KR200157386Y1 - 약액조 가열장치 - Google Patents

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Abstract

본 고안은 반도체 제조 장치의 약액조 가열장치에 관한 것으로, 소정의 약액이 공급되도록 이루어진 약액조에 상기 약액을 가열시키는데 필요한 소정의 열을 제공하는 히터 블록이 약액조의 저면 및 측면에 걸쳐 설치되어서, 높은 온도가 요구되는 비순환 약액조의 저면과 측면의 일부분까지 가열하도록 함으로써 약액조에 저장된 약액이 목적하는 소정의 온도까지 도달하는데 소요되는 시간을 단축시킬 수 있도록 한 약액조 가열장치에 관한 것이다.

Description

약액조 가열장치
본 고안은 반도체 제조 장치의 약액조 가열장치에 관한 것으로, 특히 높은 온도가 요구되는 비순환 약액조의 저면과 측면의 일부분까지 가열하도록 히터 블록을 설치하여 약액조에 저장된 약액이 목적하는 소정의 온도까지 도달하는데 소요되는 시간을 단축시킬 수 있도록 한 약액조 가열장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조 장비에서 감광막(photoresist) 등을 제거하기 위하여 유기물질의 약액을 사용한다.
이와 같은 약액을 이용하여 목적하는 감광막 제거 공정을 실시하기 위하여 약액을 소정의 온도까지 승온시켜야 하며, 이를 위해 약액조에 약액을 담아 가열 장치를 통해 약액조를 가열시킨다.
도1은 이와 같은 종래의 약액조 가열 장치를 나타낸 것으로 약액(11)을 담아 저장할 수 있는 석영(quartz) 재질의 약액조(10)가 구비되고, 약액조(10)의 저면에는 히터 블록(20)이 설치되어 있다.
약액조(10)의 측면은 약액조(10)의 저면보다 아래쪽으로 더 연장되어 있어 히터 블록(20)의 측면을 보호하도록 구성되어 있다.
약액조(10) 내부에는 다수개의 센서가 설치되어 있는데, 약액조(10)의 바닥면 가까이에는 약액(11)의 온도를 검출하기 위한 온도 센서(30)가 설치되어 있으며, 약액조(10) 상부에는 약액(11)이 약액조(10) 밖으로 넘쳐흐르는 것을 검출하기 위한 오버플로우(overflow) 센서(31)가 설치되어 있다.
또 약액조(10)에 공급되는 약액(11)의 수위를 검출하기 위한 수위 센서(32∼34)가 일정 높이마다 설치되어 있어 공급되는 약액(11)의 수위를 검출하도록 구성되어 있다.
히터 블록(20)에는 봉 형태의 카트리지 히터(21)가 다수개 삽입되어 있어 약액조(10)에 소정의 열을 제공하도록 구성되어 있다.
히터 블록(20)과 약액조(10) 사이에는 열전도성 시트(sheet)(22)가 삽입되어 있어 카트리지 히터(21)에서 발생한 열을 약액조(10)에 전달하도록 구성되어 있다.
이와 같이 구성된 종래의 약액조 가열장치의 동작은 다음과 같다.
약액(11)이 공급되기 시작하여 수위 센서(32)까지 도달하면, 수위 센서(32)로부터 검출된 신호를 전달받아 히터 블록(20)이 구동된다.
약액(11)의 공급이 계속되어 약액(11)의 수면이 수위 센서(33)까지 도달하면, 일단 약액(11)의 공급을 중지한다.
약액(11)의 공급이 중단되면 히터 블록(20)을 계속 구동시켜 약액(11)의 온도를 공정 진행에 필요한 온도보다 약간 낮은 온도까지 상승시키는 1차 가열이 이루어진다.
이와 같이 1차 가열이 이루어져서 약액(11)이 소정의 온도까지 상승하면, 약액조(10)에는 다시 약액(11)의 공급이 재개된다.
이때 공급되는 약액(11)의 수위가 쉬위 센서(34)까지 도달하면 약액(11)의 공급은 중단되고, 히터 블록(20)을 통한 가열은 계속되어 온도 센서(30)를 통하여 약액의 온도를 검출하여 히터 블록(20)의 구동을 제어함으로써 약액(11)의 온도를 공정에 필요한 적절한 온도로 유지하는 2차 가열이 이루어지게 된다.
그러나 이와 같은 종래의 약액조 가열장치에 있어서, 히터 블록(20)으로 부터 제공되는 열이 약액조(10)의 저면에만 제한적으로 가해지기 때문에 약액조(10) 가열시에 공급된 약액(11)을 목적하는 온도까지 승온시키는데 소요되는 시간이 길어져서 이에 비례하여 전체 공정 시간이 증가하는 문제가 있다.
따라서 본 고안은 약액조의 저면과 측면의 일부분까지 가열하도록 히터 블록을 설치하여 약액조에 저장된 약액이 목적하는 소정의 온도까지 도달하는데 소요되는 시간을 단축시킬 수 있도록 한 약액조 가열장치를 제공함에 그 목적이 있다.
도1은 종래의 약액조 가열 장치를 나타낸 도면.
도2는 본 고안의 약액조 가열 장치를 나타낸 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 약액조 20, 40 : 히터 블록
21 : 카트리지 히터 22, 41 : 열전도성 시트
30 : 온도 센서 31 : 오버플로우 센서
32∼34 : 수위 센서 42 : 플레이트 히터
43 : 세라믹 본딩 44 : 실리콘
45 : 보호판
이와 같은 목적의 본 고안은, 소정의 약액이 공급되도록 이루어진 약액조에 상기 약액을 가열시키는데 필요한 소정의 열을 제공하는 가열 수단이 약액조의 저면 및 측면에 걸쳐 설치되어 이루어진다.
이와 같이 이루어진 본 고안의 일실시예를 도2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도2는 본 고안의 약액조 가열 장치를 나타낸 도면으로, 약액(11)을 담아 저장할 수 있는 석영 재질의 약액조(10)가 구비되고, 약액조(10) 내부에는 다수개의 센서가 설치되어 있는데, 약액조(10)의 바닥면 가까이에는 약액(11)의 온도를 검출하기 위한 온도 센서(30)가 설치되어 있으며, 약액조(10) 상부에는 약액(11)이 약액조(10) 밖으로 넘쳐흐르는 것을 검출하기 위한 오버플로우(overflow) 센서(31)가 설치되어 있다.
또 약액조(10)에 공급되는 약액(11)의 수위를 검출하기 위한 수위 센서(32∼34)가 일정 높이마다 설치되어 있어 공급되는 약액(11)의 수위를 검출하도록 구성되어 있다.
히터 블록(20)에는 봉 형태의 카트리지 히터(21)가 다수개 삽입되어 있어 약액조(10)에 소정의 열을 제공하도록 구성되어 있다.
이와 같은 약액조(10)의 저면과 측면의 일부에는 히터 블록(40)이 설치되어 있다.
히터 블록(40)은 내부의 약액조(10)와 맞닿은 면에 열전도성 시트(sheet)(41)가 삽입되고, 열전도성 시트(41)의 외측면에는 패널(panel) 형태의 플레이트 히터(42)가 설치되어 열전도성 시트(41)를 통해 약액조(10)에 열을 전달하도록 구성되어 있으며, 플레이트 히터(42)와 히터 블록(40)의 외측보호패널(46)은 세라믹 본딩이 이루어져 고정된다.
이와 같은 히터 블록(40)은 약액조(10)의 저면뿐만 아니라 측면의 일부분에 걸쳐 설치되기 때문에 약액조(10)가 히터 블록(40)으로부터 열을 전달 받을 수 있는 면적이 증가한다.
또 약액조(10)의 측면에서 히터 블록(40)의 위쪽에는 보호판(45)이 설치되어 있어, 약액조(10)에서 공정이 완료된 제품이 외부로 이동하는 과정에서 약액조(10)의 측면에 떨어지는 약액으로부터 히터 블록(40)을 보호하도록 이루어진다.
이에 부가하여 보호판(45)의 아래쪽에는 약액조(10)의 측면과 히터 블록(40)이 경계를 이루는 부분이 실리콘 밀봉되어 있어 약액으로부터 더욱 확실하게 히터 블록(40)을 보호할 수 있도록 한다.
이와 같이 구성된 본 고안의 약액조 가열장치의 동작은 다음과 같다.
약액(11)이 공급되기 시작하여 수위 센서(32)까지 도달하면, 수위 센서(32)로부터 검출된 신호를 전달받아 히터 블록(40)이 구동된다.
약액(11)의 공급이 계속되어 약액(11)의 수면이 수위 센터(33)까지 도달하면, 일단 약액(11)의 공급을 중지한다.
약액(11)의 공급이 중단되면 히터 블록(40)을 계속 구동시켜 약액(11)의 온도를 공정 진행에 필요한 온도보다 약간 낮은 온도까지 상승시키는 1차 가열이 이루어진다.
이와 같이 1차 가열이 이루어져서 약액(11)이 소정의 온도까지 상승하면, 약액조(10)에는 다시 약액(11)의 공급이 재개된다.
이때 공급되는 약액(11)의 수위가 수위 센터(34)까지 도달하면 약액(11)의 공급은 중단되고, 히터 블록(40)을 통한 가열은 계속되어 온도 센서(30)를 통하여 약액의 온도를 검출하여 히터 블록(40)의 구동을 제어함으로써 약액(11)의 온도를 공정에 필요한 적절한 온도로 유지하는 2차 가열이 이루어지게 된다.
이와 같은 본 고안의 약액조 가열장치에 있어서, 히터 블록(40)으로부터 제공되는 열이 약액조(10)의 저면뿐만 아니라 약액조(10)의 측면 가운데 일부분에도 가해지기 때문에 약액조(10)에 단위시간에 제공되는 가열량이 많기 때문에 약액조(10)내의 약액(11)을 목적하는 온도까지 승온시키는데 소요되는 시간이 종래의 히터 블록보다 크게 단축되는 것이다.
따라서 본 고안은 높은 온도가 요구되는 비순환 약액조의 저면과 측면의 일부분까지 가열하도록 히터 블록을 설치하여 약액조에 저장된 약액이 목적하는 소정의 온도까지 도달하는데 소요되는 시간을 단축시킬 수 있도록 하여 전체 공정 시간을 크게 단축하는 효과가 있다.

Claims (2)

  1. 반도체 제조 장비의 약액조 가열 장치에 있어서, 소정의 약액이 공급되도록 이루어진 약액조에 상기 약액을 가열시키는데 필요한 소정의 열을 제공하는 가열 수단이 약액조의 저면 및 측면에 걸쳐 설치되는 것이 특징인 약액조 가열장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 가열 수단의 발열 부재가 판상체로 이루어지는 것이 특징인 약액조 가열 장치.
KR2019970000839U 1997-01-22 1997-01-22 약액조 가열장치 KR200157386Y1 (ko)

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