KR20020034897A - 억제물 보충 시스템 - Google Patents
억제물 보충 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20020034897A KR20020034897A KR1020010066934A KR20010066934A KR20020034897A KR 20020034897 A KR20020034897 A KR 20020034897A KR 1020010066934 A KR1020010066934 A KR 1020010066934A KR 20010066934 A KR20010066934 A KR 20010066934A KR 20020034897 A KR20020034897 A KR 20020034897A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- corrosion inhibitor
- inhibitor
- line
- molybdenum
- lithium
- Prior art date
Links
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 40
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 40
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 18
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 31
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical group [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 9
- 239000013589 supplement Substances 0.000 claims description 8
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims description 5
- MOOYSSSIVSFZQA-UHFFFAOYSA-N [Li].[Mo] Chemical group [Li].[Mo] MOOYSSSIVSFZQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 claims 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 9
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 8
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- -1 halogen salts Chemical class 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 3
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 3
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKZLSIKMRFAPTF-UHFFFAOYSA-L [Li].[Cr](=O)(=O)(O)O Chemical compound [Li].[Cr](=O)(=O)(O)O BKZLSIKMRFAPTF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 235000013601 eggs Nutrition 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NMHMDUCCVHOJQI-UHFFFAOYSA-N lithium molybdate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Mo]([O-])(=O)=O NMHMDUCCVHOJQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 231100000357 carcinogen Toxicity 0.000 description 1
- 239000003183 carcinogenic agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003337 fertilizer Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000003826 tablet Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B49/00—Arrangement or mounting of control or safety devices
- F25B49/04—Arrangement or mounting of control or safety devices for sorption type machines, plants or systems
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B15/00—Sorption machines, plants or systems, operating continuously, e.g. absorption type
- F25B15/02—Sorption machines, plants or systems, operating continuously, e.g. absorption type without inert gas
- F25B15/06—Sorption machines, plants or systems, operating continuously, e.g. absorption type without inert gas the refrigerant being water vapour evaporated from a salt solution, e.g. lithium bromide
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B47/00—Arrangements for preventing or removing deposits or corrosion, not provided for in another subclass
- F25B47/003—Arrangements for preventing or removing deposits or corrosion, not provided for in another subclass for preventing corrosion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A30/00—Adapting or protecting infrastructure or their operation
- Y02A30/27—Relating to heating, ventilation or air conditioning [HVAC] technologies
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B30/00—Energy efficient heating, ventilation or air conditioning [HVAC]
- Y02B30/62—Absorption based systems
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Sorption Type Refrigeration Machines (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
리듐 브롬화물 용액이 일련의 상호 연결된 유동 라인과 펌프를 통해 흡수식 냉각 유닛을 통해 순환되는 흡수식 사이클을 제공하도록 상호 연결된 증발기 수단, 흡수기 수단, 발생기 수단, 및 응축기 수단을 포함하는 흡수식 냉각 유닛 내에 사용하기 위한 온 라인 부식 억제물 보충 시스템. 시간 방출 부식 억제물의 공급원은 부식 억제물을 리듐 브롬화물 용액에 선택적으로 방출하도록 상기 유동 라인 중 하나와 연결된다.
Description
본 발명은 전체적으로는 흡수식 냉각 시스템에 관한 것이고 더 개별적으로는 이러한 시스템 내의 사용을 위한 부식 억제 물질 및 흡수식 시스템에 이러한 물질을 공급하는 방법에 관한 것이다. 부식 억제물은 시스템 작동 유체와 접촉하는 시스템 내의 금속 부식을 감소시키도록 흡수식 시스템에 통상적으로 제공된다.
흡수식 냉각 장치 시스템에는 다른 수많은 냉각제 및 흡수제의 쌍이 사용된다. 이러한 쌍은 리듐 염의 농축된 수성 용액을 형성하도록 혼합된, 리듐 브롬화물, 리듐 염화물, 또는 리듐 아이오드화물과 같은, 리듐의 할로겐 염과 물이다. 또 다른 쌍은 물과 암모니아이다.
강철과 같은 철 및 철 합금 그리고 구리 및 구리 합금은 흡수식 냉각 장치 시스템에서 사용되는 전형적인 구성 물질이다. 이러한 금속의 부식은 문제를 야기할 수 있고 어떤 경우에 있어는, 점검되지 않으면, 냉각 장치 내부 부품의 수명을 단축시킬 수 있다. 관련 금속의 손실이 있을 뿐 아니라, 제1철 금속의 산화는 기상의 수소를 생산한다. 정화되지 않는다면, 수소는 시스템의 정상 작동을 방해할 수 있다. 부식은 리듐의 할로겐 염을 사용하는 시스템의 특별한 관심사이고, 특정 시스템에서 사용되는 냉각제/흡수제 쌍과 무관하게, 금속 부식율은 시스템의 온도 증가에 따라 증가한다.
종래기술에서, 흡수식 냉각 시스템 내의 냉각제/흡수제 용액에, 리듐 크롬산 같은, 크롬 염을 추가하는 것은 금속 부식의 감소에 효과적인 것은 잘 알려져 있다. 크롬산 성분의 존재는 철 보호층의 형성을 촉진시키고 크롬은 흡수제와 접촉된 시스템의 표면상에서 산화한다. 철 산화의 감소와 함께, 상응하는 비응축성 수소 생성의 감소가 존재한다. 그러나, 크롬이 야기하는 건강 위험부담에 대한 염려가 존재한다. 미국 환경 보호국 같은, 적어도 하나의 정부 당국은 크롬을 발암물질로 인정하고, 대기에 개방되는 시스템 내에서 크롬 성분의 존재를 금지하였다. 이 보고서에 의하면, 폐쇄 시스템 내에서 크롬 성분의 사용상 제한은 존재하지 않으나 가까운 미래에는 그런 제한이 있을 수도 있다. 물론, 흡수식 냉각 장치는 폐쇄 시스템이지만, 시스템으로부터의 일정 양의 작동 유체는 샘플의 취함, 제조 공정, 및 취급과 적재과정 동안의 유출을 통해 대기에 노출될 수 있다. 그리고, 시스템 서비스 수명의 말기에 있어, 시스템 충전은 내장하는 크롬 성분을 포함하여, 작동 유체의 폐기를 필연적으로 필요로 한다.
현재 흡수식 냉각 시스템 내의 작동 유체로서의 사용을 위해 암모니아 또는 리듐의 할로겐 염 중 하나의 무크롬 수성 용액이 가용하다. 리듐 염이나 암모니아 외에, 몰리브덴, 붕소, 및 실리콘의 이온이 작동 유체 내에 존재하도록, 용액은 또한 몰리브덴산염을 내장하는 성분, 붕산염을 내장하는 성분, 및 양호한 실시예로서, 규산염을 내장하는 성분을 전형적으로 포함한다. 충분한 양의 수산화물을 내장하는 성분은 용액이 강한 염기성이 되도록 용액에 첨가된다. 첨가된 성분은 효과적인 부식 억제물로서 기능한다. 이러한 유체의 억제 성능은 종래의 리듐 크롬산 억제물의 성능보다 우수하다.
작동 유체는 몰리브덴, 붕소, 및 양호한 실시예로서, 실리콘의 할로겐 또는 암모늄 염을 리듐 염 또는 암모니아의 수성 용액에 첨가함으로써 준비된다. 또한원하는 알카리성을 얻도록 소듐, 리듐, 칼슘 또는 암모니아의 수산화물이 첨가된다. 첨가된 성분은 수성 용액으로서 부가되는 것이 바람직하다. 이 시스템은 본 명세서에서 참조되는 미국 특허 제5,547,600호 내에 더 전체적으로 기술되어 있다.
경험적으로 새로운 흡수식 냉각 장치는 작동 시간의 초반부 동안에 예상 가능한 높은 억제물 감소률을 가짐을 알 수 있다. 권장되는 부식 억제물의 농도 레벨 미만에서 작동하는 냉각 장치는 냉각 장치 내부를 용납할 수 없는 부식율과 가능한 빠른 라이프 사이클 파손에 노출시킨다. 이상적인 냉각 장치 부식 방지를 제공하도록, 초기 억제물 충전의 급격한 감소는 원하는 억제물 부식 방지를 유지하기 위해 숙련된 기계공 또는 보조 기술자의 용액 샐플링 및 적시의 보충에 의한 억제물 농도의 폐쇄 관찰을 필요로 한다. 개인의 주의를 요하는 이 방법은 손해가 크고 용액 샘플링시의 실수 및 시스템으로의 부적절한 시기의 억제물 추가에 기인한 파괴적인 부식율과 같은 통상적인 문제를 야기한다.
그러므로 본 발명의 목적은 상기 설명된 종래 기술의 문제점을 극복한 흡수식 냉각 시스템을 위한 부식 억제물 보충 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 특징과 목적은 첨부된 도면을 참조하여, 후속의 본 발명의 양호한 실시예의 상세한 설명으로부터 용이하게 이해될 것이다.
도1은 흡수식 시스템의 주요 구성요소를 도시하는 개략도.
도2는 부식 억제 물질을 수용하는 캐니스터의 확대 측면도.
도3은 도2의 선 3-3을 따라 취한 캐니스터의 측면도.
<도면의 주요 부분에 대한 설명>
16: 고온 발생기
19: 증발기
20: 흡수기
21: 쉘
28: 고온 용액 열교환기
36: 저온 발생기
38: 응축기
39: 분무기 헤더
43: 냉각제 펌프
44: 섬프
이제 도1을 참조하여, 도1에 도시된 기계 내에서 실시된 흡수식 시스템(10)의 기본 구성 부품이 개략적 형태로 도시되어 있다. 사이클의 작동은 냉각 모드에서 작동하는 기계장치에 대하여 설명되지만, 사이클이 기계장치가 가열 모드에서도 작동될 수 있도록 조정될 수 있음은 관련기술의 숙련자에게 있어 명백할 것이다. 본 발명은 냉각제로서 물 및 흡수제로서, 물에 대해 높은 친화성을 가진, 리듐 브롬화물을 채용한다.
본 기계는 증발기(19) 및 통상의 쉘(21) 내에 나란한 관계로 장착된 흡수기(20)를 포함한다. 공정에서 사용되는 액체 냉각제는 냉각되고 있는 물질로부터 열을 흡수하는 증발기 내에서 증발된다. 냉각되고 있는 물질은 라인(23)에 의해 증발기를 통해 이동된다. 증발기 내에서 발생된 증발된 냉각제는 공정 내에서 사용하기에 적합한 용액을 생성하도록 흡수제와 결합되어지는 흡수기로 통과된다. 흡수 공정 내에서 발생된 열은 수관(24)에 의해 흡수기로부터 빠져나온다.
저온 용액 열교환기(27)를 떠날 때, 묽은 용액의 일부분은 저온 용액 라인(31)을 경유하여 저온 발생기(36)로 보내진다. 잔류하는 묽은 용액은 고온 용액 열교환기(28)를 통해 용액 라인(29)을 경유하여 고온 발생기(16)로 보내진다. 도1에는 도시되지 않았지만, 고온 발생기 내의 묽은 용액은 외기 열원에 의해 온도가 증가되어져 냉각제를 증발시키고, 따라서 용액으로부터 냉각제를 제거한다. 비등 증발된 냉각제 증기는 증기라인(35)에 의해 시스템 응축기(38)를 따라 쉘(37)에수용된 저온 발생기(36) 내로 통과된다. 여기서, 묽은 용액의 잔류부는 가열되고 거기에 내장된 냉각제는 고온 냉각제에 의해 증발되고, 고온의 증기를 따라, 시스템 응축기 내로 이송된다. 응축기 내에서, 냉각제 증기는 냉각제를 차냉각 (subcooled) 액체 상태에 두도록 라인(24)을 통해 통과하는 냉각수와 열전달 관계에 있게된다. 진한 흡수제 용액은 흡수 사이클에서 재사용 되도록 두 개의 발생기로부터 흡수기로 다시 유입된다. 복귀 시에, 고온 발생기로부터의 진한 용액은 고온 용액 열교환기(28)를 통하고 이어서 용액 복귀 라인(40)을 경유하여 제2 저온 용액 열교환기(27)를 통해 통과된다. 저온 발생기를 떠나는 진한 용액은 제2 용액 열교환기의 입구에서 복귀 라인에 유입하는 피더 라인(42)에 의해 용액 복귀 라인 내로 연결된다.
응축기로부터의 응축된 액체 냉각제는 라인(41)에 의해 증발기 섬프(sump)로 중력에 의해 공급된다.
냉각제 펌프(43)는 흡입 라인(46)에 의해 시스템 증발기의 섬프(44)로 연결되고 섬프에 수집된 액체 냉각제를 공급 라인(47)을 경유하여 분무기 헤더(39)로 다시 펌핑하도록 배열된다.
본 발명에 의하면, 냉각제 유동 공급 라인(47) 내에 위치한 캐니스터(50)는 분무기 헤더(39)의 상류부이고, 시스템에 억제물을 공급하는 기능을 한다. 캐니스터는 냉각제가 캐니스터를 통해 유동하는 것을 허용하고 억제물이 냉각제 유동 내에서 용해 및 혼합되어 분무기 헤더(39)를 통해 방출됨을 야기시키는 캡슐로 보호되는 억제물을 내장하는 내부 메쉬 바스켓(54) 및 외부 하우징(52)을 포함한다. 도2에 도시된 바와 같이, 억제물은 입상 형태이다. 다른 실시예에서, 캐니스터는 도1에서 60으로 도시된 바와 같이 유동 라인(29)에 연결될 수도 있고, 캐니스터(50)에 대해 위에서 설명한 것과 동일한 방식으로 기능할 수도 있다. 본 발명에 있어서, 리듐 몰리브덴산염과 같은, 몰리브덴산염 형태의 몰리브덴은 부식억제물로서 사용되는 것이 바람직하다.
흡수 유닛을 위한 작동유체는 120에서 180 피피엠 범위의 몰리브덴 농도, 160에서 220 피피엠 범위의 붕소 농도, 1에서 20 피피엠 범위의 실리콘 농도 및 0.03부터 0.2까지의 노르말리티(Normality)를 가진다. 또한, 약 10 피피엠 몰리브덴 및 1 피피엠 정도의 붕소로부터, 비교적 저농도의 억제물 첨가물은 부식의 감소에 효과적이다. 이러한 첨가물은 이전의 확인된 미국 특허 제5,547,600호에 더 전체적으로 기술되어 있다. 시간 방출은 기술분야에서 잘 알려진 종래의 기술에 의해 달성된다. 고체 억제물, 즉 입상 또는 알 형태의 리듐 몰리브덴산염은 몰리브덴산염의 용액으로의 느리면서도 일정화된 방출을 허락하는 투수성 또는 고체 코팅으로 피막되어있다. 적절한 코팅 물질은 실리카 젤, 규산염과, 젤라틴 및 관련 젤을 포함한다.
본 발명에 의하면 선택된 수 시간의 냉각 작동 후 무인 억제물 정기 보충을 위한 시스템이 제공된다. 이는 알, 입상, 정제, 캡슐, 또는 차단 형태일 수도 있는 억제물을 캡슐로 보호하도록 코팅을 사용함으로서 달성된다. 억제물 코팅은 흡수식 냉각 장치 냉각제(물)에 특정시간에 걸쳐 노출됐을 때 파괴되어 억제물이 냉각제로 방출되는 것을 허용한다. 이 공정은 소정의 시간 간격마다 방출되는 약물과 비료, 및 식기 세척기용 얼룩 방지 작용제의 시간 방출에 채용된 것과 유사하다. 선택된 위치에서, 억제물은 냉각 장치가 작동 중일 때만 냉각제에 노출된다. 이는 캡슐에 의해 보호되는 억제물이 냉각제에 노출되는 시간을 냉각 장치 작동 시간에 연결시킨다. 선택적으로, 냉각제 분무기 헤더의 억제물의 도입은, 냉각제가 분무기 노즐 및 냉각제 펌프를 통해 순환됨에 따라 혼합을 촉진시킨다. 냉각 장치의 전자 제어는 억제물이 풍부한 냉각제가 흡수기 내의 리듐 브롬화물 용액에 혼합되어, 용액 펌프에 의해 냉각 장치 잔류부로 순환되는 것을 허용하도록 소정의 작동 시간에 희석 사이클 작동을 야기시키게 프로그램 될 수 있다. 이는 완성 냉각 장치 내부의 부식 방지 표면의 무결점 상태를 유지하도록 시간에 기초하여 무인 억제물 보충 사이클을 완성시킨다.
Claims (11)
- 리듐 브롬화물 용액이 흡수식 냉각 유닛을 통해 순환되는 흡수식 사이클을 제공하도록, 일련의 상호 연결된 유동 라인과 펌프를 통해 연결된 증발기 수단, 흡수기 수단, 발생기 수단, 및 응축기 수단을 포함하는 흡수식 냉각 유닛 내에서 사용하기 위한 온 라인 부식 억제물 보충 시스템에 있어서,억제물 개량부는 상기 유닛이 작동하는 동안 부식 억제 물질을 상기 용액에 선택적으로 방출하도록 상기 유동 라인 중 하나와 연결함으로써 시간 방출 부식 억제 물질의 공급원의 위치 설정을 하는 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 시간 방출 억제물 수단은 냉각제 유동 공급 라인에 연결된 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 억제물은 증발기 분무기 헤더를 통해 유동하는 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제1항에 있어서, 부식 억제물은 몰리브덴인 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제4항에 있어서, 몰리브덴은 리듐 몰리브덴인 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제5항에 있어서, 방출된 리듐 몰리브덴은 리듐 브롬화물 용액 중 120 내지 180 피피엠의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 리듐 브롬화물 용액이 일련의 상호 연결된 유동 라인과 펌프를 통하여 흡수식 냉각 유닛을 통해 순환되는 흡수식 사이클을 제공하도록 상호 연결된 증발기 수단, 흡수기 수단, 발생기 수단, 및 응축기 수단을 포함하는 흡수식 냉각 유닛 내에 사용하기 위한 온 라인 부식 억제물 보충 시스템에서,상기 시스템은 상기 유닛이 작동하는 동안 부식 억제 물질을 상기 용액에 선택적으로 방출하도록 상기 유동 라인 중 하나와 연결된 부식 억제물의 공급원을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제4항에 있어서, 부식 억제물의 공급원은 증발기 분무기 헤더를 통해 억제물을 시스템으로 방출하기 위해 냉각제 유동 공급 라인과 온 라인으로 연결된 용기 형태인 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템
- 제7항에 있어서, 부식 억제물은 몰리브덴인 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제7항에 있어서, 몰리브덴은 리듐 몰리브덴인 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
- 제7항에 있어서, 방출된 리듐 몰리브덴은 리듐 브롬화물 용액 중 120 내지 180 피피엠의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 온 라인 부식 억제물 보충 시스템.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/703,116 | 2000-10-31 | ||
| US09/703,116 US6430942B1 (en) | 2000-10-31 | 2000-10-31 | Inhibitor replenishment system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20020034897A true KR20020034897A (ko) | 2002-05-09 |
| KR100414623B1 KR100414623B1 (ko) | 2004-01-13 |
Family
ID=24824077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0066934A KR100414623B1 (ko) | 2000-10-31 | 2001-10-30 | 억제물 보충 시스템 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6430942B1 (ko) |
| JP (1) | JP2002181418A (ko) |
| KR (1) | KR100414623B1 (ko) |
| CN (1) | CN1351246A (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100789097B1 (ko) * | 2004-01-13 | 2007-12-26 | 캐리어 코포레이션 | 증발기 보호부를 갖춘 흡수 냉각기 |
| CN111811160A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-10-23 | 同方节能装备有限公司 | 一种溴化锂机组水系统的防腐结构 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6637220B1 (en) * | 2002-07-29 | 2003-10-28 | Carrier Corporation | Dilution cycle for absorption chiller |
| JP4913474B2 (ja) * | 2006-05-08 | 2012-04-11 | 日立協和エンジニアリング株式会社 | 吸収式冷温水機 |
| DE102008037597B4 (de) * | 2008-11-27 | 2014-10-30 | Webasto Ag | Opferanode für eine mobile Absorptionskälteanlage |
| CA3161736C (en) | 2019-12-09 | 2022-09-06 | Diego JACOBSON | Cold weather survival suit |
| US11970254B1 (en) | 2020-12-10 | 2024-04-30 | Diego Jacobson | Cold weather infant survival suit |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5186009A (en) * | 1987-04-14 | 1993-02-16 | Gas Research Institute | Aqueous absorption fluids |
| GB9123794D0 (en) * | 1991-11-08 | 1992-01-02 | Atkinson Stephen | Vapour absorbent compositions |
| US5964103A (en) * | 1995-10-06 | 1999-10-12 | Hitachi, Ltd. | Absorption refrigerator and production method thereof |
| US5653117A (en) * | 1996-04-15 | 1997-08-05 | Gas Research Institute | Absorption refrigeration compositions containing thiocyanate, and absorption refrigeration apparatus |
| US5783104A (en) * | 1996-04-16 | 1998-07-21 | Gas Research Institute | Absorption refrigeration compositions having germanium based compounds |
| US6004475A (en) * | 1996-06-27 | 1999-12-21 | Fmc Corporation | Corrosion inhibiting solutions for refrigeration systems comprising heteropoly complex anions of transition metal elements |
| US6083416A (en) * | 1996-07-18 | 2000-07-04 | Fmc Corporation | Corrosion inhibiting processes for refrigeration systems |
| US6033595A (en) * | 1996-07-18 | 2000-03-07 | Fmc Corporation | Corrosion inhibiting solutions and processes for refrigeration systems comprising halides of a Group Va metallic element |
| US5811026A (en) * | 1996-08-14 | 1998-09-22 | Phillips Engineering Company | Corrosion inhibitor for aqueous ammonia absorption system |
| US6177025B1 (en) * | 1998-11-17 | 2001-01-23 | University Of Utah | Absorption heat pumps having improved efficiency using a crystallization-inhibiting additive |
-
2000
- 2000-10-31 US US09/703,116 patent/US6430942B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-10-15 CN CN01135587A patent/CN1351246A/zh active Pending
- 2001-10-30 KR KR10-2001-0066934A patent/KR100414623B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-10-31 JP JP2001333686A patent/JP2002181418A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100789097B1 (ko) * | 2004-01-13 | 2007-12-26 | 캐리어 코포레이션 | 증발기 보호부를 갖춘 흡수 냉각기 |
| CN111811160A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-10-23 | 同方节能装备有限公司 | 一种溴化锂机组水系统的防腐结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6430942B1 (en) | 2002-08-13 |
| CN1351246A (zh) | 2002-05-29 |
| KR100414623B1 (ko) | 2004-01-13 |
| JP2002181418A (ja) | 2002-06-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3078837B2 (ja) | 蒸気吸収剤組成物 | |
| EP0741179B1 (en) | Absorption refrigeration system working fluid with corrosion inhibitor and method of manufacture | |
| KR100414623B1 (ko) | 억제물 보충 시스템 | |
| JP3593268B2 (ja) | 吸収式冷凍機及びその初期防食皮膜形成方法 | |
| JPH07145909A (ja) | ボイラー系のｐＨ／ホスフェートのプログラム制御方法 | |
| JPH05180532A (ja) | 熱交換装置およびその腐食防止方法 | |
| JPS6144231B2 (ko) | ||
| CN110530055A (zh) | 吸收式冷热水机、吸收式冷热水机用追加液、吸收式冷热水机用吸收液及维护方法 | |
| US5811026A (en) | Corrosion inhibitor for aqueous ammonia absorption system | |
| JP4180923B2 (ja) | ハロゲン化リチウム溶液中の金属の腐食を遅らせる方法 | |
| US2580983A (en) | Corrosion inhibitors in absorption refrigeration system | |
| JP2002181418A5 (ko) | ||
| JPH1144466A (ja) | アンモニア吸収式ヒートポンプ | |
| JP2006274337A (ja) | ボイラ水系処理剤、及び、ボイラ水系処理方法 | |
| JP2013228120A (ja) | 吸収式冷温水機または吸収式冷凍機のアンモニア除去装置およびアンモニア除去方法 | |
| KR100236740B1 (ko) | 리듐브로마이드 흡수제용 부식 억제제 | |
| JPS6334386B2 (ko) | ||
| JP4151392B2 (ja) | 開放冷却水系の運転方法 | |
| RU2121640C1 (ru) | Состав в качестве теплоносителя для использования в тепловых трубах | |
| JPH0725571Y2 (ja) | 吸収冷凍機の不純物除去装置 | |
| JPH07239159A (ja) | 吸収式冷凍機および吸収式冷凍機用吸収液 | |
| JPH11148740A (ja) | アンモニア吸収式ヒートポンプ | |
| JPH0660303B2 (ja) | 吸収冷凍機用吸収液 | |
| JPS62129127A (ja) | 空調装置または給湯装置用吸収剤組成物 | |
| JPS6310451Y2 (ko) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20111206 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121130 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |