KR20030006509A - 청정실의 환경분석 장치 - Google Patents

청정실의 환경분석 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20030006509A
KR20030006509A KR1020010042309A KR20010042309A KR20030006509A KR 20030006509 A KR20030006509 A KR 20030006509A KR 1020010042309 A KR1020010042309 A KR 1020010042309A KR 20010042309 A KR20010042309 A KR 20010042309A KR 20030006509 A KR20030006509 A KR 20030006509A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
clean room
differential pressure
humidity
temperature
particle
Prior art date
Application number
KR1020010042309A
Other languages
English (en)
Inventor
임창수
지중해
Original Assignee
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자 주식회사 filed Critical 삼성전자 주식회사
Priority to KR1020010042309A priority Critical patent/KR20030006509A/ko
Publication of KR20030006509A publication Critical patent/KR20030006509A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)

Abstract

본 발명은 파티클, 온/습, 유속 그리고 차압을 분석하는 청정실 내의 환경분석용 장치에 관한 것으로, 본 발명은 테이블과, 테이블에 설치되는 파티클, 온도/습도, 유속, 차압 측정기들과, 테이블에 수직으로 설치되는 수직봉 그리고 수직봉에 설치되는 그리고 측정기의 센서가 놓여지는 센서 거치대를 구비한다.

Description

청정실의 환경분석 장치{CLEAN ROOM ENVIRONMENT ANALYSIS APPARATUS}
본 발명은 청정실 내의 환경분석용 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 파티클, 온/습, 유속 그리고 차압을 분석하는 청정실 내의 환경분석용 장치에 관한 것이다.
일반적으로 제품의 종류나 특수한 목적에 따라 대기중에 포함된 먼지, 미생물, 정전기, 이온입자 등의 오염물질을 제어하는 공간을 청정실(Clean Room)이라 하며, 특히, 웨이퍼상에 극히 미세한 패턴을 형성하는 반도체공정에서는 웨이퍼오염에 의한 불량을 방지하도록 이러한 청정실에서 대부분의 작업이 이루어진다.
그러나, 반도체 공정이 이루어지는 반도체 청정실의 대기 중에는 웨이퍼에 직접적인 악영향을 주는 먼지(부유입자) 등의 미세한 파티클이 항상 존재하고 있으며, 이에 따라서 청정실의 파티클 제어는 반도체 공정의 기본적인 필수조건으로 여겨지고 있다.
특히, 반도체 제조 공정에서 DEVICE의 급속한 세대 발전으로 CLEAN ROOM 환경에 의한 DEVICE 불량이 심각하게 대두되고 있는 실정으로 환경 최적 CONTROL을 통한 초고청정 CLEAN ROOM 유지 관리 부분이 차세대 기술 선점의 중대한 관점으로 떠오르고 있다.
CLEAN ROOM 환경의 주요 관심사를 분류해 보면 PARTICLE, 온/습도, 기류, 차압 등으로 분류 할 수 있는데 이는 CLEAN ROOM 설계 및 시공 단계 건설 기술도 주요하나 생산 단계의 CLEAN ROOM 운전에 의한 영향 및 유지 관리를 통한 최적 조건 조성이 최대의 관건으로 작용한다.
CLEAN ROOM 환경 QUALITY의 항목별 발생원을 서술해 보면. 1) PARTICLE은CLEAN ROOM에 투입되는 설비나, 소모품, 시설물, 원자재, 작업자에 의해 발생 한다.
2) ROOM 내 온/습도, 유속, 차압등은 기계 장치를 통해 일정 수준으로 CONTROL하는데 이는 공조 기계의 노후 및 DOWN 생산 설비의 상태, CLEAN ROOM의 노후와에 따라 변동이 있을 수 있다.
위에서 서술한 PARTICLE, 온/습, 유속, 차압등은 반도체 제조 공정에서 DEVICE의 수율에 직접적인 영향을 주는 부분으로 지속적인 유지 관리 및 점검이 필요한 사항으로 신뢰성있는 TEST를 위해 정밀하고 수월한 계측기의 개발 및 보급이 고차원 적인 CLEAN ROOM 유지관리를 위해 필수적이다.
현재 CLEAN ROOM 평가는 각 항목별(PARTICLE, 온/습도, 유속, 차압등) 계측기가 개별로 있으나
이는 CLEAN ROOM 전용 장비가 아닌 첨단 산업용 PORTABLE 측정기로 평가시 계측기에 임의 지지대를 거치하여 SAMPLING POINT에 작업자가 손으로 잡고 평가하는 것이 대부분 보편적인 방법이나 이는 평가 DATA의 신뢰성 저하 및 평가 효율 저하의 주 원인으로 작용하고있다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 앞서 열거한 CLEAN ROOM의 환경 평가를(PARTICLE, 온/습, 유속, 차압) 정밀하고 효율적으로 실시하여 CLEAN ROOM의 환경 변화로 인한 DEVICE 불량 발생에 따른 생산성 저하를 최소화하는 청정실 내의 환경분석용 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 청정실내의 환경분석용 장치의 사시도;
도 2는 도 1에 도시된 청정실내의 환경분석용 장치의 측면도;
도 3은 청정실에서 사용중인 환경 분석용 장치를 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
110 : 손수레
120 : 테이블
132 : 파티클 측정기
134 : 온도/습도 측정기
136 : 유속 측정기
138 : 차압 측정기
140 : 수직봉
142 : 센서 거치대
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 본 발명은 테이블과; 상기 테이블에 설치되는 파티클 측정기와; 상기 테이블에 설치되는 온도/습도 측정기와; 상기 테이블에 설치되는 유속 측정기 및; 상기 테이블의 상면으로부터 수직으로 설치되는 수직봉과; 상기 수직봉에 설치되는 그리고 측정기의 센서가 놓여지는 센서 거치대를 포함한다. 그리고 상기 테이블에 설치되고 차압을 측정하기 위한 차압 측정기를 더 포함할 수 있다.
이와 같은 본 발명에서 상기 수직봉은 회전 및 각도 변환이 가능한 플레시블 타입으로 이루어질 수 있다.
이와 같은 본 발명에서 상기 테이블은 손으로 밀고 다닐 수 있는 손수레에 설치될 수 있다.
본 발명은 반도체 생산 라인에 대한 CLEAN ROOM 환경평가 및 차세대 라인의 환경 수준을 CONTROL 할 수 있는 장치 및 방법으로써 기존에 환경 평가 계측기 부적합에서 오는 CLEAN ROOM 환경 저하 요인을 제거함으로써 차세대 DEVICE 생산시 고 수율을 달성할 수 있고 차세대 반도체 라인 구축시 그 수준 향상을 도모 할 수 있다.
예컨대, 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 3에 의거하여 상세히 설명한다. 또, 상기 도면들에서 동일한 기능을 수행하는 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 번호를 병기한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 청정실내의 환경분석용 장치의 사시도이다. 도 2는 도 1에 도시된 청정실내의 환경분석용 장치의 측면도이다. 도 3은 청정실에서 사용중인 환경 분석용 장치를 보여주는 도면이다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 환경분석용 장치(100)는 CLEAN ROOM 환경(PARTICLE, 온/습, 유속, 차압등) 평가를 신속하게 하여 최적의 DEVICE 생산 공정을 CONTROL 할 수 있는 장치로써, 본 환경분석용 장치는 손으로 밀고 다닐 수 있는 손수레(110)와, 이 손수레(110)에 설치되는 테이블(120)과, 이 테이블(120)상에 설치되는 파티클, 온도/습도, 유속, 차압 측정기들(132,134,136,138)과, 테이블(120)의 상면으로부터 수직으로 설치되는 수직봉(140) 그리고 상기 수직봉(140)에 설치되는 그리고 측정기의 센서가 놓여지는 센서 거치대(142)로 이루어진다.
여기서, 상기 수직봉(140)은 상기 거치대(142)에 놓이는 센서의 샘플링 포인트를 임의로 조절(선택)할 수 있도록 회전 및 각도 변환이 가능한 플레시블 타입으로 이루어지는 것이 바람직하다.
이러한 구성으로 이루어진 청정실의 환경분석용 장치(100)는 동시에 CLEAN ROOM 환경 평가(PARTICLE, 온/습도, 유속, 차압)를 진행할 수 있으며, PARTICLE,온/습도, 유속, 차압 평가를 동시에 진행 함으로써 개별 평가시 발생할 수 있는 공간 및 시간 분포에 의한 평가 DATA 오류를 최소화할 수 있다. 또한, PARTICLE, 온/습도, 유속등의 실측 및 DATA 저장이 가능하다.
다시 말해, 본 장치(100)는 공간, 시간 분포에 의한 오차를 줄일 수 있으며, SAMPLING POINT를 능동적으로 이동 및 변경할 수 있고, PARTICLE, 온/습도, 유속등의 실측 및 DATA 저장을 할 수 있는 것이다.
본 발명의 환경분석용 장치는 CLEAN ROOM 평가를 종합으로(PARTICLE, 온/습도, 기류, 차압등) 디자인 및 구조, 설비의 내구 구조등의 각 조건에 따라 평가조건을 변형하여 실시 할 수 있기 때문에, 생산 영역의 환경 조성을 최적화하여 DEVICE의 수율 향상을 극대화 할 수 있다.
본 발명의 환경분석용 장치는 CLEAN ROOM 품질의 주요 관점인 PARTICLE, 온/습도,차압, 유속등의 CLEAN ROOM 종합 평가를 동시에 수월하게 측정할 수 있는 것이다.
이상에서, 본 발명에 따른 청정실내의 환경분석용 장치의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 기존의 CLEAN ROOM 평가시 평가 장치 및 방법, 기준, 대상 등의 많은 변수로 인해 발생했던 정확성 및 재현성 저하 문제를 최소화하였고, 작업자 평가시 SAMPLING 위치 및 평가 방법, 평가 조건등의 오차 발생을 최소화 할 수 있도록 하였으며, 정확하고, 신뢰성있는 CLEAN ROOM 환경 평가를 할 수 있도록 하였다.
또한, 향후 고집적화되는 DEVICE의 신규제품 공정 구축 및 생산시 본 발명 장치를 이용 효과적으로 대응하여 차세대 제품 생산을 할 수 있는 CLEAN ROOM 및 생산 공정 개발을 선점 할 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 테이블과;
    상기 테이블에 설치되는 파티클 측정기와;
    상기 테이블에 설치되는 온도/습도 측정기와;
    상기 테이블에 설치되는 유속 측정기 및;
    상기 테이블의 상면으로부터 수직으로 설치되는 수직봉과;
    상기 수직봉에 설치되는 그리고 측정기의 센서가 놓여지는 센서 거치대를 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실 내의 환경분석용 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 테이블에 설치되고 차압을 측정하기 위한 차압 측정기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 청정실 내의 환경분석용 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 수직봉은 회전 및 각도 변환이 가능한 것을 특징으로 하는 청정실 내의 환경분석용 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 수직봉은 회전 및 각도 변환이 가능한 플레시블한 것을 특징으로 하는청정실 내의 환경분석용 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 테이블은 손으로 밀고 다닐 수 있는 손수레에 설치되는 것을 특징으로 하는 청정실 내의 환경분석용 장치.
KR1020010042309A 2001-07-13 2001-07-13 청정실의 환경분석 장치 KR20030006509A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010042309A KR20030006509A (ko) 2001-07-13 2001-07-13 청정실의 환경분석 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020010042309A KR20030006509A (ko) 2001-07-13 2001-07-13 청정실의 환경분석 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20030006509A true KR20030006509A (ko) 2003-01-23

Family

ID=27714984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010042309A KR20030006509A (ko) 2001-07-13 2001-07-13 청정실의 환경분석 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20030006509A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101043442B1 (ko) * 2011-01-27 2011-06-27 이수봉 낚시대용 소품부재
KR20160144073A (ko) 2015-06-08 2016-12-16 콜로디스 바이오사이언스, 인코포레이티드 생리기능성 접착제 조성물

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101043442B1 (ko) * 2011-01-27 2011-06-27 이수봉 낚시대용 소품부재
KR20160144073A (ko) 2015-06-08 2016-12-16 콜로디스 바이오사이언스, 인코포레이티드 생리기능성 접착제 조성물

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070135957A1 (en) Model generating apparatus, model generating system, and fault detecting apparatus
CA1294362C (en) Apparatus and method for measuring properties of cylindrical objects
JP2001099462A (ja) クリーンルームまたはクリーンブース内の特定領域環境の最適制御解析値表示システム
Tseng A real-time thermal inaccuracy compensation method on a machining centre
US20200318683A1 (en) Coordinate-measuring machine with self-cleaning air bearing
US8310667B2 (en) Wafer surface inspection apparatus and wafer surface inspection method
CN101288937A (zh) 一种数控机床、光栅尺系统及光栅尺固定方法
KR20030006509A (ko) 청정실의 환경분석 장치
CN109916298A (zh) 一种板材检测装置
CN110610295B (zh) 资源环境负荷数据通用集成采集系统及方法
KR20190055646A (ko) 바이오필터의 성능 평가 시스템 및 성능 평가 방법
CN103837122A (zh) 智能同轴度检测仪
JP2009053052A (ja) 形状測定機及びその測定子
US11745310B1 (en) Systems and methods for improving jet cutting performance via force sensing
CN110146204A (zh) 一种智能型残余应力x射线测量仪及其测量方法
TW200643411A (en) Inspection device and inspection method
CN209570145U (zh) 一种板材检测装置
KR101781093B1 (ko) Cnc 범용 전수검사장치
CN107290005A (zh) 全自动测量装置和全自动测量装置的测量方法
JP2021115634A (ja) 生産システム
CN117153712B (zh) 半导体清洗设备腔室内部的综合监控系统及方法
CN109900571B (zh) 基于二维区域试样弹力曲线的纺织纺纱品质量控制方法及专用设备
CN215339404U (zh) 一种微颗粒的测量装置
US11152238B2 (en) Semiconductor processing stage profiler jig
US5021655A (en) Apparatus and method for contactless measurement of coating thickness

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination