KR200282683Y1

KR200282683Y1 - Exhaust device of standard mechanical interface

Info

Publication number: KR200282683Y1
Application number: KR2020020011414U
Authority: KR
Inventors: 박태희
Original assignee: 아남반도체 주식회사
Priority date: 2002-04-16
Filing date: 2002-04-16
Publication date: 2002-07-22

Abstract

본 고안은 SMIF 파드의 배기장치에 관한 것으로서, SMIF 파드의 상면에 SMIF 파드내의 오염 물질을 배출시킬 수 있는 진공펌프를 설치한 것을 특징으로 한다. 따라서 밀폐된 SMIF 파드 내의 오염 물질 배출은, 웨이퍼의 오염과 부식이 방지되며, 반도체 공정상 불량이 감소되어 수율 향상의 효과가 있다. 또한, SMIF 파드의 오염 및 부식이 방지되어 SMIF 파드의 사용 수명이 연장된다.The present invention relates to an exhaust device of the SMIF pod, characterized in that the vacuum pump that can discharge the contaminants in the SMIF pod on the upper surface of the SMIF pod. Therefore, the discharge of contaminants in the sealed SMIF pod prevents wafer contamination and corrosion and reduces defects in the semiconductor process, thereby improving yield. In addition, contamination and corrosion of the SMIF pods is prevented, thereby extending the service life of the SMIF pods.

Description

Exhaust system of SMIF Pod {EXHAUST DEVICE OF STANDARD MECHANICAL INTERFACE}

본 고안은 스탠더드 메커니컬 인터페이스(Standard Mechanical Interface 이하 SMIF라 약칭함)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 SMIF 파드내의 오염 물질을 효과적으로 배출시키기 위한 SMIF 파드의 배기장치에 관한 것이다.The present invention relates to a standard mechanical interface (abbreviated as SMIF), and more particularly, to an exhaust device of a SMIF pod for effectively discharging contaminants in the SMIF pod.

일반적으로 SMIF는 좁은 공간의 청정실 등에서의 대기 컨트롤 및 프로세스처리시 인위적인 실수 등을 방지하기 위한 것으로, SMIF 시스템은 반도체 제조 공정을 수행하는 반도체 장비의 주변 장치로서 웨이퍼가 저장된 캐리어를 반도체 장비에 장전하거나 인출하는데 이용된다.In general, SMIF is to prevent artificial mistakes such as atmospheric control and process processing in a clean room, such as a small space. SMIF system is a peripheral device for semiconductor equipment that performs a semiconductor manufacturing process. Used to withdraw.

이러한 SMIF는 반도체 제조공정실에서 웨이퍼 이동시 웨이퍼가 저장된 캐리어를 기밀이 유지되는 저장 용기에 담아 이동하는 SMIF 파드(POD)와, SMIF 파드를 그 위에 얹는 포트 플레이트와, 포트 플레이트를 지지하는 SMIF 아암을 포함하여, 포드 도어와 파드 도어와 캐리어가 함께 움직여 SMIF 아암안으로 내려가거나 포트 위로 올라오도록 동작된다.The SMIF includes a SMIF pod (POD) for transporting a carrier in which a wafer is stored in a semiconductor container during transportation in a semiconductor manufacturing process chamber, a port plate on which the SMIF pod is placed, and an SMIF arm for supporting the port plate. In addition, the pod door, the pod door and the carrier are moved together to move down into the SMIF arm or up the port.

도 1은 일반적인 SMIF의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a general SMIF.

SMIF 파드(1)는 그의 하부에 마련된 파드 도어(2), 파드 도어(2)의 상부에 다수의 슬롯(3a) 각각에 웨이퍼가 정렬 탑재되어 있는 캐리어(3) 및 캐리어(3)를 덮고 있는 커버(4)를 포함한다.The SMIF pod 1 covers the pod door 2 provided at the lower part thereof, the carrier 3 and the carrier 3 on which the wafers are aligned and mounted in each of the plurality of slots 3a at the upper part of the pod door 2. Cover 4.

또한, SMIF 파드(1)의 내부는 진공상태를 유지하는 것이 바람직하므로, 파드 도어(2)에는 SMIF 파드(1)의 내부에 공기 등의 주입을 방지하기 위한 고무재질의 밀봉재(5)가 마련되어 있다. 밀봉재(5)는 파드 도어(2)의 각 측면을 따라 대략 사각 형상으로 배치되어 커버(4)가 파드 도어(2)와 선택적으로 체결될 때 커버(4)와 파드 도어(2) 사이의 간격을 밀봉하는 역할을 한다.In addition, since the inside of the SMIF pod 1 is preferably maintained in a vacuum state, the pod door 2 is provided with a rubber sealing material 5 for preventing injection of air or the like into the SMIF pod 1. have. The sealant 5 is arranged in a substantially square shape along each side of the pod door 2 so that the gap between the cover 4 and the pod door 2 when the cover 4 is selectively engaged with the pod door 2. It serves to seal the.

그러나, 밀폐된 SMIF내에 반도체 진행 과정 중에 생성되는 각종 기체성 가스나 유독가스, 반응 생성물 등이 웨이퍼 표면에 그대로 잔류함으로써 부식 및 저항 증가 등 각종 공정 불량을 야기시키는 문제점이 있었다.However, various gaseous gases, toxic gases, and reaction products generated during semiconductor processing in the sealed SMIF remain on the wafer surface, causing various process defects such as corrosion and increased resistance.

본 고안은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 밀폐된 SMIF내의 오염 물질을 효과적으로 배출시킬 수 있는 SMIF 파드의 배기장치를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, to provide an exhaust device of the SMIF pod that can effectively discharge the contaminants in the sealed SMIF.

이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 고안은, SMIF 파드의 상면에 SMIF 파드내의 오염 물질을 배출시킬 수 있는 진공펌프를 설치한 것을 특징으로 하는 SMIF 파드의 배기장치를 제공한다.The present invention for realizing such an object provides an exhaust device for a SMIF pod, wherein a vacuum pump capable of discharging contaminants in the SMIF pod is provided on the upper surface of the SMIF pod.

도 1은 일반적인 SMIF의 개략적인 사시도이고,1 is a schematic perspective view of a general SMIF,

도 2는 본 고안에 따른 SMIF 파드의 배기장치 사시도이다.Figure 2 is a perspective view of the exhaust device of the SMIF pod according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

10 : SMIF 파드 12 : 파드 도어10: SMIF Pod 12: Pod Door

14 : 캐리어 14a : 슬롯14 carrier 14a slot

16 : 커버 18 : 밀봉재16 cover 18 sealant

20 : 진공펌프 22 : 배출구20: vacuum pump 22: outlet

24 : 스위치24: switch

이하, 본 고안의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 고안의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the most preferred embodiment of the present invention will be described in more detail so that those skilled in the art can easily practice.

도 2에 도시된 바와 같이 본 고안의, SMIF 파드(10)는 그의 하부에 마련된 파드 도어(12), 파드 도어(12)의 상부에 다수의 슬롯(14a) 각각에 웨이퍼가 정렬 탑재되어 있는 캐리어(14) 및 캐리어(14)를 덮고 있는 커버(16)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the SMIF pod 10 according to the present invention includes a pod door 12 provided at a lower portion thereof, and a carrier in which wafers are aligned in each of a plurality of slots 14a at an upper portion of the pod door 12. 14 and a cover 16 covering the carrier 14.

또한, SMIF 파드(10)의 내부는 진공상태를 유지하는 것이 바람직하므로, 파드 도어(12)에는 SMIF 파드(10)의 내부에 공기 등의 주입을 방지하기 위한 고무재질의 밀봉재(18)가 마련되어 있다. 밀봉재(18)는 파드 도어(12)의 각 측면을 따라 대략 사각 형상으로 배치되어 커버(16)가 파드 도어(12)와 선택적으로 체결될 때 커버(16)와 파드 도어(12) 사이의 간격을 밀봉하는 역할을 한다.In addition, since the inside of the SMIF pod 10 is preferably maintained in a vacuum state, the pod door 12 is provided with a rubber sealing material 18 for preventing the injection of air or the like into the SMIF pod 10. have. The seal 18 is disposed in a substantially square shape along each side of the pod door 12 such that the gap between the cover 16 and the pod door 12 when the cover 16 is selectively engaged with the pod door 12. It serves to seal the.

여기서 본 고안의 특징에 따라 커버(16)의 상면에 SMIF 파드(10) 내부의 오염물질을 배출시킬 수 있는 진공펌프(20)를 설치하였다.Here, according to a feature of the present invention, a vacuum pump 20 capable of discharging contaminants in the SMIF pod 10 is installed on the upper surface of the cover 16.

진공펌프(20)는 SMIF 파드(10)내에 일부 내장 설치되며, 진공펌프(20)의 배출구(22)는 커버(16)상에 상방으로 돌출되어 오염 물질을 외부로 배출시키게 된다.The vacuum pump 20 is partially installed in the SMIF pod 10, and the outlet 22 of the vacuum pump 20 protrudes upward on the cover 16 to discharge the pollutants to the outside.

그리고 진공펌프(20)와 전기적으로 연결된 스위치(24)가 진공펌프(20) 상에 설치되어 진공펌프(20)의 작동을 온/오프 제어하게 된다.A switch 24 electrically connected to the vacuum pump 20 is installed on the vacuum pump 20 to control the operation of the vacuum pump 20 on / off.

이와 같은 구조로 이루어진 SMIF 파드의 배기장치의 동작은 다음과 같이 이루어진다.The operation of the exhaust device of the SMIF pod having such a structure is performed as follows.

다시 도 2를 참조하면, 웨이퍼가 정렬된 캐리어(14)가 수납된 SMIF 파드(10)가 반도체 각 단위 공정이 끝날 때마다 다음 공정으로 운반하게 되는데, 이 때 SMIF 파드(10) 내부에 오염물질이 잔류하게 된다.Referring to FIG. 2 again, the SMIF pod 10 containing the carrier 14 in which the wafers are aligned is transferred to the next process at each end of the semiconductor unit process, at which time contaminants inside the SMIF pod 10. Will remain.

오염물질을 빨아들이기 위하여 진공펌프(20)의 스위치(24)를 온(ON) 작동시켜 진공 흡입 동작을 하게 된다.In order to suck contaminants, the switch 24 of the vacuum pump 20 is turned on to perform a vacuum suction operation.

상기 진공펌프(20)의 구체적인 동작은 이 기술분야에 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 이해할 수 있으므로 생략한다.The detailed operation of the vacuum pump 20 will be omitted because it is easily understood by those skilled in the art.

진공펌프(20)의 흡입된 오염물질은 배출구(22)를 통하여 외부로 배출된다.Inhaled contaminants of the vacuum pump 20 are discharged to the outside through the outlet 22.

진공펌프(20)의 흡입 작동은 공정 진행 운반 과정동안 계속적으로 이루어지며, 불필요시에는 스위치(24)의 오프(OFF) 작동으로 멈추게 된다.The suction operation of the vacuum pump 20 is continuously performed during the process transporting process, and when unnecessary, it is stopped by the OFF operation of the switch 24.

이상과 같이 본 고안에 따르면, SMIF 파드(10)가 항시 진공펌프(20)로 SMIF 파드(10) 내부가 배기됨으로서, 와이퍼의 오염과 부식을 방지하게 된다.According to the present invention as described above, since the SMIF pod 10 is always exhausted inside the SMIF pod 10 by the vacuum pump 20, to prevent contamination and corrosion of the wiper.

상술한 바와 같이, 본 고안에 따른 SMIF 파드의 배기장치는, 밀폐된 SMIF 파드 내의 오염 물질을 효과적으로 배출시킬 수 있는 진공펌프를 설치함으로써, 웨이퍼의 오염과 부식을 방지하여 반도체 공정상 불량이 감소되어 수율 향상의 효과가 있다.As described above, the exhaust device of the SMIF pod according to the present invention, by installing a vacuum pump that can effectively discharge the contaminants in the sealed SMIF pod, to prevent contamination and corrosion of the wafer to reduce the defects in the semiconductor process There is an effect of improving the yield.

또한, SMIF 파드의 오염 및 부식이 방지되어 SMIF 파드의 사용 수명이 연장된다.In addition, contamination and corrosion of the SMIF pods is prevented, thereby extending the service life of the SMIF pods.

이상에서 설명한 것은 본 고안에 따른 SMIF 파드의 배기장치를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 실용신안에서 청구하는 바와 같이 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 고안의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is just one embodiment for implementing the exhaust device of the SMIF pod according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, the subject matter of the present invention as claimed in the following utility model Without departing from the technical spirit of the present invention to the extent that any person of ordinary skill in the art to which the invention belongs can be variously modified.

Claims

An exhaust device for a SMIF pod, characterized in that a vacuum pump 20 capable of discharging contaminants in the SMIF pod 10 is provided on the upper surface of the SMIF pod 10.