KR200243275Y1 - Apparatus for the burn and wet disposal process of waste gas - Google Patents
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Abstract
본 고안은, 폐가스를 공급받아 일정 온도로 가열하여 산화시키는 폐가스 건식처리부(100)와; 폐가스 건식처리부(100)로부터 공급받는 고온의 폐가스를 냉각시킴으로써 파우더를 생성시키는 폐가스 냉각부(200)와; 폐가스 냉각부(100)로부터 파우더를 공급받아 시수를 공급하여 파우더 페이스트를 생성시키며, 파우더 페이스트, 미반응 폐가스 및 부유 파우더를 분리시켜 파우더 페이스트는 배출관(610)으로 배출시키는 분리부(300)와; 분리부(300)에 의하여 분리된 미반응 폐가스 및 부유 파우더를 공급받아 시수를 분사하여 미반응 폐가스는 시수에 용해시키며, 부유 파우더는 파우더 집진필터에 의해 집진시키는 폐가스 습식처리부(400)와; 폐가스 습식처리부(400)에 연통되어 배기가스가 공급되는 배관(510)과, 배관(510)의 내측에 각각 설치되어 배기가스에 포함된 수분을 부착 및 흡착시키는 수분부착수단(520) 및 수분흡착필터(530)와, 배관(510)의 내측에 질소를 분사하여 배기가스에 포함되는 수분을 차단시키는 질소분사수단(540)으로 이루어지는 수분제거부(500)를 포함하는 것으로서, 가열챔버 등의 폐가스 건식처리부 및 메인덕트 등 연결배관의 부식을 방지하는 효과를 가지고 있다.The present invention, the waste gas dry processing unit 100 for receiving the waste gas and heating to a predetermined temperature to oxidize; A waste gas cooling unit 200 generating powder by cooling the waste gas having a high temperature supplied from the waste gas dry processing unit 100; A separation unit 300 receiving powder from the waste gas cooling unit 100 to supply time water to generate powder paste, separating powder paste, unreacted waste gas, and floating powder to discharge the powder paste to the discharge pipe 610; A waste gas wet treatment unit 400 which receives unreacted waste gas and suspended powder separated by the separating unit 300 and sprays water to dissolve unreacted waste gas in the water, and collects the suspended powder by a powder dust filter; The pipe 510 which is connected to the waste gas wet treatment unit 400 to supply the exhaust gas, and the water attachment means 520 and the water adsorption unit which are respectively installed inside the pipe 510 to attach and adsorb moisture contained in the exhaust gas. A filter 530 and a water removal unit 500 including a nitrogen injection means 540 for injecting nitrogen into the pipe 510 to block moisture contained in the exhaust gas, and the waste gas such as a heating chamber. It has the effect of preventing corrosion of connecting pipes such as dry processing part and main duct.
Description
본 고안은 폐가스 건습식 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폐가스 건식처리부 내로 수분이 유입되는 것을 방지하여 가열챔버 등이 부식되는 것을 방지함으로써 부품의 교체 비용등 장비의 유지비용을 절감하며, 폐가스 습식처리부에 의해 최종적으로 처리된 가스에 포함된 부식성의 수분을 제거하여 메인덕트를 통해 외부로 배출시킴으로써 메인덕트 등 연결배관의 부식을 방지하는 폐가스 건습식 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a waste gas wet and dry treatment apparatus, and more particularly, to prevent moisture from flowing into the waste gas dry treatment unit to prevent corrosion of the heating chamber and the like, thereby reducing maintenance costs of equipment such as replacement parts, and reducing waste gas. The present invention relates to a waste gas wet-and-dry treatment apparatus that prevents corrosion of the connection pipe such as the main duct by removing the corrosive water contained in the gas finally treated by the wet treatment unit and discharging the corrosive water to the outside through the main duct.
반도체 소자를 제조하기 위하여 다양한 종류의 제조설비와 제조공정이 필요하며, 반도체 소자를 제조하기 위한 공정중 CVD(Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 에칭, 에피택시 증착, 스퍼터링 공정 등에서는 공정 특성상 염소(Cl2), 보론트리클로라이드(BCl3), 암모니아(NH3), 불산(HF) 등 각종 유독성, 부식성, 인화성 가스를 사용하는 것이 일반적이다.For the production of semiconductor devices requires a variety of manufacturing equipment and manufacturing processes, and, in the process for fabricating a semiconductor device (Chemical Vapor Deposition) CVD, plasma etching, epitaxial deposition, etc. the sputtering process is the process characteristics chlorine (Cl 2 ), Boron trichloride (BCl 3 ), ammonia (NH 3 ), hydrofluoric acid (HF) and other various toxic, corrosive, flammable gases are generally used.
따라서, 반도체 소자의 제조공정에 사용된 유독성 가스들을 아무런 순화과정없이 대기중으로 방출할 경우 대기를 오염시킴으로써 인체 및 생태계에 심각한 영향을 미치므로, 종래의 반도체 소자의 제조라인에서는 일정한 장소에 폐가스 처리장치를 설치하고, 이 폐가스 처리장치를 이용하여 반도체 소자의 제조공정에서 발생된 유독성 가스들을 일정 기준 이상으로 순화시켜 대기로 배출하고 있다.Therefore, when toxic gases used in the manufacturing process of semiconductor devices are released into the atmosphere without any purification process, since they pollute the air and seriously affect the human body and the ecosystem, in the conventional semiconductor device manufacturing line, a waste gas treatment apparatus is disposed at a certain place. The waste gas treatment apparatus is used to purify the toxic gases generated in the semiconductor device manufacturing process to a predetermined level or more and discharge them to the atmosphere.
반도체 소자의 제조공정에 사용된 유독성 가스들을 순화하기 위한 폐가스 처리장치를 첨부된 도면을 이용하여 설명하면 다음과 같다. 도 1은 종래의 건습식 폐가스 처리장치의 구성도이다. 도시된 바와 같이, 종래의 건습식 폐가스 처리장치는 크게, 폐가스 건식처리부(10), 파우더 제거부(20), 분리부(30) 및 폐가스 습식처리부(40)로 구성된다.The waste gas treatment apparatus for purifying toxic gases used in the manufacturing process of a semiconductor device will be described with reference to the accompanying drawings. 1 is a block diagram of a conventional wet and dry waste gas treatment device. As shown, the conventional wet and dry waste gas treatment device is largely composed of a waste gas dry treatment unit 10, a powder removal unit 20, a separation unit 30 and the waste gas wet treatment unit 40.
폐가스 건식처리부(10)는 매니폴더(11), 가열챔버(12) 및 히터(13)로 구성된다. 매니폴더(11)는 미도시된 반도체 소자의 제조설비의 폐가스 배출구와 연통되어 폐가스, 폐가스를 산화시키기 위한 공기 및 폐가스와 공기의 급격한 폭발을 방지하기 위한 불활성 가스가 공급되어 혼합되며, 가열챔버(12)에 기밀하게 연통되어 있다.The waste gas dry processing unit 10 includes a manifold 11, a heating chamber 12, and a heater 13. The manifold 11 communicates with a waste gas outlet of a manufacturing device of a semiconductor device, not shown, and supplies and mixes waste gas, air for oxidizing waste gas, and inert gas for preventing sudden explosion of waste gas and air, and a heating chamber ( 12) is confidentially communicated with.
가열챔버(12)는 두 개의 튜브 즉, 내부 및 외부튜브(12a,12b)로 이루어져 있으며, 가열챔버(12)의 외측에는 히터(13)가 구비된다.The heating chamber 12 is composed of two tubes, that is, the inner and outer tubes 12a and 12b, and the heater 13 is provided outside the heating chamber 12.
히터(13)는 열선이 내장된 원통형으로 형성되며, 가열챔버(12) 내의 폐가스가 산화 가능하도록 일정 온도 이상으로 가열챔버(12)를 가열한다.The heater 13 is formed in a cylindrical shape with a built-in heating wire, and heats the heating chamber 12 above a predetermined temperature so that the waste gas in the heating chamber 12 can be oxidized.
파우더 제거부(20)는 하우징(21), 스크레이퍼(scraper;22), 모터(23) 및 시수(city water)분사노즐(24)로 구성된다.The powder removing unit 20 is composed of a housing 21, a scraper 22, a motor 23, and a city water spray nozzle 24.
하우징(21)은 원통 형상을 가지며, 그 상단에 스크레이퍼(22)가 조립된다.The housing 21 has a cylindrical shape, and a scraper 22 is assembled at the upper end thereof.
스크레이퍼(22)는 하우징(21)의 외측에 설치된 모터(23)의 구동력에 의해 회전하며, 이를 위해 스크레이퍼(22)의 하단에 형성된 수직회전축과 모터(23)의 회전축이 한 쌍의 베벨기어(23a)로 연결되어 있다.The scraper 22 is rotated by the driving force of the motor 23 installed on the outside of the housing 21, for this purpose, the vertical axis of rotation formed on the lower end of the scraper 22 and the axis of rotation of the motor 23 are a pair of bevel gears ( 23a).
시수분사노즐(24)은 스크레이퍼(22)의 내측에 구비되며, 외부의 시수공급부로부터 시수공급파이프 및 스크레이퍼(22)의 수직회전축에 형성된 관통홀을 통해 공급받은 시수를 고온의 폐가스에 분사한다.The time water injection nozzle 24 is provided inside the scraper 22, and sprays the time water supplied through the through-hole formed in the vertical rotation shaft of the time water supply pipe and the scraper 22 from the external water supply part to the hot waste gas.
분리부(30)는 이송관(31), 분리관(32) 및 이송용 시수분사노즐(33)로 구성된다. 이송관(31)은 파우더 제거부(20)에 연결되어 수평면으로부터 중력방향으로 일정 각도 기울어지도록 형성되고, 중력방향으로 개구가 형성되는 분리관(32)의 일측에 연통되도록 연결되며, 입구측에 이송용 시수분사노즐(33)이 구비된다.Separation unit 30 is composed of a transfer pipe 31, a separation pipe 32 and the transfer time spray nozzle 33. The transfer pipe 31 is connected to the powder removing unit 20 so as to be inclined at an angle in the gravity direction from the horizontal plane, and is connected to communicate with one side of the separation pipe 32 in which the opening is formed in the gravity direction, and is connected to the inlet side. The feed water spray nozzle 33 is provided.
분리관(32)은 상측에 폐가스 습식처리부(40)가 연결되고, 하측에 파우더 페이스트를 정제하여 정화된 액체만을 외부로 배출하는 배출부(미도시)에 연결되는 배출관(51)이 연결된다.Separation pipe 32 is connected to the waste gas wet treatment unit 40 on the upper side, the discharge pipe 51 is connected to the discharge unit (not shown) for discharging only the purified liquid by purifying the powder paste on the lower side.
한편, 이송용 시수분사노즐(33)은 이송관(31)을 따라 흐르는 파우더 페이스트가 이송관(31)을 막는 것을 방지하기 위하여 파우더 페이스트의 유동방향으로 시수를 분사함으로써 파우더 페이스트가 원활하게 분리관(32)으로 흐르도록 한다.Meanwhile, in order to prevent the powder paste flowing along the transfer pipe 31 from blocking the transfer pipe 31, the transfer time water spray nozzle 33 sprays water in the flow direction of the powder paste to smoothly separate the powder paste. Flow to (32).
폐가스 습식처리부(40)는 도관(41), 포트(42), 시수공급관(43) 및 용해용 시수공급노즐(44)로 구성된다.The waste gas wet treatment unit 40 includes a conduit 41, a port 42, a water supply pipe 43, and a melting water supply nozzle 44.
도관(41)은 복수개가 서로 연통하도록 조립되고, 분리관(32)을 통해 미반응 폐가스 및 부유 파우더가 공급되며, 도관(41)의 외측면에는 도관(41)의 내.외부를 관통하는 포트(42)가 형성되어 있다.A plurality of conduits 41 are assembled so as to communicate with each other, the unreacted waste gas and suspended powder is supplied through the separation pipe 32, the port passing through the inside and outside of the conduit 41 to the outer surface of the conduit 41 (42) is formed.
포트(42)에는 시수가 공급되는 시수공급관(43)이 결합되고, 시수공급관(43)의 단부에는 미반응 폐가스에 시수를 분사하는 용해용 시수분사노즐(44)이 구비된다. 또한, 도관(41)의 내측면에는 부유 파우더를 집진시키는 미도시된 파우더 집진필터가 구비된다.The pot 42 is coupled to the water supply pipe 43 for supplying water, and an end portion of the water supply pipe 43 is provided with a dissolving water spray nozzle 44 for injecting water into the unreacted waste gas. In addition, the inner surface of the conduit 41 is provided with an unshown powder dust collecting filter for collecting the floating powder.
이와 같은 구조로 이루어진 종래의 건습식 폐가스 처리장치의 동작은 다음과 같이 이루어진다.The operation of the conventional wet-and-dry waste gas treatment device having such a structure is performed as follows.
매니폴더(11)로부터 공급된 폐가스, 공기 및 불활성 가스가 가열챔버(12) 내에서 혼합되고, 히터(13)에 의해 가열챔버(12) 내의 혼합 가스는 일정 온도에 도달하여 폐가스의 산화 조건이 형성되며, 시수분사노즐(24)로부터 분사되는 시수를 공급받은 고온의 폐가스는 갑작스런 온도 변화로 인해 고체성의 파우더를 다량으로 생성한다.The waste gas, air, and inert gas supplied from the manifold 11 are mixed in the heating chamber 12, and the mixed gas in the heating chamber 12 reaches a predetermined temperature by the heater 13 so that the oxidation condition of the waste gas is reduced. It is formed, the high temperature waste gas supplied from the water spray nozzle 24 is supplied with a large amount of solid powder due to a sudden temperature change.
생성된 파우더는 가열챔버(12)의 내부튜브(12a)에 부착되고, 회전하는 스크레이퍼(22)가 내부튜브(12a)에 부착된 파우더를 긁어서 내부튜브(12a)로부터 파우더를 분리하며, 스크레이퍼(22)에 의해 내부튜브(12a)로부터 분리된 파우더는 시수분사노즐(24)로부터 분사되는 시수에 의해 고체 및 액체상태의 파우더 페이스트가 된다.The resulting powder is attached to the inner tube 12a of the heating chamber 12, the rotating scraper 22 scrapes the powder attached to the inner tube 12a to separate the powder from the inner tube 12a, and the scraper ( The powder separated from the inner tube 12a by 22) becomes a solid and liquid powder paste by the time sprayed from the water spray nozzle 24.
이러한 파우더 페이스트는 미반응 폐가스 및 부유 파우더와 함께 이송관(31)을 따라 분리관(32)으로 유입되는데, 중량이 무거운 파우더 페이스트는 배출관(51)을 통해 배출부로 이동하여 정화되어 외부로 분리 배출되고, 미반응 폐가스 및 부유 파우더는 습식처리부(40)의 도관(41)을 따라 상승하면서 미반응 폐가스는 용해용 시수분사노즐(44)로부터 분사되는 시수에 의해 용해되며, 부유 파우더는 파우더 집진필터에 의해 집진된다.The powder paste is introduced into the separation pipe 32 along the transfer pipe 31 along with the unreacted waste gas and the floating powder. The heavy powder paste is moved to the discharge portion through the discharge pipe 51 and purified and separated and discharged to the outside. The unreacted waste gas and the suspended powder are raised along the conduit 41 of the wet treatment unit 40 while the unreacted waste gas is dissolved by the time water sprayed from the dissolving water spray nozzle 44, and the suspended powder is the powder dust collecting filter. Is collected by.
이와 같은 종래의 건습식 폐가스 처리장치는 스크레이퍼, 모터 등의 관련부품이 파우더의 강한 부식성으로 인해 쉽게 부식되며, 내부튜브 내에 다량의 파우더가 생성시 스크레이퍼가 회전을 못하게 되어 과부하로 인해 모터가 쉽게 고장을 일으키는 등 관련부품의 교체비용이 증가할뿐만 아니라 내부튜브에 부착된 파우더를 원활하게 제거하지 못하는 문제점을 가지고 있다.Such a conventional wet and dry waste gas treatment device is easily corroded due to the strong corrosiveness of the scraper, motor, etc., and the scraper cannot rotate when a large amount of powder is generated in the inner tube, so the motor easily breaks down due to the overload. In addition to increasing the replacement cost of the related parts, such as causing a problem that does not remove the powder attached to the inner tube smoothly.
또한, 폐가스 습식처리부로부터 처리된 가스가 메인덕트로 배출시 가스내에 존재하는 부식성을 가진 수분에 의해 메인덕트 및 메인덕트를 이루는 연결배관을 부식시키는 문제점을 가지고 있다.In addition, the gas treated from the waste gas wet treatment unit has a problem of corroding the main duct and the connecting pipe forming the main duct by the corrosive water present in the gas when discharged to the main duct.
본 고안은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 고안의 목적은 불필요한 부품을 제거하고 폐가스 건식처리부 내로 수분이 유입되는 것을 방지하여 가열챔버 등이 부식되는 것을 방지함으로써 부품의 교체 비용등 장비의 유지비용을 절감하고, 원활하게 파우더를 제거함으로써 반도체 소자의 제조에 사용된 폐가스를 안정적으로 처리하며, 폐가스 습식처리부에 의해 최종적으로 처리된 배기가스에 포함된 부식성의 수분을 제거하여 메인덕트를 통해 외부로 배출시킴으로써 메인덕트 등 연결배관의 부식을 방지하는 폐가스 건습식 처리장치를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, the object of the present invention is to remove unnecessary parts and to prevent the inflow of moisture into the waste gas dry treatment unit to prevent corrosion of the heating chamber, etc. Reduces maintenance costs, smoothly removes powder, and stably treats waste gases used in the manufacture of semiconductor devices, and removes corrosive moisture contained in exhaust gases finally processed by the waste gas wet treatment unit to remove main ducts. It is to provide a waste gas wet and dry treatment device that prevents corrosion of the connection pipe such as the main duct by discharging to the outside through.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 고안은, 폐가스, 폐가스를 산화시키기 위한 공기 및 불활성 가스를 공급받아 혼합하며, 일정 온도로 가열하여 산화시키는 폐가스 건식처리부와; 폐가스 건식처리부로부터 공급받는 고온의 폐가스를 냉각시킴으로써 파우더를 생성시키는 폐가스 냉각부와; 폐가스 냉각부로부터 파우더를 공급받아 시수를 공급하여 파우더 페이스트를 생성시키며, 파우더 페이스트, 미반응 폐가스 및 부유 파우더를 분리시켜 파우더 페이스트는 배출관으로 배출시키는 분리부와; 분리부에 의하여 분리된 미반응 폐가스 및 부유 파우더를 공급받아 시수를 분사하여 미반응 폐가스는 시수에 용해시키며, 부유 파우더는 파우더 집진필터에 의해 집진시키는 폐가스 습식처리부와; 폐가스 습식처리부에 연통되어 미반응 폐가스를 처리한 후에 발생되는 배기가스가 공급되는 배관과, 배관의 내측에 각각 설치되어 배기가스에 포함된 수분을 부착 및 흡착시키는 수분부착수단 및 수분흡착필터와, 배관의 내측에 질소(N2)를 분사하여 배기가스에 포함되는 수분을 차단시키는 질소분사수단으로 이루어지는 수분제거부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for realizing the above object, the waste gas, the waste gas dry treatment unit for receiving and mixing the air and inert gas for oxidizing the waste gas, and heating and oxidizing to a predetermined temperature; A waste gas cooling unit which generates powder by cooling the high temperature waste gas supplied from the waste gas dry processing unit; A powder receiving the powder from the waste gas cooling unit to supply the water and generating powder paste, and separating the powder paste, unreacted waste gas and suspended powder to discharge the powder paste into the discharge pipe; A waste gas wet treatment unit for supplying unreacted waste gas and suspended powder separated by a separator to dissolve the unreacted waste gas in the water, and collecting the suspended powder by a powder dust filter; A pipe for supplying the exhaust gas generated after the unreacted waste gas is processed by being connected to the waste gas wet treatment unit, a water attachment means and a moisture adsorption filter installed at the inside of the pipe to attach and adsorb moisture contained in the exhaust gas; It characterized in that it comprises a water removal unit made of nitrogen injection means for blocking the water contained in the exhaust gas by injecting nitrogen (N 2 ) to the inside of the pipe.
도 1은 종래의 폐가스 건습식 처리장치의 구성도,1 is a block diagram of a conventional waste gas wet and dry treatment apparatus,
도 2는 본 고안에 따른 폐가스 건습식 처리장치의 구성도,2 is a block diagram of a waste gas wet and dry treatment apparatus according to the present invention,
도 3은 본 고안에 따른 폐가스 건습식 처리장치의 수분제거부의 질소분사수단을 도시한 도면이다.3 is a view showing the nitrogen injection means of the water removal unit of the waste gas dry and wet treatment apparatus according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100 : 폐가스 건식처리부 200 : 폐가스 냉각부100: waste gas dry processing unit 200: waste gas cooling unit
210 : 하우징 220 : 냉각판210: housing 220: cold plate
300 : 분리부 400 : 폐가스 습식처리부300: separation unit 400: waste gas wet treatment unit
500 : 수분제거부 510 : 배관500: water removal unit 510: piping
520 : 수분부착수단 521,522 : 수분부착판520: moisture attachment means 521, 522: moisture attachment plate
530 : 수분흡착필터 540 : 질소분사수단530: water adsorption filter 540: nitrogen injection means
541 : 질소공급파이프 542 : 질소분사관541 nitrogen supply pipe 542 nitrogen injection pipe
543 : 질소분사노즐 610 : 배출관543: nitrogen injection nozzle 610: discharge pipe
700 : 배기가스 냉각부 710 : 연결관700: exhaust gas cooling unit 710: connector
720 : 튜브 800 : 메인덕트720: tube 800: main duct
이하, 본 고안의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 고안의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the most preferred embodiment of the present invention will be described in more detail so that those skilled in the art can easily practice.
도 2는 본 고안에 따른 폐가스 건습식 처리장치의 구성도이다. 도시된 바와 같이, 본 고안에 따른 폐가스 건습식 처리장치는 폐가스 건식처리부(100)와, 폐가스 냉각부(200)와, 분리부(300)와, 폐가스 습식처리부(400)와, 수분제거부(500)로 구성된다.2 is a block diagram of a waste gas wet and dry treatment apparatus according to the present invention. As shown, the waste gas dry and wet treatment apparatus according to the present invention is a waste gas dry treatment unit 100, waste gas cooling unit 200, separation unit 300, waste gas wet treatment unit 400, water removal unit ( 500).
폐가스 건식처리부(100)는 반도체 소자의 제조설비의 배기가스 배출구와 연통되어 폐가스, 폐가스를 산화시키기 위한 공기 및 폐가스와 공기의 급격한 폭발을 방지하기 위한 불활성 가스가 공급되어 혼합되는 매니폴드(110)와, 매니폴드(110)에 기밀하게 연통되어 있으며 내부 및 외부튜브(121,122)로 이루어진 가열챔버(120)와, 가열챔버(120)의 외측에 열선이 내장된 원통형으로 형성되어 가열챔버(120) 내의 폐가스 등의 혼합가스를 산화시키기 위해 일정 온도로 가열시키는 히터(130)로 구성된다.The waste gas dry processing unit 100 is in communication with an exhaust gas outlet of a semiconductor device manufacturing facility, and a manifold 110 in which air for oxidizing waste gas and waste gas is supplied and mixed with an inert gas for preventing sudden explosion of waste gas and air. And a heating chamber 120 which is in airtight communication with the manifold 110 and includes a heating chamber 120 formed of inner and outer tubes 121 and 122, and a cylindrical shape in which a heating wire is embedded outside the heating chamber 120. The heater 130 is heated to a predetermined temperature in order to oxidize a mixed gas such as waste gas therein.
폐가스 냉각부(200)는 폐가스 건식처리부(100)로부터 공급받는 고온의 폐가스를 냉각시킴으로써 파우더를 생성시킨다. 이러한 폐가스 냉각부(200)는 폐가스 건식처리부(100)에 연통되는 하우징(210)과, 하우징(210)의 내부에 지그재그로 설치되어 고온의 폐가스를 지그재그로 이동토록하여 냉각시키는 냉각판(220)으로 구성된다.The waste gas cooling unit 200 generates powder by cooling the high temperature waste gas supplied from the waste gas dry processing unit 100. The waste gas cooling unit 200 is installed in a housing 210 which is in communication with the waste gas dry processing unit 100 and zigzag inside the housing 210 to cool the waste gas by moving the waste gas at high temperature in a zigzag. It consists of.
고온의 폐가스는 하우징(210)내에서 지그재그로 이동하면서 냉각되어지며, 폐가스의 냉각은 하우징(210)의 내측에 지그재그로 설치되어 폐가스의 이동경로를 제공하는 냉각판(220)에 접촉됨으로써 가속된다. 따라서, 폐가스 건식처리부(100)로부터 공급받은 고온의 폐가스는 갑작스런 온도 변화로 인해 파우더를 생성시킨다.The hot waste gas is cooled while moving zigzag in the housing 210, and the cooling of the waste gas is accelerated by contacting the cooling plate 220 which is installed in a zigzag inside the housing 210 to provide a movement path of the waste gas. . Therefore, the high temperature waste gas supplied from the waste gas dry processing unit 100 generates powder due to a sudden temperature change.
분리부(300)는 폐가스 냉각부(200)의 하우징(210)에 연결되어 수평면으로부터 중력방향으로 일정 각도로 기울어지도록 형성되는 이송관(310)과, 이송관(310)이 일측에 연통되며 상.하측에 각각 폐가스 습식처리부(400) 및 파우더 페이스트를 정제하여 정화된 액체만을 외부로 배출하는 배출부(미도시)의 배출관(610)에 각각연통되는 분리관(320)과, 분리관(320)의 입구측에 구비되는 이송용 시수분사노즐(330)로 구성된다.The separation unit 300 is connected to the housing 210 of the waste gas cooling unit 200 and is formed to be inclined at a predetermined angle in the direction of gravity from the horizontal plane, the transfer pipe 310 and the transfer pipe 310 is in communication with one side .Separation pipe 320 and separation pipe 320 respectively connected to the discharge pipe 610 of the discharge unit (not shown) for purifying the waste gas wet treatment unit 400 and the powder paste to the outside to purify the purified liquid to the outside, respectively. It is composed of a transfer time spray nozzle 330 is provided on the inlet side.
이러한 분리부(300)는 폐가스 냉각부(200)로부터 생성되는 고체 및 액체 상태의 파우더 페이스트, 미반응 폐가스 및 부유 파우더를 분리시켜 파우더 페이스트는 배출관(610)으로 배출시키며, 미반응 폐가스 및 부유 파우더는 폐가스 습식처리부(400)로 공급시킨다.The separator 300 separates the solid and liquid powder paste, unreacted waste gas, and suspended powder generated from the waste gas cooling unit 200 to discharge the powder paste into the discharge pipe 610, and unreacted waste gas and suspended powder. Supply to the waste gas wet treatment unit 400.
폐가스 습식처리부(400)는 분리부(300)의 분리관(320)의 상측에 연결되는 도관(410)과, 도관(410)의 외측면에는 도관(410)의 내.외부를 관통하여 형성되는 포트(420)와, 포트(420)에 결합되는 시수공급관(430)과, 시수공급관(430)의 단부에 결합되는 용해용 시수공급노즐(440)로 구성된다.The waste gas wet treatment unit 400 is formed through the conduit 410 connected to the upper side of the separation pipe 320 of the separation unit 300, and penetrates the inner and outer sides of the conduit 410 on the outer surface of the conduit 410. The port 420, the water supply pipe 430 coupled to the port 420, and the water supply nozzle 440 for dissolution coupled to the end of the water supply pipe 430.
한편, 도관(410)의 내측면에는 부유 파우더를 집진시키는 미도시된 파우더 집진필터가 구비된다.On the other hand, the inner surface of the conduit 410 is provided with a powder collecting filter (not shown) for collecting the suspended powder.
이러한 폐가스 습식처리부(400)는 분리부(300)에 의하여 분리된 미반응 폐가스 및 부유 파우더를 공급받아 시수를 분사하여 미반응 폐가스는 시수에 용해시키며, 부유 파우더는 파우더 집진필터에 의해 집진되도록 한다.The waste gas wet treatment unit 400 receives unreacted waste gas and suspended powder separated by the separating unit 300 and sprays water to dissolve unreacted waste gas in the ground water, and the suspended powder is collected by a powder dust filter. .
수분제거부(500)는 폐가스 습식처리부(400)에 연통되어 미반응 폐가스를 처리한 후에 발생되는 배기가스가 공급되는 배관(510)과, 배관(510)의 내측에 각각 설치되어 배기가스에 포함된 수분을 부착 및 흡착시키는 수분부착수단(520) 및 수분흡착필터(530)와, 배관(510)의 내측에 질소를 분사하여 배기가스에 포함되는 수분을 차단시키는 질소분사수단(540)으로 구성된다.The water removal unit 500 is connected to the waste gas wet treatment unit 400 and is provided inside the pipe 510 for supplying the exhaust gas generated after processing the unreacted waste gas, and inside the pipe 510 and included in the exhaust gas. Moisture adhering means 520 and moisture adsorption filter 530 for attaching and adsorbing the moisture, and nitrogen injection means 540 for blocking moisture contained in the exhaust gas by injecting nitrogen into the pipe 510. do.
배관(510)은 복수개가 연통되도록 조립되고, 배관(510)의 내부에는 복수의 수분부착수단(520) 및 수분흡착필터(530)가 설치되며, 배관(510)의 외측에는 복수의 질소분사수단(540)이 설치된다.A plurality of pipes 510 are assembled to communicate with each other, and a plurality of water attachment means 520 and a water adsorption filter 530 are installed inside the pipe 510, and a plurality of nitrogen injection means is provided outside the pipe 510. 540 is installed.
한편, 수분부착수단(520)은 배관(510)의 내측에 일단이 결합되되 배기가스의 진행방향으로 비스듬이 결합되는 제 1 수분부착판(521)과, 제 1 수분부착판(521)의 상측으로 제 1 수분부착판(521)이 결합된 배관(510)의 내측 반대편에 일단이 수평으로 결합되는 제 2 수분부착판(522)으로 구성된다.On the other hand, the water attachment means 520 is one end is coupled to the inner side of the pipe 510, the oblique coupling in the traveling direction of the exhaust gas and the first moisture attachment plate 521, the upper side of the first moisture attachment plate 521 The first moisture-adhesive plate 521 is composed of a second moisture-adhesive plate 522, one end of which is horizontally coupled to the inner side of the pipe 510 is coupled.
여기서, 제 1 수분부착판(521)과 배관(510)의 벽면이 이루는 각도는 45도, 제 2 수분부착판(522)의 길이는 배관(510) 직경의 3분의 2 이내 임이 바람직하다. 따라서, 배관(510)내에 제 1 및 제 2 수분부착판(521,522)를 설치하여도 배기가스가 배관(510)을 원활하게 통과하는 반면, 제 1 및 제 2 수분부착판(521,522)에 제대로 수분이 부착된다.Here, the angle formed by the wall surface of the first moisture-adhesion plate 521 and the pipe 510 is 45 degrees, and the length of the second moisture-adhesion plate 522 is preferably within 2/3 of the diameter of the pipe 510. Therefore, even when the first and second moisture adhesion plates 521 and 522 are provided in the pipe 510, the exhaust gas smoothly passes through the piping 510, while the first and second moisture adhesion plates 521 and 522 are properly moisturized. Is attached.
제 1 및 제 2 수분부착판(521,522)은 스테인레스 스틸 재질에 테프론 압분 코팅한 것이 바람직하다. 이는 제 1 및 제 2 수분부착판(521,522)이 배기가스의 열에 의한 변형이나 부식성분에 의해 부식되지 않아야 하기 때문이다.The first and second moisture adhesion plates 521 and 522 are preferably coated with Teflon powder on a stainless steel material. This is because the first and second moisture-adhesive plates 521 and 522 should not be corroded by deformation or corrosion component of heat of the exhaust gas.
수분흡착필터(530)는 배관(510)에 횡방향으로 설치되며, 배기가스가 통과할 때 이에 포함된 수분을 흡착한다.The moisture adsorption filter 530 is installed in the transverse direction in the pipe 510 and adsorbs moisture contained therein when the exhaust gas passes.
또한, 질소분사수단(540)은 도 3에서와 같이 배관(510)의 외주면에 장착되는 띠 형상을 가지며 일측에 질소공급파이프(541)가 연결되는 중공형의 질소분사관(542)과, 질소분사관(542)의 내측에 결합되어 배관(510)을 관통하는 질소분사노즐(543)로 구성된다.In addition, the nitrogen injection means 540 has a strip shape which is mounted on the outer peripheral surface of the pipe 510 as shown in Figure 3 and the nitrogen injection pipe 542 of the hollow type that the nitrogen supply pipe 541 is connected to one side, nitrogen injection pipe It is composed of a nitrogen injection nozzle 543 coupled to the inside of the 542 and penetrates the pipe 510.
수분부착수단(520), 수분흡착필터(530) 및 질소분사수단(540)은 각각 배관(510) 내에 필요에 따라 복수로 설치할 수 있다.The water attachment means 520, the moisture absorption filter 530, and the nitrogen injection means 540 may be installed in plural in the pipe 510 as necessary.
한편, 수분제거부(500)의 상측에 연결되는 연결관(710)의 내부에 튜브(720)가 원형으로 권선되며, 수분제거부(500)로부터 배기되는 배기가스가 튜브(720)를 통과하면서 냉각되어 메인덕트(800)로 배기되는 배기가스 냉각부(700)를 구비할 수 있다.On the other hand, the tube 720 is wound around the inside of the connection pipe 710 connected to the upper side of the water removal unit 500, the exhaust gas exhausted from the water removal unit 500 passes through the tube (720) The exhaust gas cooling unit 700 is cooled and exhausted to the main duct 800.
이와 같은 구조로 이루어진 본 고안의 건습식 폐가스 처리장치의 동작은 다음과 같이 이루어진다.Operation of the wet and dry waste gas treatment device of the present invention made of such a structure is made as follows.
매니폴더(110)로부터 공급된 폐가스, 공기 및 불활성 가스가 가열챔버(120) 내에서 혼합되고, 히터(130)에 의해 가열챔버(120) 내의 혼합 가스는 일정 온도에 도달되며, 폐가스의 산화 조건이 형성되어 폐가스 냉각부(200)의 하우징(210)으로 유입된다.Waste gas, air, and inert gas supplied from the manifold 110 are mixed in the heating chamber 120, and the mixed gas in the heating chamber 120 is reached by a heater 130 to reach a certain temperature, and oxidation conditions of the waste gas It is formed is introduced into the housing 210 of the waste gas cooling unit 200.
하우징(210)으로 유입된 일정 온도에 도달한 폐가스는 냉각판(220)에 의해 형성된 지그재그의 경로를 따라 이동하면서 냉각됨으로써 온도 변화로 인해 파우더를 생성하고 이송관(310)으로 유입된다. 이 때, 이송용 시수분사노즐(330)은 이송관(310)으로 유입된 파우더에 시수를 분사함으로써 고체 및 액체의 파우더 페이스트로 만들고, 파우더 페이스트의 유동방향으로 시수를 분사함으로써 파우더 페이스트가 원활하게 분리관(320)으로 흐르도록 하며, 폐가스에 포함된 수용성 가스를 시수에 용해시킨다.The waste gas reaching the predetermined temperature introduced into the housing 210 is cooled while moving along the path of the zigzag formed by the cooling plate 220 to generate powder due to the temperature change and flow into the transfer pipe 310. At this time, the transfer time spray nozzle 330 is made of a solid and liquid powder paste by spraying the water to the powder introduced into the transfer pipe 310, the powder paste smoothly by spraying the water in the flow direction of the powder paste It flows to the separation pipe 320, and the water-soluble gas contained in the waste gas is dissolved in the water.
분리관(320)으로 이송된 파우더 페이스트, 미반응 폐가스 및 부유 파우더중 중량이 무거운 파우더 페이스트는 배출관(610)을 통해 배출부로 이송되어 정화되어 외부로 분리 배출되고, 미반응 폐가스 및 부유 파우더는 폐가스 습식처리부(400)의 도관(410)을 따라 상승하면서 미반응 폐가스는 용해용 시수분사노즐(440)로부터 분사되는 시수에 의해 용해되며, 부유 파우더는 파우더 집진필터에 의해 집진된다.The powder paste, the unreacted waste gas and the suspended powder, which are heavy in the powder paste transferred to the separation pipe 320, are transferred to the discharge part through the discharge pipe 610, purified and separated and discharged to the outside, and the unreacted waste gas and the suspended powder are waste gas As it rises along the conduit 410 of the wet treatment unit 400, the unreacted waste gas is dissolved by the time water sprayed from the melt water spray nozzle 440, and the suspended powder is collected by the powder dust collecting filter.
폐가스 습식처리부(400)에 의해 폐가스를 처리하고 배출되는 배기가스는 수분제거부(500)의 배관(510)으로 공급된다. 배기가스가 배관(510)을 통과시 배기가스에 포함된 부식성의 수분은 수분부착수단(520)의 제 1 및 제 2 수분부착판(521,522)에 부착되고, 수분흡착필터(530)에 흡착되며, 질소분사수단(540)의 질소분사노즐(543)에 의해 차단된다.The waste gas treated and discharged by the waste gas wet treatment unit 400 is supplied to the pipe 510 of the water removing unit 500. When the exhaust gas passes through the pipe 510, the corrosive water contained in the exhaust gas is attached to the first and second moisture adhesion plates 521 and 522 of the moisture attachment means 520, and adsorbed to the moisture adsorption filter 530. It is blocked by the nitrogen injection nozzle 543 of the nitrogen injection means (540).
한편, 수분제거부(500)를 통과하여 수분이 제거된 배기가스는 건조상태로 배기가스 냉각부(700)의 튜브(720)를 통과하면서 냉각되어 메인덕트(800)로 이동한다. 따라서, 배기가스가 냉각됨으로 인해 온도로 인한 변형이나 식각을 예방할 수 있으므로 메인덕트(800)를 PVC 재질로 형성할 수 있다.On the other hand, the exhaust gas from which moisture is removed by passing through the water removal unit 500 is cooled while passing through the tube 720 of the exhaust gas cooling unit 700 in a dry state and moved to the main duct 800. Accordingly, since the exhaust gas is cooled, deformation or etching due to temperature may be prevented, so that the main duct 800 may be formed of a PVC material.
이상과 같이 본 고안의 바람직한 실시예에 따르면, 폐가스 건식처리부 내로 수분이 유입되는 것을 방지하여 불필요한 부품의 교체를 줄이고, 폐가스 습식처리부에 의해 최종적으로 처리된 가스에 포함된 부식성의 수분을 제거하여 메인덕트를 통해 외부로 배출시킴으로써 메인덕트 등 연결배관의 부식을 방지한다.According to the preferred embodiment of the present invention as described above, by preventing the inflow of moisture into the waste gas dry treatment unit to reduce the replacement of unnecessary parts, by removing the corrosive water contained in the gas finally treated by the waste gas wet treatment unit main By discharging to the outside through the duct, it prevents the corrosion of the connection pipe such as the main duct.
상술한 바와 같이, 본 고안에 따른 폐가스 건습식 처리장치는 불필요한 부품을 제거하고 폐가스 건식처리부 내로 수분이 유입되는 것을 방지하여 가열챔버 등이 부식되는 것을 방지함으로써 부품의 교체 비용등 장비의 유지비용을 절감하며, 원활하게 파우더를 제거하여 반도체 소자의 제조에 사용된 폐가스를 안정적으로 처리하고, 폐가스 습식처리부에 의해 최종적으로 처리된 가스에 포함된 부식성의 수분을 제거하여 메인덕트를 통해 외부로 배출시킴으로써 메인덕트 등 연결배관의 부식을 방지하는 효과를 가지고 있다.As described above, the waste gas dry and dry treatment apparatus according to the present invention eliminates unnecessary parts and prevents water from flowing into the waste gas dry treatment unit, thereby preventing corrosion of the heating chamber and the like, thereby reducing maintenance costs of equipment such as replacement cost of components. By removing the powder smoothly, the waste gas used in the manufacture of the semiconductor device is stably processed, and the corrosive water contained in the gas finally processed by the waste gas wet treatment part is removed and discharged to the outside through the main duct. It has the effect of preventing corrosion of connecting pipe such as main duct.
이상에서 설명한 것은 본 고안에 따른 폐가스 건습식 처리장치를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 고안은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 실용신안등록청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 고안의 요지를 벗어남이 없이 당해 고안이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 고안의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is just one embodiment for implementing the waste gas dry and dry treatment apparatus according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the utility model registration claims below Without departing from the gist of the invention, anyone with ordinary knowledge in the field to which the invention belongs will have a technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
Claims (5)
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR2020010016372U KR200243275Y1 (en) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | Apparatus for the burn and wet disposal process of waste gas |
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|---|---|---|---|
| KR2020010016372U KR200243275Y1 (en) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | Apparatus for the burn and wet disposal process of waste gas |
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