KR20080026341A - Slit coater - Google Patents

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KR20080026341A KR1020060091246A KR20060091246A KR20080026341A KR 20080026341 A KR20080026341 A KR 20080026341A KR 1020060091246 A KR1020060091246 A KR 1020060091246A KR 20060091246 A KR20060091246 A KR 20060091246A KR 20080026341 A KR20080026341 A KR 20080026341A
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민경선
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삼성전자주식회사
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Abstract

A slit coater is provided to achieve bidirectional application of photoresist on a substrate by installing a pre-injection part on the opposite sides of a stage part, thereby reducing time of repetitive photoresist application. A slit coater comprises a stage part having a table(120) for mounting a substrate(G) thereon, a nozzle part discharging photoresist onto the substrate, and a pre-injection part(310,320) for pre-injection of the nozzle part. The pre-injection part, installed on the opposite sides of the stage part, comprises a roller(312,322), a housing surrounding a roller and having an opening to expose an upper part of the roller, wherein an inner wall of the housing comprises at least one cleaning solution injection unit, and a blade for removing the photoresist discharged to the roller, and a cleaning bath where cleaning solution is filled and a lower part of the roller is submerged.

Description

슬릿 코터{SLIT COATER}Slit Coater {SLIT COATER}

도 1은 본 발명에 따른 슬릿 코터를 나타낸 측면도이다.1 is a side view showing a slit coater according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 슬릿 코터를 나타낸 정면도이다.2 is a front view showing a slit coater according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 슬릿 코터의 예비 토출부의 변형예를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a modification of the preliminary discharge portion of the slit coater according to the present invention.

< 도면 주요 부분에 대한 부호의 설명 >              <Description of the code | symbol about the principal part of drawings>

100: 스테이지부 110: 베이스100: stage 110: base

120: 테이블 130: 플레이트120: table 130: plate

200: 노즐부 210: 노즐 헤드200: nozzle unit 210: nozzle head

220: 슬릿 노즐 230: 구동부220: slit nozzle 230: drive unit

310: 제 1 예비 토출부 320: 제 2 예비 토출부310: first preliminary ejection unit 320: second preliminary ejection unit

312, 322, 332: 회전 롤러 314, 324: 롤러 지지대312, 322, 332: rotary rollers 314, 324: roller support

338a~338c: 세정액 분사 노즐 339: 블레이드338a to 338c: cleaning liquid jet nozzle 339: blade

본 발명은 슬릿 코터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유리 기판이나 반도체 웨이퍼 등의 피처리물 표면에 감광막 도포 시간을 단축시키기 위한 슬릿 코터에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a slit coater, and more particularly, to a slit coater for shortening the photosensitive film coating time on the surface of a workpiece such as a glass substrate or a semiconductor wafer.

평판표시장치(Flat Panel Display;FPD) 또는 반도체 소자의 제조 공정에는 박막 증착 공정과 상기 박막 중 선택된 영역을 노출시키는 포토리소그래피 공정 및 상기 선택된 영역의 박막을 제거하는 식각 공정이 다수회 포함되어 있으며, 특히 상기 포토리소그래피 공정은 기판 또는 웨이퍼 상에 포토레지스트와 같은 감광성 물질의 감광막을 형성하는 코팅 공정과 소정의 패턴이 형성된 마스크를 사용하여 이를 패터닝하는 노광 및 현상 공정으로 이루어져 있다.The manufacturing process of a flat panel display (FPD) or a semiconductor device includes a thin film deposition process, a photolithography process for exposing a selected region of the thin film, and an etching process for removing the thin film of the selected region, In particular, the photolithography process includes a coating process for forming a photoresist film of a photosensitive material such as a photoresist on a substrate or a wafer, and an exposure and development process for patterning the pattern using a mask having a predetermined pattern.

일반적으로 기판 또는 웨이퍼 상에 감광막을 형성하는 상기 코팅 공정에는 스프레이(spray) 코팅 방법, 롤 코팅 방법 또는 스핀(spin) 코팅 방법 등이 사용되며, 특히 고정밀 패턴 형성용으로 기판을 회전시키며 감광막을 코팅하는 스핀 코팅 방법을 주로 사용하고 있으나, 최근에는 TV 및 대형 디스플레이의 개발로 인해 기판의 대형화가 진행되면서 기존의 스핀 코팅 방법으로는 감광막을 균일하게 도포하기 어렵고 고속 회전으로 인한 기판의 파손이나 에너지 소모 등의 문제점이 야기되었다. 이에 대형 유리 기판 상에 감광막을 코팅하는 방법으로 슬릿 코터를 이용한 슬릿 코팅 방법이 사용되고 있다.In general, a spray coating method, a roll coating method, or a spin coating method is used in the coating process of forming a photoresist film on a substrate or a wafer, and in particular, the substrate is rotated to coat a photoresist film for forming a high precision pattern. Recently, the spin coating method is mainly used. However, as the substrate is enlarged due to the development of a TV and a large display, it is difficult to uniformly apply the photoresist with the conventional spin coating method. And other problems were caused. Accordingly, a slit coating method using a slit coater is used as a method of coating a photoresist film on a large glass substrate.

하지만, 상기 슬릿 코터는 대면적화된 유리 기판 상에 포토레지스트(이하 "도포액" 이라 칭함)를 균일하게 도포하는 것은 용이하지만, 상기 도포액을 도포하는 노즐부가 일 방향으로 진행하면서 도포액을 유리 기판 상에 도포하기 때문에 처리 시간 지연으로 인해 전체 공정 시간이 길어지는 문제점이 있다.However, the slit coater is easy to uniformly apply the photoresist (hereinafter referred to as "coating liquid") on the large-area glass substrate, the glass coating the coating liquid while the nozzle portion for applying the coating liquid proceeds in one direction Since the coating on the substrate there is a problem that the overall process time is long due to the processing time delay.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 슬릿 코터의 구성을 변경하여 도포액 도포 시간을 단축시키기 위한 슬릿 코터를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a slit coater for shortening the coating liquid application time by changing the configuration of the slit coater.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 슬릿 코터는 기판이 안착되는 스테이지부와, 상기 기판에 도포액을 토출하는 노즐부와, 상기 노즐부의 예비 토출을 위한 예비 토출부를 포함하되, 상기 예비 토출부는 상기 스테이지부의 서로 대향하는 일측 및 타측에 구비된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the slit coater of the present invention includes a stage portion on which a substrate is seated, a nozzle portion for discharging a coating liquid onto the substrate, and a preliminary discharge portion for preliminary discharge of the nozzle portion, wherein the preliminary discharge portion It is characterized in that provided on one side and the other side of the stage facing each other.

상기 예비 토출부는 회전 롤러와, 상기 회전 롤러를 지지하는 롤러 지지대를 포함하는 것을 특징으로 한다.The preliminary discharge part may include a rotary roller and a roller support for supporting the rotary roller.

상기 예비 토출부는 회전 롤러와, 상기 회전 롤러를 둘러싸고 상기 회전 롤러의 상부 일부가 노출되도록 상부 일부가 절개된 하우징과, 세정액이 채워지고 상기 세정액에 회전 롤러의 하부 일부가 침지되도록 형성된 세정조를 포함하는 것을 특징으로 한다.The preliminary ejection part includes a rotating roller, a housing in which an upper part is cut so as to surround the rotating roller to expose an upper part of the rotating roller, and a cleaning tank in which a cleaning liquid is filled and a lower portion of the rotating roller is immersed in the cleaning liquid. Characterized in that.

상기 하우징의 내벽에 형성된 적어도 하나의 세정액 분사 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.At least one cleaning liquid injection unit formed on the inner wall of the housing is characterized in that it further comprises.

상기 하우징의 내벽에 상기 회전 롤러에 토출된 도포액을 제거하기 위해 블레이드를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The inner wall of the housing further comprises a blade for removing the coating liquid discharged to the rotating roller.

상기 테이블은 기판의 장변 길이보다 30 내지 50cm 더 길게 형성된 것을 특 징으로 한다.The table is characterized in that formed 30 to 50 cm longer than the length of the long side of the substrate.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상의 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and to those skilled in the art to fully understand the scope of the invention. It is provided to inform you. Like reference numerals in the drawings refer to like elements.

도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 슬릿 코터를 나타낸 측면도 및 정면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 슬릿 코터의 예비 토출부의 변형예를 나타낸 단면도이다.1 and 2 are a side view and a front view showing a slit coater according to the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view showing a modification of the preliminary discharge portion of the slit coater according to the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 슬릿 코터는 기판(G)이 안착되는 스테이지부(100)와, 상기 기판(G)에 예를 들어 포토레지스트와 같은 도포액을 도포하는 노즐부(200)와, 상기 스테이지부(100)의 서로 대향하는 양측에 구비된 예비 토출부(300)를 포함한다.1 and 2, the slit coater includes a stage part 100 on which the substrate G is seated, and a nozzle part 200 for applying a coating liquid such as a photoresist to the substrate G, for example. And a preliminary discharge part 300 provided on both sides of the stage part 100 facing each other.

상기 스테이지부(100)는 베이스(110)와, 기판(G)이 안착되는 테이블(120)과, 상기 베이스(110)와 테이블(120) 사이에 구비된 플레이트(130)를 포함한다. 상기 베이스(110)의 상부에는 테이블(120)의 하부와 연결되는 지지대를 매개로 하여 상기 테이블(120)이 상기 베이스(110)의 상부 중심부에 설치되고, 상기 테이블(120) 에는 상하 관통 형성된 관통 구멍(122)이 형성되어 있다. The stage unit 100 includes a base 110, a table 120 on which the substrate G is seated, and a plate 130 provided between the base 110 and the table 120. The table 120 is installed at the upper center of the base 110 through a support connected to the lower portion of the table 120 at the upper portion of the base 110, and through the table 120 through the upper and lower through The hole 122 is formed.

또한, 상기 베이스(110)와 테이블(120) 사이에 구비된 플레이트(130)는 상부에 복수개의 리프트 핀(132)이 구비되어 있고, 하부에는 상기 플레이트(130)를 승 하강시키기 위한 높이 조정용 지지대(134)가 형성되어 있다.In addition, the plate 130 provided between the base 110 and the table 120 is provided with a plurality of lift pins 132 in the upper portion, and the height adjustment support for lowering the plate 130 in the lower portion 134 is formed.

따라서, 플레이트(130)에 형성된 다수의 리프트 핀(132)은 상기 테이블(120) 상에 형성된 관통 구멍(122) 내에 삽입되며, 상기 플레이트(130)의 승하강 이동에 따라 상기 리프트 핀(132)이 테이블(120)의 상부로 돌출되거나, 상기 테이블(120) 하부로 후퇴한다. 즉, 상기와 같이 리프트 핀(132)은 기판(G)을 테이블(120)로부터 로딩 및 언로딩할 때 상기 기판(G)을 들어올리거나 내리는 역할을 한다.Accordingly, the plurality of lift pins 132 formed on the plate 130 are inserted into the through holes 122 formed on the table 120, and the lift pins 132 are moved in accordance with the lifting and lowering of the plate 130. It protrudes above the table 120 or retreats below the table 120. That is, as described above, the lift pin 132 lifts or lowers the substrate G when loading and unloading the substrate G from the table 120.

이때, 상기에서는 플레이트(130)가 상승하여 리프트 핀(132)의 승하강 이동을 하였지만, 상기 플레이트(130)를 제거하거나 고정되게 설치하고, 리프트 핀(132)을 승하강 이동시켜 상기 기판(G)의 로딩 및 언로딩을 수행할 수 있다.In this case, the plate 130 is raised to move the lift pin 132 up and down, but the plate 130 is removed or installed to be fixed, the lift pin 132 is moved up and down the substrate (G). ) Can be loaded and unloaded.

한편, 상기 테이블(120)의 길이는 기판(G)의 장변보다 더 길게 형성된다. 즉, 상기 테이블(120)은 기판(G)의 안착되는 길이보다 일측을 더 길게 형성하여, 기판(G)이 로딩되는 방향의 테이블(120)의 길이를 증가시켜 상기 기판(G)이 외부 로봇암(미도시)에 의해 테이블(120)에 안착될 때 주변 부품들 특히, 제 2 예비 토출부(320)의 간섭을 방지할 수 있다. 이때, 상기 테이블(120)의 길이는 상기 기판(G)의 길이보다 30 내지 50 cm 정도 길게 증가시키는 것이 바람직하다.On the other hand, the length of the table 120 is formed longer than the long side of the substrate (G). That is, the table 120 has one side longer than the seated length of the substrate G, and increases the length of the table 120 in the direction in which the substrate G is loaded so that the substrate G is an external robot. When seated on the table 120 by the arm (not shown), it is possible to prevent the interference of the peripheral parts, in particular, the second preliminary ejection part 320. In this case, the length of the table 120 is preferably increased by about 30 to 50 cm longer than the length of the substrate (G).

노즐부(200)는 상기 베이스(110)의 좌우측으로 상기 테이블(120)을 가로질러 형성되어 있고, 상기 노즐부(200)는 노즐 헤드(210)와, 상기 노즐 헤드(210)의 하부에 형성된 슬릿 노즐(220)과, 상기 노즐 헤드(210)를 지지하며 상기 노즐 헤드(210) 및 슬릿 노즐(220)을 상하 및 좌우로 이동시키기 위한 구동부(230)를 포함한다.The nozzle unit 200 is formed across the table 120 to the left and right sides of the base 110, and the nozzle unit 200 is formed at the nozzle head 210 and a lower portion of the nozzle head 210. A slit nozzle 220 and a driving unit 230 for supporting the nozzle head 210 and moving the nozzle head 210 and the slit nozzle 220 vertically and horizontally.

상기 노즐 헤드(210)는 상기 슬릿 노즐(220)을 지지하는 역할을 하며, 상기 노즐 헤드(210)의 상부에는 도포액을 공급하기 위한 도포액 공급관(미도시)과, 상기 슬릿 노즐(220) 내의 기포를 제거하기 위한 기포 배출구(미도시)가 형성될 수 있다.The nozzle head 210 serves to support the slit nozzle 220, a coating liquid supply pipe (not shown) for supplying a coating liquid to an upper portion of the nozzle head 210, and the slit nozzle 220. Bubble outlets (not shown) may be formed to remove bubbles in the interior.

상기 슬릿 노즐(220)은 도포액을 기판(G) 상부에 토출하는 역할을 하고, 도면에서는 도시되지는 않았지만 노즐 몸체와, 유입구 및 토출구로 구성되며, 상기 노즐 몸체 내부에는 감광 물질 즉 도포액을 저장하기 위한 수납 공간을 갖고, 유입구는 노즐 몸체에 형성되며, 토출구는 노즐 몸체 중 기판(G)과 마주보는 면에 형성된다. 이때, 상기 토출구는 폭보다 길이가 긴 슬릿 형상을 갖는다.The slit nozzle 220 serves to discharge the coating liquid on the substrate G. Although not shown in the drawing, the slit nozzle 220 includes a nozzle body, an inlet port, and an outlet port. It has a storage space for storing, the inlet is formed in the nozzle body, the discharge port is formed on the surface of the nozzle body facing the substrate (G). At this time, the discharge port has a slit shape longer than the width.

상기 노즐 헤드(210)와 슬릿 노즐(220)은 다수개의 볼트로 고정될 수 있으며, 상기 볼트 조임을 조절하여 상기 슬릿 노즐(220) 양단의 수직 방향으로의 높낮이 편차를 조정하게 된다.The nozzle head 210 and the slit nozzle 220 may be fixed by a plurality of bolts, and by adjusting the tightening of the bolt to adjust the height deviation of the both ends of the slit nozzle 220 in the vertical direction.

상기 구동부(230)는 상기 노즐 헤드(210) 및 슬릿 노즐(220)을 상하 방향으로 이동시키는 수직 구동 장치(232)와, 상기 노즐 헤드(210) 및 슬릿 노즐(220)을 전후 방향으로 이동시켜 기판(G) 표면에 도포액을 균일하도록 분사하도록 하는 한 쌍의 수평 구동 장치(234)를 구비한다. 즉, 상기 구동부(230)는 상기 노즐 헤드(210) 및 슬릿 노즐(220)의 양단에 설치되어, 노즐 헤드(210) 및 슬릿 노즐(220)을 지지하고 이동시키는 역할을 한다.The driving unit 230 moves the nozzle head 210 and the slit nozzle 220 in the vertical direction, and moves the nozzle head 210 and the slit nozzle 220 in the front and rear directions. A pair of horizontal driving devices 234 are provided to uniformly spray the coating liquid on the substrate G surface. That is, the driving unit 230 is installed at both ends of the nozzle head 210 and the slit nozzle 220 to support and move the nozzle head 210 and the slit nozzle 220.

이때, 상기 수평 구동 장치(234)는 모터(미도시)와 이동 레일, 가이드 레일과 같은 이동 수단(미도시)으로 구성될 수 있으며, 상기 모터로는 비접촉 타입의 리니어(linear) 모터를 사용할 수 있다.In this case, the horizontal driving device 234 may be composed of a motor (not shown) and a moving means (not shown) such as a moving rail and a guide rail, and a non-contact type linear motor may be used as the motor. have.

한편, 상기 스테이지부(100)의 일측 및 타측에는 제 1 예비 토출부(310) 및 제 2 예비 토출부(320)가 구비되어 있다. 즉, 상기 제 1 예비 토출부(310) 및 제 2 예비 토출부(320)는 상기 노즐부(200)의 수평 이동 방향에 따른 일측 및 타측에 구비되어 있다. 슬릿 노즐(220)을 이용하여 연속적으로 다수의 기판(G) 표면에 도포액을 공급하는 경우, 도포 공정과 도포 공정 사이의 대기 시간에 공기와의 접촉에 의하여 슬릿 노즐(220) 내의 도포액의 일부의 농도가 상승하게 되고, 이와 같은 상태로 다음의 기판(G)에 도포 공정을 진행하게 된다면 상기 고농도화된 도포액에 의해 도포된 도포막에 세로선이 발생하거나 막 갈라짐이 발생하는 등의 도포 불량이 발생하게 된다. 이때, 기판(G)에 도포 공정을 수행하기 전에 제 1 또는 제 2 예비 토출부(310,320) 상에 슬릿 노즐(220)로부터 도포액을 소향 분출한 후 도포 공정을 진행하게 되면, 농도가 상승된 도포액을 제거하게 되어 상기와 같은 도포 불량을 방지할 수 있다.On the other hand, one side and the other side of the stage 100 is provided with a first preliminary discharge portion 310 and a second preliminary discharge portion 320. That is, the first preliminary ejection unit 310 and the second preliminary ejection unit 320 are provided at one side and the other side of the nozzle unit 200 along the horizontal movement direction. When the coating liquid is continuously supplied to the surfaces of the plurality of substrates G by using the slit nozzle 220, the coating liquid in the slit nozzle 220 is contacted with air during the waiting time between the coating process and the coating process. If a part of the concentration is increased and the coating process is performed on the next substrate G in such a state, the coating such as vertical lines or cracking occurs in the coating film applied by the highly concentrated coating liquid. Defects will occur. At this time, when the coating liquid is jetted out from the slit nozzle 220 on the first or second preliminary ejection portions 310 and 320 before the coating process is performed on the substrate G, the coating process is performed. The coating liquid may be removed to prevent the coating defect as described above.

상기 제 1 및 제 2 예비 토출부의 구성은 동일하므로 제 1 예비 토출부(310)를 중심으로 설명한다.Since the structures of the first and second preliminary ejection units are the same, the first preliminary ejection unit 310 will be described.

상기 제 1 예비 토출부(310)는 회전 롤러(312)와, 상기 회전 롤러(312)를 지지하는 롤러 지지대(314)로 구성된다. 즉, 상기 회전 롤러(312)는 롤러 지지대(314)를 축으로 하여 노즐부(200)의 이동 방향에 따라 회전 가능하게 설치되고, 도포 공정이 시작되면 노즐부(200)는 상기 제 1 예비 토출부(310)의 상부로 이동한다. 노즐부(200)로부터 도포액이 토출되기 시작하면, 상기 회전 롤러(312)는 회전 하게 되고, 상기 도포액은 상기 회전 롤러(312)의 상부면에 토출된다. 이때, 상기 회전 롤러(312)의 방향은 한정되지 않으며, 노즐부(200)의 반대 방향으로 회전할 수 있음은 물론이다. 또한, 상기 회전 롤러(312)는 스테인레스, 알루미늄, 티타늄 등의 금속으로 형성할 수 있다.The first preliminary discharge part 310 is composed of a rotary roller 312 and a roller support 314 for supporting the rotary roller 312. That is, the rotary roller 312 is rotatably installed along the moving direction of the nozzle unit 200 with the roller support 314 as an axis, and the nozzle unit 200 discharges the first preliminary discharge when the coating process is started. Move to the top of the part 310. When the coating liquid starts to be discharged from the nozzle unit 200, the rotating roller 312 is rotated, the coating liquid is discharged to the upper surface of the rotating roller 312. At this time, the direction of the rotating roller 312 is not limited, and of course, can rotate in the opposite direction of the nozzle unit 200. In addition, the rotary roller 312 may be formed of a metal, such as stainless steel, aluminum, titanium.

예비 토출을 마치면, 상기 회전 롤러(312)는 분리되어 슬릿 코터 외부에 마련된 세정 수단(미도시)에 의해 세정되고, 세정된 회전 롤러(312)는 다시 장착되어 사용되게 된다.After the preliminary discharge, the rotary roller 312 is separated and cleaned by cleaning means (not shown) provided outside the slit coater, and the cleaned rotary roller 312 is mounted and used again.

이때, 상기 제 1 예비 토출부(310) 및 제 2 예비 토출부(320)는 회전 롤러와 더불어 세정 수단을 더 포함하여 구성될 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 예비 토출부(330)는 하우징(334)과, 상기 하우징(334) 내에 위치한 회전 롤러(332)와, 상기 회전 롤러(332)의 일부를 침지하는 세정조(336)를 포함할 수 있다.In this case, the first preliminary ejection unit 310 and the second preliminary ejection unit 320 may further include a cleaning means together with a rotating roller. That is, as shown in FIG. 3, the preliminary discharge part 330 includes three housings 334, a rotating roller 332 located in the housing 334, and a part of the rotating roller 332. It may include a bath 336.

상기 하우징(334)의 상부에는 개구가 형성되어 있으며, 회전 롤러(332)가 상기 하우징(334)의 내부에 위치하고, 상기 하우징(334)의 개구를 통해 회전 롤러(332)의 상부 일부가 노출되어 있다. 또한, 상기 회전 롤러(332)의 하부가 세정액에 침지되도록 상기 세정액이 담긴 세정조(336)가 하우징(334)의 내측 하부에 위치한다.An opening is formed in an upper portion of the housing 334, and a rotating roller 332 is positioned inside the housing 334, and a portion of the upper portion of the rotating roller 332 is exposed through the opening of the housing 334. have. In addition, the cleaning tank 336 containing the cleaning solution is located in the lower inner side of the housing 334 so that the lower portion of the rotary roller 332 is immersed in the cleaning liquid.

또한, 상기 하우징(334)의 내벽을 따라 다수의 세정액 분사 노즐(338a~338c)과, 블레이드(339)가 형성되어 있다. 즉, 상기 다수의 세정액 분사 노즐(338a~338c)은 하우징(334)의 내벽 양측 및 하부에 설치되어, 도포액이 도포된 회전 롤러(332)에 세정액을 분사하는 역할을 하고, 상기 블레이드(339)는 회전하는 회전 롤러(332)와 접촉하여 회전 롤러(332)에 도포된 도포액을 제거하는 역할을 한다. 이때, 상기 세정액 분사 노즐(338a~338c) 또는 블레이드(339) 중 적어도 하나는 생략될 수 있음은 물론이다.Further, a plurality of cleaning liquid injection nozzles 338a to 338c and blades 339 are formed along the inner wall of the housing 334. That is, the plurality of cleaning liquid spray nozzles 338a to 338c are installed at both sides and the bottom of the inner wall of the housing 334 to spray the cleaning liquid onto the rotating roller 332 to which the coating liquid is applied, and the blade 339. ) Serves to remove the coating liquid applied to the rotating roller 332 in contact with the rotating roller 332. In this case, at least one of the cleaning liquid spray nozzles 338a to 338c or the blades 339 may be omitted.

따라서, 회전 롤러(332)에 노즐부(200)로부터 도포액이 도포되면, 상기 회전 롤러(332)는 일방향으로 회전하게 되고, 상기 도포액이 도포되어 있는 회전 롤러(332)는 블레이드(339)를 통해 도포액을 제거하고, 세정조(336) 내에 침지되어 세정 작업을 수행한다. 이때, 상기 하우징(334)의 내측벽에 설치된 다수의 세정액 분사 노즐(338a~338c)은 상기 회전 롤러(332)에 도포된 도포액에 연속적으로 세정액을 분사시킴으로써 세정 효과를 더 뛰어나도록 해준다.Therefore, when the coating liquid is applied to the rotating roller 332 from the nozzle unit 200, the rotating roller 332 rotates in one direction, and the rotating roller 332 to which the coating liquid is applied is the blade 339. The coating liquid is removed through the coating solution, and immersed in the cleaning tank 336 to perform a cleaning operation. In this case, the plurality of cleaning liquid spray nozzles 338a to 338c provided on the inner wall of the housing 334 may further enhance the cleaning effect by continuously spraying the cleaning liquid on the coating liquid applied to the rotary roller 332.

상기에서는 하우징(334) 내에 세정조(336)를 설치하여 예비 토출부(330)를 구성하였지만, 상기 세정조(336)를 생략하고, 하우징(334)을 세정조(336) 대신 사용할 수 있음은 물론이다. 또한, 상기의 구성을 갖는 예비 토출부(330)는 제 1 예비 토출부(310) 및 제 2 예비 토출부(320)에 설치할 수 있음은 물론이다.In the above, although the cleaning tank 336 is installed in the housing 334 to form the preliminary discharge part 330, the cleaning tank 336 may be omitted and the housing 334 may be used instead of the cleaning tank 336. Of course. In addition, the preliminary ejection unit 330 having the above configuration may be installed in the first preliminary ejection unit 310 and the second preliminary ejection unit 320.

이하에서는 본 발명에 따른 슬릿 코터를 이용한 도포 방법을 설명한다.Hereinafter will be described a coating method using a slit coater according to the present invention.

먼저, 처리되지 않은 기판(G)이 외부 로봇암(미도시)에 의해 테이블(120) 상부로 이동되면, 상기 테이블(120) 상에 형성된 리프트 핀(122)은 기판(G)을 지지하기 위해 테이블(120) 상부로 이동 돌출되고, 상기 기판(G)은 테이블(120) 상부로 돌출된 리프트 핀(122)에 의해 지지되고, 리프트 핀(122)이 하부로 이동함에 의해 상기 테이블(120) 상부로 안착된다. 이때, 상기 테이블(120)은 기판(G)의 크기보다 약 30 내지 50cm 정도 길이가 길게 형성되었으므로 상기 로봇암이 이동할 시 슬릿 코터의 주변 부품에 대한 간섭 없이, 특히 제 2 예비 토출부(320)의 간섭 없이 안정적으로 기판(G)을 로딩할 수 있다.First, when the unprocessed substrate G is moved above the table 120 by an external robot arm (not shown), the lift pin 122 formed on the table 120 supports the substrate G. The table 120 is moved upward and protrudes, and the substrate G is supported by the lift pin 122 protruding upward from the table 120, and the lift pin 122 moves downward to move the table 120 downward. It sits on top. At this time, since the table 120 is formed to have a length of about 30 to 50 cm longer than the size of the substrate G, the second preliminary ejection part 320 is particularly provided without interference to the peripheral parts of the slit coater when the robot arm moves. The substrate G can be loaded stably without interference.

이후, 상기 테이블(120) 상에 안착된 기판(G)은 테이블(120) 상에 형성된 얼라이너(미도시)에 의해 정렬되고, 진공력 또는 기계력에 의해 상기 기판(G)을 테이블(120) 상에 고정시킨다.Subsequently, the substrate G seated on the table 120 is aligned by an aligner (not shown) formed on the table 120, and the substrate G is placed on the table 120 by a vacuum force or a mechanical force. Fix on phase.

기판(G)이 테이블(120)에 안착되면, 상기 노즐부(200)는 제 1 예비 토출부(310)의 상부로 이동하고, 회전 롤러(312) 상부에 도포액을 토출하기 시작한다. 이후, 예비 토출을 마친 노즐부(200)는 기판(G)의 선단으로 이동하고, 기판(G)의 선단에서 말단 즉 제 1 예비 토출부(310)에서 제 2 예비 토출부(320) 방향으로 정속 이동을 하고, 이에 의해 기판(G) 상에 상기 도포액을 균일하게 토출한다.When the substrate G is seated on the table 120, the nozzle part 200 moves to the upper part of the first preliminary discharge part 310 and starts discharging the coating liquid on the rotary roller 312. Subsequently, the nozzle part 200 which has completed the preliminary ejection moves to the front end of the substrate G and moves from the front end of the substrate G toward the end, that is, from the first preliminary ejection part 310 to the second preliminary ejection part 320. The constant velocity movement is performed, whereby the coating liquid is uniformly discharged onto the substrate G.

기판(G) 도포를 마친 노즐부(200)는 제 2 예비 토출부(320)의 상부로 이동하고, 도포된 기판(G)은 외부 로봇암에 의해 슬릿 코터 외부로 언로딩 된다.After applying the substrate G, the nozzle part 200 moves to the upper portion of the second preliminary discharge part 320, and the coated substrate G is unloaded to the outside of the slit coater by an external robot arm.

이후, 처리되지 않은 기판(G)은 로봇암에 의해 상기 테이블(120) 상에 로딩되고, 제 2 예비 토출부(320) 상부에 위치한 노즐부(200)는 제 2 예비 토출부(320)의 회전 롤러(322)에 예비 토출을 하고, 기판(G)의 말단으로 이동하여 제 1 예비 토출부(310) 방향으로 정속이동하며, 이에 의해 도포액을 기판(G)에 균일하게 토출하고, 도포된 기판(G)이 언로딩되어 상기 공정을 마친다.Subsequently, the unprocessed substrate G is loaded onto the table 120 by the robot arm, and the nozzle unit 200 positioned on the second preliminary ejection unit 320 is disposed on the second preliminary ejection unit 320. Preliminary ejection is made to the rotating roller 322, and it moves to the end of the board | substrate G, and moves to a constant speed in the direction of the 1st preliminary ejection part 310, thereby uniformly ejecting a coating liquid to the board | substrate G, and apply | coating The substrate G is unloaded to complete the process.

상기와 같이, 상기 노즐부(200)는 제 1 예비 토출부(310) 및 제 2 예비 토출부(320)를 경유하며 기판에 도포액을 토출하게 되고, 이와 같은 본 발명에 따른 슬 릿 코터의 동작은 도포 공정 시간을 줄일 수 있는 효과가 있다.As described above, the nozzle unit 200 discharges the coating liquid to the substrate via the first preliminary ejection unit 310 and the second preliminary ejection unit 320, and the slit coater according to the present invention. The operation has the effect of reducing the application process time.

즉, 종래의 슬릿 코터는 일 방향으로 도포 공정을 진행하고, 슬릿 노즐이 원 위치로 이동한 후 다시 도포 공정을 진행하는 반면, 본 발명은 슬릿 코터는 스테이지부(100) 양측에 예비 토출부(310, 320)를 설치하여 양방향으로 도포 작업을 진행하므로, 슬릿 노즐(220)이 원위치로 이동하는 동작을 생략할 수 있어, 반복되는 도포 공정의 작업 시간을 감소시킬 수 있다.That is, the conventional slit coater proceeds the coating process in one direction, and then proceeds with the application process again after the slit nozzle is moved to the original position, whereas the slit coater has a preliminary ejection portion on both sides of the stage unit 100. Since the coating operation is performed in both directions by installing the 310 and 320, the operation of moving the slit nozzle 220 to the original position can be omitted, thereby reducing the work time of the repeated coating process.

이상에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명은 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the drawings and embodiments, those skilled in the art that the present invention can be variously modified and changed within the scope without departing from the spirit of the invention described in the claims below. I can understand.

상술한 바와 같이, 본 발명은 예비 토출부를 기판의 일측 및 타측에 구비함으로써, 기판의 도포액 도포 시간을 단축시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of shortening the coating liquid coating time of the substrate by providing the preliminary discharge portions on one side and the other side of the substrate.

또한, 본 발명은 테이블의 길이를 증가시킴으로써, 슬릿 코터의 주변 부품들에 의한 기판의 로딩시 발생될 수 있는 간섭을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, by increasing the length of the table, the present invention has the effect of preventing interference that may occur during loading of the substrate by the peripheral parts of the slit coater.

Claims (6)

기판이 안착되는 테이블을 포함하는 스테이지부와, 상기 기판에 도포액을 토출하는 노즐부와, 상기 노즐부의 예비 토출을 위한 예비 토출부를 포함하되,A stage portion including a table on which a substrate is seated, a nozzle portion for discharging a coating liquid onto the substrate, and a preliminary discharge portion for preliminary discharge of the nozzle portion, 상기 예비 토출부는 상기 스테이지부의 서로 대향하는 일측 및 타측에 구비된 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.The preliminary discharge part is provided on one side and the other side of the stage portion facing each other. 청구항 1에 있어서, 상기 예비 토출부는 회전 롤러와, 상기 회전 롤러를 지지하는 롤러 지지대를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.The slit coater according to claim 1, wherein the preliminary ejection part includes a rotating roller and a roller support for supporting the rotating roller. 청구항 1에 있어서, 상기 예비 토출부는 회전 롤러와, 상기 회전 롤러를 둘러싸고 상기 회전 롤러의 상부 일부가 노출되도록 상부 일부가 절개된 하우징과, 세정액이 채워지고 상기 세정액에 회전 롤러의 하부 일부가 침지되도록 형성된 세정조를 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.The method according to claim 1, wherein the preliminary discharge portion, the housing and the upper part is cut so as to surround the rotating roller and expose the upper portion of the rotating roller, the cleaning liquid is filled so that the lower portion of the rotating roller is immersed in the cleaning liquid A slit coater comprising a cleaning bath formed. 청구항 3에 있어서, 상기 하우징의 내벽에 형성된 적어도 하나의 세정액 분사 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.The slit coater according to claim 3, further comprising at least one cleaning liquid spraying unit formed on an inner wall of the housing. 청구항 4에 있어서, 상기 하우징의 내벽에 상기 회전 롤러에 토출된 도포액을 제거하기 위해 블레이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.The slit coater according to claim 4, further comprising a blade for removing the coating liquid discharged to the rotating roller on the inner wall of the housing. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 테이블은 기판의 장변 길이보다 30 내지 50cm 더 길게 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 코터.The slit coater according to any one of claims 1 to 5, wherein the table is formed to be 30 to 50 cm longer than the long side length of the substrate.
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