KR200296425Y1 - 잔류염소 검지용 센서 및 이의 자동세척장치 - Google Patents
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Abstract
본 고안은 잔류염소 측정장치에 구비되는 잔류염소 측정센서 및 이의 자동세척장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 물속에 포함된 잔류염소를 정전위전해법에 의한 무시약식 측정을 위해 최초 샘플수와 접촉되어 샘플수에 포함된 잔류염소를 검지, 전기적인 신호를 발생시키는 잔류염소 검지/발신부에 구비된 잔류염소 검지용센서의 말단에는 샘플수에 접촉되어 도전된 전류에 의해 전위차를 발생시키는 기준전극부가 백금(Pt)으로 이루어지고, 이 기준전극부에 대향되는 비교전극부는 백금(Pt)과 티탄늄(Ti) 및 은(Ag)의 합금산화피막물로 구성된 쌍전극으로 형성되어 전기·화학방식으로 잔류염소를 검지하도록 구성되며, 또한 상기 잔류염소검지용센서의 외측에는 탈·부착 가능하고 상기 잔류염소 검지용센서를 감싸는 튜브타입의 세척조가 설치되고, 상기 세척조는 내측으로 유입된 샘플수가 잔류염소 검지용센서를 중심으로 자연스럽게 와류가 발생되도록 각기 다른 방향의 외주연 상하단에 샘플수의 유입구와 유출구가 각각 형성되며, 상기 세척조로 유입된 샘플수가 잔류염소 검지용센서의 표면과 충돌이 발생되어 이물질의 침적을 방지하도록 케이스 내부에 비즈가 구비된 잔류염소 검지용 센서의 자동세척장치에 관한 것이다.
Description
본 고안은 잔류염소 측정장치에 구비되는 잔류염소측정센서 및 이의 자동세척장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 정전위전해법을 이용한 무시약식으로 잔류염소 측정센서부의 기준전극부와 비교전극부가 백금과 백금, 타탄늄 및 은의 합금으로 이루어진 금속산화피막물로 형성되도록 하여 잔류염소의 정확한 농도를 측정할 수 있는 잔류염소 측정센서와 이의 자동세척이 가능한 자동세척장치에 관한 것이다.
종래의 상수 및 하수 처리시에 유입되는 원수에 황산알루미늄이나 염소같은 약품이 투입되는데, 이러한 약품들은 물속에 포함된 이물질들이 서로 응집되도록 할 뿐만 아니라 물속에 포함된 균을 죽이고 물의 냄새를 없애 물의 맛을 좋게 하는 것으로, 이와 같은 약품처리로 인해 응고와 응집이 이루어진 불순물이 포함된 물이 침전지와 여과지를 거치면서 투입된 약간의 염소나 다른 약품에 의해 잔존하는 세균을 없애도록 한 후에 정수지에 저장되어 각 가정에 공급되어진다.
이와 같이 정수 및 하수처리시에 주로 많이 쓰이는 약품인 염소의 투입시기나 투입량은 유입되는 물의 양이나 정화되는 양에 따라 적절하게 공급되어야 하므로, 종래에 여러가지의 염소투입장치가 사용되고 안출된 바 있다.
그러나, 염소의 자동 투입시기나 양을 결정하는 중요한 요소로 물속에 포함된 잔류염소의 정확한 측정이 사전에 행해지는 것이 필요하였으며, 잔류염소의 측정을 위해 종래에는 시약식의 잔류 염소측정방법이 사용되었으나, 이러한 종래의 방법은 매시간 또는 일정간격으로 샘플수를 채취하여 측정하여야 하는 관계로 매우 번거롭고 복잡한 방법으로 이루어졌었다.
특히, 시약식으로 이루어지는 경우 시약 사용에 따른 폐수가 발생하고 비연속적으로 측정됨으로 인해 정확한 잔류염소 측정에 어려움이 있었으며, 무시약형인 경우 사용된 잔류염소 측정센서에 이물질이 쉽게 끼고 이물질을 제거하기 위해 센서의 표면을 닦게 되면 합금처리된 피막이 벗겨지게 되어 센서의 교환이 잦은 불편이 있었다.
본 고안은 종래의 시약식 잔류염소의 측정방법이 갖는 단점을 해결하고, 또한 비시약형인 잔류염소 측정기의 측정센서에 이물질이 침적되는 것을 방지하여 센서의 내구성을 향상시키고, 연속적으로 잔류염소 측정이 가능하여 정확한 염소주입시기를 결정함으로써 양질의 정수를 생산할 수 있는 잔류염소 측정센서와 이의 자동세척장치를 제공하고자 하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위해, 본 고안에 따른 잔류염소 검지용 센서는 물속에 포함된 잔류염소를 정전위전해법에 의해 무시약식으로 측정하기 위해 최초 샘플수와 접촉되어 샘플수에 포함된 잔류염소를 검지, 전기적인 신호를 발생시키는 잔류염소 검지/발신부에 구비된 잔류염소 검지용 센서에 있어서, 상기 잔류염소 검지센서는 샘플수에 잠기거나 샘플수와 접촉하는 잔류염소 검지센서부의 기준전극부는 백금으로 이루어지고, 비교전극부는 백금, 티탄늄 및 은의 금속 산화피막물로 구성된 쌍전극으로 이루어져 전기·화학방식으로 잔류염소를 측정할 수 있는 특징적인 구성으로 이루어진다.
또한, 잔류염소 검지/발신부에 구비된 잔류염소 검지용센서의 외측에는 검지용센서를 자동으로 세척가능한 자동세척장치가 탈·부착 가능하게 설치되는 것으로, 상기 자동세척장치는 잔류염소 검지용 센서를 감싸는 구조의 튜브형 세척조와, 상기 세척조의 내측으로 유입된 샘플수가 잔류염소 검지용 센서를 중심으로 자연스럽게 와류가 발생되도록 각기 다른 방향으로 세척조의 상·하단에 각각 형성된 샘플수의 유입구 및 유출구와, 상기 세척조의 내부에 유입된 물의 와류시 함께 회전되어 잔류염소 검지용센서 표면과 충돌이 이루어져 잔류염소 검지용센서의 표면에 이물질이 침적되는 것을 방지하도록 세척조 내부에 비즈가 구비된 구성으로 이루어진다.
특히, 상기 자동세척장치에는 자동 또는 수동으로 동작되어 외부에서 공급된 전원에 의해 자장을 발생시키는 스테이터와, 상기 스테이터에 발생된 자장에 의해 일정 속도로 회전이 이루어져 케이스 내부에서 샘플수의 와류를 더욱 효과적으로발생시키는 로터가 구비된 와류발생장치가 상기 케이스의 하단에 구비된 특징을 갖도록 구성된다.
도 1은 본 고안에 따른 잔류염소측정센서가 이용된 측정장치의 블록구성도,
도 2a, 도 2b는 도 1의 블록구성도에서 검지/발신부와 수신/제어부의 개략적인 장치구성도,
도 3은 검지/발신부에서 본 고안에 따른 잔류염소 검지용센서만을 발췌한 확대단면도,
도 4 및 도 5는 본 고안에 따른 잔류염소 검지용센서에 자연 와류발생으로 센서의 세척이 가능하도록 자동세척장치가 구비된 일실시예와 다른 실시예의 단면도,
도 6a 및 도 6b는 도 4의 A-A선과 B-B선에 따른 단면도,
도 7은 도 5의 자동세척장치가 구동되어 물과 비즈가 동작되는 상태도이다.
※ 도면의 주요부분에 대한 간단한 설명
10 : 검지/발신부 20 : 잔류염소 검지용센서
22 : 기준전극부 25 : 비교전극부
40 : 수신/제어부 42 : 데이터표시부
50 : 세척조 52 : 비즈
53 : 샘플수유입구 54 : 샘플수배출구
60 : 와류장치 62 : 스테이터
64 : 로터
이하, 명세서에 첨부된 도면을 참고하면서 본 고안의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
본 고안에 따른 잔류염소 검지용 센서 및 이의 자동세척장치는 정전위 전해법을 이용한 무시약식으로 물속에 포함된 잔류염소를 측정하는데 사용하기 위한 것으로, 본 고안에 따른 잔류염소 검지용센서 및 이의 자동세척장치를 설명하기 앞서 정전위전해법에 의한 잔류염소 측정원리와 본 고안이 적용되는 측정장치에 대해서 간단히 설명하고, 이러한 원리를 이용하여 잔류염소를 검지하는 본 고안에 따른 잔류염소 검지센서와 이의 자동세척장치를 후술하기로 한다. 또한, 본 고안이 적용된 잔류염소 측정장치 및 자동세척장치에 적용된 각종 전기적 구성 및 이의 연관관계에 대해서는 통상의 기술로 충분히 구현가능하므로 본 고안에서는 이의 상세한 설명을 생략하기로 한다.
정전위전해법
정전위 전해법은 일정 전위전해법을 지칭하는 것으로, 용액속에 넣은 양극 또는 음극의 한쪽(또는 모두)의 전극 전위를 기준 전극에 대하여 일정하게 유지하여 전기분해하는 방법으로, 전기량 분석에 많이 사용된다.
즉, 정전위전해법은 두 전극을 시험수(샘플링수)에 담그고 일정유량에 의한 전위차(정전위)발생과 유리(遊離) 염소를 환원제로 한 1차 전지를 형성(전해)시키는 무시약식이며 그 측정원리는 다음과 같다.
분자상의 염소가 수중에 존재하게 되면 전기적으로는 중성이 되는 것으로, 아래의 식(1)과 같이 나타낼 수 있다.
Cl2+ H2O ⇔ Cl2·NH2O ···· 식(1)
그러나, 일단 물과 반응하면 다음식과 같이 가수(加水)분해되어 화학적 균형을 갖게 된다.
Cl2+ H2O ⇔ H++ Cl-+ HOCl ··· 식(2)
HOCl ⇔ H++ OCl-······· 식(3)
이러한 해리(解離)평형은 네룬스트의 연(撚)역학의 법칙에서 알 수 있는 바와 같이, 온도와 압력에 상관되는 것이나 위의 경우는 압력을 전혀 고려할 필요가 없고, 온도 또한 정수처리에서는 무시하여도 된다.
따라서, 수중에 있는 유리염소의 대부분은 식(2)와 식(3)과 같은 화학평형을 보이지만 일부의 유리염소는 평형환수(桓數) 이상의 부분이 되어 식(1)과 같은 분자상 화합물의 상태로 수중에 상온으로 존재하게 되나, 유리염소의 대부분은 수중의 PH치가 3.0 이상 및 전염소농도가 1,000ppm 이하에서는 수중에 존재하는 유리염소로서 계산되어질 수 있는 정도가 못된다.
그러므로, 염소의 대부분은 물과 반응하면 차아염소산(HOCl) 또는 아염소산(酸)이온(OCl-)으로 존재하게 된다.
NH4 ++ HOCl ⇔ H2O + H++ NH2Cl ···· 식(4)
NH2Cl + HOCl ⇔ H2O + NHCl2······식(5)
NHCl2+ HOCl ⇔ H2O + NCl3······ 식(6)
따라서, 위와 같은 수중의 잔류염소를 복극제(復極劑)로 하여 잔류염소의 농도와 비례하는 복극전류를 발생시켜서 그 량에 비례되는 전위차 또는 기전력으로 바꾸는 방법 즉, 잔류염소의 측정방법을 생각하게 한다.
이러한 경우, 종래에는 외부에서 전압을 가하여 “폴라로그라프”파(波)를 발생시키든가 또는 정량적으로 측정하는 방법이 응용되어 왔으나 이러한 방법은 조작 및 측정에 있어 극히 어렵고 복잡한 측정기로 이루어지기 마련이다. 측정전극은 외부전압을 가하는 대신 갈바닉 전류를 발생시키는 원리를 응용하였으며 전극의 구조 또한 정극과 부극으로 구성하였고 윗부분을 백금(PT)으로, 아래부분은 백금(PT)+이리듐(Ir)으로 하여 동원심(同圓心)상에 위치토록 하여 샘플수에 담금으로서 정극에서 부극으로 전류가 흐르게 되며, 아래 식의 샘플수의 정류(定流)에 의하여
Cl2+ H2O ⇔ H++ Cl-+ HOCl ···· 식(7)
HOCl ⇔ H++ OCl-······ 식(8)
전기화학적 반응으로 전리용압(電離溶壓)이 높은 정극에서 방전현상을 갖게 되고 방전된 전자는 전리용압이 낮은 부극으로 보내지고 부극은 보내진 전자를 받아 아래의 식(9) 및 식(10)과 같은 환원반응을 보이게 되고, 그 전극 자체는 “캐소드”가 된다.
2H2O + 2e ⇔ 2OH-+ H2···· 식(9)
2HOCl + 2e ⇔ H2+ 2OCl-···· 식(10)
또한, 전리용압이 높은 정극은 아래 식(11) 및 식(12)와 같이 산화반응을 갖게 되어 전극자체는 “아노드”가 된다.
Pt + 2e ⇔ Pt+2···· 식(11)
다시 말해, 양전극은 1차 전지로 되며 발생된 전류를 증폭/교정하여 잔류염소농도를 지시(指示)하게 된다.
이와 같은 정전위전해법을 이용하여 잔류염소를 측정하는데 쓰이는 본 고안이 적용된 잔류염소 측정장치의 간단한 블록구성도가 도 1에 도시되어 있고, 도 2a 와 도 2b에는 이의 개략적인 장치상태가 도시되어 있다.
본 고안에 따른 잔류염소 검지용센서가 사용되는 잔류염소측정장치는 도 2a 와 도 2b에 도시된 바와 같이, 공급된 샘플수에서 잔류염소를 검지하여 일정한 전기적신호를 발생시켜 송신하는 잔류염소 검지/발신부(10)와, 상기 검지/발신부(10)에서 송신된 전기적인 신호를 일정한 데이터로 변환하여 아날로그 또는 디지털로 표시하고 잔류염소 측정에 필요한 기기의 셋팅, 조정 및 측정범위의 설정등을 제어하는 수신/제어부(40)로 구성된다.
상기 검지/발신부(10)에는 샘플수가 최초에 유입되는 최초유입구(30)와 유입된 샘플수가 정수 저장되는 정수조(35)와, 유입된 샘플수가 통과되는 동안 물속에 함유한 잔류염소를 검지하여 일정한 전기적 신호를 발생 송신하는 잔류염소검지부(12)와, 잔류염소검지부(12)를 통과한 샘플수가 최종적으로 배출되는 유출구(32)와 샘플수드레인(36), 장치의 취부를 위한 취부판(37), 오버플로우관(38), 샘플수의 유량을 조절하는 유수조절손잡이(39)등이 구비되어 이루어진다.
또한, 상기 수신/제어부(40)에는 상기 검지/발신부(10)에서 송신된 전기적인 신호가 일정한 데이터로 변환되어 아날로그 또는 디지털로 표시되는 데이터표시부(42)와, 잔류염소의 측정농도 상·하한 범위를 설정하는 설정버튼(43)과 설정조절밸브(44), 장치의 제로 셋팅과 테스트 및 스팬조정을 위한 밸브와 스위치(45)(46)(47)가 각각 구비되어 있는 것으로, 이와 같은 잔류염소 측정장치는 사용하는 목적에 따라 다양한 구성으로 이루어질 수 있는 것으로, 본 고안에서는 상기 장치에 대한 상세한 설명은 생략하고 본 고안의 특징부에 대해서만 설명하기로한다.
한편, 상술한 잔류염소 측정장치의 검지/발신부(10)에 구비되어 상술한 정전위전해법으로 잔류염소를 측정하는데 사용되는 본 고안에 따른 잔류염소 검지용 센서는 도 3에 도시된 바와 같이, 정수지의 물 또는 샘플수에 담겨져 물속에 포함된 잔류염소를 검지(전위차 발생)하는 잔류염소 검지용센서(20) 말단에 형성된 기준전극부(+전극, 22)가 백금(Pt)으로 이루어지고, 이에 대응하는 비교전극부(-전극, 25)는 백금(Pt)과 티타늄(Ti) 및 은(Ag)의 금속합금으로 이루어진 산화피막물로 구성되어 있는 특징을 갖는다.
특히, 이와 같이 구성된 잔류염소 검지용센서(20)의 외주연에는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 자동세척장치(50)가 구비되는데, 상기 자동세척장치(50)는 자연식 세척이 가능한 구조로 이루어진 튜브타입의 세척조(51)와, 상기 세척조(51)의 하단에 와류발생장치(60)가 구비된 구조로 이루어진다.
즉, 도 4의 자동세척장치(50)의 세척조(51)는 탈·부착 가능한 구조로 이루어져 있으며, 세척조(51)의 내부로 유입된 물이 검지용센서(20)의 주변에서 자연스럽게 와류가 일어날 수 있도록 하여 상기 세척조(51)의 상·하단에 각기 다른 방향으로 샘플수유입구(53)와 샘플수배출구(54)가 각각 형성되어 있으며, 상기 세척조(51)로 유입된 샘플수의 와류시 함께 회전되어 잔류염소 검지용센서(20)의 기준전극부(22)와 비교전극부(25)의 표면에 충돌되어 이물질의 침적을 방지하도록 세척조(51)의 내부에 플라스틱알갱이의 비즈(52)가 구비되어 있다.
상기 세척조(51)에 구비된 샘플수유입구(53)와 샘플수배출구(54)는 도 6a 및도 6b 에 도시된 바와 같이, 세척조(51)의 몸통부를 중심으로 상호 반대측에 형성되어 있어 세척조(51)의 내부로 유입된 샘플수가 잔류염소 검지용센서(20)를 중심으로 회전되면서 상기 샘플수유입구(53)와 반대측 방향으로 형성된 샘플수배출구 (54)를 통해 자동으로 배출되면서 물에 포함된 플럭이나 각종 이물질이 잔류염소 검지용센서(20)의 양 전극부 표면에 침적되는 것을 방지할 수 있는 구조로 이루어지며, 유입된 물의 와류시 세척조(51)의 내부에 포함된 플라스틱 알갱이의 비즈(52)도 함께 회전되어 잔류염소 검지용센서(20)의 표면에 충돌, 마찰작용으로 그 표면을 깨끗이 세척할 수 있는 구조로 이루어진다.
또한, 도 5는 상기 세척조(51)가 구비된 자동세척장치(50)에 와류발생장치 (60)가 부가되어 세척조(51)의 내부로 유입된 샘플수가 더욱 효과적으로 와류발생이 일어나도록 하여 잔류염소 검지용센서(20)의 양 전극부에 비즈(52)의 충돌이 잘 일어날 수 있도록 하여 표면세척이 더욱 용이하게 이루어지도록 하는 것으로, 상기 와류발생장치(60)는 세척조(50)의 하단에 구비되어 자동 또는 수동으로 외부에서 공급된 전원에 의해 자장을 발생시키는 직류모터 및 스테이터(62)와, 이 스테이터(62)에서 발생된 자장에 의해 일정한 속도로 회전하는 로터(64)로 이루어지며, 상기 로터(64)는 원형이 아닌 타원형이나 막대모양 또는 스타(☆)모양으로 이루어져 회전시 와류발생이 잘 일어날 수 있는 구조로 이루어진 것이 바람직하다.
한편, 이하에서는 상술한 구성으로 이루어진 본 고안에 따른 잔류염소 검지용센서와 이의 자동세척장치에 대한 작용 및 효과에 대해서 설명한다.
본 고안에 따른 잔류염소 검지용센서(20)는 샘플수 내에서 전위차를 발생시켜 잔류염소의 농도를 검지하는 기준전극부(22)가 백금(Pt)으로 이루어져 있고, 이 기준전극부(22)에 대응하는 비교전극부(25)는 백금(Pt)과 티타늄(Ti) 및 은(Ag)의 합금 산화피막물로 이루어져 있어, 정전위 발생이 일어나도록 하는 전극 표면이 매끄러워 물에 포함된 미세한 현탁물질이나 플럭 등 각종 이물질이 쉽게 침적되는 것을 방지하여 잔류염소를 검지하는 검지용센서의 측정능력이 저하되는 것을 방지하게 되며, 또한 장기간 사용하여 합금산화피막물이 벗겨지더라도 다시 재생하여 사용할 수 있어서 관리 및 보수 측면에서도 유리하다.
특히, 본 고안의 실시예에 따른 잔류염소 검지용센서(20)의 하단에 자동세척장치(50)가 구비된 경우, 세척조(51)로 유입된 샘플수가 유입구(53)와 배출구(54)의 형성 구조에 의해 잔류염소 검지용센서(20)의 주변에서 자연스럽게 와류가 발생되고, 이러한 와류 발생으로 세척조(51) 내부의 비즈(52)가 물과 함께 회전하면서 잔류염소 검지용센서(20)의 표면세척이 자동으로 이루어지도록 하며, 특히 상기 자동세척장치(50)에 와류발생장치(60)가 부가된 경우(도 7참조), 와류발생장치(60)의 로터(64)가 외부에서 공급된 전원에 의해 일정 속도로 회전하게 되어 비즈(52)의 움직임이 더욱 활발하게 되어 잔류염소 검지용센서(20)의 세척효율을 더욱 향상시키게 되고, 검지용센서(20)의 세척효율 증대로 잔류염소 측정장치에서 잔류염소의 측정이 정확히 이루어지도록 하여 염소의 주입시기와 주입량 등을 정확하게 제어하여 양질의 정수가 생산될 수 있도록 한다.
또한, 엄밀한 염소주입시기를 제어하여 지나친 염소주입으로 인한 염소의 낭비를 막을 수 있도록 하고, 정수된 물에서 과도한 약품냄새가 나는 것을 방지할 수 있으며, 상기 세척조(51)에 부가된 와류발생장치(60)의 동작이 타이머에 의한 자동 또는 수동으로 제어가능하도록 구성될 수 있기 때문에 사용 및 관리의 편리성을 한층 향상시킬 수 있고 잔류염소 검지용센서(20)의 내구성을 향상시킬 수 있게 된다.
상술한 바와 같이, 본 고안에 따른 잔류염소 검지용 센서 및 이의 자동세척장치는 샘플수 또는 정수지의 물에 포함된 잔류염소를 자동적이고 연속적으로 정확하게 측정하여 염소의 정확한 주입시기와 주입량의 제어가 가능하여 안전한 정수(淨水) 제공이 가능하고, 잔류염소를 검지하는 검지용센서가 물에 포함된 미세한 현탁물질이나 플럭에 의해 쉽게 오염되지 않아 장기간 사용이 가능하고 정기적 세척이 필요치 않아 관리가 용이하며, 잔류염소 검지용 센서의 합금 피막물이 벗겨질 경우에는 이를 다시 재생하여 사용할 수 있는 용이한 장점을 제공한다.
Claims (3)
- 물속에 포함된 잔류염소를 정전위전해법에 의한 무시약식 측정을 위해 최초 샘플수와 접촉되어 샘플수에 포함된 잔류염소를 검지, 전기적인 신호를 발생시키는 잔류염소 검지/발신부에 구비된 잔류염소 검지용센서에 있어서,상기 잔류염소 검지용센서의 말단에는 샘플수에 접촉되어 도전된 전류에 의해 전위차를 발생시키는 기준전극부가 백금(Pt)으로 이루어지고, 이 기준전극부에 대향되는 비교전극부는 백금(Pt)과 티탄늄(Ti) 및 은(Ag)의 합금산화피막물로 구성된 쌍전극이 형성되어 전기·화학방식으로 잔류염소를 검지할 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 잔류염소 검지용 센서.
- 물속에 포함된 잔류염소를 검지, 전기적인 신호를 발생시키는 잔류염소 검지/발신부의 잔류염소검지용센서의 외측에는 탈·부착 가능하고 상기 잔류염소 검지용센서를 감싸는 튜브타입의 세척조가 설치되고, 상기 세척조는 내측으로 유입된 샘플수가 잔류염소 검지용센서를 중심으로 자연스럽게 와류가 발생되도록 각기 다른 방향의 외주연 상하단에 샘플수의 유입구와 유출구가 각각 형성되며, 상기 세척조로 유입된 샘플수의 와류시 함께 회전되어 잔류염소 검지용센서의 표면과 충돌이 이루어져 이물질의 침적을 방지하도록 케이스 내부에 비즈가 구비되어 있는 구성으로 이루어진 것을 특징으로 하는 잔류염소 검지용 센서의 자동세척장치.
- 제 2항에 있어서,상기 자동세척장치의 세척조 하단에는 외부에서 공급된 전원에 의해 자동 또는 수동으로 구동되어 자장을 발생시키는 직류모터 및 스테이터와, 상기 스테이터에 발생된 자장에 의해 일정 속도로 회전이 이루어져 세척조에 유입된 샘플수의 와류를 더욱 효과적으로 발생시키는 로터가 구비된 와류발생장치가 상기 세척조의 하단에 구비된 것을 특징으로 하는 잔류염소 검지용 센서의 자동세척장치.
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|---|---|---|---|---|
| KR101489630B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2015-02-06 | 주식회사 과학기술분석센타 | 센서 세척 기능이 있는 워터 센서 프로브 |
| KR101503030B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2015-03-19 | 주식회사 과학기술분석센타 | 센서 교체가 용이한 워터 센서 프로브 |
| KR101694451B1 (ko) | 2015-09-30 | 2017-01-23 | 주식회사 포스코 | 소재 세정 장치 및 이에 의한 소재 세정 방법 |
| KR102098210B1 (ko) * | 2019-11-11 | 2020-05-26 | 대윤계기산업 주식회사 | 세정 기능을 구비하는 수질측정장치 |
| KR102336595B1 (ko) | 2021-01-21 | 2021-12-09 | (주)이에스텍 | 자동 역세 기능 및 염소투입기 이상 알람 기능을 갖춘 스마트 잔류염소측정장치 |
-
2002
- 2002-08-27 KR KR2020020025506U patent/KR200296425Y1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101489630B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2015-02-06 | 주식회사 과학기술분석센타 | 센서 세척 기능이 있는 워터 센서 프로브 |
| KR101503030B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2015-03-19 | 주식회사 과학기술분석센타 | 센서 교체가 용이한 워터 센서 프로브 |
| KR101694451B1 (ko) | 2015-09-30 | 2017-01-23 | 주식회사 포스코 | 소재 세정 장치 및 이에 의한 소재 세정 방법 |
| KR102098210B1 (ko) * | 2019-11-11 | 2020-05-26 | 대윤계기산업 주식회사 | 세정 기능을 구비하는 수질측정장치 |
| KR102336595B1 (ko) | 2021-01-21 | 2021-12-09 | (주)이에스텍 | 자동 역세 기능 및 염소투입기 이상 알람 기능을 갖춘 스마트 잔류염소측정장치 |
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