KR20030000816A - Semiconductor package having isolated tape which include conductor circuit patterns - Google Patents

Semiconductor package having isolated tape which include conductor circuit patterns Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A semiconductor package having insulation tape including a conductor circuit pattern is provided to embody miniaturization and a multi-pin structure by preventing the density of inner leads from increasing without increasing the length of a bonding wire. CONSTITUTION: A plurality of bonding pads(140) are formed in a semiconductor chip(120). The semiconductor chip is mounted on a die pad(60). A plurality of inner leads(40) are electrically connected to the bonding pads corresponding to the inner leads, separated from the die pads by a predetermined interval. Tie bars(80) support the die pads. The semiconductor chip, the die pad, the inner leads and the tie bars are encapsulated by a package body. Dummy bars(100) are formed between the die pad and the inner leads. A plurality of conductor circuit patterns(180), inner leads attaching grooves exposing the conductive circuit patterns and bonding wire attaching grooves exposing the conductor circuit patterns are formed in the insulation tape(260). A conductive adhesive unit is formed in the conductive circuit patterns exposed to the inner leads attaching grooves. A conductive plating layer is formed in the conductor circuit patterns exposed to the bonding wire attaching grooves. The insulation tape is attached to a portion from the dummy bars to the inner leads. The inner leads are attached to the conductive adhesive unit.

Description

도체 회로 패턴이 포함된 절연 테이프를 구비한 반도체 패키지 {Semiconductor package having isolated tape which include conductor circuit patterns}Semiconductor package having isolated tape which include conductor circuit patterns}

본 발명은 반도체 패키지에 관한 것으로서, 상세하게는 다이 패드와 내부 리드들 사이에 더미 바들을 형성하고, 또한, 도체 회로 패턴들과, 내부 리드 부착 홈들, 및 본딩 와이어 부착 홈들을 포함하는 절연 테이프를 더미 바들로부터 내부 리드들에 걸쳐 부착되도록 구성한 반도체 패키지에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor package, and more particularly to forming dummy bars between a die pad and internal leads, and further comprising an insulating tape including conductor circuit patterns, internal lead attachment grooves, and bonding wire attachment grooves. A semiconductor package configured to be attached from dummy bars to internal leads.

반도체 패키지의 고성능화에 따른 반도체 패키지의 기능 증가와 더불어 반도체 패키지의 리드 수는 증가 추세를 보이고 있으며, 종래의 반도체 패키지와 동일한 기능 또는 동일한 수의 리드들을 갖는 반도체 패키지의 경우 그 크기가 소형화 되어가는 추세를 보이고 있다. 리드 수의 증가 및 반도체 패키지의 소형화는 내부 리드들에 있어서 밀집도 증가라는 문제를 가져왔으며, 이를 해결하기 위해서는 내부 리드들을 더욱 미세하게 가공하여 내부 리드들의 크기를 감소시키거나, 또는 다이 패드와 내부 리드들과의 간격을 확대하고 그 확대된 간격 만큼 본딩 와이어의 길이를 증가시키는 등의 방법을 택해야 했다. 하지만, 내부 리드들의 미세 가공은 예를 들어, 스템핑(stamping) 방법과 같은 대량 생산을 위한 보편적 제조 방법에 적용이 매우 어려울 뿐만 아니라 미세해진 내부 리드들은 제조 공정 중의 부주의 등으로 인해 내부 리드 벤트(inner lead bent)와 같은 품질 불량 문제 등을 발생시킬 수 있었으며, 한편, 다이 패드와 내부 리드들과의 간격을 확대하는 것은 고가인본딩 와이어의 사용량을 증가시킴으로써 제조비용의 상승을 초래할 뿐만 아니라 본딩 와이어의 길이 증가로 인한 와이어 새깅(wire sagging), 와이어 스위핑(wire sweeping)과 같은 품질 불량 문제 등을 발생시킬 수 있었다.As the performance of semiconductor packages increases, the number of leads of semiconductor packages increases with the increase of functions of semiconductor packages, and in the case of semiconductor packages having the same function or the same number of leads as the conventional semiconductor packages, the size thereof becomes smaller. Is showing. Increasing the number of leads and miniaturization of the semiconductor package has caused a problem of increased density in the inner leads. To solve this problem, the inner leads are processed finer to reduce the size of the inner leads or the die pad and the inner leads. It was necessary to increase the spacing between them and increase the length of the bonding wire by the enlarged spacing. However, the micromachining of the inner leads is very difficult to apply to universal manufacturing methods for mass production such as, for example, the stamping method, and the finer inner leads may be inadequate due to inadvertence during the manufacturing process. quality defects such as inner lead bent, etc., on the other hand, increasing the distance between the die pad and the inner leads not only leads to an increase in the manufacturing cost by increasing the use of expensive bonding wires, but also the bonding wires. Due to the increased length of the wire, quality problems such as wire sagging and wire sweeping could occur.

도 1a 내지 도 1c는 종래 기술에 따른 반도체 패키지의 일례를 나타내는 도면들로서, 도 1a는 반도체 패키지의 외관을 보여주는 사시도이고, 도 1b 및 도 1c는 반도체 패키지 내부 모습을 보여주는 평면도 및 단면도이다. 이 도면들을 통해 알 수 있듯이, 내부 리드들(40)의 밀집도가 그리 높지 않을 경우에는 내부 리드들 (40)을 미세하게 가공하지 않고, 또한 다이 패드(60)와 내부 리드들(40)과의 간격을 확대시키지 않아도 내부 리드들(40)의 수용 및 반도체 패키지(200)의 크기 설정에 큰 문제가 없지만, 만일, 내부 리드들(40)의 밀집도가 더욱 증가하게 된다면, 증가한 내부 리드들(40)의 밀집도를 감소시키기 위해서는 내부 리드들(40)을 더욱 미세하게 가공하여 내부 리드들(40)의 크기를 줄이거나, 또는 다이 패드(60)와 내부 리드들(40)과의 간격을 확대하고 그 확대된 간격 만큼 본딩 와이어(160)의 길이를 증가시켜야 할 것이므로, 앞서 기술했던 바와 같은 내부 리드들(40)의 미세 가공 문제와, 내부 리드 벤트, 와이어 새깅, 와이어 스위핑 등의 품질 불량 문제 및 고가인 본딩 와이어(160)의 사용량 증가로 인한 제조비용 상승 문제 등이 발생될 수 있다.1A to 1C are diagrams illustrating an example of a semiconductor package according to the related art, and FIG. 1A is a perspective view showing an appearance of a semiconductor package, and FIGS. 1B and 1C are plan and cross-sectional views showing an inside view of a semiconductor package. As can be seen from these figures, when the density of the inner leads 40 is not so high, the inner leads 40 are not finely processed and the die pad 60 and the inner leads 40 are not finely processed. Although there is no big problem in accommodating the inner leads 40 and setting the size of the semiconductor package 200 without increasing the spacing, if the density of the inner leads 40 is further increased, the increased inner leads 40 are increased. In order to reduce the density of the inner cores 40, the inner leads 40 may be further processed to reduce the size of the inner leads 40, or to increase the distance between the die pad 60 and the inner leads 40. Since the length of the bonding wire 160 needs to be increased by the enlarged interval, the micromachining problem of the inner leads 40 as described above, a quality problem such as internal lead venting, wire sagging, and wire sweeping, and Expensive Bonding Y The manufacturing cost increases due to problems such as increase in the amount of 160, can be generated.

따라서, 본 발명의 목적은 내부 리드들의 미세 가공이나, 본딩 와이어의 길이 증가 없이도 내부 리드들의 밀집도 증가를 방지하여 반도체 패키지의 소형화 및다핀화를 구현할 수 있는 반도체 패키지를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor package capable of miniaturizing and polyfining a semiconductor package by preventing internal processing of the internal leads and increasing the density of the internal leads without increasing the length of the bonding wire.

도 1a는 종래 기술에 따른 반도체 패키지(semiconductor package)의 일례를 보여주는 사시도,Figure 1a is a perspective view showing an example of a semiconductor package (semiconductor package) according to the prior art,

도 1b는 종래 기술에 따른 반도체 패키지 내부 모습의 일례를 보여주는 평면도,1B is a plan view showing an example of an internal view of a semiconductor package according to the prior art;

도 1c는 종래 기술에 따른 반도체 패키지 내부 모습의 일례를 보여주는 단면도,Figure 1c is a cross-sectional view showing an example of the internal appearance of a semiconductor package according to the prior art,

도 2a는 본 발명의 실시예에 적용되는 절연 테이프(isolated tape)의 일례를 보여주는 평면도,2A is a plan view showing an example of an insulated tape applied to an embodiment of the present invention;

도 2b는 도 2a의 단면도,2b is a sectional view of FIG. 2a,

도 3a는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 내부 모습을 보여주는 평면도,3A is a plan view illustrating an internal view of a semiconductor package according to a first embodiment of the present disclosure;

도 3b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 내부 모습을 보여주는 단면도,3B is a cross-sectional view illustrating an internal view of a semiconductor package according to a first embodiment of the present invention;

도 3c는 도 3b의 P 부분 확대도,3C is an enlarged view of a portion P of FIG. 3B;

도 4a는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지의 내부 모습을 보여주는 평면도,4A is a plan view illustrating an internal view of a semiconductor package according to a second embodiment of the present disclosure;

도 4b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지의 내부 모습을 보여주는 단면도,4B is a cross-sectional view illustrating an internal view of a semiconductor package according to a second embodiment of the present invention;

도 4c는 도 4b의 L 부분 확대도,4C is an enlarged view of a portion L of FIG. 4B;

도 5a는 중간 부분이 굴곡지게 형성된 더미 바(dummy bar)를 보여주는 도,FIG. 5a shows a dummy bar in which a middle portion is formed to be bent;

도 5b는 중간 부분이 분리되어 형성된 더미 바를 보여주는 도,Figure 5b is a view showing a dummy bar formed by separating the middle portion,

도 5c는 중간 부분이 분리되고 그 분리된 부분들이 서로 어긋나도록 형성된 더미 바를 보여주는 도 및FIG. 5C shows a dummy bar in which a middle portion is separated and the separated portions are formed to be offset from each other; FIG.

도 5d는 다이 패드(die pad)에 의해 지지되도록 형성된 더미 바를 보여주는 도이다.FIG. 5D shows a dummy bar formed to be supported by a die pad. FIG.

*도면의 주요 부분에 대한 도면의 설명** Description of the drawing on the main parts of the drawing *

20 : 외부 리드(outer lead) 40 : 내부 리드(inner lead)20: outer lead 40: inner lead

60 : 다이 패드 80 : 타이 바(tie bar)60: die pad 80: tie bar

100, 100a, 100b, 100c, 100d : 더미 바 140 : 본딩 패드(bonding pad)100, 100a, 100b, 100c, 100d: dummy bar 140: bonding pad

120 : 반도체 칩(semiconductor chip) 210 : 패키지 몸체120: semiconductor chip 210: package body

160 : 본딩 와이어(bonding wire) 220, 240 : 도전성 접착 수단160: bonding wire 220, 240: conductive bonding means

260 : 절연 테이프 262 : 절연 테이프 몸체260: insulating tape 262: insulating tape body

202a, 202b : 내부 리드 부착 홈 280 : 도전성 도금층202a, 202b: internal lead groove 280: conductive plating layer

204a, 204b : 본딩 와이어 부착 홈204a, 204b: bonding wire attachment groove

180 : 도체 회로 패턴(conductor circuit pattern)180: conductor circuit pattern

이러한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 복수개의 본딩 패드들이 형성된 반도체 칩과, 상부에 반도체 칩이 실장된 다이 패드와, 다이 패드로부터 소정의 간격 만큼 이격되어 형성되고 그에 대응되는 본딩 패드들과 전기적으로 접속되는 복수개의 내부 리드들 및 다이 패드를 지지하는 타이 바들을 포함하며, 또한 반도체 칩, 다이 패드, 내부 리드들, 타이 바들을 봉지하는 패키지 몸체를 포함하는 반도체 패키지에 있어서, 다이 패드와 내부 리드들 사이에 형성된 더미 바들을 포함하고, 또한, 복수개의 도체 회로 패턴들과, 그 도체 회로 패턴들을 노출시키는 내부 리드 부착 홈들 및 본딩 와이어 부착 홈들이 각각 형성되어 있고, 내부 리드 부착 홈들에 노출된 도체 회로 패턴들에는 도전성 접착 수단이 형성되며, 본딩 와이어 부착 홈들에 노출된 도체 회로 패턴들에는 도전성 도금층이 형성된 절연 테이프를 포함하며, 그 절연 테이프가 더미 바들로부터 내부 리드들에 걸쳐 부착되고, 도전성 접착 수단에는 내부리드가 부착되며, 도전성 도금층에는 본딩 패드에 접합된 본딩 와이어가 접합되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor chip including a plurality of bonding pads, a die pad on which a semiconductor chip is mounted, and bonding pads formed at a predetermined distance from the die pad and correspondingly bonded to the bonding pads. A semiconductor package comprising a plurality of internal leads connected to a plurality of internal leads and a die pad, the semiconductor package including a semiconductor chip, a die pad, internal leads, and a package body encapsulating the tie bars. A plurality of conductor circuit patterns, and inner lead attaching grooves and bonding wire attaching grooves each exposing the conductor circuit patterns, the dummy bars formed between the conductors, and exposed to the inner lead attaching grooves, respectively. Conductive adhesive means are formed in the circuit patterns, and the conductive circuit exposed to the bonding wire attachment grooves The furnace patterns include an insulating tape having a conductive plating layer formed thereon, wherein the insulating tape is attached from the dummy bars across the inner leads, the conductive bonding means is attached to the inner lead, and the conductive plating layer has a bonding wire bonded to the bonding pad. It provides a semiconductor package characterized in that the bonding.

이하 도면을 참조하여 본 발명에 따른 도체 회로 패턴이 포함된 절연 테이프를 구비한 반도체 패키지에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, a semiconductor package having an insulating tape including a conductor circuit pattern according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예에 적용되는 절연 테이프(260)의 일례를 보여주는 평면도 및 단면도이다. 도 2a 및 도 2b에 나타낸 것처럼, 절연 테이프 (260)는 예를 들어, 폴리이미드(polyimide)와 같은 절연성 재료로 형성되는 절연테이프 몸체(262)와, 절연 테이프 몸체(262)에 예를 들어, 구리와 같은 도전성 재료로 형성되는 복수개의 도체 회로 패턴들(180)과, 도체 회로 패턴(180)이 절연 테이프 몸체 외부로 노출되고 그곳에 예를 들어, 은 에폭시(Ag epoxy)와 같은 도전성 접착 수단(240)이 형성되며 내부 리드가 부착되는 내부 리드 부착 홈들(202a), 및 도체 회로 패턴(180)이 절연 테이프 몸체 외부로 노출되고 그곳에 예를 들어, 은 도금(Ag plating)과 같은 도전성 도금층(280)이 형성되며 본딩 와이어가 부착되는 본딩 와이어 부착 홈들(204a)로 구성되어 있다. 도체 회로 패턴들(180)은 예를 들어, 에칭(etching)과 같은 방법을 이용하여 형성할 수 있기 때문에, 내부 리드 (40)를 직접 미세 가공하는 것보다 대량 생산을 위한 제조 방법에 적용이 용이하고, 더욱 미세하게 형성할 수도 있다. 내부 리드 부착 홈들(202a) 및 본딩 와이어 부착 홈들(204a)의 위치는 절연 테이프의 구성 여건에 따라 변경될 수 있다.2A and 2B are a plan view and a cross-sectional view showing an example of an insulating tape 260 applied to an embodiment of the present invention. As shown in FIGS. 2A and 2B, the insulating tape 260 may be formed of, for example, an insulating tape body 262 formed of an insulating material such as polyimide, and an insulating tape body 262. The plurality of conductor circuit patterns 180 formed of a conductive material such as copper and the conductor circuit pattern 180 are exposed to the outside of the insulating tape body, and there for example conductive bonding means such as silver epoxy ( 240 is formed and the inner lead attaching grooves 202a to which the inner lead is attached, and the conductor circuit pattern 180 are exposed to the outside of the insulating tape body, where there is a conductive plating layer 280 such as, for example, silver plating. ) Is formed and is composed of bonding wire attachment grooves 204a to which a bonding wire is attached. Since the conductor circuit patterns 180 may be formed using a method such as etching, for example, the conductor circuit patterns 180 may be easily applied to a manufacturing method for mass production rather than directly processing the internal lead 40. And it can also form more finely. The position of the inner lead attaching grooves 202a and the bonding wire attaching grooves 204a may be changed depending on the configuration condition of the insulating tape.

도 3a 및 도 3b는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반도체 패키지의 내부 모습을 보여주는 평면도 및 단면도이고, 도 3c는 도 3b의 P부분 확대도이다. 도 3a 및 도 3b에서 나타낸 것처럼, 제 1 실시예는 다이 패드(60)와 내부 리드들(40) 사이에 더미 바들(100)을 형성하고, 그 더미 바들(100)로부터 내부 리드들(40)에 걸쳐 부착되도록 절연 테이프(260)를 구성하되, 절연 테이프(260)가 더미 바들(100)과 내부 리드들(40)의 하부면에 부착되는 것을 특징으로 하고 있다. 도 3c는 도 3b의 P부분 확대도로서 본 실시예에 적용되는 절연 테이프(260)가 더미 바(100)와 내부 리드(40)의 하부면에 부착되어 있는 모습을 상세히 나타내고 있는데, 도 3c에 의하면, 본 실시예에 적용된 본딩 와이어 부착 홈들(204a)은 더미 바(100)와 내부리드(40) 사이에 형성되어 있으며, 내부 리드 부착 홈들(202a)에는 도전성 접착 수단(240)이 형성되어 있고, 본딩 와이어 부착 홈들(204a)에는 도전성 도금층(280)이 형성되어 있다.3A and 3B are plan and cross-sectional views illustrating an internal view of a semiconductor package according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3C is an enlarged view of portion P of FIG. 3B. As shown in FIGS. 3A and 3B, the first embodiment forms dummy bars 100 between the die pad 60 and the inner leads 40, from the inner bars 40 from the dummy bars 100. The insulating tape 260 is configured to be attached to the insulating tape 260, and the insulating tape 260 is attached to the bottom surfaces of the dummy bars 100 and the inner leads 40. FIG. 3C is an enlarged view of a portion P of FIG. 3B, showing in detail the insulation tape 260 applied to the present embodiment is attached to the bottom surface of the dummy bar 100 and the inner lead 40. According to the present invention, the bonding wire attachment grooves 204a applied in the present embodiment are formed between the dummy bar 100 and the inner lead 40, and the conductive adhesion means 240 is formed in the inner lead attachment grooves 202a. The conductive plating layer 280 is formed in the grooves 204a having the bonding wires.

도 4a 및 도 4b는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반도체 패키지의 내부 모습을 보여주는 평면도 및 단면도이고, 도 4c는 도 4b의 L부분 확대도이다. 도 4a 및 도 4b에서 나타낸 것처럼, 제 2 실시예에서는 다이 패드(60)와 내부 리드들의 사이에 더미 바들(100)을 형성하고, 그 더미 바들(100)로부터 내부 리드들에 걸쳐 부착되도록 절연 테이프(260)를 구성하되, 더미 바들(100)과 내부 리드들(40)의 상부면에 그 절연 테이프(260)가 부착되는 것을 특징으로 하고 있다. 도 4c는 도 4b의 L부분 확대도로서 본 실시예에 적용되는 절연 테이프(260)가 더미 바들(100)과 내부 리드들(40) 사이에 부착되어 있는 모습을 상세히 나타내고 있는데, 도 4c에 의하면 내부 리드 부착 홈들(202b) 및 본딩 와이어 부착 홈들(204b)에는 제 1 실시예에서와 같이 도전성 접착 수단(240) 및 도전성 도금층(280)이 형성되어 있으나, 본 실시예에 적용된 본딩 와이어 부착 홈들(204b)은 더미 바들의 폭의 범위 내에 형성된다. 이렇게 본딩 와이어 부착 홈들(204b)을 더미 바들의 폭의 범위 내에 형성하는 것은 와이어 본딩(wire bonding) 시 와이어 본딩의 성능을 향상시키는 효과를 가져올 수 있다.4A and 4B are plan and cross-sectional views illustrating an internal view of a semiconductor package according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4C is an enlarged view of portion L of FIG. 4B. As shown in Figs. 4A and 4B, in the second embodiment, the dummy bars 100 are formed between the die pad 60 and the inner leads, and the insulating tape is attached from the dummy bars 100 to the inner leads. The insulating tape 260 is attached to the upper surfaces of the dummy bars 100 and the inner leads 40. FIG. 4C is an enlarged view of the portion L of FIG. 4B, showing in detail the insulation tape 260 applied to the present embodiment is attached between the dummy bars 100 and the inner leads 40. In the inner lead attaching grooves 202b and the bonding wire attaching grooves 204b, the conductive bonding means 240 and the conductive plating layer 280 are formed as in the first embodiment, but the bonding wire attaching grooves applied in the present embodiment ( 204b) is formed within the range of the width of the dummy bars. Forming the bonding wire attachment grooves 204b within the range of the width of the dummy bars may have an effect of improving the performance of wire bonding during wire bonding.

도 5a 내지 도 5d는 다이 패드(60)와 내부 리드들 사이에 형성되며, 본 발명에 따른 절연 테이프를 부착하기 위한 더미 바들(100a 내지 100d)의 형태를 나타내는 도면들로서, 도 5a는 타이 바들에 의해 지지되도록 타이 바와 타이 바 사이를가로질러 형성하되 그 중간이 굴곡진 더미 바(100a)의 모습을 보여주고, 도 5b는 타이 바들에 의해 지지되도록 타이 바와 타이 바 사이를 가로질러 형성하되 그 중간이 분리된 더미 바들(100b)의 모습을 보여주며, 도 5c는 타이 바들에 의해 지지되도록 타이 바와 타이 바 사이를 가로질러 형성하되 그 중간이 분리되고 분리된 더미 바들(100c)의 배치가 서로 어긋난 더미 바들(100c)의 모습을 보여주고, 도 5d는 타이 바들이 아닌 다이 패드에 의해 지지되도록 형성된 더미 바들(100d)의 모습을 보여준다.5A to 5D are views showing the shape of the dummy bars 100a to 100d formed between the die pad 60 and the inner leads and for attaching the insulating tape according to the present invention. It is formed across the tie bar and the tie bar so as to be supported by the middle of the curved dummy bar (100a) in the middle, Figure 5b is formed across the tie bar and tie bar so as to be supported by the tie bars, 5C shows the shape of the separated dummy bars 100b, and FIG. 5C is formed between the tie bars and the tie bars so as to be supported by the tie bars, the middle of which is separated, and the arrangement of the separated dummy bars 100c is shifted from each other. The dummy bars 100c are shown, and FIG. 5D shows the dummy bars 100d formed to be supported by die pads rather than tie bars.

위에서는 하나의 몸체로 구성된 절연 테이프와 몇 가지 형태의 더미 바들에 의한 실시예들을 나타냈으나, 본 발명은 위에서 설명한 실시예들에만 한정되지 않는다. 예를 들어, 둘 이상의 몸체로 분리되어 구성된 절연 테이프를 본 발명에 적용할 수도 있으며, 또는 더미 바들이 어떠한 형태를 갖든지 절연 테이프를 부착 할 수 있으면 본 발명에 적용할 수 있다.In the above, embodiments of the insulating tape composed of one body and several types of dummy bars are shown, but the present invention is not limited to the embodiments described above. For example, the insulating tape separated into two or more bodies may be applied to the present invention, or if the dummy bars have any shape, the insulating tape may be attached to the present invention.

이상과 같은 본 발명에 의한 도체 회로 패턴이 포함된 절연 테이프를 구비한 반도체 패키지의 구조에 따르면, 내부 리드들의 크기를 감소시키기 위한 내부 리드들의 미세 가공 문제와, 그로 인한 내부 리드 벤트 등의 품질 불량 문제, 또는 다이 패드와 내부 리드들과의 간격 확대로 인해 발생할 수 있는 고가의 본딩 와이어 사용량 증가에 의한 제조비용 상승 문제와, 와이어 새깅, 와이어 스위핑 등의 본딩 와이어의 길이 증가에 의한 품질 불량 문제 등을 방지하면서도 내부 리드들의 밀집도 증가를 방지하는 효과가 있다.According to the structure of the semiconductor package having an insulating tape containing a conductor circuit pattern according to the present invention as described above, the problem of fine processing of the internal leads to reduce the size of the internal leads, and the resulting poor quality such as internal lead vents Problems such as manufacturing cost increase due to the increase in the use of expensive bonding wires, which may occur due to the gap between the die pad and the inner leads, and poor quality due to the increase in the length of the bonding wire such as wire sagging and wire sweeping. While preventing the effect of increasing the density of the inner leads.

Claims (7)

복수개의 본딩 패드들(bonding pads)이 형성된 반도체 칩(semiconductor chip)과;A semiconductor chip having a plurality of bonding pads formed thereon; 상부에 상기 반도체 칩이 실장된 다이 패드(die pad)와;A die pad having the semiconductor chip mounted thereon; 상기 다이 패드로부터 소정의 간격 만큼 이격되어 형성되고 그에 대응되는 상기 본딩 패드들과 전기적으로 접속되는 복수개의 내부 리드들(inner leads)과;A plurality of inner leads formed spaced apart from the die pad by a predetermined interval and electrically connected to the bonding pads corresponding thereto; 상기의 다이 패드를 지지하는 타이 바들(tie bars); 및Tie bars supporting said die pad; And 상기 반도체 칩과, 상기 다이 패드와, 상기 내부 리드들과, 상기 타이 바들을 봉지하는 패키지 몸체;A package body encapsulating the semiconductor chip, the die pad, the inner leads and the tie bars; 를 포함하는 반도체 패키지에 있어서,In the semiconductor package comprising a, 상기 다이 패드와 상기 내부 리드들 사이에 형성된 더미 바들(dummy bars)과;Dummy bars formed between the die pad and the inner leads; 복수개의 도체 회로 패턴들과, 그 도체 회로 패턴들을 노출시키는 내부 리드 부착 홈들 및 본딩 와이어 부착 홈들이 각각 형성되어 있고, 상기 내부 리드 부착 홈들에 노출된 도체 회로 패턴들에는 도전성 접착 수단이 형성되며, 상기 본딩 와이어 부착 홈들에 노출된 도체 회로 패턴들에는 도전성 도금층이 형성된 절연 테이프; 를 더 포함하며,A plurality of conductor circuit patterns, inner lead attaching grooves and bonding wire attaching grooves exposing the conductor circuit patterns are formed, respectively, and conductive bonding means are formed in the conductor circuit patterns exposed to the inner lead attaching grooves, An insulating tape having a conductive plating layer formed on the conductive circuit patterns exposed to the bonding wire attachment grooves; More, 상기 절연 테이프가 상기 더미 바들로부터 상기 내부 리드들에 걸쳐 부착되고, 상기 도전성 접착 수단에는 상기 내부 리드가 부착되며, 상기 도전성 도금층에는 상기 본딩 패드에 접합된 본딩 와이어가 접합되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.Wherein the insulating tape is attached from the dummy bars to the inner leads, the inner lead is attached to the conductive adhesive means, and a bonding wire bonded to the bonding pad is bonded to the conductive plating layer. . 제 1 항에 있어서, 상기 절연 테이프가 상기 내부 리드들과 상기 더미 바들의 하부면에 부착되고, 상기 본딩 와이어 부착 홈들이 상기 내부 리드들과 상기 더미 바들 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 1, wherein the insulating tape is attached to lower surfaces of the inner leads and the dummy bars, and the bonding wire attachment grooves are formed between the inner leads and the dummy bars. 제 1 항에 있어서, 상기 절연 테이프가 상기 내부 리드들과 상기 더미 바들의 상부면에 부착되고, 상기 본딩 와이어 부착 홈들이 상기 더미 바들의 폭의 범위 내에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package according to claim 1, wherein the insulating tape is attached to the inner leads and the upper surfaces of the dummy bars, and the bonding wire attachment grooves are formed within a width of the dummy bars. 제 1 항에 있어서, 상기 더미 바들을 상기 타이 바들에 의해 지지되도록 타이 바와 타이 바 사이를 가로질러 형성하되 그 중간이 굴곡지게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 1, wherein the dummy bars are formed between the tie bars and the tie bars so as to be supported by the tie bars, and the middle of the dummy bars is curved. 제 1 항에 있어서, 상기 더미 바들을 상기 타이 바들에 의해 지지되도록 상기 타이 바와 상기 타이 바 사이를 가로질러 형성하되 그 중간이 분리되어 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 1, wherein the dummy bars are formed across the tie bars and the tie bars so that the dummy bars are supported by the tie bars. 제 1 항에 있어서, 상기 더미 바들을 상기 타이 바들에 의해 지지되도록 상기 타이 바와 상기 타이 바 사이를 가로질러 형성하고 그 중간이 분리되도록 형성하되, 분리된 상기 더미 바들의 위치가 서로 어긋나도록 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The method of claim 1, wherein the dummy bars are formed across the tie bars and the tie bars so as to be supported by the tie bars, and are formed so as to be separated from each other, wherein the positions of the separated dummy bars are shifted from each other. A semiconductor package characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서, 상기 더미 바들을 상기 다이 패드에 의해 지지되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The semiconductor package of claim 1, wherein the dummy bars are formed to be supported by the die pad.
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