KR200198273Y1 - 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기 - Google Patents

웨이퍼 이송장치의 저장 승강기 Download PDF

Info

Publication number
KR200198273Y1
KR200198273Y1 KR2019970035279U KR19970035279U KR200198273Y1 KR 200198273 Y1 KR200198273 Y1 KR 200198273Y1 KR 2019970035279 U KR2019970035279 U KR 2019970035279U KR 19970035279 U KR19970035279 U KR 19970035279U KR 200198273 Y1 KR200198273 Y1 KR 200198273Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
blade
transfer arm
storage elevator
separator
Prior art date
Application number
KR2019970035279U
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990022977U (ko
Inventor
고재성
Original Assignee
김영환
현대반도체주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김영환, 현대반도체주식회사 filed Critical 김영환
Priority to KR2019970035279U priority Critical patent/KR200198273Y1/ko
Publication of KR19990022977U publication Critical patent/KR19990022977U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200198273Y1 publication Critical patent/KR200198273Y1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 고안은 다 수개의 웨이퍼가 적층된 저장 승강기의 슬롯사이에 격리판을 형성하여 웨이퍼를 운반하는 이송암의 오동작에 의하여 웨이퍼와 상호 접촉되는 것을 방지하는 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기에 관한 것으로 종래 저장 승강기내의 슬롯에 웨이퍼를 안착하는 과정에서 이송암을 이동시키는 스테핑 모터가 오동작되는 경우 블레이드가 상측 또는 하측방향으로 이동되며 웨이퍼 지지체 사이의 장공을 통하여 적재된 웨이퍼와 상호 접촉되면서 웨이퍼를 훼손하는 문제점이 있었던 바 본 고안은 중앙부위가 장공으로 형성된 웨이퍼 지지체의 바닥면에 장공을 덮는 격리판을 형성하여 웨이퍼 안착시 이송암의 블레이드에 의한 웨이퍼 손상을 미연에 방지하는 잇점이 있는 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기이다.

Description

웨이퍼 이송장치의 저장 승강기{storage elevator of wafer transporter}
본 고안은 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기(Storage elevator)에 관한 것으로 더욱 상세하게는 다 수개의 웨이퍼가 적층된 저장 승강기의 슬롯사이에 격리판을 형성하여 웨이퍼를 운반하는 이송암의 오동작에 의하여 웨이퍼와 상호 접촉되는 것을 방지하는 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조공정이 진행되는 공정 챔버내에 웨이퍼를 이송하기 위한 이송장치가 형성되어 적절한 위치에 웨이퍼를 장착한다.
종래의 이송장치는 도 1에서 도시된 바와 같이 공정이 진행되는 다 수개의 공정 챔버(1)와, 끝단에 웨이퍼(3)가 안착되는 블레이드(Blade)(7)를 형성하고 상·하 및 전·후로 작동되어 각 공정 챔버(1)에 웨이퍼(3)를 운반하는 이송암(5)과, 상기 이송암(5)에 의하여 운반된 웨이퍼(3)를 순차적으로 보관하는 저장 승강기(9)로 구성된다.
상기 저장 승강기는 도1 과 도 2에서 도시된 바와 같이 외주연 양측단 상부면에 웨이퍼(3)가 안착되는 안착턱(13)이 양측에 돌출되며 중앙부위에 장공(15)이 형성되는 웨이퍼 지지체(11)가 순차적으로 적층되어 각 웨이퍼 지지체 (11)사이에 웨이퍼(3)가 삽입되는 슬롯(17)을 형성한다.
이와 같은 저장 승강기에서의 웨이퍼 운반과정을 설명하면 상기 저장 승강기(9)내의 다 수개 형성된 안착턱(13)과 웨이퍼 지지체(11) 하부면 사이의 슬롯(17)에 각각 웨이퍼(3)가 적재된다.
이러한 웨이퍼(3)를 공정 챔버(1)내에 운반하기 위해서는 상·하 및 전·후로 작동되며 끝단에 웨이퍼(3)가 안착된 블레이드(7)를 형성하는 이송암(5)을 상기 저장 승강기(9)측으로 이동시킨다.
이렇게 이동된 블레이드(7)를 안착턱(13) 사이에 삽입하여 블레이드(7)의 상부면에 웨이퍼 지지체(11) 사이의 슬롯(17)에 위치한 웨이퍼(3)가 위치되도록 한다.
이러한 상태에서 블레이드(7)가 상측방향으로 이동되게 이송암(5)을 상승시키면 블레이드(7)의 상부면에 의하여 웨이퍼(3)의 저부면이 지지되면서 안착턱(13)에서 이탈된다.
이렇게 웨이퍼(3)가 블레이드(7)에 안착된 상태에서 공정 챔버(1)측으로 이송암(5)을 이동시켜 공정 챔버(1)내에 웨이퍼(3)를 장착한다.
한편 상기 공정 챔버(1) 내에서의 웨이퍼(3) 가공이 종료된 후에는 상술한 바와는 반대로 공정 챔버(1)내에 장착된 웨이퍼(3)를 이송암(5)의 블레이드(7)에 안착한다.
이러한 이송암(5)의 블레이드(7)를 저장 승강기(9)의 안착턱(13)과 웨이퍼 (3)사이의 슬롯(17)에 삽입한 후 하측으로 블레이드(7)를 하강시켜 웨이퍼(3)가 웨이퍼 지지체(11) 양측단에 형성된 안착턱(13)에 지지되도록 한 상태에서 블레이드(7)를 외측으로 빼내므로써 웨이퍼(3)가 안착되도록 한다.
따라서 상기 저장 승강기(9) 각각의 슬롯(17)에 웨이퍼(3)가 설치되어 다 수개 적재된다.
그러나, 종래 저장 승강기내의 슬롯에 웨이퍼를 안착하는 과정에서 이송암을 이동시키는 스테핑 모터가 오동작되는 경우 블레이드가 상측 또는 하측방향으로 이동되며 웨이퍼 지지체 사이의 장공을 통하여 적재된 웨이퍼와 상호 접촉되면서 웨이퍼를 훼손하는 문제점이 있다.
본 고안의 목적은 중앙부위가 장공으로 형성된 웨이퍼 지지체의 바닥면에 격리판을 형성하여 웨이퍼 안착시 이송암의 블레이드에 의한 웨이퍼 손상을 미연에 방지하는 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기를 제공하는데 있다.
따라서, 본 고안은 상기의 목적을 달성하고자, 끝단에 웨이퍼가 안착되는 블레이드를 형성하고 상·하 및 전·후로 작동되어 웨이퍼를 운반하는 이송암과, 외주연 양측단 상부면에 안착턱이 돌출되며 중앙부위가 장공인 웨이퍼 지지체가 적어도 하나이상 순차적으로 적층되는 저장 승강기에 있어서, 상기 웨이퍼 지지체의 바닥면에 상기 장공을 덮는 격리판이 형성되어 상기 격리판에 의해 각 웨이퍼 지지체 사이가 격리되도록 한 것을 특징으로 한다.
도 1은 종래의 웨이퍼 이송장치를 도시한 구성도이고,
도 2는 종래의 저장 승강기를 도시한 정면도이고,
도 3은 본 고안의 저장 승강기를 도시한 정면도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 공정 챔버, 3 : 웨이퍼,
5 : 이송암, 7 : 블레이드,
9, 100 : 저장 승강기 11, 103 : 웨이퍼 지지체,
13, 105 : 안착턱, 15, 101 : 장공,
17, 107 : 슬롯, 109 : 격리판.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안을 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 고안의 저장 승강기를 도시한 정면도이다.
통상적인 웨이퍼 이송장치는 도 1에서 도시된 바와같이 웨이퍼(3)를 가공하는 공정 챔버(1)의 근접한 위치에 웨이퍼(3)를 이송하는 이송암(5)이 형성된다. 이러한 이송암(5)은 일측끝단에 웨이퍼(3)가 안착되는 블레이드(7)가 형성되어 상·하 및 전·후로 이동한다.
상기 이송암(5)이 이동하는 거리내에는 다수개의 웨이퍼(3)를 적재하는 저장 승강기(100)가 형성된다.
상기 저장 승강기(100)는, 상부면 양측단에 돌출형성된 안착턱(105)을 형성하는 웨이퍼 지지체(103)가 다 수개 순차적으로 적층되어 체결되므로써 형성된다.
이때 상기 상·하로 적층되어 웨이퍼(3)가 삽입되는 슬롯(107)을 형성하는 웨이퍼 지지체(103)의 사이에 각각의 웨이퍼 지지체(103)를 서로 격리시키는 격리판(109)이 형성된다.
상기 격리판(109)은 각 웨이퍼 지지체(103)의 바닥면에 일체로 형성되어 웨이퍼 지지체의 장공(101)을 덮도록 형성됨이 바람직하다.
따라서 상기 다수개의 웨이퍼 지지체(103)는 상기 격리판(109)을 통해 장공(101)이 덮어짐으로써 상호 격리되어 웨이퍼(3) 적재시 삽입되는 이송암(5)의 블레이드(7)를 안내하도록 구성된다.
본 고안의 저장 승강기내에 웨이퍼를 장착하는 과정을 알아보면 다음과 같다.
도면을 참조하면 웨이퍼 지지체(103)가 다 수개 적층되어 형성된 저장 승강기(9)내에 웨이퍼(3)를 장착하기 위해서는 이송암(5)의 끝단인 블레이드(7)에 웨이퍼(3)를 안착한 상태에서 상기 웨이퍼 지지체(103) 사이에 형성된 슬롯(107)에 삽입한다.
이렇게 삽입된 블레이드(7)는 이송암(5)의 작동에 따라 웨이퍼 지지대(103)의 안착턱(105) 하측방향으로 이동하고 이때 상기 블레이드(7)에 안착되던 웨이퍼(3)는 안착턱(105) 사이에서 지지되어 적재된다.
이때, 상기 웨이퍼 지지체(103)의 바닥면에는 장공(101)을 덮는 격리판(109)이 형성되어 각각의 웨이퍼 지지체(103)는 상호 격리된다.
따라서 이송암(5)이 오동작하여 블레이드(7)가 상측 또는 하측방향으로 이동하더라도 상기 격리판(109)에 의하여 각각의 웨이퍼 지지체(103)가 서로 격리되어 있으므로 블레이드(7)가 상기 웨이퍼 지지체(103)에 적재된 웨이퍼(3)와 상호 직접적으로 접촉되는 것이 방지된다.
상기에서 상술된 바와 같이, 본 고안은 중앙부위가 장공으로 형성된 웨이퍼 지지체의 바닥면에 장공을 덮는 격리판을 형성하여 웨이퍼 안착시키는 과정에서 이송암이 오작동되어 이송암의 블레이트가 인접 웨이퍼 지지체에 적재된 웨이퍼와 접촉되면서 웨이퍼가 손상되는 것을 미연에 방지하는 잇점이 있다.

Claims (1)

  1. 끝단에 웨이퍼가 안착되는 블레이드를 형성하고 상·하 및 전·후로 작동되어 웨이퍼를 운반하는 이송암과, 외주연 양측단 상부면에 안착턱이 돌출되며 중앙부위가 장공인 웨이퍼 지지체가 적어도 하나이상 순차적으로 적층되는 저장 승강기에 있어서,
    상기 웨이퍼 지지체의 바닥면에 상기 장공을 덮는 격리판이 형성되어 상기 격리판에 의해 각 웨이퍼 지지체 사이가 격리되도록 한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기.
KR2019970035279U 1997-12-02 1997-12-02 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기 KR200198273Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970035279U KR200198273Y1 (ko) 1997-12-02 1997-12-02 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970035279U KR200198273Y1 (ko) 1997-12-02 1997-12-02 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990022977U KR19990022977U (ko) 1999-07-05
KR200198273Y1 true KR200198273Y1 (ko) 2000-10-02

Family

ID=19515782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970035279U KR200198273Y1 (ko) 1997-12-02 1997-12-02 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200198273Y1 (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990022977U (ko) 1999-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101839904B1 (ko) 다중 기판 프로세싱을 위한 세그먼트화된 기판 로딩
KR100252075B1 (ko) 기판처리장치 및 기판처리장치에서 기판을 반출하기 위한 방법
US8123456B2 (en) Container changing system and container changing method
KR101408294B1 (ko) 로드 포트 장치
KR102163605B1 (ko) 기판 처리 장치
US8657556B2 (en) Tactile wafer lifter and methods for operating the same
KR200198273Y1 (ko) 웨이퍼 이송장치의 저장 승강기
KR102635493B1 (ko) 본딩 설비에서 다이를 이송하기 위한 장치 및 방법
KR20110007802A (ko) 기판 이송 장치 및 방법
JPS6229335B2 (ko)
KR20220070985A (ko) 다이 이송 모듈 및 이를 포함하는 다이 본딩 장치
KR100697661B1 (ko) 노치 정렬 장치 및 노치 정렬방법
KR0143334B1 (ko) 반도체 소자검사기의 고객트레이 이송장치
KR200152548Y1 (ko) 반도체 수직형 증착장비의 웨이퍼 로딩장치
JP2007073778A (ja) 半導体チップのピックアップ方法及び装置
KR20060032088A (ko) 반도체 제조장치의 웨이퍼 리프트 유닛
JP2000183130A (ja) ウェハ搬送方法とその装置
KR0116069Y1 (ko) 웨이퍼 익스팬션(Wafer Expansion)장치
KR20230145771A (ko) 반도체 캐리어 저장 시스템, 이를 포함하는 반도체 제조 시스템 및 이를 이용한 반도체 제조 방법
KR100572318B1 (ko) 반도체 기판을 컨테이너로부터 언로딩하는 이송장치
JPH0719827B2 (ja) ウエ−ハ移替装置
KR20030060373A (ko) 반도체 설비의 웨이퍼 운반장치
KR20200142304A (ko) 최하단 웨이퍼 픽업 시스템
KR20000020812A (ko) 웨이퍼 이송장치
KR20060120730A (ko) 반도체 웨이퍼 지지장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110627

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee