KR200282933Y1 - 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 도금욕조에 진입하기 직전의 강판 표면에 고온의 비산화성 가스를 폭방향으로 균일하게 분사함으로서 이물질부착이 방지되도록 한 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치에 관한 것으로서,
스나우트(140)에 의해 에워쌓여진 상태로 도금용액(112)으로 진입하는 강판(130)의 진행방향측으로 비산화성가스를 분사하도록 된 하부노즐과, 상기 하부노즐보다 상부에 위치하여 강판(130)의 진행방향과는 반대측으로 비산화성가스를 분사하도록 된 상부노즐(180)을 갖추어 강판(130)의 표면에 애쉬성분이 부착되는 것을 방지하는 장치에 있어서, 상기 하부노즐(10)은 강판(130)의 폭방향으로 연속된 슬릿형 분사구(12)를 통해 비산화성가스를 분사함을 특징으로 한다.

Description

도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치
본 고안은 화학반응에 의해 발생하는 흄등의 이물질이 용융도금욕조로 진입하는 강판의 표면에 부착되는 것을 방지하기 위한 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도금욕조에 진입하기 직전의 강판 표면에 고온의 비산화성 가스를 폭방향으로 균일하게 분사함으로서 이물질부착이 방지되도록 한 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치에 관한 것이다.
일반적으로 아연도금용액과 같이 증기압이 높은 메탈도금용액으로부터 발생하는 흄(Fume)에 기인한 이물질들은 강판의 표면에 부착되어 품질을 저하시키기 때문에 계속적으로 제거되어져야 하며, 통상 이물질들은 아연도금용액 상부에 부유하는 찌꺼기 형상의 드로스(Dross)와 가벼운 성질의 애쉬(Ash)로 분류되고, 드로스는 별도의 흡입설비를 이용하여 아연욕 상부로부터 제거되며, 애쉬는 질소 또는 아르곤등의 비산화성 가스를 강판의 양표면에 분사함으로서 제거하고 있다.
도1에는 아연도금욕조(110)에 담겨진 아연도금용액(112)에 싱크롤(120)이 설치되고, 강판(130)이 상기 싱크롤(120)을 통과하면서 아연도금용액(112)을 거쳐 도금되어지며, 아연도금용액(112)에 진입하는 강판(130)을 외부 공기와 차단하도록 감싸진 스나우트(140)로 이루어진 도금설비가 개략적으로 도시되며, 애쉬(150)가 발생하여 상승하다가 스나우트(140)의 표면에 부착 및 성장하여 하부로 떨어지는 것을 보인다.
이러한 애쉬(150) 성분은 도2a 및 도2b에 도시한 바와같이 강판(130)의 진행방향측으로 용액탕면과 함께 유동하면서 강판(130)의 표면에 부착하고, 따라서 강판(130)의 표면에 스크래치(Scratch)성 흠(132)을 형성하는 품질불량요인으로 작용한다.
종래에는 일본 특개평 10-158797호에 개시된 바와같이 아연도금용액(112)으로 진입하는 강판(130)의 양표면에 비산화성가스를 분사함으로서 애쉬(150)를 상부로 비산시킴과 동시에 애쉬(150)가 강판(130) 표면에 근접하는 것을 차단하는바, 이는 도3에 보다 상세하게 도시한 바와같이 강판(130)의 폭방향으로 일정간격으로 분사구(172)를 가지는 하부 분사노즐(170)이 도금용액(112)으로 진입하기 직전의 강판(130) 표면에 바산화성가스를 분사할 수 있도록 장착되고, 또한 강판(130)의 폭방향으로 일정간격으로 분사구(182)를 가지는 상부 분사노즐(180)이 상기 하부 분사노즐(180)보다 상부측에서 강판(130) 표면에 바산화성가스를 분사할 수 있도록 장착되며, 하부 분사노즐(170)은 강판(130) 진행방향측으로 비산화성가스를 분사함으로서 도금용액(112)으로 진입하기 직전의 강판(130)의 표면으로부터 애쉬성분을 제거하는 반면 상부 분사노즐(180)은 강판(130) 진행방향과는 반대측으로 비산화성가스를 분사함으로서 애쉬성분을 상부로 비산시키는 역할을 한다.
그러나, 이러한 종래기술은 강판의 표면에 부착되는 애쉬성분제거효율이 떨어지는 것이어서 흠(132) 발생이 여전히 발생하는 문제점을 가지는 것은 물론, 상부로 비산되어진 애쉬성분에 대한 처리가 미흡하여 애쉬성분들이 스나우트(140)에 연결된 퍼니스(Furnace)에서 축적되어 강판(130) 표면에 부착되는 또다른 문제점을 유발하는 것이었다.
본 고안은 이러한 종래의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로서 그 목적은, 애쉬성분이 도금욕조로 진입하는 강판의 표면에 부착되는 것을 보다 완벽하게 차단하여 제거하고 스나우트 내부에서 비산하는 애쉬성분을 외부로 제거하며 또한 스나우트 내부의 온도가 적정상태로 유지시켜 도금품질을 향상시킬 수 있도록 된 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치를 제공함에 있다.
도1은 일반적인 도금설비의 도금욕조 진입강판측 구성을 도시한 도면
도2a 및 도2b는 도금욕조를 진입하는 강판의 표면에 애쉬성분이 부착되는 현상 및 그 결과를 나타낸 설명도
도3는 종래기술에 따른 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치를 도시한 구성도
도4는 본 고안에 따른 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치를 도시한 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10 ... 하부노즐 12 ... 분사구
20 ... 승온수단 30 ... 흡입구
32 ... 필터 34 ... 흡입팬
37 ... 배출구 112 ... 도금용액
130 ... 강판 140 ... 스나우트
상기 목적을 달성하기 위한 기술적인 구성으로서 본 고안은,
스나우트에 의해 에워쌓여진 상태로 도금용액으로 진입하는 강판의 진행방향측으로 비산화성가스를 분사하도록 된 하부노즐과, 상기 하부노즐보다 상부에 위치하여 강판의 진행방향과는 반대측으로 비산화성가스를 분사하도록 된 상부노즐을 갖추어 강판의 표면에 애쉬성분이 부착되는 것을 방지하는 장치에 있어서,
상기 하부노즐은 강판의 폭방향으로 연속된 슬릿형 분사구를 통해 비산화성가스를 분사함을 특징으로 하는 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치를 마련함에 의한다.
이하, 본 고안의 바람직한 일실시예를 첨부된 도면에 의거하여 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도4는 본 고안에 따른 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치가 아연도금설비에 갖추어진 상태를 개략적으로 도시한 구성도로서, 도금용액(112)으로 진입하는 강판(130)의 표면으로 비산화성가스를 분사하기 위한 상,하부 분사노즐을 설치하는 대략의 구성은 종래에서 보여지는 바와같다.
본 고안은 하부 분사노즐(10)을 강판(130)의 폭방향으로 연속된 슬릿형 분사구(12)를 가지도록 형성함으로서 분사되는 비산화성가스가 강판(130)의 표면에 폭방향으로 균일하게 분사됨에 의해 애쉬성분 제거효율이 향상될 수 있도록 한다. 이는, 종래의 하부 분사노즐(170)이 강판(130)의 폭방향으로 일정간격 떨어진 다수개의 분사구(172)에 의해 비산화성가스를 강판(130)의 표면에 분사함으로서 강판(130)의 표면에 분사되는 비산화성가스의 압력이 폭방향으로 균일하게 형성되는 것이 불가능하고, 이에 의해 애쉬성분이 보다 적은 압력이 형성되는 부분으로 이동하여 존재함으로서 여전히 흠을 발생시켰던 문제점을 해결한다. 물론, 상부노즐(180)은 종래와 같이 강판(130)의 폭방향으로 일정간격 떨어진 다수개의 분사구(182)를 가지도록 형성하는 것이 좋으며, 이는 상부노즐(180)의 역할이 적정한 흐름을 형성하여 애쉬성분을 상부로 비산시키면 충분하기 때문이다.
또한, 본 고안은 상부노즐(180)과 하부노즐(10)로 공급되는 비산화성가스를 적정한 온도로 상승시키기 위한 비산화성가스 승온수단(20)을 가지는바, 이는 비산화성가스 공급배관(22)에 갖추어져 비산화성가스의 온도를 스나우트(140)의 적정내부온도인 약 460℃로 승온시켜 공급하도록 함으로서 스나우트(140)의 내부온도저하를 방지하여 도금품질을 향상시킬 수 있고, 물론 상기 승온수단(20)에 의한 비산화성가스의 승온은 460℃에 가깝도록 하는 것이 보다 효과적이며 약간 저온인 400℃정도이어도 관계없으며, 또는 상온상태(약 20℃)로 공급되는 비산화성가스를 100℃정도까지만 승온시켜도 도금품질은 종래에 비하여 매우 향상된다.
그리고, 상기 승온수단(20)은 통상적으로 알려진 다양한 형태로 구성할 수 있으며, 예컨데 전기가열선을 이용하여 비산화성가스 공급배관(22)을 가열하거나, 고온증기를 이용한 간접열교환에 의해 비산화성가스를 승온시키는 방법이 있다.
또한, 본 고안은 상기 상부노즐(180)의 상부측 스나우트(140) 내부공간에 애쉬성분을 흡입하여 외부로 제거할 수 있는 흡입구(30)를 설치하는바, 상기 흡입구(30)는 스나우트(140)를 관통하여 외부로 연장된 흡입관(31)에 연결되고, 상기 흡입관(31)은 애쉬성분만을 걸러낼 수 있는 필터(32)를 갗추며, 흡입팬(34)에 의해 상기 흡입구(30) 및 흡입관(31)에 스나우트(140)의 내부공간측 압력보다 작은 저압을 형성하도록 하고, 또한 상기 흡입관(31)은 순환관(36)에 연결되며, 상기 순환관(36)은 스나우트(140)의 내부공간에 갖추어진 배출구(37)에 연결된다. 즉, 스나우트(140)의 내부공간측에 존재하는 성분중 애쉬성분만을 필터링하도록 순환시킴에 의해 도금공정에 영향을 미치지 않으면서 애쉬성분을 효과적으로 제거할 수 있는 것이다. 이는 비산되는 애쉬성분이 퍼니스등 상류측 설비로 역류되어 강판 표면을 오염시키는 문제점을 근본적으로 해결할 수 있도록 한다.
상술한 바와같이 본 고안에 따른 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치에 의하면, 도금용액으로 진입하는 강판의 양표면에 균일한 압력으로 비산화성가스를 분사함에 의해 애쉬성분의 부착을 보다 확실하게 제거할 수 있어 스크래치성 흠에 의한 강판의 품질결함을 방지하는 효과를 가진다.
또한, 애쉬성분의 비산 및 제거를 위해 공급되는 비산화성가스의 온도를 상승시킴으로서 스나우트 내부의 온도저하를 방지함에 의해 도금품질저하를 방지하는 효과를 가진다.
또한, 스나우트 내부에서 비산하는 애쉬성분을 외부로 제거하는 순환필터링수단을 갖춤으로서 도금공정에 영향을 미치지 않으면서 애쉬성분만을 제거하는 효과를 가진다.

Claims (1)

  1. 스나우트(140)에 의해 에워쌓여진 상태로 도금용액(112)으로 진입하는 강판(130)의 진행방향측으로 비산화성가스를 분사하도록 된 하부노즐과, 상기 하부노즐보다 상부에 위치하여 강판(130)의 진행방향과는 반대측으로 비산화성가스를 분사하도록 된 상부노즐(180)을 갖추어 강판(130)의 표면에 애쉬성분이 부착되는 것을 방지하는 장치에 있어서,
    상기 하부노즐(10)은 강판(130)의 폭방향으로 연속된 슬릿형 분사구(12)를 통해 비산화성가스를 분사함을 특징으로 하는 도금욕조 진입강판의 이물질부착 방지장치.
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