KR20010113156A - 웨이퍼 편심 보정 장치를 갖는 엣지 엑스포져 유닛 - Google Patents
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- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
Description
Claims (2)
- 반도체 소자 제조를 위해 반도체 웨이퍼를 가공하는데 사용되는 엣지 엑스포져 유닛에 있어서:상기 웨이퍼를 클램핑하는 진공척;상기 웨이퍼의 가장자리부 상부에 배치되는 자외선 광원;상기 자외선 광원를 지지하는 광원 지지부;상기 자외선 광원와 같은 위치에 배치되는 이미지 센서;상기 자외선 광원을 회전하도록 구동하는 회전 모터;상기 광원 지지부를 제 1 방향으로 이송하는 제 1 모터; 및상기 제 1 방향과 직교하는 제 2 방향으로 상기 광원 지지부를 이송하는 제 2 모터를 포함하여,상기 자외선 광원은 웨이퍼의 중심선을 회전 중심으로 하여 회전하면서 웨이퍼 가장자리부의 포토 레지스트를 제거하는 것을 특징으로 하는 엣지 엑스포져 유닛.
- 엣지 엑스포져 유닛으로 웨이퍼와 진공척의 편심을 보상하면서 반도체 웨이퍼 가장자리에 돌출된 포토 레지스트를 제거하는 방법에 있어서:상기 웨이퍼를 척에 적재하여 상기 웨이퍼를 고정하는 단계;이미지 센서를 사용하여 상기 척에 적재된 상기 웨이퍼의 중심을 감지하는단계;상기 웨이퍼의 중심선과 상기 회전 모터의 중심축이 일치하도록 광원 지지부의 위치를 조정하는 단계; 및자외선 광원을 작동하며, 상기 회전 모터를 회전하는 단계를 포함하여 포토 레지스트를 제거하는 방법.
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JPH01270228A (ja) * | 1988-04-21 | 1989-10-27 | Seiko Instr Inc | 外周部露光装置 |
KR100257279B1 (ko) * | 1996-06-06 | 2000-06-01 | 이시다 아키라 | 주변노광장치 및 방법 |
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2000
- 2000-06-16 KR KR1020000033301A patent/KR100360972B1/ko active IP Right Grant
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