KR100607723B1 - Smif pod of smif apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 SMIF 장치의 SMIF 파드에 관한 것으로서, 웨이퍼 카세트(1)가 안착되는 파드 도어(100)와; 파드 도어(100)의 상측으로 결합되며, 일측면에 통풍구(210)가 형성되는 파드 커버(200)와; 파드 커버(200)의 통풍구(210)에 결합되며, 파드 커버(200) 내로 이송된 웨이퍼 카세트(1)에 장착된 웨이퍼에 잔류하는 가스 흄 등의 잔류물을 파드 커버(200)의 통풍구(210)를 통해 외측으로 배기시키는 배기부(300)와; 파드 커버(200) 내로 웨이퍼 카세트(1)가 이송시 이를 감지하여 웨이퍼 카세트 감지신호를 출력하는 감지부(400)와; 감지부(400)로부터 출력되는 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신하며, 배기부(300)를 제어하는 제어부(500)를 포함하는 것으로서, 단위 공정을 마친 웨이퍼가 표면에 가스 흄 등의 잔류물이 잔류하는 상태로 웨이퍼 카세트에 의해 SMIF 파드의 내부로 이송되는 경우 이러한 가스 흄 등의 잔류물을 SMIF 파드의 외부로 배기시킴으로써 가스 흄 등의 잔류물로 인해 웨이퍼 표면에 폴리머성 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 이로 인해 웨이퍼의 수율을 향상시키는 효과를 가지고 있다.The present invention relates to a SMIF pod of an SMIF device, comprising: a pod door (100) on which a wafer cassette (1) is seated; A pod cover 200 coupled to an upper side of the pod door 100 and having a vent hole 210 formed at one side thereof; Coupled to the vent 210 of the pod cover 200, the residues such as gas fumes remaining on the wafer mounted on the wafer cassette 1 transferred into the pod cover 200 vent 210 of the pod cover 200 Exhaust unit 300 for exhausting through the outside; A detector 400 which detects the wafer cassette 1 when the wafer cassette 1 is transferred into the pod cover 200 and outputs a wafer cassette detection signal; Receiving a wafer cassette detection signal output from the sensing unit 400, and includes a control unit 500 for controlling the exhaust unit 300, the residue of the gas fumes, such as gas fumes remain on the surface of the wafer after the unit process When it is transferred to the inside of the SMIF pod by the wafer cassette in a state, the residue such as gas fume is evacuated to the outside of the SMIF pod to prevent the occurrence of polymeric particles on the wafer surface due to the residue such as the gas fume, This has the effect of improving the yield of the wafer.
Description
도 1은 종래의 SMIF 장치를 도시한 사시도이고, 1 is a perspective view showing a conventional SMIF device,
도 2는 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 분해 사시도이고,2 is an exploded perspective view of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention,
도 3은 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 제어 블럭도이고,3 is a control block diagram of a SMIF pod of the SMIF device according to the present invention,
도 4는 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 배기부의 사시도이고,Figure 4 is a perspective view of the exhaust of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention,
도 5는 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 배기부의 측단면도이고,5 is a side cross-sectional view of the exhaust portion of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention,
도 6은 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 감지부가 웨이퍼 카세트를 감지하는 상태를 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a state in which a detector of a SMIF pod detects a wafer cassette of a SMIF device according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100 ; 파드 도어 200 ; 파드 커버100; Pod door 200; Pod cover
210 ; 통풍구 300 ; 배기부210;
310 ; 하우징 311 ; 배기구310;
312 ; 밧데리 장착공간 320 ; 모터312;
330 ; 송풍팬 400 ; 감지부330; Blower
410 ; 발광소자 420 ; 수광소자410;
500 ; 제어부500; Control
본 발명은 SMIF 장치의 SMIF 파드에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼의 단위 공정 진행중 발생되어 웨이퍼 카세트와 함께 SMIF 파드로 유입된 가스 흄 등의 잔류물을 SMIF 파드의 외부로 배기시킴으로써 가스 흄 등의 잔류물로 인해 웨이퍼 표면에 폴리머성 파티클이 발생하는 것을 방지하는 SMIF 장치의 SMIF 파드에 관한 것이다.The present invention relates to a SMIF pod of an SMIF device, and more particularly, to exhausts residues such as gas fumes generated during a wafer process and introduced into the SMIF pod together with the wafer cassette to the outside of the SMIF pod. It relates to the SMIF pod of an SMIF device that prevents residues from generating polymeric particles on the wafer surface.
SMIF란 Standard Mechanical Interface의 약자로써, 좁은 공간의 청정실 등에서의 대기 컨트롤 및 프로세스 처리시 인위적인 실수 등을 방지하기 위한 것으로 SMIF 장치는 반도체 소자의 제조공정을 수행하는 반도체 소자의 제조장비의 주변장치로서 웨이퍼 또는 웨이퍼가 저장된 웨이퍼 카세트를 반도체 소자의 제조장비에 로딩/언로딩하는데 이용된다. SMIF is an abbreviation of Standard Mechanical Interface. It is used to prevent human error during atmospheric control and process processing in a clean room such as a small space. SMIF device is a peripheral device of semiconductor device manufacturing equipment that performs semiconductor device manufacturing process. Alternatively, the wafer cassette in which the wafer is stored is used to load / unload the semiconductor device manufacturing equipment.
도 1은 종래의 SMIF 장치를 도시한 사시도이다. 도시된 바와 같이, SMIF 장치는 웨이퍼 카세트(1)를 수납하기 위한 SMIF 파드(10)와, SMIF 파드(10)를 저장하거나 인출하기 위한 SMIF 포트(20)와, SMIF 포트(20)의 내측에 구비되어 웨이퍼 카세트(1)를 수직방향으로 이동시키는 구동부(30)를 포함한다.1 is a perspective view showing a conventional SMIF device. As shown, the SMIF apparatus includes a
SMIF 파드(10)는 그의 하부에 마련된 파드 도어(pod door;11)와, 파드 도어(11)의 상부에 탑재되며 웨이퍼(W)들이 정렬된 웨이퍼 카세트(1)를 덮고 있는 커버(13)를 포함한다. The SMIF
또한, SMIF 파드(10)의 내부는 외부로부터 공기의 유입이 차단되는 것이 바 람직하므로, 파드 커버(13)는 파드 도어(11)와의 결합부위에 SMIF 파드(10)의 내부에 공기 등의 주입을 방지하기 위한 고무재질로 이루어지는 밀봉재(15)가 마련되어 있다. In addition, since the inside of the
SMIF 포트(20)는 포트 플레이트(port plate;21)와, 'L'자 형상의 가이드 레일(23) 및 포트 도어(25)를 포함한다. The SMIF
포트 플레이트(21)는 SMIF 포트(20) 상에 SMIF 파드(10)가 위치할 때, SMIF 파드(10)의 하면을 수평으로 유지시키기 위한 것이고, 가이드 레일(23)은 포트 플레이트(21)의 각 꼭지점을 중심으로 마련되어 SMIF 포트(20) 상의 소망하는 정위치에 SMIF 파드(10)를 안내하는 역할을 한다. The
포트 도어(25)는 파드 도어(11)와 접촉하여 구동부(30)에 의해 수직방향으로 이송되어 파드 도어(11) 상의 웨이퍼 카세트(1)를 운반하는 역할을 한다. The
또한, 포트 도어(25)의 상측에는 복수의 파드위치 결정핀(25a)이 위치하며, 이 파드위치 결정핀(25a)은 파드 도어(11)의 하면에 형성된 삽입홀(미도시)에 각각 삽입되어 SMIF 파드(10)를 소망하는 정위치에 배치시킨다.In addition, a plurality of
구동부(30)는 포트 도어(25)의 하측에 결합된 이송부재(31)와, 이송부재(31)에 나사결합되어 이송부재(31)를 수직방향으로 이송시키는 리드스크류(33)와, 리드스크류(33)에 연결되어 리드스크류(33)를 회전시키는 모터(35)를 포함한다. The
모터(35)는 그 회전축이 리드스크류(33)에 축결합된 풀리(33a)와 벨트(34)로 연결되며, 모터(35)의 회전에 의해 리드스크류(33)를 회전시킴으로써 이송부재(31)에 결합된 포트 도어(25)가 리드스크류(33)를 따라 수직방향으로 이동되도록 한다.The
이와 같은 종래의 SMIF 장치의 SMIF 파드는 단위 공정을 마친 웨이퍼가 표면에 가스 흄 등의 잔류물(gas fume), 즉 C-H계의 가스를 사용하는 식각(etching) 공정 또는 증착(deposition) 공정에서 해당 공정이 끝난 후 다음 공정까지의 진행 시간이 늦어질 경우 C-H계의 흄들이 웨이퍼 표면과 반응하여 폴리머성 파티클을 형성시킴으로써 수율을 저하시킨다.The SMIF pod of the conventional SMIF device is applicable to an etching process or a deposition process using a gas fume, ie, CH-based gas, on the surface of a wafer after the unit process is completed. If the progress time to the next process is delayed after completion of the process, the CH-based fumes react with the surface of the wafer to form polymer particles, thereby lowering the yield.
따라서, SMIF 파드 내로 이송된 웨이퍼 카세트에 장착된 웨이퍼에 가스 흄 등의 잔류물이 존재하는 경우 심각한 결과를 초래하게 된다.Therefore, the presence of residues such as gas fumes in the wafer mounted on the wafer cassette transferred into the SMIF pod has serious consequences.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 단위 공정을 마친 웨이퍼가 표면에 가스 흄 등의 잔류물이 잔류하는 상태로 웨이퍼 카세트에 의해 SMIF 파드 내부로 이송되는 경우 이러한 가스 흄 등의 잔류물을 SMIF 파드의 외부로 배기시킴으로써 가스 흄 등의 잔류물로 인해 웨이퍼 표면에 폴리머성 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 이로 인해 웨이퍼의 수율을 향상시키는 SMIF 장치의 SMIF 파드를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is that the wafer is transferred to the SMIF pod by the wafer cassette in the state that residues such as gas fumes remain on the surface after the unit process By evacuating residues such as gas fumes to the outside of the SMIF pod, it is possible to prevent the generation of polymeric particles on the wafer surface due to residues such as gas fumes, thereby providing a SMIF pod of the SMIF device which improves the yield of the wafer. It is.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, 웨이퍼 카세트가 안착되는 파드 도어와; 파드 도어의 상측으로 결합되며, 일측면에 통풍구가 형성되는 파드 커버와; 파드 커버의 통풍구에 결합되며, 파드 커버 내로 이송된 웨이퍼 카세트에 장착된 웨이퍼에 잔류하는 가스 흄 등의 잔류물을 파드 커버의 통풍구를 통해 외측으로 배기시키는 배기부와; 파드 커버 내로 웨이퍼 카세트가 이송시 이를 감지하여 웨이퍼 카세트 감지신호를 출력하는 감지부와; 감지부로부터 출력되는 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신하며, 배기부를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for realizing such an object, and a pod door on which the wafer cassette is seated; A pod cover coupled to an upper side of the pod door and having a vent formed on one side thereof; An exhaust portion coupled to the vent hole of the pod cover and exhausting residues such as gas fumes remaining on the wafer mounted on the wafer cassette transferred into the pod cover to the outside through the vent hole of the pod cover; A detector for detecting a wafer cassette when the wafer cassette is transferred into the pod cover and outputting a wafer cassette detection signal; Receiving a wafer cassette detection signal output from the detection unit, characterized in that it comprises a control unit for controlling the exhaust unit.
배기부는 일측에 배기구가 형성되고, 밧데리가 장착되는 밧데리 장착공간이 형성되며, 파드 커버의 외측면중 통풍구의 주위에 결합되는 하우징과; 하우징 내에 설치되며, 밧데리 장착공간에 장착된 밧데리로부터 전원을 공급받는 모터와; 모터의 회전축에 결합되는 송풍팬을 포함하는 것을 특징으로 한다.An exhaust part is formed at one side of the exhaust part, a battery mounting space in which the battery is mounted is formed, and a housing coupled to the periphery of the ventilation hole in the outer surface of the pod cover; A motor installed in the housing and receiving power from the battery mounted in the battery mounting space; It characterized in that it comprises a blowing fan coupled to the rotating shaft of the motor.
하우징의 배기구에는 배기되는 가스 흄 등의 잔류물을 정화시키는 필터가 부착되는 것을 특징으로 한다.The exhaust port of the housing is characterized in that a filter for purifying the residue, such as the gas fume to be exhausted is attached.
감지부는 일정한 파장의 빛을 출력하는 발광소자와, 발광소자로부터 출력되는 빛을 수신하며 웨이퍼 카세트 감지신호를 출력하는 수광소자로 이루어지며, 발광소자와 수광소자는 파드 커버의 내측면중 하측에 서로 마주 보도록 각각 설치되며, 파드 커버 내로 이송되기 위하여 파드 커버의 하측을 통과하는 웨이퍼 카세트를 감지하는 것을 특징으로 한다.The sensing unit includes a light emitting device for outputting light of a constant wavelength, and a light receiving device for receiving light output from the light emitting device and outputting a wafer cassette detection signal, wherein the light emitting device and the light receiving device are located on the lower side of the inner side of the pod cover. It is installed so as to face each other, characterized in that for detecting the wafer cassette passing through the lower side of the pod cover to be transferred into the pod cover.
제어부는 감지부로부터 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신시 일정 시간동안만 배기부를 작동시켜 파드 커버 내의 가스 흄 등의 잔류물을 배기시키는 것을 특징으로 한다.The control unit operates the exhaust unit only for a predetermined time when receiving the wafer cassette detection signal from the sensing unit to exhaust the residue such as gas fume in the pod cover.
이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 제어 블럭도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드는 크게 파드 도어(100)와, 파드 커버(200)와, 배기부(300)와, 감지부(400)와, 제어부(500)를 포함한다.2 is an exploded perspective view of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention, Figure 3 is a control block diagram of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention. As shown, the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention includes a
파드 도어(100)는 상측면에 웨이퍼 카세트(1)가 안착되고, SMIF 장치의 포트 도어(25; 도 1에 도시됨)의 상측에 장착되며, 포트 도어(25)와 함께 수직방향으로 이동함으로써 웨이퍼 카세트(1)를 이송시킨다.The
파드 커버(200)는 파드 도어(100)의 상측으로 결합되며, 일측면에 통풍구(210)가 형성된다. 한편 파드 커버(200)는 파드 도어(100)와 결합시 밀폐를 위하여 파드 도어(100)와의 결합부위에 밀봉재(220)가 설치된다.The
배기부(300)는 파드 커버(200)의 통풍구(210)에 결합되며, 파드 도어(100)에 안착되어 파드 커버(200) 내로 이송된 웨이퍼 카세트(1)에 장착된 웨이퍼에 잔류하는 가스 흄 등의 잔류물을 통풍구(210)를 통해 파드 커버(200) 외측으로 배기시킨다.The
도 4는 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 배기부의 사시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드의 배기부의 측단면도이다. 도시된 바와 같이, 배기부(300)는 일측에 배기구(311)가 형성되고 밧데리(B)가 장착되는 밧데리 장착공간(312)을 형성하며 파드 커버(200)의 외측면중 통풍구(210)의 주위에 결합되는 하우징(310)과, 하우징(310) 내에 설치되며 밧데리 장착공간(312)에 장착된 밧데리(B)로부터 전원을 공급받는 모터(320)와, 모터(320)의 회전축에 결합되는 송풍팬(330)을 포함한다.Figure 4 is a perspective view of the exhaust of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention, Figure 5 is a side cross-sectional view of the exhaust of the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention. As shown, the
하우징(310)은 파드 도어(200)의 통풍구(210)에 볼트(211) 또는 나사로 결합되는데, 이를 위해 파드 도어(200)의 통풍구(210) 주위에 복수의 나사홀(230)을 형성하고, 하우징(310)의 단부에 플랜지(313)를 형성하며, 이 플랜지(313)상에 파드 도어(200)의 나사홀(230)과 상응하는 위치에 나사홀(313a)를 형성한다.The
한편, 하우징(310)의 배기구(311)에는 배기되는 가스 흄 등의 잔류물을 정화시키는 필터(340)가 부착될 수 있다. 따라서, 가스 흄 등의 잔류물을 정화시켜 외측으로 배기시킴으로써 작업장 내의 공기 청정도를 향상시킨다.On the other hand, the
필터(340)는 중앙에 관통구(351)가 형성되는 필터 마개(350)의 내측에 장착되며, 이 필터 마개(350)는 하우징(310)의 배기구(311) 외측으로 돌출 형성되는 원형관(360)에 나사결합된다. 따라서, 원형관(360)으로부터 필터 마개(350)를 열어 수명을 다한 필터(340)를 교환하거나 웨이퍼의 단위 공정중 발생하는 가스 흄 등의 잔류물의 성분에 따라 필터(340)를 교환할 수 있다.The
또한, 하우징(310)의 밧데리 장착공간(312)은 외측으로부터 밧데리(B)가 장착되도록 외측과 통하는 개구(314)를 형성하며, 이 개구(314)에 개폐 가능한 도어(315)를 구비한다. 도어(315)는 일측이 개구(314)에 힌지 결합되며, 그 타측에는 개구(314)와 도어(315)를 서로 착탈가능하게 결합시키는 슬라이더(315a)가 결합된다.In addition, the
모터(320)는 직류 모터가 사용됨이 바람직하며, 모터(320)를 하우징(310)에 장착하기 위하여 중심으로부터 여러 갈래로 분기되며 분기된 끝단이 하우징(310)의 내측면에 각각 부착되는 모터고정부재(370)의 중심에 볼트 또는 나사로 고정된다.The
송풍팬(330)은 모터(320)의 회전축에 결합되며, 파드 커버(200)의 통풍구(210)에 인접하도록 설치된다.The blowing
감지부(400)는 파드 커버(200) 내로 웨이퍼 카세트(1)가 이송시 이를 감지하여 웨이퍼 카세트 감지신호를 출력한다.The
한편, 감지부(400)는 일정한 파장의 빛을 출력하는 발광소자(410)와, 발광소자(410)로부터 출력되는 빛을 수신하며 웨이퍼 카세트 감지신호를 출력하는 수광소자(420)로 이루어져 있으며, 발광소자(410)는 일예로 발광다이오드가, 수광소자(420)는 일예로 포토다이오드가 사용될 수 있다.On the other hand, the
또한, 발광소자(410)와 수광소자(420)는 파드 커버(200)의 내측면 하측에 서로 마주 보도록 각각 설치되어, 파드 커버(200) 내로 이송되기 위하여 파드 커버(200)의 하측을 통과하는 웨이퍼 카세트(1)를 감지한다. 즉, 도 6에서 나타낸 바와 같이, SMIF 장치의 포트 도어(25)에 의해 수직으로 상승하는 파드 도어(100)에 안착된 웨이퍼 카세트(1)의 상단이 파드 커버(200)의 하측을 통과할 때 이를 발광소자(410)와 수광소자(420)로 이루어진 감지부(400)가 감지한다.In addition, the
제어부(500)는 감지부(400)로부터 출력되는 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신하며, 배기부(300)를 제어한다. 즉 제어부(500)는 감지부(400)의 수광소자(420)로부터 출력되는 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신함으로써 웨이퍼 카세트(1)가 파드 커버(200) 내로 장착됨을 인식하고, 밧데리 장착공간(312)에 장착된 밧데리(B)의 전원을 배기부(300)의 모터(320)로 공급시킴으로써 모터(320)를 구동시킨다.The
한편, 제어부(500)는 감지부(400)로부터 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신시 일정 시간동안만 배기부(300)를 작동시켜 파드 커버(200) 내의 가스 흄 등의 잔류물을 배기시키도록 할 수 있다. 따라서, 제어부(500)가 웨이퍼의 단위 공정에 따라 미리 정해지는 일정 시간동안만 배기부(300)를 작동시키더라도 파드 커버(200) 내의 가스 흄 등의 잔류물을 완전히 배기시킬 수 있으므로 이로 인해 배기부(300)가 불필요하게 작동됨을 방지한다.Meanwhile, the
이와 같은 구조로 이루어진 SMIF 장치의 SMIF 파드의 동작은 다음과 같이 이루어진다. 파드 도어(100)의 상측에 단위 공정을 마친 웨이퍼를 장착한 웨이퍼 카세트(1)가 안착되면 파드 도어(100)는 SMIF 장치의 포트 도어(25)에 의해 수직방향으로 상승하고, 파드 도어(100)와 함께 수직방향으로 상승하는 웨이퍼 카세트(1)는 그 상단이 파드 커버(200)의 내측면 하측에 서로 마주 보게 각각 설치된 발광소자(410)와 수광소자(420)에 의해 감지되고, 이를 수광소자(420)로부터 출력되는 웨이퍼 카세트 감지신호를 수신함으로써 제어부(500)가 인식하여 배기부(300)의 모터(320)에 밧데리(B)의 전원을 공급함으로써 송풍팬(330)을 작동시킨다.The operation of the SMIF pod of the SMIF device having such a structure is performed as follows. When the
따라서, SMIF 파드 내에 웨이퍼 카세트(1)에 장착되어 이송된 웨이퍼에 잔류하는 가스 흄 등의 잔류물은 외측으로 배기된다. 한편, 배기되는 가스 흄 등의 잔류물은 하우징(310)의 배기구(311)에 장착된 필터(340)에 의해 정화된 상태로 외부로 배기된다. Therefore, residues such as gas fumes remaining in the wafers mounted on the
또한, SMIF 파드 내로 웨이퍼 카세트(1)에 장착되어 이송된 웨이퍼에 잔류하는 가스 흄 등의 잔류물을 배기하기 위하여 작동하는 모터(320)는 제어부(500)에 의해 웨이퍼의 단위 공정에 따라 미리 정해진 시간동안만 작동하게 됨으로써 모터(320)가 장시간 불필요하게 작동됨을 방지한다.In addition, the
이상과 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 단위 공정을 마친 웨이퍼가 표면에 가스 흄 등의 잔류물이 잔류하는 상태로 웨이퍼 카세트에 의해 SMIF 파드 내부로 이송되는 경우 이러한 가스 흄 등의 잔류물을 SMIF 파드의 외부로 배기시킴으로써 가스 흄 등의 잔류물로 인해 웨이퍼 표면에 폴리머성 파티클이 발생하는 것을 방지한다.According to a preferred embodiment of the present invention as described above, when the wafer, which has been subjected to the unit process, is transferred into the SMIF pod by the wafer cassette while residues such as gas fumes remain on the surface, residues such as gas fumes are removed. Exhaust out of the SMIF pod prevents the generation of polymeric particles on the wafer surface due to residues such as gas fumes.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드는 단위 공정을 마친 웨이퍼가 표면에 가스 흄 등의 잔류물이 잔류하는 상태로 웨이퍼 카세트에 의해 SMIF 파드 내부로 이송되는 경우 이러한 가스 흄 등의 잔류물을 SMIF 파드의 외부로 배기시킴으로써 가스 흄 등의 잔류물로 인해 웨이퍼 표면에 폴리머성 파티클이 발생하는 것을 방지하고, 이로 인해 웨이퍼의 수율을 향상시키며, SMIF 파드에 유입된 가스 흄 등의 잔류물을 배기시 필터에 의해 정화시켜 배기함으로써 작업장 내의 청정도를 유지하는 효과를 가지고 있다.As described above, the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention is transferred to the SMIF pod by the wafer cassette in the state in which the wafer after the unit process remains with residues such as gas fumes on the surface. By evacuating the residue to the outside of the SMIF pod, it is possible to prevent the generation of polymeric particles on the surface of the wafer due to residues such as gas fumes, thereby improving the yield of the wafer, and remaining of the gas fume and the like introduced into the SMIF pod. By purifying water by exhausting the filter at the time of exhaust, it has the effect of maintaining the cleanliness in a workplace.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 SMIF 장치의 SMIF 파드를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for implementing the SMIF pod of the SMIF device according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the following claims of the present invention Without departing from the gist of the present invention, one of ordinary skill in the art will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
Claims (7)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020010048760A KR100607723B1 (en) | 2001-08-13 | 2001-08-13 | Smif pod of smif apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1020010048760A KR100607723B1 (en) | 2001-08-13 | 2001-08-13 | Smif pod of smif apparatus |
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ID=27719020
Family Applications (1)
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Citations (4)
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JP2001077188A (en) * | 1999-07-06 | 2001-03-23 | Ebara Corp | Substrate conveying container |
JP2001298076A (en) * | 2000-04-12 | 2001-10-26 | Sony Corp | Substrate carriage container |
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2001
- 2001-08-13 KR KR1020010048760A patent/KR100607723B1/en not_active IP Right Cessation
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Also Published As
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