body is supported is rotated while being positioned inside the cylindrical anode 21a, the concentration gradient of the electrolyte solution does not occur as in the above embodiment, and the distance and current distribution between the anode and the cathode. Becomes relatively constant, and uniform electrodeposition of the plating layer can be attained.

도 7은 본 발명의 제5실시예에 따라 양극과 음극 동시 교반형 교반기를 사용한 전기도금장치, 도 8은 본 발명의 제6실시예에 따라 양극과 음극 동시 교반형 교반기를 사용하면서 건전지를 내장한 전기도금장치를 나타내는 개략 사시도이다.Figure 7 is an electroplating apparatus using a positive and negative simultaneous stirring type stirrer according to a fifth embodiment of the present invention, Figure 8 is built-in battery while using a positive and negative simultaneous stirring type stirrer according to a sixth embodiment of the present invention A schematic perspective view showing one electroplating apparatus.

도시된 바와 같이 제5 및 제6 실시예의 전기도금장치는 각각 양극(21b)과 음극(22b)을 각각 교환척(29)에 착탈 가능하게 연결시킴에 의해 양극(21b)과 음극(22b) 자체를 회전시켜 전해액(32)을 교반하는 구조이다.As shown, the electroplating apparatus of the fifth and sixth embodiments respectively attaches the positive electrode 21b and the negative electrode 22b to the exchange chuck 29 so that the positive electrode 21b and the negative electrode 22b itself are detachable. Is rotated to stir the electrolyte solution 32.

이를 위해 양극(21b)은 예를들어, Ti(티타늄)에 IrO2(이리듐 옥사이드)를 코팅시킨 불용성재료로 제작하고, 음극(22a)은 전도성을 가진 재료를 사용하여 제작하며 그의 형상은 와이어 또는 판재로 이루어지고, 각각의 후단부가 모터(25)의 회전력을 전달받을 수 있는 교환척(29)에 착탈 가능하게 결합되어 회전 가능한 구조를 이룬다. 양극(21b)과 음극(22b)의 거리는 1mm - 100mm 범위로 설정하는 것이 가능하다.For this purpose, the anode 21b is made of, for example, an insoluble material coated with IrO 2 (iridium oxide) on Ti (titanium), and the cathode 22a is made of a conductive material, and its shape is made of wire or It is made of a plate material, each rear end is detachably coupled to the exchange chuck 29 that can receive the rotational force of the motor 25 to form a rotatable structure. The distance between the positive electrode 21b and the negative electrode 22b can be set in the range of 1mm-100mm.

이 경우 상기 양극(21b)과 음극(22b)은 각각 교환척(29)에 물리적으로 결합됨과 동시에 전기적으로 연결되어 회전축(25a)의 내/외부에 절연된 구조로 통과하여 전류공급장치(23)의 (+) 및 (-) 단자(23a,23b)에 연결된 구조를 이룬다.In this case, the positive electrode 21b and the negative electrode 22b are each physically coupled to the exchange chuck 29 and are electrically connected to each other and pass through an insulated structure inside / outside the rotating shaft 25a to supply the current supply device 23. It forms a structure connected to the (+) and (-) terminals (23a, 23b) of.

제5실시예는 모터(25)를 구동할 때 전원공급장치(27)를 사용하는 예이고, 제6실시예는 전원공급장치(27) 대신에, 내장 밧데리(28)를 이용하여 전기도금이 실시 가능한 구조이다.The fifth embodiment is an example of using the power supply 27 when driving the motor 25, the sixth embodiment is an electroplating by using the built-in battery 28, instead of the power supply 27 It is a structure that can be implemented.

상기한 제5 및 제6 실시예의 전기도금장치는 상기한 제1 내지 제4 실시예와 유사하게 양극(21b)과 음극(22b)의 동시 회전에 따라 전해액(32)의 충분한 교반이 이루어질 수 있고, 그 결과 피도금체의 각 부분에 농도구배 없이 전달되어 도금층은 균일한 표면 조도를 얻게 된다.In the electroplating apparatus of the fifth and sixth embodiments, the agitation of the electrolyte solution 32 may be sufficiently performed by the simultaneous rotation of the positive electrode 21b and the negative electrode 22b, similarly to the first to fourth embodiments. As a result, it is transmitted to each part of the plated body without concentration gradient so that the plating layer obtains uniform surface roughness.

상기한 제1 내지 제6 실시예의 전기도금장치는 장치 내부에 고속 회전되는 교반기를 구비하여 강력한 교반을 수행하면서도 장치의 크기를 종래의 구조에 비하여 대폭으로 줄이는 것이 가능하며, 구조가 매우 단순화되는 효과가 있다. 또한, 전원공급장치 대신에 밧데리로 작동할 수 있으므로 소형 정류기(전원장치)를 사용한다면 도금 용액이 있는 어느 곳에서든지 손쉽게 전기도금을 할 수 있다.The above-described electroplating apparatus of the first to sixth embodiments is provided with a stirrer which rotates at a high speed inside the apparatus to perform powerful stirring, and to greatly reduce the size of the apparatus compared to the conventional structure, and the structure is greatly simplified. There is. In addition, it can be operated as a battery instead of a power supply, so if a small rectifier (power supply) is used, it can be easily electroplated anywhere in the plating solution.

상기한 실시예에서는 전기도금장치의 모터가 원통형인 구조로 이루어짐에 따라 하우징을 포함한 장치 전체적으로도 원통형의 형상을 이루고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 다른 형상으로 변형될 수 있다.In the above embodiment, as the motor of the electroplating apparatus has a cylindrical structure, the overall apparatus including the housing also has a cylindrical shape, but is not limited thereto and may be modified into other shapes.

또한, 상기 도금용 전류공급장치(23)와 모터 구동용 전원공급장치(27)는 당업자의 필요에 따라 단일의 전원장치로서 구성될 수 있다.In addition, the plating current supply device 23 and the motor drive power supply 27 may be configured as a single power supply according to the needs of those skilled in the art.

상기한 본 발명장치는 소형화에 적합한 일체형 구조를 갖고 있으나, 이를 대형화하여 구성한다면 중형급 및 양산용 전기도금장치로 적용하는 것도 가능하다.The present invention described above has an integrated structure suitable for miniaturization, but if it is configured to be large in size, it is also possible to apply as an electroplating device for medium and mass production.

(실시예)(Example)

상기한 본 발명의 전기도금장치에 대한 전기도금 성능을 확인하기 위하여 도1의 종래의 장치와 함께 각각 하기와 같은 동일한 조건으로 전기도금을 실시하였다.In order to confirm the electroplating performance of the electroplating apparatus of the present invention described above, electroplating was carried out under the same conditions as described below with the conventional apparatus of FIG.

100%Ni을 제조하기 위해 니켈 클로라이드를 주성분으로 하는 전해액을 사용하면서, 이때의 전류밀도는 10A/dm2, 전해액의 pH는 4.0 그리고 전해액의 온도는 55℃로 설정한 상태로 전기도금을 실시하여 도금층의 두께를 약 7㎛로 되게 제조하였다.Electrolyte is used to prepare 100% Ni, using nickel chloride as the main component, with current density of 10A / dm 2 , pH of electrolyte 4.0 and electrolyte temperature of 55 ℃. The thickness of the plating layer was prepared to be about 7 μm.

동일한 조건하에서 종래의 장치와 본 발명장치로 제조한 시편의 표면특성을 AFM(Atomic Force Microscope)로 관찰한 결과는 도 9a와 도 9b 및 도 10a와 도 10b와 같다.Under the same conditions, the results of observing the surface characteristics of the specimen prepared by the conventional apparatus and the apparatus of the present invention with AFM (Atomic Force Microscope) are the same as those of FIGS.

도 9a와 도 9b 및 도 10a 및 도 10b는 각각 종래기술과 본 발명에 따른 전기도금장치를 사용하여 얻어진 100%Ni 코팅막 시편의 표면과 단면 특성을 보여주는 ATM 이미지로서, 본 발명에 따른 전기도금장치를 이용하였을 때 코팅막의 표면 조도가 훨씬 균질하고 탁월한 도금층을 얻을 수 있었다.9A, 9B, 10A, and 10B are ATM images showing the surface and cross-sectional characteristics of 100% Ni-coated film specimens obtained using the electroplating apparatus according to the prior art and the present invention, respectively, and the electroplating apparatus according to the present invention. When using, the surface roughness of the coating film was much more homogeneous and excellent plating layer could be obtained.

또한, 기판과 도금층 사이의 상관관계와 도금층의 두께 차이를 비교하기 위해서 시편의 측면을 금속현미경을 이용하여 관찰하였다. 관찰결과는 도 11 및 도 12와 같다. 도 11을 참고하면, 표면을 연마하는 과정에서 연마기와의 마찰에 의해서 도금층이 박리되는 것을 관찰할 수 있었다. 하지만 본 발명장치로 실험한 시편(도 12)에서는 도금층의 박리현상이 나타나지 않았다.In addition, the side of the specimen was observed using a metal microscope to compare the correlation between the substrate and the plating layer and the thickness difference of the plating layer. The observation result is the same as FIG. 11 and FIG. Referring to FIG. 11, it was observed that the plating layer was peeled off by friction with the polishing machine in the process of polishing the surface. However, peeling of the plating layer did not appear in the specimen (FIG. 12) experimented with the apparatus of the present invention.

도금층의 내부구조를 알기 위해서 X선 회절기를 이용하여 실험한 결과를 도 13과 도 14에 나타내었다. 도 13은 종래의 장치로 제조한 시편의 100 극점도이고, 도 14는 본 발명장치로 제조한 시편의 100 극점도이다. 이 두 시편의 100 극점도에서 극강도를 비교하면 본 발명장치로 제조된 시편이 더 강하다는 것을 알 수 있다. 이것은 본 발명장치로 제조한 시편의 도금층이 치밀하게 전착되었기 때문에 극강도가 훨씬 더 강하게 나타나는 것으로 판단된다.In order to know the internal structure of the plating layer, the results of experiments using an X-ray diffractometer are shown in FIGS. 13 and 14. FIG. 13 is a 100 pole figure of a specimen prepared by the conventional apparatus, and FIG. 14 is a 100 pole figure of the specimen prepared by the apparatus of the present invention. Comparing the pole strength at 100 poles of these two specimens it can be seen that the specimen produced by the device of the present invention is stronger. This is judged to be much stronger because the plated layer of the specimen produced by the present invention is densely electrodeposited.

이상의 실험결과를 바탕으로 분석할 때 다음의 결과들을 얻었다.Based on the above experimental results, the following results were obtained.

1) 도금층의 두께는 종래의 장치가 약 1㎛ 정도 더 두꺼웠다.1) The thickness of the plating layer was about 1 탆 thicker in the conventional apparatus.

2) 표면특성은 AFM으로 관찰한 결과 본 발명장치로 제조한 시편표면이 훨씬 더 균질하였다.2) The surface characteristics were observed by AFM, and the surface of specimen prepared by the present invention was much more homogeneous.

3) 기판과 도금층의 결합력은 측면 미세조직을 관찰한 결과 본 발명장치로 제조한 시편이 더 좋았다.3) As a result of observing the side microstructure of the bonding force between the substrate and the plated layer, the specimen prepared by the device of the present invention was better.

4) X선 회절기로 분석한 결과 본 발명장치로 제조한 시편의 도금층이 훨씬 더 치밀한 것을 알 수 있다.4) X-ray diffraction analysis shows that the plating layer of the specimen prepared by the present invention is much denser.

상기한 바와같이 본 발명에서는 양극-음극-교반기를 일체형으로 구성하여 단순하고 초소형으로서 이동성이 우수하고 작은 공간과 작은 전해액에서도 처리가 가능하며 교반효과의 극대화에 따라 우수한 물성의 도금층을 얻을 수 있다.As described above, in the present invention, the anode-cathode-stirrer is integrally formed to provide a simple, ultra-portable, excellent mobility, and can be processed even in a small space and a small electrolyte, and a plating layer having excellent physical properties can be obtained by maximizing the stirring effect.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시예를 예를들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.In the above, the present invention has been illustrated and described with reference to specific preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and is not limited to the spirit of the present invention. Various changes and modifications can be made by those who have

Claims (12)

전해조에 설치되어 전기도금을 수행하는 전기도금장치에 있어서,In the electroplating apparatus installed in the electrolytic cell to perform electroplating, 통형 하우징과,Cylindrical housing, 상기 하우징 내부에 장착되어 회전 구동력을 발생하는 구동수단과,Driving means mounted inside the housing to generate a rotational driving force; 상기 구동수단에 의해 회전되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반하기 위한 교반기와,A stirrer rotated by the driving means to stir the electrolyte in the electrolytic cell; 상기 하우징을 상/하로 관통하여 연장되고 하단부가 전해액 내로 침지되고, 상단부에 도금용 DC 전류의 (+)단자가 연결된 양극과,An anode extending through the housing up and down and having a lower end immersed in the electrolyte solution and having a positive terminal connected to a positive terminal of a DC current for plating; 상기 양극과 일정한 거리를 두고 하우징을 상/하로 관통하여 연장되고 하단부가 전해액 내로 침지되고, 상단부에 도금용 DC 전류의 (-)단자가 연결된 음극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.Integral electroplating apparatus, characterized in that consisting of a cathode which extends through the housing up and down at a certain distance from the anode and the lower end is immersed in the electrolyte, the negative terminal of the plating DC current is connected to the upper end. 전해조에 설치되어 전기도금을 수행하는 전기도금장치에 있어서,In the electroplating apparatus installed in the electrolytic cell to perform electroplating, 통형 하우징과,Cylindrical housing, 상기 하우징 내부에 장착되어 회전 구동력을 발생하는 구동수단과,Driving means mounted inside the housing to generate a rotational driving force; 상기 구동수단의 회전축에 물리적으로 착탈 가능하게 결합되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반함과 동시에 전기적으로는 회전축과 하우징을 통하여 상단부로 연장되어 도금용 DC 전류의 (-)단자가 연결된 음극과,A negative electrode which is physically detachably coupled to the rotating shaft of the driving means and agitates the electrolyte solution in the electrolytic cell and is electrically extended to the upper end through the rotating shaft and the housing to which the (-) terminal of the plating DC current is connected; 상기 하우징을 상/하로 관통하여 연장되고 하단부가 상기 음극을 둘러싸도록원통구조로 형성되어 전해액 내로 침지되고, 상단부에 도금용 DC 전류의 (+)단자가 연결된 양극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.An integrated electric machine comprising: a positive electrode which extends through the housing up and down and is formed in a cylindrical structure so that the lower end surrounds the negative electrode and is immersed in the electrolyte, and the positive terminal of the plating DC current is connected to the upper end thereof. Plating equipment. 전해조에 설치되어 전기도금을 수행하는 전기도금장치에 있어서,In the electroplating apparatus installed in the electrolytic cell to perform electroplating, 통형 하우징과,Cylindrical housing, 상기 하우징 내부에 장착되어 회전 구동력을 발생하는 구동수단과,Driving means mounted inside the housing to generate a rotational driving force; 상기 구동수단의 회전축에 물리적으로 착탈 가능하게 결합되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반함과 동시에 전기적으로는 회전축과 하우징을 통하여 상단부로 연장되어 도금용 DC 전류의 (+)단자가 연결된 양극과,A positive electrode which is physically detachably coupled to the rotating shaft of the driving means and agitates the electrolyte in the electrolytic cell and is electrically extended to the upper end through the rotating shaft and the housing to connect the positive terminal of the DC current for plating; 상기 구동수단의 회전축에 물리적으로 착탈 가능하게 결합되어 상기 전해조 내부의 전해액을 교반함과 동시에 전기적으로는 회전축과 하우징을 통하여 상단부로 연장되어 도금용 DC 전류의 (-)단자가 연결된 음극으로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.It is physically detachably coupled to the rotating shaft of the driving means and agitates the electrolyte in the electrolytic cell and electrically extends to the upper end through the rotating shaft and the housing, and is composed of a negative electrode connected to the (-) terminal of the DC current for plating. Integral electroplating apparatus, characterized in that. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양극은 도금을 원하는 용해성 재료 또는 Ti에 IrO2를 코팅시킨 불용성재료로 이루어지며, 음극은 전도성 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.The electroplating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the anode is made of a soluble material to be plated or an insoluble material coated with IrO 2 on Ti, and the cathode is made of a conductive material. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 음극은 전도성을 와이어 또는 판재로 이루어지는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.4. The integrated electroplating apparatus of claim 2 or 3, wherein the cathode is made of a wire or a plate with conductivity. 제1항에 있어서, 상기 교반기는 전해액에 불용성이면서 플라스틱재로 이루어진 교반막대로 구성되는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.2. The integrated electroplating apparatus of claim 1, wherein the stirrer is insoluble in the electrolyte and is composed of a stirring rod made of a plastic material. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 회전축의 선단부에는 이에 지지되는 교반기 또는 교반기능을 갖는 음극과 양극을 착탈 가능하게 지지하기 위한 교환척을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.The integrated electric machine according to any one of claims 1 to 3, wherein the distal end of the rotary shaft further includes an stirrer or an exchange chuck for detachably supporting a cathode and an anode having a stirring function supported thereon. Plating equipment. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하우징의 상부에 내장되어 구동수단의 동작전원과 도금용 DC 전류를 공급하기 위한 전원공급장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.The integrated electroplating apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a power supply device embedded in an upper portion of the housing for supplying an operating power of a driving means and a DC current for plating. . 제8항에 있어서, 상기 하우징에 장착되어 구동수단의 회전축에 대한 회전속도를 제어하여 전해액의 교반량을 조절하기 위한 속도조절장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.9. The integrated electroplating apparatus of claim 8, further comprising a speed adjusting device mounted on the housing to control a rotational speed of the driving means about the rotational axis of the driving means to adjust the stirring amount of the electrolyte. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구동수단의 동작전원과 도금용 DC 전류를 공급하기 위한 분리형 전원공급장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.4. The integrated electroplating apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising a separate power supply for supplying the operating power of the driving means and the DC current for plating. 제2항에 있어서, 상기 양극은 원통형 메쉬 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.3. The integrated electroplating apparatus of claim 2, wherein the anode has a cylindrical mesh structure. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양극 및 음극의 하단부가 전해액 내부로 침지되게 하우징을 지지하기 위한 지지수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 일체형 전기도금장치.The integrated electroplating apparatus according to any one of claims 1 to 3, further comprising supporting means for supporting the housing such that the lower ends of the positive electrode and the negative electrode are immersed into the electrolyte solution.
KR1020010047330A 2001-08-06 2001-08-06 Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus KR20030013046A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010047330A KR20030013046A (en) 2001-08-06 2001-08-06 Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010047330A KR20030013046A (en) 2001-08-06 2001-08-06 Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20030013046A true KR20030013046A (en) 2003-02-14

Family

ID=27718119

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010047330A KR20030013046A (en) 2001-08-06 2001-08-06 Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20030013046A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1303261C (en) * 2003-06-06 2007-03-07 株式会社山本镀金试验器 Liquid tank
KR101272586B1 (en) * 2012-10-23 2013-06-10 (주)에코앤파워 Installation for recovering valuable metals from electrolysis and recover system using it
CN103230697A (en) * 2013-05-10 2013-08-07 深圳市龙成科技有限公司 Turntable filter
CN109778290A (en) * 2019-04-01 2019-05-21 河南理工大学 A kind of soluble anode mechanism
US10480094B2 (en) 2016-07-13 2019-11-19 Iontra LLC Electrochemical methods, devices and compositions

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4720330A (en) * 1987-07-06 1988-01-19 The Dow Chemical Company Device and method for electroplating a workpiece having axial symmetry
JPH09310196A (en) * 1996-05-17 1997-12-02 Toyota Motor Corp Device for plating inside surface of cavity hole and method for plating inside surface of cavity hole
KR0160149B1 (en) * 1992-06-19 1999-05-01 오레그 이. 엘버 Rotating cylinder throwing power electrode
JP2000204499A (en) * 1999-01-08 2000-07-25 Nisshin Steel Co Ltd Electrolytical descaling of stainless steel strip

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4720330A (en) * 1987-07-06 1988-01-19 The Dow Chemical Company Device and method for electroplating a workpiece having axial symmetry
KR0160149B1 (en) * 1992-06-19 1999-05-01 오레그 이. 엘버 Rotating cylinder throwing power electrode
JPH09310196A (en) * 1996-05-17 1997-12-02 Toyota Motor Corp Device for plating inside surface of cavity hole and method for plating inside surface of cavity hole
JP2000204499A (en) * 1999-01-08 2000-07-25 Nisshin Steel Co Ltd Electrolytical descaling of stainless steel strip

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1303261C (en) * 2003-06-06 2007-03-07 株式会社山本镀金试验器 Liquid tank
KR101272586B1 (en) * 2012-10-23 2013-06-10 (주)에코앤파워 Installation for recovering valuable metals from electrolysis and recover system using it
CN103230697A (en) * 2013-05-10 2013-08-07 深圳市龙成科技有限公司 Turntable filter
US10480094B2 (en) 2016-07-13 2019-11-19 Iontra LLC Electrochemical methods, devices and compositions
US10697083B2 (en) 2016-07-13 2020-06-30 Ionta LLC Electrochemical methods, devices and compositions
CN109778290A (en) * 2019-04-01 2019-05-21 河南理工大学 A kind of soluble anode mechanism
CN109778290B (en) * 2019-04-01 2023-09-26 河南理工大学 Soluble anode mechanism
CN109778290B9 (en) * 2019-04-01 2024-01-12 河南理工大学 Soluble anode mechanism

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060049038A1 (en) Dynamic profile anode
EP1051543B1 (en) Method for electroplating metal coating(s) on particulates at high coating speed with high current density
Łosiewicz et al. Composite layers in Ni–P system containing TiO2 and PTFE
US20040256222A1 (en) Apparatus and method for highly controlled electrodeposition
JPS62287091A (en) Long electroforming metal foil having good ductility and fine grain structure and its production
CN210394558U (en) Electroplating device
KR20030013046A (en) Anode-Cathode-Agitator Combined Type Electrodeposition Apparatus
CN208829786U (en) A kind of electroplanting device
US7361225B2 (en) Liquid tank
CN110067011A (en) Prepare the method and electric deposition device of bulk nano-crystalline nickel
JP4579306B2 (en) Circular plating tank
JP3067843B2 (en) Hydrodynamically modified Hull cell
US6017427A (en) Apparatus for testing high speed electroplating
JP2012527524A (en) Method and apparatus for controlled electrolysis of thin layers
CN1204388C (en) Method of preparing electron microscopic film sample of macro powder-particle material
US4288298A (en) Method and apparatus for electroplating or electroforming metal objects
JPH01147099A (en) Barrel plating apparatus
CN1117178C (en) Technology process and equiment for depositing permalloy film electrically
KR100431488B1 (en) Apparatus and method for fabricating metal fibres using electroforming
KR101379121B1 (en) Vertical Drum Rotation Electroforming Device
KR20030033421A (en) Electrodeposition Apparatus and Method Using the Ultrasonic Wave
JP2616324B2 (en) Control method of eutectoid amount of composite plating film
CN217651345U (en) A electrolytic polishing device for preparing EBSD sample
JPH08508068A (en) Method and apparatus for electrodepositing metal using a rotating cathode device
CN112575354A (en) Method and device for electroplating inner pipe with compact layer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application