KR20030011463A - Pre-discharging apparatus and method for a slit coater - Google Patents
Pre-discharging apparatus and method for a slit coater Download PDFInfo
- Publication number
- KR20030011463A KR20030011463A KR1020010046929A KR20010046929A KR20030011463A KR 20030011463 A KR20030011463 A KR 20030011463A KR 1020010046929 A KR1020010046929 A KR 1020010046929A KR 20010046929 A KR20010046929 A KR 20010046929A KR 20030011463 A KR20030011463 A KR 20030011463A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- liquid
- preliminary
- discharging
- slit coater
- coating liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000007599 discharging Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 95
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 60
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 60
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 47
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
- B05B15/55—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
- B05B15/55—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
- B05B15/555—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids discharged by cleaning nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
세정액의 통에 노즐부를 침지하여 토출 노즐을 세정하는 경우에 있어서의 노즐 선단부의 세정액 부착이나 농도가 다른 도포액의 부착을 방지한다.In the case where the nozzle part is immersed in the tub of the cleaning liquid to clean the discharge nozzle, the adhesion of the cleaning liquid and the adhesion of the coating liquid having different concentrations are prevented.
예비토출장치P(豫備吐出裝置P)는 도포작업 사이의 대기상태에서 도포에 앞서 사용되고, 도포 엘리먼트(21)내의 도포액을 도포 직전에 미리 토출하는 동작을, 회전하는 롤러(33)상에 여분의 도포액(L2)을 부착시키면서 행한다. 이 예비토출 동작에서는, 도포 엘리먼트(21)의 토출구(22)를 롤러(33)의 둘레면에 표면장력이 없어지는 정도까지 근접시켜, 토출구(22)로부터의 도포액(L2)을 상기 롤러(33)의 둘레면에 부착시키고, 롤러(33)가 회전하는 것에 의해 도포액(L2)을 나오게 하여, 이 도포액(L2)을 세정하여 제거한다.The preliminary ejection apparatus P is used prior to the application in the standby state between the application operations, and discharges the application liquid in the application element 21 just before application onto the rotating roller 33. This is carried out while the excess coating liquid L2 is attached. In this preliminary discharging operation, the discharge port 22 of the coating element 21 is brought close to the circumferential surface of the roller 33 to the extent that surface tension disappears, and the coating liquid L2 from the discharge port 22 is moved to the roller ( It adheres to the circumferential surface of 33, and the coating liquid L2 comes out by rotating the roller 33, and this coating liquid L2 is wash | cleaned and removed.
Description
본 발명은, 예를 들어, 유리 기판이나 반도체 웨이퍼 등의 판형 피처리물 표면에 레지스트액이나 현상액, 컬러 필터 등의 도포액을 슬릿형 개구부로부터 흐르게 하여 도포하는 슬릿 코터의 예비토출장치와 이 예비토출장치를 이용한 예비토출방법에 관한 것이다.The present invention is, for example, a preliminary discharging apparatus for a slit coater for applying a coating liquid, such as a resist liquid, a developing solution, or a color filter, to a surface of a plate-like object such as a glass substrate or a semiconductor wafer by flowing from a slit-shaped opening, and this preliminary device. It relates to a preliminary discharging method using a discharge device.
슬릿 코터를 사용하여 연속적으로 다수의 기판 표면에 도포액을 공급하는 경우, 도포작업과 도포작업 사이의 대기시간에 공기와의 접촉에 의해 토출 노즐내의 도포액의 일부의 농도가 상승한다. 그리고, 이 상태로, 다음 기판에 도포를 계속하면, 고농도화한 도포액에 의해 세로로 금이 생기거나, 막이 절단되는 현상이 발생한다.When the coating liquid is continuously supplied to the surfaces of a plurality of substrates using a slit coater, the concentration of a part of the coating liquid in the discharge nozzle increases by contact with air during the waiting time between the coating operation and the coating operation. And in this state, if application | coating is continued to the next board | substrate, the phenomenon which the gold generate | occur | produces vertically or the film | membrane cut | disconnects with the high concentration coating liquid arises.
상기의 단점을 해결하기 위해, 종래에 있어서는, 대기중에 세정액 또는 도포액을 채운 통에 토출 노즐을 침지하거나, 도포 직전에 토출 노즐내에 괴어 있는 도포액을 버리는 예비토출을 행하고 있다.In order to solve the above disadvantages, conventionally, preliminary ejection is performed by immersing the discharge nozzle in a container filled with a cleaning liquid or a coating liquid in the atmosphere, or discarding the coating liquid stuck in the discharge nozzle immediately before application.
상술한 세정액을 채운 통에 토출 노즐을 침지하는 수단에서는, 노즐내에 유지되어 있는 도포액의 농도가 희석되어, 도막(塗膜)의 두께가 불균일해지는 현상을 효과적으로 해소할 수 없다. 또, 도포액에 침지하는 수단에서는, 리딩(도포개시 장소)의 막이 두꺼워지는 현상이 발생하여 균일성이 나빠진다.In the means for immersing the discharge nozzle in the cylinder filled with the above-described cleaning liquid, the concentration of the coating liquid held in the nozzle is diluted, so that the phenomenon of uneven thickness of the coating film cannot be effectively eliminated. Moreover, in the means which immersed in the coating liquid, the phenomenon that the film | membrane of a leading (place at the time of application) thickens occurs, and uniformity will worsen.
또, 도포 직전에 토출 노즐내에 괴어 있는 도포액을 버리는 예비토출을 행한 경우, 표면장력에 의해 토출 노즐의 선단에 광범위하게 도포액이 부착하여, 그 결과, 세로로 금이 가거나, 리딩 막이 두꺼워지는 현상이 발생하는 등의 문제가 생겨 개선이 요구되고 있다.In addition, when preliminary ejection of the coating liquid stuck in the ejection nozzle is discarded immediately before application, the coating liquid adheres extensively to the tip of the ejection nozzle due to the surface tension, resulting in vertical cracking or thickening of the leading film. There is a problem such as occurrence of a phenomenon, and improvement is required.
도 1은 본 발명에 따른 예비토출장치를 부설한 도포장치를 도시한 도면.1 is a view showing an applicator having a preliminary discharging device according to the present invention.
도 2는 도 1의 A-A선에 따른 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
도 3은 예비토출장치의 세정조 부분을 단면으로 한 전체도.Figure 3 is an overall view of the cleaning tank portion of the preliminary discharging device in cross section.
도 4는 예비토출장치의 상면도.Figure 4 is a top view of the preliminary discharge device.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1 : 베이스 2 : 다리 3 : 테이블1: base 2: leg 3: table
4 : 실린더 유닛 5 : 수평 플레이트 6 : 핀4 cylinder unit 5 horizontal plate 6 pin
7 : 관통 구멍 8 : 레일 9 : 이동부재7 through hole 8 rail 9 moving member
10 : 에어 베어링 13 : 리니어 스케일 14 : 리니어 모터10 air bearing 13 linear scale 14 linear motor
15 : 마그네트 레일 16 : 코일 17 : 지주15: magnet rail 16: coil 17: prop
18 : 가이드 레일 19 : 승강 프레임 20 : 서보 모터18: guide rail 19: lifting frame 20: servo motor
21 : 도포 엘리먼트 23 : 송액 펌프 24 : 공급관21 application element 23 feed pump 24 supply pipe
25 : 복귀관 26 : 갭 센서 27 : 앰프25 return pipe 26 gap sensor 27 amplifier
30 : 세정조 31 : 저류부 32 : 측벽부30 washing tank 31 storage portion 32 side wall portion
33 : 롤러 33a : 축 34 : 풀리33: roller 33a: shaft 34: pulley
35 : 모터 36 : 벨트 37 : 샤워 노즐35 motor 36 belt 37 shower nozzle
38 : 매니폴드 39 : 배관 39a : 밸브38: manifold 39: piping 39a: valve
40 : 배기 커버 41 : 배기구 42 : 덕트40 exhaust cover 41 exhaust port 42 duct
43 : 세정액의 회수구멍 44 : 배관 45 : 상면 커버부43: recovery hole for the cleaning liquid 44: piping 45: top cover
46 : 액면 센서 47 : 폐액관 48 : 방지판46 liquid level sensor 47 waste liquid pipe 48 prevention plate
C : 도포장치 P : 예비토출장치 T : 회수 탱크C: Coating device P: Preliminary discharge device T: Recovery tank
W : 기판 L1 : 세정액 L2 : 도포액W: Substrate L1: Cleaning Liquid L2: Coating Liquid
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은 슬릿형 토출 노즐이 형성된 슬릿 코터를 예비토출하는 장치를, 세정액을 보유하는 세정조와, 이 세정조에 수평으로 배치됨과 동시에 그 하부가 세정조내의 세정액에 침지되어 적어도 상단면이 상기 슬릿 코터의 토출 노즐이 접근할 수 있도록 노출하는 회전 롤러와, 이 회전 롤러의 표면에 부착한 토출 노즐로부터의 도포액을 제거하는 샤워 노즐을 구비하는 구성으로 하였다.In order to solve the above problems, the present invention provides a device for preliminarily discharging a slit coater having a slit discharge nozzle, the cleaning tank having a cleaning liquid, and the lower part of the apparatus being immersed in the cleaning liquid in the cleaning tank. The upper surface was equipped with the rotating roller which exposes the discharge nozzle of the said slit coater, and the shower nozzle which removes the coating liquid from the discharge nozzle attached to the surface of this rotating roller.
또한, 상기 예비토출장치에는 세정조내의 세정액을 빼내서 정화한 후, 다시 세정조로 복귀시키는 세정액 순환경로를 설치하는 것이 가능하다. 그러한 구성으로 하여 세정액의 사용량을 절약할 수 있다.Further, the preliminary discharging device can be provided with a cleaning liquid circulation path for removing and purifying the cleaning liquid in the cleaning tank and returning the cleaning liquid to the cleaning tank again. With such a configuration, the amount of the cleaning liquid used can be saved.
또, 상기 샤워 노즐의 위쪽에 샤워 노즐의 길이방향을 따라 판을 설치하여, 세정조내의 세정액의 휘발을 억제하고, 샤워 노즐로부터 회전 롤러로 향해 분출된 세정액의 비산(飛散)을 방지할 수 있다.In addition, a plate is provided above the shower nozzle along the longitudinal direction of the shower nozzle to suppress volatilization of the cleaning liquid in the cleaning tank and prevent scattering of the cleaning liquid sprayed from the shower nozzle toward the rotating roller. .
또한, 세정액으로서, 고휘발성 유기용제를 사용하면, 재빨리 건조하고, 다음의 예비토출시에도 악영향을 미치지 않는다. 또, 세정조의 위쪽에 배기장치를 설치하여 약하게 배기하는 것으로, 샤워 노즐에 의해 세정된 회전 롤러의 표면을 더 빨리 건조시킬 수 있다.In addition, when a high volatile organic solvent is used as the cleaning liquid, it dries quickly and does not adversely affect the next preliminary discharge. In addition, by providing an exhaust device above the cleaning tank and exhausting lightly, the surface of the rotating roller cleaned by the shower nozzle can be dried faster.
이상의 예비토출장치를 사용하여 기판 표면에 도포액을 공급하기 직전에 행하는 예비토출방법으로서, 상기 예비토출장치의 회전 롤러의 상면에 슬릿 코터의 토출 노즐을 근접시키고, 이 상태에서 토출 노즐로부터 회전 롤러의 상면으로 향해 도포액을 토출하도록 하면, 토출 노즐 내부의 도포액은 인출되어, 양호한 예비토출을 행할 수 있다. 따라서, 연속처리를 행하여도 동일한 품질의 도포막을 얻을 수 있다.A preliminary ejection method performed immediately before supplying a coating liquid to the substrate surface using the above preliminary ejection apparatus, wherein the ejection nozzle of the slit coater is brought close to the upper surface of the rotating roller of the preliminary ejection apparatus, and in this state, the ejection nozzle is rotated from the ejection nozzle. When the coating liquid is discharged toward the upper surface of the coating liquid, the coating liquid inside the discharge nozzle can be taken out and good preliminary discharge can be performed. Therefore, a coating film of the same quality can be obtained even by performing a continuous process.
[실시형태]Embodiment
이하에 본 발명의 실시형태를 첨부 도면에 기초하여 설명한다. 여기서, 도 1은 본 발명에 따른 예비토출장치를 설치한 도포장치를 나타내는 도면, 도 2는 도 1의 A-A선에 따른 단면도, 도 3은 예비토출장치의 세정조 부분을 단면으로 한 전체도, 도 4는 예비토출장치의 상면도이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, embodiment of this invention is described based on an accompanying drawing. 1 is a view showing a coating apparatus provided with a preliminary ejection apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 1, FIG. 4 is a top view of the preliminary discharging device.
도 1에 있어서, 부호 C는 도포장치, P는 예비토출장치이며, 본 실시예에서는도포장치(C)로서 리니어 모터를 이용한 비접촉 타입을 나타내고 있으나, 도포장치는 이것에 한정되지는 않는다.In FIG. 1, code | symbol C is a coating device and P is a preliminary | backup dispensing apparatus, In this embodiment, although the non-contact type which used the linear motor as the coating device C is shown, a coating device is not limited to this.
우선, 도포장치(C)는 베이스(1)의 상면에 높이 조정기구를 구비한 다리(2)를 통하여 테이블(3)을 설치하고, 베이스(1)의 상면에는 상하방향의 실린더 유닛(4)을 설치하고, 이 실린더 유닛(4)의 로드에 수평 플레이트(5)를 설치하고, 이 수평 플레이트(5)에 피처리기판(W)을 테이블(3)로부터 들어올리기 위한 핀(6)을 설치하고, 이 핀(6)을 테이블(3)의 관통 구멍(7)에 면하게 하고, 베이스(1)의 상면에는 좌우방향으로 연장하는 레일(8, 8)을 평행하게 2개 설치하고, 이 레일(8)을 따라 이동부재(9)를 이동가능하게 배치하고 있다. 이 이동부재(9)의 하면에는 레일(8)을 가로지르는 부상(浮上)수단으로서의 에어 베어링(10)을 고착하고, 이 에어 베어링(10)에 의해 이동부재(9)가 레일(8)(베이스(1))로부터 부상한다. 또한, 에어 베어링(10)의 양쪽 하단에는 리니어 스케일(13)을 설치하고 있다.First, the coating device C installs the table 3 on the upper surface of the base 1 via the legs 2 having the height adjustment mechanism, and the cylinder unit 4 in the vertical direction on the upper surface of the base 1. And a horizontal plate (5) on the rod of the cylinder unit (4), and a pin (6) for lifting the substrate (W) from the table (3) to the horizontal plate (5). The pins 6 face the through holes 7 of the table 3, and two rails 8, 8 extending in the horizontal direction in the upper surface of the base 1 are provided in parallel. The moving member 9 is arrange | positioned so that the movable member 9 is movable along (8). On the lower surface of the movable member 9, an air bearing 10 as a floating means across the rail 8 is fixed, and the movable member 9 is connected to the rail 8 (by the air bearing 10). Rise from the base 1). In addition, linear scales 13 are provided at both lower ends of the air bearing 10.
또, 각 레일(8)의 외측에는 리니어 모터(14)를 배치하고 있다. 리니어 모터(14)는 상기 레일(8)과 평행한 마그네트 레일(15)과, 이 마그네트 레일(15)이 형성하는 스페이스 내에 들어가 있는 판형 코일(16)로 이루어진다.Moreover, the linear motor 14 is arrange | positioned on the outer side of each rail 8. The linear motor 14 consists of a magnet rail 15 parallel to the said rail 8, and the plate-shaped coil 16 which fits in the space which this magnet rail 15 forms.
또, 상기 이동부재(9)에는 지주(17)를 설치하고, 이 지주(17)에 상하방향의 가이드 레일(18)을 설치하고, 전후의 가이드 레일(18) 사이에 문형(門型)을 이루는 승강 프레임(19)을 걸어맞추고, 지주(17)의 안쪽에는 승강 프레임(19)을 승강시키는 서보 모터(20)를 설치하고, 승강 프레임(19)의 하면에는 슬릿형 노즐 구멍을 구비한 도포 엘리먼트(21)를 설치하고, 또한, 승강 프레임(19)의 일단측 상면에는 송액(送液) 펌프(23)를 고착하고, 이 송액 펌프(23)에 도포액 탱크로부터 공급관(24a)을 통해 도포액을 공급하고, 도포 엘리먼트(21)에 송액 펌프(23)로부터 공급관(24b)을 통해 도포액을 공급하도록 하고 있다. 또, 폐액 탱크와 송액 펌프(23) 및 도포 엘리먼트(21)를 각각 에어 벤트관(25a, 25b)으로 연결하고, 펌프(23)내 및 도포 엘리먼트(21)내에 도포액을 충전시키기 위한 에어 빼기를 행하도록 하고 있다.In addition, the support member 17 is provided in the movable member 9, and the guide rails 18 in the up and down directions are provided in the support members 17, and a door shape is formed between the front and rear guide rails 18. The servo motor 20 which raises and lowers the lifting frame 19 is engaged inside the support frame 17, and the lower surface of the lifting frame 19 is provided with a slit nozzle hole. The element 21 is provided, and a liquid feeding pump 23 is fixed to the upper surface of one end of the lifting frame 19, and the liquid feeding pump 23 is connected to the liquid feeding pump 23 from a coating liquid tank via a supply pipe 24a. A coating liquid is supplied and the coating liquid is supplied to the coating element 21 from the liquid feed pump 23 through the supply pipe 24b. In addition, the waste liquid tank, the liquid feed pump 23, and the application element 21 are connected to the air vent pipes 25a and 25b, respectively, and the air draining for filling the coating liquid in the pump 23 and the application element 21 is performed. Is doing.
또, 도포 엘리먼트(21)의 측면에는 갭 센서(26)가 설치되어 있어, 이 갭 센서(26)와 앰프(27)를 신호선으로 연결하고 있다.Moreover, the gap sensor 26 is provided in the side surface of the coating element 21, and this gap sensor 26 and the amplifier 27 are connected by the signal line.
이상에 있어서, 피처리기판(W)의 표면에 도포액을 공급하려면, 에어 베어링(10)의 레일측에 설치한 개구로부터 에어를 분출시켜 레일(8)(베이스(1))로부터 이동부재(9)를 부상시킨 상태에서, 리니어 모터(14)의 코일(16)에 전류의 방향을 극히 짧은 주기로 연속적으로 교체하여 전기를 통하게 하고, 이동부재(9)를 레일(8)(베이스(1))에 대해 비접촉 상태로 레일(8)(마그네트 레일(15))을 따라 이동시키면서, 송액 펌프(23)를 구동하여 슬릿형 노즐 구멍으로부터 도포액을 피처리기판(W)의 표면을 향해 공급한다.As described above, in order to supply the coating liquid to the surface of the substrate W to be processed, air is blown out from the opening provided on the rail side of the air bearing 10 to move the moving member (from the rail 8 (base 1)). In the state of floating 9, the coil 16 of the linear motor 14 continuously changes the direction of the current in an extremely short period so as to conduct electricity, and moves the moving member 9 to the rail 8 (base 1). While moving along the rail 8 (magnet rail 15) in a non-contact state, the liquid feed pump 23 is driven to supply the coating liquid from the slit nozzle hole toward the surface of the substrate W to be processed. .
다음으로, 예비토출장치(P)에 대해 도 3 및 도 4에 의거하여 설명한다. 예비토출장치(P)는 세정액(L1)을 저류(貯留)하는 저류부(31)와, 이 저류부(31)의 상부 가장자리 둘레부에 하부 가장자리 둘레부가 접합되는 측벽부(32)로 이루어지는 세정조(30)와 원통형의 롤러(33)로 주요부가 구성되어 있다. 롤러(33)는 스테인리스, 알루미늄, 티탄 등의 금속으로 형성되어 있다. 또, 롤러(33)의 직경은, 예를들어, 30∼100 mm로 하고, 롤러(33)의 상단면과 슬릿형 노즐 구멍의 토출구와의 간격은 25∼300 ㎛로 한다.Next, the preliminary discharging device P is demonstrated based on FIG. 3 and FIG. The preliminary discharging device P comprises three reservoir portions 31 for storing the cleaning liquid L1, and a side wall portion 32 in which the lower edge circumference portion is joined to the upper edge circumference portion of the reservoir portion 31. The main part is comprised by the water tank 30 and the cylindrical roller 33. As shown in FIG. The roller 33 is formed with metals, such as stainless steel, aluminum, and titanium. In addition, the diameter of the roller 33 shall be 30-100 mm, for example, and the space | interval of the upper surface of the roller 33 and the discharge port of a slit nozzle hole shall be 25-300 micrometers.
세정액(L1)으로서는, 비점 65∼120℃, 증기압 12∼90 mmHg(20℃)의 고휘발성 유기용제 단체(單體), 또는, 비점 65∼120℃, 증기압 12∼90 mmHg(20℃)에 조합된 혼합용제를 사용한다.As the cleaning liquid L1, a high volatile organic solvent alone having a boiling point of 65 to 120 ° C and a vapor pressure of 12 to 90 mmHg (20 ° C), or a boiling point of 65 to 120 ° C and a vapor pressure of 12 to 90 mmHg (20 ° C). Combined mixed solvents are used.
상기 세정조(30)에서는, 저류부(31)의 종이면 수직방향에서 대향하는 양 측벽(31a, 31b)에 원통형 롤러(33)의 양끝이 회전가능하게 축받이로 지지되고, 롤러(33)는 도 3에 나타낸 바와 같이, 세정조(30)내에서 수직면내에서 회전가능하게 된다. 롤러(33)의 축(33a)의 한쪽 끝에는 풀리(34)가 설치되고, 이 풀리(34)와 모터(35)의 회전축이 벨트(36)로 결합되어, 모터(35)의 구동력이 롤러(33)에 전달된다.In the cleaning tank 30, both ends of the cylindrical roller 33 are rotatably supported on both side walls 31a and 31b facing each other in the paper surface vertical direction of the reservoir 31 so as to be rotatably supported. As shown in FIG. 3, the cleaning tank 30 is rotatable in a vertical plane. A pulley 34 is provided at one end of the shaft 33a of the roller 33, and the rotation shaft of the pulley 34 and the motor 35 are coupled to the belt 36 so that the driving force of the motor 35 is applied to the roller ( 33).
한편, 세정조(30)의 저류부(31)내에는 유기용매 등의 세정액(L1)이 채워져 있고, 이 속에 롤러(33)의 하부가 침지하고 있다. 또, 측벽부(32)의 한쪽 측벽에는 샤워 노즐(37)이 설치되어 있다. 이 샤워 노즐(37)은 매니폴드(38), 밸브(39a)를 설치한 배관(39)을 통해 회수 탱크(T)에 접속되고, 밸브(39a)의 제어에 의해 회수 탱크(T)에 저류된 세정액(L1)을 분출한다. 또, 샤워 노즐(37)은 하나의 노즐로 사용해도 좋고, 짧은 노즐을 다수개 연결하여 사용해도 좋다. 짧은 노즐을 사용하면, 토출 노즐의 길이의 변화에 대응하기 쉬워지고, 유지보수 등을 간단하게 할 수 있다.On the other hand, the washing | cleaning liquid L1, such as an organic solvent, is filled in the storage part 31 of the washing tank 30, and the lower part of the roller 33 is immersed in this. Moreover, the shower nozzle 37 is provided in one side wall of the side wall part 32. As shown in FIG. The shower nozzle 37 is connected to the recovery tank T via the manifold 38 and the pipe 39 provided with the valve 39a, and is stored in the recovery tank T under the control of the valve 39a. The used cleaning liquid L1 is ejected. In addition, the shower nozzle 37 may be used by one nozzle, and many short nozzles may be connected and used. When a short nozzle is used, it becomes easy to respond to the change of the length of a discharge nozzle, and can simplify maintenance.
또, 샤워 노즐(37)이 설치된 측벽의 상단부에는, 세정조(30)의 상면을 대략절반(도 3 및 도 4의 왼쪽 절반)을 덮는 배기 커버(40)가 설치되어 있다. 이 배기 커버(40)에 의해 세정조(30)의 외부로 돌출하는 배기구(41)가 형성되어, 세정조(30)내에 괴어 있는 세정액을 포함하는 기체가 배기구(41)에 접속한 덕트(42)를 통해 배출된다.Moreover, the exhaust cover 40 which covers the upper surface of the washing tank 30 substantially half (left half of FIG. 3 and FIG. 4) is provided in the upper end part of the side wall in which the shower nozzle 37 was provided. The exhaust cover 40 is provided with an exhaust port 41 protruding to the outside of the cleaning tank 30, and the duct 42 in which the gas containing the cleaning liquid stuck in the cleaning tank 30 is connected to the exhaust port 41. Is discharged through).
또, 저류부(31)의 바닥부의 측벽에는 세정액(L1)의 회수 구멍(43)을 설치하고 있다. 이 회수 구멍(43)에는 펌프(P) 및 필터(F)를 설치한 배관(44)이 접속되어, 세정액(L1)을 회수 탱크(T)에 회수한다. 회수 탱크(T)에 회수된 세정액(L1)은 배관(39)을 통해 다시 샤워 노즐(37)로부터 세정조(30)내로 분출되어 순환하고 다시 이용된다.Moreover, the recovery hole 43 of the washing | cleaning liquid L1 is provided in the side wall of the bottom part of the storage part 31. As shown in FIG. A pipe 44 provided with a pump P and a filter F is connected to the recovery hole 43, and the cleaning liquid L1 is recovered to the recovery tank T. The cleaning liquid L1 recovered in the recovery tank T is ejected from the shower nozzle 37 back into the cleaning tank 30 through the pipe 39, circulated, and used again.
또, 샤워 노즐(37)의 설치 위치와 대향 위치에 있는 측벽의 상면에는, 소정의 폭으로 롤러(33)의 축을 따라 연장하는 상면 커버부(45)를 설치하고 있다. 이 상면 커버부(45)에는 액면 센서(46)를 설치하고, 액면이 미리 설정한 상한 레벨을 확인하기까지는 세정액(L1)의 저류를 계속한다. 액면 센서(46)에 의하여 상한이 검지되면, 회수 탱크(T)가 회수가능하면 회수 탱크(T)에 회수하고, 회수 탱크(T)가 회수 불가능하면 폐액관(47)을 통해 폐액 탱크(도시하지 않음)로 송액한다.Moreover, the upper surface cover part 45 which extends along the axis | shaft of the roller 33 by predetermined width is provided in the upper surface of the side wall in the opposite position to the installation position of the shower nozzle 37. As shown in FIG. The liquid level sensor 46 is provided in this upper surface cover part 45, and storage of the washing | cleaning liquid L1 is continued until the liquid level confirms the upper limit level preset. When the upper limit is detected by the liquid level sensor 46, the recovery tank T is recovered to the recovery tank T if recoverable, and if the recovery tank T is not recoverable, the waste liquid tank 47 is shown through the waste liquid pipe 47. Not sent).
이상에 있어서, 예비토출장치(P)에 의한 예비토출은 도포작업 사이의 대기상태에서 도포에 앞서 행해진다. 즉, 도포 엘리먼트(21)내의 도포액을 도포 직전에 미리 토출하는 동작을, 회전하는 롤러(33)상에 여분의 도포액(L2)을 부착시키면서 행한다. 이 예비토출동작에서는, 도포 엘리먼트(21)의 토출구(22)를 롤러(33)의 둘레면에 표면장력이 없어지는 정도까지 근접시켜서, 토출구(22)로부터의도포액(L2)을 상기 롤러(33)의 둘레면에 부착시키고, 롤러(33)가 회전하는 것에 의해 도포액(L2)을 인출하고, 이 도포액(L2)을 세정하여 제거한다.In the above, the preliminary ejection by the preliminary ejection apparatus P is performed before application | coating in the standby state between application | coating operations. That is, the operation | movement which discharges the coating liquid in the coating element 21 in advance just before application | coating is performed, attaching the extra coating liquid L2 on the rotating roller 33. As shown in FIG. In this preliminary discharging operation, the discharge port 22 of the coating element 21 is brought close to the circumferential surface of the roller 33 to the extent that surface tension disappears, and the coating liquid L2 from the discharge port 22 is moved to the roller 33. The coating liquid L2 is taken out by adhering to the circumferential surface of the sheet) and the roller 33 rotates, and the coating liquid L2 is washed and removed.
또, 샤워 노즐(37)로부터 세정액이 롤러(33)의 둘레면으로 분출하고, 부착한 도포액(L2)이 세정된다. 이때, 샤워 노즐(37)의 위쪽에 샤워 노즐(37)의 길이방향을 따라 샤워 노즐(37)의 선단보다도 롤러(25)쪽으로 밀려나오도록 방지판(48)을 부착하고 있으므로, 샤워 노즐(37)로부터 롤러(33)로 향해 분출된 세정액의 비산이나 휘발을 방지할 수 있다.Moreover, the washing | cleaning liquid is ejected from the shower nozzle 37 to the peripheral surface of the roller 33, and the coating liquid L2 which adhered is wash | cleaned. At this time, since the prevention plate 48 is attached above the shower nozzle 37 so as to be pushed toward the roller 25 from the tip of the shower nozzle 37 along the longitudinal direction of the shower nozzle 37, the shower nozzle 37 It is possible to prevent scattering or volatilization of the cleaning liquid sprayed toward the roller 33 from the surface.
또, 배기구(41)로부터 배기하는 것으로, 고휘발성 유기용제인 세정액은 롤러(33)의 표면으로부터 더 한층 빨리 건조할 수 있어, 다음의 예비토출에도 지장이 없다.Moreover, by evacuating from the exhaust port 41, the washing | cleaning liquid which is a high volatile organic solvent can dry faster from the surface of the roller 33, and there is no problem also in the next preliminary discharge.
이상에 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 회전하는 롤러의 하부에 세정액이 채워진 세정조를 설치하고, 슬릿형 토출 노즐의 개구부를 롤러에 근접시켜 예비토출을 행하고, 토출된 도포액을 롤러의 환상(環狀) 둘레면에 부착시켰으므로, 토출 노즐의 선단부의 오염은 방지되고, 또, 예비토출에 의해 토출된 도포액에 의한 세정액의 오염은 있어도 필터링에 의해 순환하고 있으므로, 세정액의 더러움은 회복되고 세정액의 사용량은 대폭적으로 삭감된다.As described above, according to the present invention, a cleaning tank filled with a cleaning liquid is provided in the lower part of the rotating roller, preliminary ejection is carried out by bringing the opening of the slit-type ejection nozzle close to the roller, and the discharged coating liquid is annular to the roller. (Iii) Since it adheres to the circumferential surface, contamination of the tip end of the discharge nozzle is prevented, and even though there is contamination of the cleaning liquid by the coating liquid discharged by the preliminary ejection, it is circulated by filtering, so that the dirt of the cleaning liquid is recovered. As a result, the amount of the washing liquid used is drastically reduced.
또, 롤러는 슬릿형 토출 노즐의 개구부로부터 토출된 도포액을 롤러의 둘레면에 부착시키고, 도포액의 표면장력에 의해 토출구로부터 도포액을 인출하도록 하고 있으므로, 토출 노즐은 균일한 도포가 가능한 상태를 유지할 수 있고, 슬릿 코터는 양호한 상태로 이후의 도포공정으로 이행할 수 있다.Moreover, since the roller adheres the coating liquid discharged from the opening of the slit type discharge nozzle to the circumferential surface of the roller and draws the coating liquid from the discharge port by the surface tension of the coating liquid, the discharge nozzle can be uniformly applied. Can be maintained, and the slit coater can be moved to a subsequent coating step in a good state.
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020010046929A KR20030011463A (en) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | Pre-discharging apparatus and method for a slit coater |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020010046929A KR20030011463A (en) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | Pre-discharging apparatus and method for a slit coater |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20030011463A true KR20030011463A (en) | 2003-02-11 |
Family
ID=37416567
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020010046929A Ceased KR20030011463A (en) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | Pre-discharging apparatus and method for a slit coater |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20030011463A (en) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100743187B1 (en) * | 2001-08-11 | 2007-07-27 | 주식회사 포스코 | Pure water removal device of conductive roll |
| US7416758B2 (en) | 2004-12-31 | 2008-08-26 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater |
| US7449069B2 (en) | 2004-12-28 | 2008-11-11 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater having apparatus for supplying a coating solution |
| US7647884B2 (en) | 2004-12-31 | 2010-01-19 | Lg. Display Co., Ltd. | Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same |
| KR100975130B1 (en) * | 2008-06-27 | 2010-08-11 | 주식회사 디엠에스 | Slit coater |
| KR101005955B1 (en) * | 2006-03-31 | 2011-01-05 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Preliminary ejection device and preliminary ejection method |
| KR101007685B1 (en) * | 2008-11-18 | 2011-01-13 | 세메스 주식회사 | Coating material coating device for flat panel display device manufacturing |
| US7914843B2 (en) | 2004-12-31 | 2011-03-29 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater having pre-applying unit and coating method using the same |
| KR101249307B1 (en) * | 2011-02-28 | 2013-04-01 | 주식회사 케이씨텍 | Preliminary discharge thin plate device in substrate coater apparatus and substrate coater apparatus using same |
| KR101303395B1 (en) * | 2010-09-17 | 2013-09-05 | 주식회사 케이씨텍 | Preparatory photoresist discharging device for substrate coater apparatus and method of coating photoresist on substrate using same |
| CN108212616A (en) * | 2018-01-18 | 2018-06-29 | 武汉华星光电技术有限公司 | pre-coating device and method |
-
2001
- 2001-08-03 KR KR1020010046929A patent/KR20030011463A/en not_active Ceased
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100743187B1 (en) * | 2001-08-11 | 2007-07-27 | 주식회사 포스코 | Pure water removal device of conductive roll |
| US7449069B2 (en) | 2004-12-28 | 2008-11-11 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater having apparatus for supplying a coating solution |
| US7416758B2 (en) | 2004-12-31 | 2008-08-26 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater |
| US7647884B2 (en) | 2004-12-31 | 2010-01-19 | Lg. Display Co., Ltd. | Slit coater with a standby unit for a nozzle and a coating method using the same |
| US7914843B2 (en) | 2004-12-31 | 2011-03-29 | Lg Display Co., Ltd. | Slit coater having pre-applying unit and coating method using the same |
| KR101005955B1 (en) * | 2006-03-31 | 2011-01-05 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | Preliminary ejection device and preliminary ejection method |
| KR100975130B1 (en) * | 2008-06-27 | 2010-08-11 | 주식회사 디엠에스 | Slit coater |
| KR101007685B1 (en) * | 2008-11-18 | 2011-01-13 | 세메스 주식회사 | Coating material coating device for flat panel display device manufacturing |
| KR101303395B1 (en) * | 2010-09-17 | 2013-09-05 | 주식회사 케이씨텍 | Preparatory photoresist discharging device for substrate coater apparatus and method of coating photoresist on substrate using same |
| KR101249307B1 (en) * | 2011-02-28 | 2013-04-01 | 주식회사 케이씨텍 | Preliminary discharge thin plate device in substrate coater apparatus and substrate coater apparatus using same |
| CN108212616A (en) * | 2018-01-18 | 2018-06-29 | 武汉华星光电技术有限公司 | pre-coating device and method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3877719B2 (en) | Pre-discharge device for slit coater | |
| JP2001310147A (en) | Pre-delivering apparatus and pre-delivering method for slit coater | |
| JP4857193B2 (en) | Nozzle cleaning device | |
| KR101005955B1 (en) | Preliminary ejection device and preliminary ejection method | |
| JP4526288B2 (en) | Adjusting device and adjusting method for slit nozzle tip | |
| KR100890503B1 (en) | Pre-discharging apparatus | |
| KR100323502B1 (en) | Method of manufacturing liquid crystal display panel and washing machine used for the same | |
| KR20030011463A (en) | Pre-discharging apparatus and method for a slit coater | |
| KR100700181B1 (en) | Slit coater with nozzle waiting portion and coating method using the same | |
| KR20060047990A (en) | Preliminary Discharge Device for Slit Coater | |
| KR100700180B1 (en) | Slit coater with preliminary discharge and coating method using the same | |
| JP2001232250A (en) | Film forming equipment | |
| KR20120069576A (en) | Coating process apparatus and coating process method | |
| KR101621566B1 (en) | Priming processing method and priming processing device | |
| JP3936904B2 (en) | Nozzle cleaning apparatus and substrate processing apparatus provided with the nozzle cleaning apparatus | |
| JPH10308338A (en) | Apparatus and method for cleaning coating nozzle | |
| JP4812610B2 (en) | Nozzle cleaning method | |
| KR20080005264U (en) | Spare discharge device for slit coater | |
| KR100672928B1 (en) | Photoresist Coating Equipment | |
| JP3453022B2 (en) | Developing device | |
| KR20020027353A (en) | Post-Plasma Processing Wafer Cleaning Method and System | |
| KR200195101Y1 (en) | Photosensitizer supply system | |
| KR101234211B1 (en) | Slit coater with a service unit for a nozzle and a fabricating method of liquid crystal display device using the same | |
| KR20130091576A (en) | Apparatus for treating substrate | |
| JP2002346485A (en) | Liquid crystal display panel cleaning method and cleaning device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20010803 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20060605 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20010803 Comment text: Patent Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20070323 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20070530 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20070323 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |