KR20030002674A - 평면 음극선관의 지자계 차폐물 - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 38
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 16
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 16
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 13
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 230000005358 geomagnetic field Effects 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 238000011900 installation process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/863—Passive shielding means associated with the vessel
- H01J2229/8634—Magnetic shielding
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- Electromagnetism (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
본 발명은 평면 음극선관의 지자계 차폐물에 대한 것으로서, 형광체에 전자빔이 정확하게 랜딩되도록 지자계에 의한 전자빔의 이동을 방지하여 색순도를 향상시키고, 회전여유도와 자계여유도를 가지는 평면 음극선관이 이루어지도록 한 것이다.
이를 위하여 본 발명은 다수개의 전자빔 통과공이 형성되어 있는 인장마스크와, 상기 인장마스크의 장변부에 직접 용접되어 있는 메인 프레임과, 상기 메인 프레임의 후방에 용접되어 있고 인장마스크에 장력을 가하는 서브 프레임을 포함하는 인장 마스크 어셈블리를 구비한 평면 음극선관에 있어서, 펀넬 내부를 감싸도록 상하부에 개구부가 형성되어 있는 메인 이너쉴드와; 상기 메인 이너쉴드와 결합하고 메인프레임의 후방면에 안착하는 상부면인 빔 쉴드부와, 상기 빔쉴드부와 수직으로 절곡되어 있고 상기 인장마스크와 상기 메인 프레임 사이의 측면 공간을 차폐하는 빛샘 차폐부를 포함하고 상기 서브 프레임측의 메인 프레임 후방면에 안착하는 사이드 이너쉴드;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물이 제공되도록 한 것이다.
Description
본 발명은 평면 음극선관의 지자계 차폐물에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 전자빔의 외부자계에 의한 미스랜딩을 방지하며, 인장 마스크 어셈블리의 스프링 용접후 인장 마스크 어셈블리의 단변부를 차폐하도록 결합됨으로써 노광공정시 빛샘을 방지하는 구조로 개선된 지자계 차폐물에 관한 것이다.
일반적으로 평면 음극선관은 화면을 이루는 평판의 패널(1)과, 상기 패널(1)의 후방에서 부착되어 있으며 네크(neck)부에 전자총이 봉입되어 있는 펀넬(2)과, 상기 네크부의 외주면에 설치되어 있고 전자총에서 주사되는 전자빔(6)이 수평방향과 수직방향으로 편향되도록 하는 편향 요크(5)를 포함하여 구성된다.
그리고, 상기 패널(1)의 내면에는 적, 녹 ,청의 형광체를 도포한 형광면(4)이 형성되어 있고, 전자총에서 주사된 전자빔(6)이 색선별되어 상기 형광면(4)에 랜딩될 수 있도록 상기 형광면(4)과 소정간격 이격되어 인장 마스크(3)가 패널의 후방에 고정되어 있다.
상기 인장 마스크(3)는 일정 텐션을 유지하면서 패널과 펀넬의 내부에 고정될 수 있도록 인장 마스크 어셈블리를 형성하고, 상기 인장 마스크 어셈블리는 메인 프레임(14)의 후방에 서브 프레임(13)을 사각틀을 이루도록 용접한 후, 메인 프레임의 상면에 인장 마스크(13)를 용접함으로써 이루어진다.
그리고, 상기 메인 프레임(14)의 측벽과 서브 프레임(15)의 측벽의 각 중앙에 스프링(미도시)이 용접되어, 패널(1)의 내부 각 측면에 형성된 스터드핀과 각각 결합됨에 따라 상기 인장 마스크(3)와 형광면(4)으로부터 소정간격 이격되어 설치된다.
한편, 상기 서브 프레임(13)의 후방에 전자빔(6)의 경로가 외부지자계에 의하여 왜곡되지 않고 펀넬(2) 내부를 지날 수 있도록 지자계 차폐물(9)이 설치되어 있다.
종래 지자계 차폐물(9)은 도 2a 및 도 2b와 같이, 상기 펀넬 내부를 감싸도록 사각통으로 형성되어 있고 상하부에 개구부를 구비하는 메인 이너쉴드(91)와, 화면을 형성하지 않는 패널의 비유효면으로 전자빔이 주사되는 것을 방지하기 위하여 내부 단변부에 내향된 배면이 형성되어 있고 메인 프레임(14)과 서브 프레임(13)사이의 공간에 삽입되어지는 빔쉴드(92)로 이루어진다.
이 때, 상기 메인 이너쉴드(91)는 일체형 또는 2장의 제품을 조립한 다각형 모양으로 이루어지며, 고투자율을 갖는 얇은 금속재료를 이용하여 프레스 성형등에 의하여 제조되어진다.
그리고, 상기 빔쉴드(92)는 상기 서브 프레임(13)과 메인 프레임(14)사이의 공간에 삽입되어 메인 프레임(14)후방면에 안착되며, 노광공정이 이루어진 후, 상기 빔쉴드(92)의 상면에 상기 메인 이너쉴드(91)가 용접 결합되어진다.
그러나, 종래 지자계 차폐물(9)은 단순히 메인 프레임의 후방면에 놓여지므로 서브 프레임(13)과 인장마스크(3)사이의 이격된 공간을 차폐할 수 없으므로 빔쉴드(92)와 인장 마스크(3)사이의 측면공간(19)이 외부 지자계에 노출되어 있다.
이에 따라, 상기한 구조의 종래 지자계 차폐물(9)이 설치된 평면 음극선관이 가동되면, 도 3과 같이, 전자빔(6)이 패널의 전 영역으로 주사되는 경우, 편향 요크의 방향을 회전하거나 또는 외부의 자계를 변환하는 요인에 의하여 상기 전자빔(6)은 그 경로가 왜곡된다.
따라서, 도 4와 같이, 전자빔(6)이 원래 위치의 형광체(31)에 랜딩되지 못하고, 형광체와 형광체(31)사이에 도포된 블랙매트릭스(32)에 미스 랜딩되거나 또는, 전자빔(6)의 경로가 왜곡되어 이동 후 위치의 다른 색의 형광체(31)를 발광시키게 되므로 화면의 색순도가 감소된다.
그리고, 종래 메인 프레임과 서브 프레임 및 빔쉴드는 자속강도에 반비례하고 자속밀도에 비례하는 투자율(permeability)이 낮은 금속으로 형성되기 때문에 자계 차폐 기능이 미소하고, 지자계 차폐율을 향상시키기 위하여 별도로 설치된 빔쉴드(92)도 자계차폐 기능이 미소하다.
한편, 전자빔이 빔쉴드(92)와 인장 마스크(3)사이의 공간을 통하여 서브 프레임 또는 메인 프레임(14)에서 반사되기 때문에 화면에 할레이션(halation)이 나타나 화면이 흐려지게 된다.
이러한 할레이션에 의하여, 전자빔을 편향시키는 회전여유도와 자계여유도가 제한되므로 화상의 색순도를 향상시키기 어렵다.
그리고, 빔쉴드(92)와 인장 마스크(3)사이의 공간이 노출되어 있기 때문에 평면 음극선관의 생산 전 공정에서 프레임 어셈블리 취급시 상기 공간을 통하여 마스크 터치가 발생되는 경우 마스크의 변형으로 인한 전자빔의 마스크 입사각도의 변화로 전자빔의 미스랜딩이 발생되어 색순도가 또한 저하된다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 개선하기 위하여 도출된 것으로서, 전자빔이 경로의 왜곡 없이 정확히 형광체에 랜딩될 수 있도록 하는 지자계 차폐물을 제공함으로써, 색순도와 회전여유도 및 자계여유도가 향상된 평면 음극선관이 제공될 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.
나아가, 본 발명은 프레임 어셈블리의 스프링 용접 작업후 서브 프레임과 인장 마스크사이의 공간을 사이드 이너쉴드에 의하여 차폐함으로써, 패널 비유효면에의 빛샘을 방지하여 스크린 품질을 향상시키는 한편, 차폐물 용접시 발생되는 착자 문제 해결을 위한 소자공정을 간소화하여 제작비용을 감소시키는데 그 목적이 있다.
더 나아가, 본 발명은 인장 마스크가 지자계 차폐물에 의하여 보호되도록 함으로써, 인장 마스크 어셈블리 취급시 마스크 터치에 의한 불량을 방지하는데 그 목적이 있다.
도 1은 일반적인 평면 음극선관을 도시하는 요부 절개 단면도
도 2a와 2b는 종래 평면 음극선관의 인장 마스크 어셈블리에 설치되는 이너쉴드와 빔쉴드의 분해 사시도와 결합 측면도
도 3은 전자빔이 지자계의 영향에 의하여 경로 이동되는 것을 보여주는 개략 단면도
도 4는 경로 이동에 따른 전자빔의 미스랜딩을 보여주는 단면도
도 5는 본 발명에 따른 지자계 차폐물과 인장 마스크 어셈블리가 도시된 분해 사시도
도 6은 도 5에서 도시된 지자계 차폐물의 결합단면도와 요부 확대도
도 7 내지 도 8은 본 발명에 따른 지자계 차폐물중 사이드 이너쉴드의 다양한 실시예를 보여주는 개략 사시도
* 도면 주요 부분의 부호의 설명 *
1 : 패널 2 : 펀넬
3 : 인장 마스크 9 , 90 : 지자계 차폐물
5 : 편향 요크 14 : 메인 프레임
13 : 서브 프레임 6 : 전자빔
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 다수개의 전자빔 통과공이 형성되어 있는 인장마스크와, 상기 인장마스크의 장변부에 직접 용접되어 있는 메인 프레임과, 상기 메인 프레임의 후방에 용접되어 있고 인장마스크에 장력을 가하는 서브 프레임을 포함하는 인장 마스크 어셈블리를 구비한 평면 음극선관에 있어서, 펀넬 내부를 감싸도록 상하부에 개구부가 형성되어 있는 메인 이너쉴드와; 상기 메인 이너쉴드와 결합하고 메인프레임의 후방면에 안착하는 상부면인 빔 쉴드부와, 상기 빔쉴드부와 수직으로 절곡되어 있고 상기 인장마스크와 상기 메인 프레임 사이의 측면 공간을 차폐하는 빛샘 차폐부를 포함하고 상기 서브 프레임측의 메인 프레임 후방면에 안착하는 사이드 이너쉴드;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물이 제공되도록 한 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예는 다음의 도면 및 설명부에서 보다 상세하게 설명되며, 이에 따라 본 발명의 특징 및 장점들도 또한 보다 명확해질 것이다.
도 5는 본 발명에 따른 지자계 차폐물과 인장 마스크 어셈블리가 도시된 분해 사시도이고, 도 6은 도 5에서 도시된 지자계 차폐물의 결합단면도와 요부 확대도이며, 도 7 내지 도 8은 본 발명에 따른 지자계 차폐물중 사이드 이너쉴드의 다양한 실시예를 보여주는 개략 사시도이다.
본 발명에 따른 지자계 차폐물(90a)은 도 5에서 보여지는 바와 같이, 펀넬의 내부를 차폐할 수 있도록 통형상으로 형성되어 있고 상하부에 개구부를 구비하는 메인 이너쉴드(910)와, 상기 메인 이너쉴드(910)와 결합하고 메인 프레임의 후방면에 안착하는 상부면인 빔쉴드부(921a)와 상기 빔쉴드부와 직교되어 있고 서브 프레임 하부측의 메인 프레임(14)과 인장 마스크(3)사이의 이격된 공간을 차폐하는 빛샘 차폐부를 포함하는 사이드 이너쉴드(920a)로 구성된다.
이 때, 상기 메인 이너쉴드(910)는 단변부에 플랜지가 형성되어 있고, 상기 플랜지의 상면에는 다수개의 결합공(911)을 구비할 수 있으며, 상기 메인 이너쉴드의 다각통은 상기 서브 프레임(13)과 서브 프레임(13)사이에 삽입되어지므로 그 높이가 종래보다 낮아질 수 있다.
그리고, 상기 사이드 이너쉴드(920a)의 빔쉴드부(921a)는 상기 메인 이너쉴드와 결합하고 메인프레임의 후방면에 안착하는 상부면으로써, 인장 마스크(3)의 단변부측 즉, 상기 서브 프레임(13)과 상기 메인 프레임(14) 사이의 공간내에 삽입되어 상기 메인 프레임의 후방면에 안착될 수 있도록 상기 빔쉴드(921a)의 양단에는 인장 마스크의 단변부 중심측에 대하여 서로 대향되고 서브 프레임의 바가 삽입될 수 있는 절개홈(9211)이 형성된다.
또한, 상기 빔쉴드부(921a)는 패널의 비유효면으로 전자빔이 주사되는 것이 방지할 수 있도록 내향된 측면이 배면을 형성하고, 상기 메인 이너쉴드(910)의 결합공(911)과 대응되는 위치에 결합공(911)이 형성될 수 있다.
또, 상기 사이드 이너쉴드(920a)의 빛샘차폐부(922)는 상기 인장 마스크 어셈블리의 단변부 측면, 인장 마스크(3)와 메인 프레임(14)사이의 공간을 차폐하며, 상기 빛샘 차폐부의 중단에는 메인 프레임에 스프링이 용접 가능하도록 하는 스프링 홀더(미도시)와 간섭되지 않도록 사각형태의 절개부를 구비한다.
그리고, 상기 사이드 이너쉴드(920a)의 빛샘 차폐부(922)는 상기 인장 마스크(3)의 단변부의 길이보다 약간 긴 길게 형성되고, 그 단부(924)는 최소한 메인 프레임(14)의 1/2지점의 위치에서부터 상기 인장 마스크(3)의 위치까지의 높이 범위내에 위치된다.
한편, 상기 사이드 이너쉴드(920a)를 견고하게 고정하기 위하여, 상기 빛샘차폐부(922) 및 빔쉴드부(921a)와 직교하고 상기 메인 프레임(14)의 측면과 맞닿는 일정폭의 용접부(923)를 형성할 수 있다.
또한, 상기 사이드 이너쉴드(920a)와 상기 메인 이너쉴드(910)는 용접 또는 결합공(9111)에 결합수단(100)이 삽입됨으로써 서로 연결될 수도 있으며, 또는 다른 접합방법에 의하여 결합될 수도 있다.
상기와 같은 구조를 가진 본 발명의 지자계 차폐물의 평면 음극선관내 설치과정은 다음과 같다.
도 5에서 나타내어진 바와 같이, 상기 메인 프레임(14)과 서브 프레임(13)을 격자형으로 용접하고, 메인 프레임(14)의 양측면에 힘을 가하여 서브 프레임(13)을 벤딩시킨 후, 상기 메인 프레임(14)의 상면에 인장 마스크(3)를 안착하여 용접하여 상기 메인 프레임에 가해지는 힘을 제거하고, 상기 메인 프레임과 서브 프레임의 각 측면에 스프링(미도시)을 용접한다.
상기와 같은 방법으로 형성된 인장 마스크 어셈블리의 단변부 각 측면에 사이드 이너쉴드(920a)를 메인 프레임(13)의 후방면상에 안착하여, 상기 사이드 이너쉴드를 내측으로 밀어넣으면 상기 빔쉴드(921a)의 절개홈(9111)과 서브 프레임(14)의 바가 맞물려진다.
이에 따라, 상기 메인 프레임(14)의 후방면에 빔쉴드부(921a)가 위치되어 있고, 상기 메인 프레임(14)과 인장 마스크(3)사이의 공간은 빛샘 차폐부(922)에 의하여 차폐되어 있으며, 상기 메인 프레임(14)측면에 용접부(923)가 맞대어진다.
그리고, 도 6에서 도시된 것과 같이, 상기 사이드 이너쉴드의 빛샘차폐부(922)의 단부(924)는 메인 프레임의 1/2지점에서부터 인장 마스크(3)지점까지의 높이 범위내에 위치되어 있다.
이와 같이, 상기 인장 마스크 어셈블리의 단변부 각 측면에 사이드 이너쉴드(920a)를 결합하여, 상기 패널의 내측에 설치되어 있는 스터드 핀에 인장 마스크 어셈블리의 스프링을 결합하여, 전자빔의 궤도와 동일한 조사궤도를 갖는 광을 이용하여 패널의 내면에 도포된 감광막을 노광시키는 노광공정을 실시한다.
이 때, 상기 사이드 이너쉴드(920a)의 단부(924)는 상기 메인 프레임(14)의 측벽 1/2지점에서부터 상기 인장 마스크(3)까지의 높이범위내에서 위치되어 있기 때문에 노광시 메인 프레임(14)과 인장 마스크(3)사이의 공간으로 빛이 조사되지 않는다.
따라서, 노광공정시 패널의 비유효면에 빛이 조사되어 스크린 품질에 문제가 되는 불필요한 형광체가 남지 않게 되는 동시에, 패널의 유효면에만 빛이 조사되므로 빛샘이 방지된다.
그리고, 상기 단부(924)가 상기 메인 프레임(14)의 측벽 2/1지점에서 상기 인장 마스크(3)까지의 범위내에서 위치하도록 상기 빛샘 차폐부(922)의 높이가 결정되기 때문에 사이드 이너쉴드의 제작시 제작공차가 커지므로 사이드 이너쉴드(920a)의 제작이 용이해진다.
한편, 사이드 이너쉴드의 빔쉴드(921a)상면에 형성된 결합공(911)과 메인 이너쉴드(910)의 결합면에 형성된 결합공사이에 고정수단을 삽입하여 사이드 이너쉴드와 메인 이너쉴드를 조립한다.
따라서, 상기 메인 이너쉴드(910)가 부착되지 않은 상태에서, 스프링과 사이드 이너쉴드(920a)가 순차적으로 인장 마스크 어셈블리에 용접되기 때문에 용접시 인장 마스크 어셈블리에 발생하는 착자에 의한 잔류자계를 제거하기 위한 탈자 공정은 사이드 이너쉴드의 용접후 한번만 이루어질 수 있다.
한편, 상기 사이드 이너쉴드(920)는 지자계 차폐기능과 동시에 종래 빔쉴드 기능을 가지도록 0.6t두께의 SPCC 재료를 사용하면 더욱 큰 효과를 낼 수 있다.
이 때, 상기 투자율(permeability)은 자계의 강도에 대한 자속밀도를 나타내므로 지자계를 차폐할 수 있을 정도의 자속밀도를 가지는 범위의 재료로 형성된다.
따라서, 본 발명에 따른 지자계 차폐물이 설치된 평면 음극선관을 작동시키면, 전자총에서 방사된 전자빔은 [수학식 1]의 플레밍의 왼손법칙에 의한 힘을 받으면서 상기 패널의 내면으로 주사된다.
즉, 내부의 전자빔에 영향을 미치는 외부자계 B의 영향을 최소화하기 위하여 투자율이 높은 재료로 형성된 지자계 차폐물 내부를 전자빔이 통과하여 형광체에 랜딩된다.
이 때, 본 발명에 따른 지자계 차폐물과 종래 지자계 차폐물이 설치된 평면 음극선관내의 전자빔 이동량을 비교하면 표 1과 같다.
| 종래 지자계 차폐물 | 본 발명의 지자계 차폐물 | |
| 남->북방향 이동시 전자빔의 이동량 | 100 ㎛ | 47㎛ |
| 동->서방향 이동시 전자빔의 이동량 | 100 ㎛ | 49㎛ |
즉, 상기 사이드 이너쉴드(920a)가 서브 프레임(13)과 인장 마스크(3)사이의 공간을 차폐하기 때문에 전자빔이 경로 왜곡량이 종래보다 작게 나타난다.
그리고, 사이드 이너쉴드(920a)의 빔쉴드부가 상기 패널 유효면의 외곽에 주사되는 전자빔을 차단시키기 때문에 전자빔의 메인 프레임(14)과 서브 프레임(13)에 주사되어 반사되는 전자빔으로 인하여 생성된 강한 전자빔에 의한 화면의 흐릿해지는 할레이션(halation)이 일어나지 않는다.
따라서, 상기와 같이 전자빔은 편향 요크에 의하여 회전되는 방향과 각도 및 자계의 크기가 제한을 받지 않기 때문에 화면의 색순도를 향상시킬 수 있도록 조절 가능하다.
그리고, 메인 이너쉴드(910)는 종래 보단 낮은 높이의 사각통로 이루어지므로 평면 음극선관의 펀넬내부 크기를 줄일 수 있으며 취급성이 용이하다.
한편, 본 발명에 따른 지자계 차폐물의 다른 실시예는 도 7에서 도시된 것과 같이, 상기 사이드 이너쉴드(920b)의 빔쉴드(921b)가 메인 프레임(14)의 후방면상에 안착하되, 상기 서브 프레임(13)의 바와 간섭하지 않도록 좁은 폭을 가진 사각 평면으로 형성되어 있다.
이는 메인 이너쉴드가 종래 동일규격의 모델로 대체되는 경우, 상기 메인 이너쉴드와 사이드 이너쉴드가 용접 결합될 때 사용하기 위함이다.
한편, 도 8에서 도시된 것과 같은 사이드 이너쉴드(920c)의 빔쉴드(921c)상부에는 서브 프레임(13)이 통과할 수 있는 단변부 길이방향으로 연장된 삽입공(9212)이 형성되어 사이드 이너쉴드를 서브 프레임(13)에 끼워 메인 프레임(14)후방면에 안착시킨다.
즉, 상기 사이드 이너쉴드(920c)의 빔쉴드(921c)에 형성된 삽입공과 서브 프레임(13)을 결합하여, 사이드 이너쉴드(920c)이 메인 프레임(14)의 후방면에 안착됨에 따라, 상기 사이드 이너쉴드(920c)의 빛샘 차폐부(922)가 메인 프레임(14)과 인장 마스크(3)사이의 공간을 차페한다.
한편, 상기 사이드 이너쉴드(920c)의 빔쉴드(921c)상면에 결합공이 형성되어 있고 , 메인 이너쉴드의 플랜지에 결합공(도 5참조,911)이 형성되어 있어 상기 결합공을 결합수단에 의해 연결할 수도 있고, 용접등에 의하여 연결될 수도 있으며, 상기 사이드 이너쉴드의 일측면에는 메인 프레임(14)의 측벽과 맞닿도록 용접부(923)가 형성될 수도 있다.
상기에서 설명한 바와 같이, 당업자라면 요구되는 지자계 차폐효과와 인장 마스크 어셈블리의 형태 등을 고려하여, 상기 지자계 차폐물의 구조 등을 다양하게 형성할 수 있다는 것은 이해 가능하다.
상기에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 펀넬내부 및, 인장 마스크와 서브 프레임 사이의 공간이 차폐되기 때문에 외부지자계에 의한 전자빔 경로 왜곡현상이 감소되어 회전여유도, 자계여유도 증가로 인한 색순도가 향상된다.
그리고, 사이드 이너쉴드와 메인 이너쉴드의 조립이 용이하고, 사이드 이너쉴드의 끝단이 메인 프레임 높이의 일정 위치에만 닿으면 되기 때문에 제작성 및 조립성이 향상되어 생산성이 증대된다.
또, 사이드 이너쉴드만을 장착하여 노광공정이 이루어지기 때문에 패널 비유효면의 빛샘이 방지되고, 사이드 이너쉴드가 인장 마스크를 보호하므로 생산 공정시 마스크 터치에 의한 불량이 개선되어 스크린 품질이 향상된다.
또한, 인장 마스크 어셈블리에 스프링 용접후, 사이드 이너쉴드의 용접이 순차적으로 이루어지기 때문에 각 용접작업 후마다 이루어지던 착자에 의한 잔류자계를 제거하기 위한 탈자 공정을 한번으로 줄일 수 있어 제작 공정이 간소화된다.
Claims (9)
- 다수개의 전자빔 통과공이 형성되어 있는 인장마스크와, 상기 인장마스크의 장변부에 직접 용접되어 있는 메인 프레임과, 상기 메인 프레임의 후방에 용접되어 있고 인장마스크에 장력을 가하는 서브 프레임을 포함하는 인장 마스크 어셈블리를 구비한 평면 음극선관에 있어서,펀넬 내부를 감싸도록 상하부에 개구부가 형성되어 있는 메인 이너쉴드와;상기 메인 이너쉴드와 결합하고 메인프레임의 후방면에 안착하는 상부면인 빔 쉴드부와,상기 빔쉴드부와 수직으로 절곡되어 있고 상기 인장마스크와 상기 메인 프레임 사이의 측면 공간을 차폐하는 빛샘 차폐부를 포함하고 상기 서브 프레임측의 메인 프레임 후방면에 안착하는 사이드 이너쉴드;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 1 항에 있어서,상기 빔쉴드부는 상기 서브 프레임의 바가 삽입할 수 있도록 인장 마스크의 단변부 중심축에 대하여 서로 대향되는 절개홈이 내향된 측면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 1 항에 있어서,상기 빔쉴드의 상면에는 서브 프레임의 길이 및 폭과 동일하거나 좀 더 큰 치수를 가진 서브 프레임 삽입공이 길이방향으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 1 항에 있어서,상기 사이드 이너쉴드는 상기 메인 프레임에 견고하게 고정되도록 빛샘 차폐부및 빔쉴드부와 직교하고 상기 메인 프레임의 측면에 맞닿는 용접부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 1 항에 있어서,상기 사이드 이너쉴드의 빛샘 차폐부 단부는 상기 메인 프레임의 1/2지점에서부터 상기 인장 마스크까지의 높이범위내에서 위치되는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 1 항에 있어서,상기 빔쉴드부는 상기 서브 프레임과 간섭되지 않도록 일정 폭을 가지는 사각 평면인 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 1 항에 있어서,상기 사이드 이너쉴드는 상기 인장 마스크 어셈블리의 메인 프레임 측면 중단에 스프링이 용접된 후, 상기 인장 마스크 어셈블리의 단변부 양측에 각각 결합되어지는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 7 항에 있어서,상기 사이드 이너쉴드의 빔쉴드부 상면에는 결합공이 형성되어 있고, 상기 메인 이너쉴드의 단변부 플랜지에도 결합공이 형성되어 있어 결합수단에 의하여 결합되는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
- 제 7 항에 있어서,상기 사이드 이너쉴드와 상기 메인 이너쉴드는 용접결합되는 것을 특징으로 하는 평면 음극선관의 지자계 차폐물.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020010038359A KR20030002674A (ko) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 평면 음극선관의 지자계 차폐물 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020010038359A KR20030002674A (ko) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 평면 음극선관의 지자계 차폐물 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| KR20030002674A true KR20030002674A (ko) | 2003-01-09 |
Family
ID=27712377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020010038359A Ceased KR20030002674A (ko) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 평면 음극선관의 지자계 차폐물 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20030002674A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100751309B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2007-08-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극선관 |
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- 2001-06-29 KR KR1020010038359A patent/KR20030002674A/ko not_active Ceased
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|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
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|
| PA0201 | Request for examination | ||
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|
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