KR200195116Y1 - 레티클 공급장치 - Google Patents

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KR200195116Y1 KR2019980003287U KR19980003287U KR200195116Y1 KR 200195116 Y1 KR200195116 Y1 KR 200195116Y1 KR 2019980003287 U KR2019980003287 U KR 2019980003287U KR 19980003287 U KR19980003287 U KR 19980003287U KR 200195116 Y1 KR200195116 Y1 KR 200195116Y1
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Abstract

본 고안은 레티클 공급장치에 관한 것으로서, 레티클을 노광장비의 레티클 스테이지에 로딩하기 위해 레티클 로딩 유닛으로 이동시키기 전 단계에서 레티클 상에 있는 파티클을 에어로 불어 분리한 후 배기관을 통해 외부로 방출하도록 하는 파티클 제거 유닛을 구비하도록 구성하므로써, 레티클 상의 파티클에 의해 유발되는 리피팅 불량을 막아 생산성을 향상시킬 수 있도록 한 것이다.

Description

레티클 공급장치
본 고안은 레티클 공급장치에 관한 것으로서, 특히 레티클을 노광장비의 레티클 스테이지로 로딩하기에 앞서 레티클 상에 있을 수 있는 파티클을 제거하도록 하므로써 리피팅 불량이 발생하는 것을 방지하는데 적합한 레티클 공급장치에 관한 것이다.
도 1 은 종래 레티클 공급장치의 구성을 보인 사시도로서, 이에 도시한 바와 같이, 레티클 공급장치는 레티클 카세트(미도시)를 보관하고 이러한 레티클 카세트의 내부에 보관된 레티클(미도시)을 노광장비의 레티클 스테이지(미도시)로 로딩하는 장비를 말하는 것으로서, 종래의 레티클 공급장치는 레티클 카세트를 보관하는 선반들로 이루어진 카세트 라이브러리(1)와, 레티클 카세트를 운반하는 카세트 로봇(2)과, 카세트 로봇(2)에 의해 운반되어진 레티클 카세트로부터 레티클을 분리하는 중간 라이브러리 유닛(3)과, 레티클 카세트로부터 분리된 레티클을 운반하는 레티클 로봇(4)과, 레티클 로봇(4)으로부터 레티클을 전달받아 노광장비의 레티클 스테이지까지 전달하는 레티클 로딩 유닛(5)을 포함하여 구성되게 된다.
도면상 미설명 부호 6 은 선택적으로 장착할 수 있는 부가 레티클 카세트 라이브러리이고, 7 은 상기 중간 라이브러리 유닛(3)을 상하로 이동시키는 엘리베이터 유닛을 그리고 8 은 장치를 제어하는 컨트롤 박스를 나타낸 것이다.
한편, 도 2 는 종래 레티클 공급장치에서 레티클의 흐름을 나타낸 개념도인바, 네모형으로 보인 레티클(6)의 하부에 나타낸 부호는 도 1 에서의 것과 같은 것을 나타낸 것이다.
상기한 바와 같은 구조로 되는 종래 레티클 공급장치는 컨트롤 박스(8)의 제어에 의해 카세트 로봇(2)과 레티클 로봇(4)이 적절하게 이동하면서 카세트 라이브러리(1)에 수납된 레티클 카세트에 담긴 레티클(6)을 레티클 로딩 유닛(5)으로 전달하게 되고, 레티클 로딩 유닛(5)은 레티클 로봇(4)으로부터 전달된 레티클(6)을 노광장비의 레티클 스테이지(미도시)로 공급하도록 하면서 동작하였다.
그런데 상기한 바와 같은 구조로 되는 종래 레티클 공급장치에는 다음과 같은 문제점이 있었다. 즉, 레티클을 노광장비의 레티클 스테이지에 로딩할 때 레티클 상에 파티클이 있는 경우 리피팅 불량이 유발될 수 있는데 종래의 레티클 공급장치에서는 이를 막기 위한 구성을 따로 갖추지 못하여 레티클 상에 있는 파티클에 의해 리피팅 불량이 유발, 생산성이 저하되게 되는 문제점이 있었던 것이다.
따라서, 상기한 바와 같은 문제점을 인식하여 안출된 본 고안의 목적은 레티클을 노광장비의 레티클 스테이지에 로딩하기전에 레티클 상의 파티클을 제거할 수 있도록 하므로써 리피팅 불량에 의한 생산성 저하를 방지하는데 적합한 레티클 공급장치를 제공하고자 하는 것이다.
도 1 은 종래 레티클 공급장치의 구성을 보인 사시도.
도 2 는 종래 레티클 공급장치에서 레티클의 흐름을 나타낸 개념도.
도 3 은 본 고안의 일실시례에 적용되는 파티클 제거 유닛의 구조를 도시한 단면도.
도 4 는 본 고안에 의한 레티클 공급장치에서 레티클의 흐름을 나타낸 개념도.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
1;카세트 라이브러리 2;카세트 로봇
3;중간 라이브러리 유닛 4;레티클 로봇
5;레티클 로딩 유닛 6;레티클
P;파티클 제거 유닛 7;본체
7a;레티클 로봇 출입도어 7b;스테이지
7c;에어홀 7d;에어라인
7e;배기관 7f;레티클 포지셔닝 핀
7g;에어필터
상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 레티클 카세트를 보관하는 선반들로 이루어진 카세트 라이브러리와, 레티클 카세트를 운반하는 카세트 로봇과, 카세트 로봇에 의해 운반되어진 레티클 카세트로부터 레티클을 분리하는 중간 라이브러리 유닛과, 레티클 카세트로부터 분리된 레티클을 운반하는 레티클 로봇과, 레티클 로봇으로부터 레티클을 전달받아 노광장비의 레티클 스테이지까지 전달하는 레티클 로딩 유닛을 포함하여 구성되는 레티클 공급장치에 있어서; 상기 레티클 로봇이 레티클 로딩 유닛으로 레티클을 전달하기 전에 레티클을 공급받아 에어를 레티클의 표면에 분사하여 레티클 상의 파티클을 제거하는 파티클 제거 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 공급장치가 제공된다.
상기 파티클 제거 유닛은 내부에 일정한 공간이 형성된 본체와, 상기 본체의 전면을 개폐하여 레티클 로봇이 출입하도록 하는 레티클 로봇 출입도어와, 본체의 내부 하측에 설치되어 레티클을 상면에 고정하는 스테이지와, 본체의 상면에 형성된 에어홀과, 상기 에어홀로 에어를 공급하는 에어라인과, 본체 일측에 설치되어 본체 내부의 에어를 외부로 배기하는 배기관을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 레티클 공급장치가 제공된다.
이하, 첨부도면에 도시한 본 고안의 일실실례에 의거하여 본 고안을 상세히 설명하기로 한다.
본 고안에 의한 레티클 공급장치는 레티클 로봇(4)이 중간 라이브러리 유닛(3)으로부터 레티클을 집어서 레티클 로딩 유닛(5)으로 전달하기 전에 레티클(6)을 공급받아 에어를 레티클(6)의 표면에 분사하여 레티클(6) 상의 파티클을 제거하는 파티클 제거 유닛을 구비하게 되는데, 이러한 파티클 제거 유닛은, 본 고안의 일실시례에 적용되는 파티클 제거 유닛의 구조를 도시한 단면도인 도 3 에 도시한 바와 같이, 내부에 일정한 공간이 형성된 본체(7)가 있고 상기 본체(7)의 전면에는 레티클 로봇(4)이 출입하도록 개폐하는 레티클 로봇 출입도어(7a)가 설치되며, 본체(7)의 내부 하측에는 레티클(6)을 상면에 고정하는 스테이지(7b)가 설치되고, 본체(7)의 상면에는 에어홀(7c)과 상기 에어홀(7c)로 에어를 공급하는 에어라인(7d)이 설치되고, 본체(7) 일측에는 내부의 에어를 외부로 뽑아내는 배기관(7e)이 설치되게 된다.
상기 스테이지(7b)의 상측에는 레티클(6)의 양측을 지지하도록 레티클 포지셔닝 핀(7f)이 설치되고, 에어라인(7d)에는 공급되는 에어에 파티클이 섞이지 않도록 걸러주는 에어필터(7g)가 설치되는 것이 바람직하다.
도 4 는 본 고안에 의한 레티클 공급장치에서 레티클(6)의 흐름을 나타낸 개념도 즉, 파티클 제거 유닛(P)을 구비한 레티클 공급장치에서 레티클의 흐름을 나타낸 개념도로서, 도 3 및 도 4 에 도시한 바와 같이, 레티클 로봇(4)이 레티클 로딩 유닛(5)으로 레티클(6)을 전달하기 전에 먼저 파티클 제거 유닛(P)의 레티클 로봇 출입도어(7a)를 통해 레티클(6)을 스테이지(7b)의 상측에 놓아 고정하게 된다. 그 후 레티클 로봇 출입도어(7a)가 닫히고 나서 수 초 정도 에어라인(7d)에 연결된 에어홀(7c)로부터 에어가 분사되어 레티클(6)의 상면에 있을 수 있는 파티클을 분리하게 되고 이와 동시에 배기관(7e)의 단부에 연결된 펌프(미도시)가 작동하여 에어와 함께 분리된 파티클을 파티클 제거 유닛(P)의 외부로 배출하게 된다. 이렇게 일정한 시간이 경과한 후에는 레티클 로봇 출입도어(7a)가 열리면서 레티클 로봇(4)이 스테이지(7b) 상측의 레티클(6)을 꺼내어 레티클 로딩 유닛(5)으로 운반하게 된다.
도면상 미설명 부호는 도 1 및 2 에 도시된 종래와 동일한 것을 나타낸다.
상기한 바와 같은 구조로 되는 본 고안에 의한 레티클 공급장치는 레티클을 노광장비의 레티클 스테이지에 로딩하기 위해 레티클 로딩 유닛으로 이동시키기 전 단계에서 레티클 상에 있는 파티클을 에어로 불어 분리한 후 배기관을 통해 외부로 방출하도록 하는 파티클 제거 유닛을 구비하여 구성되므로 레티클 상의 파티클에 의해 유발되는 리피팅 불량을 막아 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (2)

  1. 레티클 카세트를 보관하는 선반들로 이루어진 카세트 라이브러리와, 레티클 카세트를 운반하는 카세트 로봇과, 카세트 로봇에 의해 운반되어진 레티클 카세트로부터 레티클을 분리하는 중간 라이브러리 유닛과, 레티클 카세트로부터 분리된 레티클을 운반하는 레티클 로봇과, 레티클 로봇으로부터 레티클을 전달받아 노광장비의 레티클 스테이지까지 전달하는 레티클 로딩 유닛을 포함하여 구성되는 레티클 공급장치에 있어서; 상기 레티클 로봇이 레티클 로딩 유닛으로 레티클을 전달하기 전에 레티클을 공급받아 에어를 레티클의 표면에 분사하여 레티클 상의 파티클을 제거하는 파티클 제거 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 레티클 공급장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 파티클 제거 유닛은 내부에 일정한 공간이 형성된 본체와, 상기 본체의 전면을 개폐하여 레티클 로봇이 출입하도록 하는 레티클 로봇 출입도어와, 본체의 내부 하측에 설치되어 레티클을 상면에 고정하는 스테이지와, 본체의 상면에 형성된 에어홀과, 상기 에어홀로 에어를 공급하는 에어라인과, 본체 일측에 설치되어 본체 내부의 에어를 외부로 배기하는 배기관을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 레티클 공급장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100868744B1 (ko) * 2002-02-22 2008-11-13 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. 레티클을 보호하기 위해 2개 파트 커버 및 박스를 사용하는시스템
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