KR20010097320A - System for grinding glass edge of liquid crystal display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템을 개시한다. 본 발명의 그라인더 시스템은 선단과 후단에 유리기판의 반입위치와 반출위치, 제1 연마위치와 제2 연마위치를 제공하며, 제1 연마위치와 제2 연마위치 사이에 유리기판의 이송방향을 전환시키는 방향전환위치를 제공하는 시스템메인보디와, 반입위치와 방향전환위치 사이를 운동하고 공급장치로부터 유리기판을 인수하여 운반하는 제1 운반장치와, 반입위치에서 제1 운반장치에 탑재되는 유리기판의 중심을 맞추는 제1 센터링장치와, 제1 운반장치에 의해 운반되는 유리기판의 이송방향 측단을 연마하는 제1 연마장치와, 방향전환위치에서 제1 운반장치로부터 유리기판을 인수하여 그 이송방향을 전환시키는 터닝장치와, 방향전환위치와 반출위치 사이를 운동하며 터닝장치로부터 유리기판을 인수하여 운반하는 제2 운반장치와, 방향전환위치에서 제2 운반장치에 탑재되는 유리기판의 중심을 맞추는 제2 센터링장치와, 제2 운반장치에 의해 운반되는 유리기판의 이송방향 측단을 연마하는 제2 연마장치를 포함한다. 본 발명에 의하면, 유리기판의 이송과 연마가 안정적이고 정확하게 이루어져 고품질의 유리기판을 제조할 수 있고, 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 또한, 유리기판의 크기에 맞추어 범용으로 사용할 수 있으며, 대형 유리기판의 연마가 가능하면서도 구성 및 배치가 간단하고 설치공간을 축소할 수 있다.The present invention discloses a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device. The grinder system of the present invention provides the loading and unloading positions, the first polishing position and the second polishing position of the glass substrate at the front end and the rear end, and switches the transfer direction of the glass substrate between the first polishing position and the second polishing position. A system main body providing a reversing position for the reversal position, a first conveying device which moves between the retracting position and the reversing position, and takes in and transports the glass substrate from the supply device, and a glass substrate mounted on the first conveying device at the retracting position. A first centering device for centering the center, a first polishing device for polishing the end side of the glass substrate conveyed by the first conveying device, and a glass substrate from the first conveying device in the redirection position, and the conveying direction thereof; A turning device for shifting the position, a second conveying device that takes over and transports the glass substrate from the turning device and moves between the turning position and the discharging position, and the second turning position. And a second centering device for centering the glass substrate mounted on the conveying device, and a second polishing device for polishing the side end of the glass substrate conveyed by the second conveying device. According to the present invention, the glass substrate can be transported and polished stably and accurately to produce a high quality glass substrate, and the productivity can be improved. In addition, it can be used universally in accordance with the size of the glass substrate, it is possible to polish a large glass substrate, while the configuration and arrangement is simple and the installation space can be reduced.

Description

액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템{SYSTEM FOR GRINDING GLASS EDGE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY}Glass substrate edge grinder system for liquid crystal display device {SYSTEM FOR GRINDING GLASS EDGE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY}

본 발명은 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device.

액정표시장치용 유리기판은 용해탱크로부터 용해된 유리물을 용해성형기에 공급하며, 용해성형기를 통하여 균일하게 흘러내리는 유리를 온도 조절에 의해 유리기판으로 제조한 후, 일차 규격에 맞도록 절단하고, 이것의 표면에 보호필름을 코팅하여 유리기판 가공라인으로 운반하여 가공하고 있다. 유리기판 가공라인에서는 유리기판을 액정표시장치의 규격에 맞는 크기로 재차 절단하고, 절단에 의해 날카로워진 유리기판의 네 변을 연마하며, 네 모서리에는 모따기와 방위표시(Orientation Mark)를 각각 가공한 후, 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)로 제조한다.The glass substrate for the liquid crystal display device supplies the glass melted from the dissolution tank to the dissolving molding machine, and the glass which flows down uniformly through the dissolving molding machine is manufactured into a glass substrate by temperature control, and then cut to meet the primary standard. A protective film is coated on the surface of the substrate and transported to a glass substrate processing line for processing. In the glass substrate processing line, the glass substrate is cut again to meet the size of the liquid crystal display device, and the four sides of the glass substrate sharpened by the cutting are polished. After that, a thin film transistor is manufactured.

종래기술의 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템은 작업자의 수작업에 의해 페그컨베이어(Peg Conveyor)로부터 반입되는 유리기판을 이송시키는 공급롤러컨베이어와, 공급롤러컨베이어와 연속하여 유리기판을 이송시키는 제1 핀치벨트컨베이어와, 제1 핀치벨트컨베이어에 의해 이송되는 유리기판의 두 변을 연마하는 제1 연마장치를 구비한다. 또한, 제1 연마장치에 의해 연마된 유리기판을 90도 회전시키는 터닝장치와, 터닝장치로부터 유리기판을 인수하여 이송시키는 제2핀치벨트컨베이어와, 제2 핀치벨트컨베이어에 의해 이송되는 유리기판의 나머지 두 변을 연마하는 제2 연마장치와, 모따기와 방위표시가공을 수행하는 모따기장치와, 유리기판을 반출시키는 배출롤러컨베이어를 구비한다.The prior art glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device has a feed roller conveyor for conveying a glass substrate carried from a peg conveyor by a worker's manual work, and a first glass substrate for continuously conveying the glass substrate with the feed roller conveyor. A pinch belt conveyor and a first polishing apparatus for polishing two sides of a glass substrate conveyed by a first pinch belt conveyor are provided. In addition, a turning device for rotating the glass substrate polished by the first polishing apparatus by 90 degrees, a second pinch belt conveyor for taking over and transporting the glass substrate from the turning device, and a glass substrate conveyed by the second pinch belt conveyor. A second polishing device for polishing the other two sides, a chamfering device for performing chamfering and orientation marking processing, and a discharge roller conveyor for carrying out the glass substrate.

이와 같이 구성되어 있는 종래기술의 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템에서는, 제1 및 제2 연마장치가 제1 및 제2 핀치벨트컨베이어에 의해 이송방향 양측단이 상하에서 압착되어 이송되는 유리기판의 네 변을 연마하기 때문에 유리기판의 이송오차가 발생되어 사각(斜角)으로의 연마와 모따기 불량이 빈번하게 발생된다. 뿐만 아니라, 유리기판의 직선성 및 직각도를 유지하기 곤란하여 품질을 만족시킬 수 없었으며, 생산성이 크게 저하되는 문제가 있다. 특히, 대형 유리기판을 제1 및 제2 핀치벨트컨베이어에 의해서 이송시킬 경우 유리기판의 중앙에서 중량에 의한 휨변형이 발생되므로, 대형 유리기판의 이송에는 부적합한 문제가 있다. 따라서, 최근 급속하게 대형화되고 있는 유리기판을 안정적으로 공급하여 정밀하게 연마할 수 있는 유리기판 에지 그라인더 시스템의 개발이 시급한 실정에 있다. 또한, 종래기술의 유리기판 에지 그라인더 시스템은 구성이 복잡하고, 일렬로 배치되는 전체길이가 상당히 길며, 설치공간을 넓게 차지하는 문제가 있다.In the glass substrate edge grinder system of the prior art liquid crystal display device configured as described above, the first and second polishing apparatuses are glass substrates in which both ends of the conveying direction are squeezed up and down by the first and second pinch belt conveyors. Since four sides are polished, a transfer error of the glass substrate occurs, so that the polishing and the chamfering defects are frequently generated. In addition, it is difficult to maintain the linearity and orthogonality of the glass substrate, so that the quality cannot be satisfied, and there is a problem that the productivity is greatly reduced. In particular, when the large glass substrates are transferred by the first and second pinch belt conveyors, bending deformation occurs due to weight at the center of the glass substrate, and thus there is a problem in that the large glass substrates are unsuitable. Therefore, there is an urgent need to develop a glass substrate edge grinder system capable of stably feeding and rapidly polishing glass substrates, which are rapidly increasing in size. In addition, the glass substrate edge grinder system of the prior art has a problem that the configuration is complicated, the total length arranged in a line is very long, and occupies a large installation space.

본 발명은 상기한 바와 같은 종래기술의 여러 가지 문제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 고품질의 유리기판을 제조할 수 있는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the various problems of the prior art as described above, an object of the present invention is to provide a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device capable of manufacturing a high quality glass substrate.

본 발명의 다른 목적은 유리기판의 생산성을 향상시킬 수 있는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device capable of improving the productivity of the glass substrate.

본 발명의 또 다른 목적은 유리기판의 크기에 맞추어 범용으로 사용할 수 있는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템을 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device which can be used in general according to the size of the glass substrate.

본 발명의 또 다른 목적은 대형 유리기판을 안정적으로 이송시킬 수 있는 액정표시장치용 유리기판의 에지 그라인더 시스템을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an edge grinder system of a glass substrate for a liquid crystal display device capable of stably transporting a large glass substrate.

본 발명의 또 다른 목적은 구성 및 배치가 간단하고 설치공간을 축소할 수 있는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device which can be easily configured and arranged and can reduce installation space.

도 1a 및 도 1b는 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에 의해 연마된 유리기판을 나타낸 정면도 및 단면도,1A and 1B are front and cross-sectional views showing a glass substrate polished by the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 2는 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템을 나타낸 정면도,Figure 2 is a front view showing a glass substrate edge grinder system of the present invention,

도 3은 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 시스템메인보디와 제1 및 제2 운반장치, 제1 및 제2 연마장치, 그리고 터닝장치의 배치를 나타낸 정면도,3 is a front view showing the arrangement of the system main body, the first and second conveying apparatus, the first and second polishing apparatuses, and the turning apparatus in the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 4는 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 시스템메인보디를 나타낸 평면도,4 is a plan view showing the main body of the system in the glass substrate edge grinder system of the present invention,

도 5는 도 4의 정면도,5 is a front view of FIG. 4;

도 6은 본 발명의 제1 운반장치를 나타낸 평면도,6 is a plan view showing a first conveying apparatus of the present invention;

도 7은 도 6의 정면도,7 is a front view of FIG. 6,

도 8은 도 6에서 스프레이유닛을 탈거하여 나타낸 측면도,8 is a side view of the spray unit shown in Figure 6,

도 9는 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 제1 센터링장치의 배치를 나타낸 평면도,9 is a plan view showing the arrangement of the first centering device in the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 10는 제1 센터링장치의 제1 푸시유닛을 나타낸 평면도,10 is a plan view showing a first push unit of the first centering device;

도 11은 도 10의 측면도,11 is a side view of FIG. 10;

도 12는 제1 센터링장치의 제2 푸시유닛을 나타낸 평면도,12 is a plan view showing a second push unit of the first centering device;

도 13은 도 12의 측면도,13 is a side view of FIG. 12;

도 14는 제1 센터링장치의 제3 푸시유닛을 나타낸 평면도,14 is a plan view showing a third push unit of the first centering device;

도 15는 도 14의 측면도,15 is a side view of FIG. 14,

도 16은 제1 센터링장치의 제4 푸시유닛을 나타낸 평면도,16 is a plan view showing a fourth push unit of the first centering device;

도 17은 도 16의 측면도,17 is a side view of FIG. 16;

도 18은 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 시스템메인보디와 제1 운반장치, 제1 센터링장치, 제1 연마장치의 배치를 나타낸 정면도,18 is a front view showing the arrangement of the system main body, the first conveying device, the first centering device, and the first polishing device in the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 19는 제1 연마장치의 세로이송대를 나타낸 정면도,19 is a front view showing a vertical feeder of the first polishing apparatus;

도 20은 도 19의 평면도,20 is a plan view of FIG. 19,

도 21는 제1 연마장치의 제1 및 제2 연마유닛을 나타낸 정면도,21 is a front view showing the first and second polishing units of the first polishing apparatus;

도 22은 도 21의 평면도,FIG. 22 is a plan view of FIG. 21;

도 23은 제1 연마장치에서 냉각유닛과 드레싱유닛의 작동을 부분적으로 확대하여 나타낸 단면도,23 is a partially enlarged cross-sectional view showing operations of the cooling unit and the dressing unit in the first polishing apparatus;

도 24는 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 터닝장치를 나타낸 정면도,24 is a front view showing a turning apparatus in the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 25는 도 24의 터닝장치를 부분적으로 확대하여 나타낸 단면도,25 is a partially enlarged cross-sectional view of the turning device of FIG. 24;

도 26은 터닝장치의 척킹유닛을 나타낸 평면도,26 is a plan view showing a chucking unit of the turning device;

도 27은 본 발명의 제2 운반장치를 나타낸 평면도,27 is a plan view showing a second conveying apparatus of the present invention;

도 28는 도 27의 정면도,28 is a front view of FIG. 27;

도 29는 도 27에서 스프레이유닛을 탈거하여 나타낸 측면도,29 is a side view showing the spray unit in Figure 27,

도 30은 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 제2 센터링장치의 배치를 나타낸 평면도,30 is a plan view showing the arrangement of the second centering apparatus in the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 31는 제2 센터링장치의 제1 푸시유닛을 나타낸 평면도,31 is a plan view showing a first push unit of the second centering device;

도 32는 도 31의 측면도,32 is a side view of FIG. 31;

도 33은 제2 센터링장치의 제2 푸시유닛을 나타낸 평면도,33 is a plan view showing a second push unit of the second centering device;

도 34는 도 33의 측면도,34 is a side view of FIG. 33;

도 35는 제2 센터링장치의 제3 푸시유닛을 나타낸 평면도,35 is a plan view showing a third push unit of the second centering device;

도 36은 도 35의 측면도,36 is a side view of FIG. 35;

도 37은 제2 센터링장치의 제4 푸시유닛을 나타낸 평면도,37 is a plan view showing a fourth push unit of the second centering device;

도 38은 도 37의 측면도,38 is a side view of FIG. 37;

도 39는 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 시스템메인보디와 제2 운반장치, 제2 센터링장치, 제2 연마장치의 배치를 나타낸 정면도,39 is a front view showing the arrangement of the system main body, the second conveying apparatus, the second centering apparatus, and the second polishing apparatus in the glass substrate edge grinder system of the present invention;

도 40은 제2 연마장치의 세로이송대를 나타낸 정면도,40 is a front view showing a vertical feeder of the second polishing apparatus,

도 41은 도 40의 평면도,41 is a top view of FIG. 40;

도 42는 제2 연마장치의 제1 및 제2 연마유닛을 나타낸 정면도,42 is a front view showing the first and second polishing units of the second polishing apparatus;

도 43은 도 42의 평면도,43 is a top view of FIG. 42;

도 44는 제2 연마장치에서 냉각유닛과 드레싱유닛의 작동을 부분적으로 확대하여 나타낸 단면도이다.44 is a partially enlarged cross-sectional view showing operations of the cooling unit and the dressing unit in the second polishing apparatus.

♣ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♣♣ Explanation of symbols for the main parts of the drawing ♣

10: 유리기판 20: 공급장치10: glass substrate 20: feeder

30: 자동이송장치 40: 배출장치30: automatic transfer device 40: discharge device

50: 시스템메인보디 52: 마운팅프레임50: system main body 52: mounting frame

60: 제1 세척건조장치 70: 제2 세척건조장치60: first washing and drying apparatus 70: second washing and drying apparatus

100: 제1 운반장치 120: 테이블유닛100: first carrier 120: table unit

130: 간격조정유닛 140: 가이드유닛130: gap adjusting unit 140: guide unit

150: 클램핑유닛 160: 제1 이송유닛150: clamping unit 160: first transfer unit

200: 제1 센터링장치 210: 제1 푸시유닛200: first centering device 210: first push unit

230: 제2 푸시유닛 250: 제3 푸시유닛230: second push unit 250: third push unit

310: 제4 푸시유닛 400: 제1 연마장치310: fourth push unit 400: first polishing apparatus

410: 제1 연마유닛 420: 제1 연마휘일410: first polishing unit 420: first polishing wheel

450: 제2 연마유닛 460: 제2 연마휘일450: second polishing unit 460: second polishing wheel

500: 터닝장치 540: 척킹유닛500: turning device 540: chucking unit

600: 제2 운반장치 620: 테이블유닛600: second carrier 620: table unit

630: 간격조정유닛 640: 가이드유닛630: spacing adjustment unit 640: guide unit

650: 클램핑유닛 660: 제1 이송유닛650: clamping unit 660: first transfer unit

700: 제2 센터링장치 710: 제1 푸시유닛700: second centering device 710: first push unit

730: 제2 푸시유닛 750: 제3 푸시유닛730: second push unit 750: third push unit

810: 제4 푸시유닛 900: 제2 연마장치810: fourth push unit 900: second polishing apparatus

910: 제1 연마유닛 920: 제1 연마휘일910: first polishing unit 920: first polishing wheel

950: 제2 연마유닛 960: 제2 연마휘일950: second polishing unit 960: second polishing wheel

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은, 선단과 후단에 유리기판의 반입위치와 반출위치, 제1 연마위치와 제2 연마위치를 각각 제공하며, 제1 연마위치와 제2 연마위치 사이에 유리기판의 이송방향을 전환시키는 방향전환위치를 제공하는 시스템메인보디와; 반입위치와 방향전환위치 사이를 운동하고, 공급장치로부터 유리기판을 인수하여 운반하는 제1 운반장치와; 반입위치에서 제1 운반장치에 탑재되는 유리기판의 중심을 맞추는 제1 센터링장치와; 제1 연마위치에서 제1 운반장치에 의해 운반되는 유리기판의 이송방향 측단을 연마하는 제1 연마장치와; 방향전환위치에서 제1 운반장치로부터 유리기판을 인수하여 그 이송방향을 전환시키는 터닝장치와; 방향전환위치와 반출위치 사이를 운동하며, 터닝장치로부터 유리기판을 인수하여 운반하는 제2 운반장치와; 방향전환위치에서 제2 운반장치에 탑재되는 유리기판의 중심을 맞추는 제2 센터링장치와; 제2 연마위치에서 제2 운반장치에 의해 운반되는 유리기판의 이송방향 측단을 연마하는 제2 연마장치를 포함하는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템에 있다.A feature of the present invention for achieving the above object is to provide the loading and unloading position, the first polishing position and the second polishing position of the glass substrate at the front and rear ends, respectively, between the first polishing position and the second polishing position. A system main body for providing a redirection position for reversing the conveying direction of the glass substrate; A first conveying device that moves between the retracted position and the redirection position, and receives and conveys the glass substrate from the supply device; A first centering device for aligning the center of the glass substrate mounted on the first transport device at the loading position; A first polishing apparatus for polishing the side end of the glass substrate conveyed by the first conveying apparatus at the first polishing position; A turning device which takes in the glass substrate from the first conveying device at the redirection position and changes its conveying direction; A second conveying device which moves between the turning position and the discharging position, and receives and transports the glass substrate from the turning device; A second centering device for centering the glass substrate mounted on the second conveying device at the redirection position; A glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device comprising a second polishing apparatus for polishing a side end of a glass substrate conveyed by a second conveying device at a second polishing position.

이하, 본 발명에 따른 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템에 대한 바람직한 실시예를 첨부된 도면들에 의거하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1a 및 도 1b 내지 도 44는 본 발명에 따른 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템을 설명하기 위하여 나타낸 도면들이다.1A and 1B to 44 are views illustrating a glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display according to the present invention.

먼저, 도 1a 및 도 1b를 참조하여 설명하면, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에 의해 연마되는 유리기판(10)에는 두개의 단변(11)과 두개의 장변(12)이 구비되어 있다. 그리고, 연마된 유리기판(10)의 모서리에는 세개의 모따기부(13)와 하나의 방위표시부(14)가 형성되어 있다. 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에 의해 연마할 수 있는 유리기판(10)은 단변(11)의 길이가 대략 450mm 내지 900mm 정도이며, 장변(12)의 길이가 대략 650mm 내지 1100mm 정도이다. 또한, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에 의해 연마되는 유리기판(10)의 상면에는 보호용 필름(15)이 코팅되어 있다.First, referring to FIGS. 1A and 1B, the glass substrate 10 polished by the glass substrate edge grinder system of the present invention includes two short sides 11 and two long sides 12. In addition, three chamfers 13 and one azimuth display portion 14 are formed at the corners of the polished glass substrate 10. The glass substrate 10 which can be polished by the glass substrate edge grinder system of the present invention has a length of about 450 mm to about 900 mm and a length of about 12 to about 650 mm to about 1100 mm. In addition, a protective film 15 is coated on the upper surface of the glass substrate 10 polished by the glass substrate edge grinder system of the present invention.

도 2에 보이는 바와 같이, 본 발명의 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템은 유리기판(10)을 반입하는 공급장치(20)와, 연마된 유리기판(10)을 반출하는 자동이송장치(30)를 구비한다. 공급장치(20)는 유리기판(10)을 이송시키는 제1 벨트컨베이어(21)와 제2 벨트컨베이어(22)를 가지며, 자동이송장치(30)는 유리기판(10)을 척킹하여 이송시키는 척킹유닛(31)을 갖추고 있다. 그리고, 자동이송장치(30)의 구동에 의해 반출되는 유리기판(10)을 이송시키는 배출장치(40)는 벨트컨베이어(41)를 갖추고 있다.As shown in FIG. 2, the glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display according to the present invention includes a supply device 20 carrying in the glass substrate 10 and an automatic transfer device 30 carrying out the polished glass substrate 10. ). The supply device 20 has a first belt conveyor 21 and a second belt conveyor 22 for transporting the glass substrate 10, and the automatic transport device 30 is chucking for transporting the glass substrate 10 by chucking. The unit 31 is provided. Then, the discharge device 40 for transferring the glass substrate 10 carried by the drive of the automatic transfer device 30 is provided with a belt conveyor 41.

도 2 및 도 3을 참조하면, 공급장치(20)와 배출장치(40)에 사이에 시스템메인보디(50)가 직렬로 배치된다. 시스템메인보디(50)의 상면 중앙을 중심으로 네개의 컬럼(51)이 수직하게 배치되며, 컬럼(51)의 상단에는 마운팅프레임(52)이 설치된다. 시스템메인보디(50)의 선단에는 공급장치(20)의 후단으로부터 연장되어 있는 제2 벨트컨베이어(22)의 후단이 도입되어 있다. 시스템메인보디(50)의 선단에 유리기판(10)의 반입위치와 제1 연마위치가 각각 제공되며 후단에는 반출위치와 제2 연마위치가 각각 제공된다. 그리고, 시스템메인보디(50)의 제1 연마위치와 제2 연마위치 사이에는 유리기판(10)을 90도 회전시켜 이송방향을 전환시키는 방향전환위치가 제공된다.2 and 3, the system main body 50 is disposed in series between the supply device 20 and the discharge device 40. Four columns 51 are vertically disposed around the center of the upper surface of the system main body 50, and a mounting frame 52 is installed at the top of the column 51. The rear end of the second belt conveyor 22 extending from the rear end of the supply apparatus 20 is introduced into the front end of the system main body 50. The loading position and the first polishing position of the glass substrate 10 are respectively provided at the front end of the system main body 50, and the carrying out position and the second polishing position are respectively provided at the rear end. In addition, a direction change position is provided between the first polishing position and the second polishing position of the system main body 50 to rotate the glass substrate 10 by 90 degrees to change the conveying direction.

또한, 시스템메인보디(50)의 컬럼(51)에는 유리기판(10)을 세척 및 건조하는 제1 세척건조장치(60)와 제2 세척건조장치(70)가 설치된다. 제1 및 제2 세척건조장치(60, 70)는 마운팅프레임(52)의 선단과 후단에 세로방향으로 2열 배치되어 물 또는 압축공기를 분사하는 제1 노즐(61a, 71a)과 제2 노즐(61b, 71b)을 각각 구비한다. 제1 및 제2 세척건조장치(60, 70)의 제1 및 제2 노즐(61a, 61b, 71a, 71b)중 어느 하나를 통하여 물을 공급하는 급수유닛(62, 72)은 물을 저수하는 탱크(62a, 72a)와, 탱크(62a, 72a)의 물을 제1 및 제2 노즐(61a, 61b, 71a, 71b)중 어느 하나에 공급하는 순환펌프(62b, 72b)로 구성된다. 제1 및 제2 세척건조장치(60, 70)의 제1 및 제2 노즐(61a, 61b, 71a, 71b)중 다른 하나는 일반적인 압축공기공급유닛에 작동적으로 연결된다. 그리고, 시스템메인보디(50)의 상부에 물을 집수하는 버킷(80)이 설치된다.In addition, the column 51 of the system main body 50 is provided with a first washing drying apparatus 60 and a second washing drying apparatus 70 for washing and drying the glass substrate 10. The first and second washing and drying apparatuses 60 and 70 are arranged in two rows in the longitudinal direction at the front and rear ends of the mounting frame 52, and the first nozzles 61a and 71a and the second nozzle for spraying water or compressed air. 61b and 71b are provided, respectively. The water supply units 62 and 72 supplying water through any one of the first and second nozzles 61a, 61b, 71a, and 71b of the first and second washing and drying devices 60 and 70 may store water. It consists of the tank 62a, 72a and the circulation pump 62b, 72b which supplies the water of the tank 62a, 72a to any one of the 1st and 2nd nozzles 61a, 61b, 71a, 71b. The other of the first and second nozzles 61a, 61b, 71a, 71b of the first and second washing and drying apparatuses 60, 70 is operatively connected to a general compressed air supply unit. Then, a bucket 80 for collecting water is installed on the upper part of the system main body 50.

도 2 내지 도 5를 참조하면, 시스템메인보디(50)의 상면에는 한쌍의 가이드레일(90)이 유리기판(10)의 이송방향을 따라 나란하게 부착되고, 가이드레일(90)에는 시스템메인보디(50)의 반입위치와 방향전환위치 사이를 운동하는 제1 운반장치(100)가 설치된다.2 to 5, a pair of guide rails 90 are attached to the upper surface of the system main body 50 side by side along the conveying direction of the glass substrate 10, and the system main body is attached to the guide rail 90. The first conveying device 100 is installed to move between the carry-in position and the redirection position of the 50.

도 6 내지 도 8에 보이는 바와 같이, 제1 운반장치(100)는 가이드레일(90)를 따라 이송되는 베이스플레이트(110)와 테이블유닛(120)을 구비한다.As shown in FIGS. 6 to 8, the first transport apparatus 100 includes a base plate 110 and a table unit 120 that are transported along the guide rail 90.

테이블유닛(120)은 베이스플레이트(110)의 상면 중앙에 유리기판(10)의 이송방향을 따라 서로 나란하게 고정되는 제1 고정스탠드(121)와 제2 고정스탠드(122), 그리고 제1 및 제2 고정스탠드(121, 122)의 양측에서 세로방향으로의 간격을 조정할 수 있도록 나란하게 배치되는 제1 가동스탠드(123)와 제2 가동스탠드(124)로 구성된다. 제1 및 제2 고정스탠드(121, 122)와 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)에는 일반적인 진공펌프의 흡기력에 의해 유리기판(10)을 진공흡착하는 다수의 흡기구멍(125)이 각각 형성되며 상면에는 유리기판(10)의 손상을 방지하고 진공흡착을 보조하는 스펀지패드(126)가 부착된다. 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템에서 제1 운반장치(100)의 제1 및 제2 고정스탠드(121, 122) 사이에는 공급장치(20)의 제2 벨트컨베이어(22)가 위치되어 있다.The table unit 120 includes a first fixing stand 121 and a second fixing stand 122 which are fixed in parallel to each other along the transport direction of the glass substrate 10 at the center of the upper surface of the base plate 110, and the first and The first movable stand 123 and the second movable stand 124 are arranged side by side so as to adjust an interval in the vertical direction on both sides of the second fixed stands 121 and 122. The first and second fixed stands 121 and 122 and the first and second movable stands 123 and 124 have a plurality of intake holes 125 for vacuum sucking the glass substrate 10 by the suction force of a general vacuum pump. Each of which is formed, the upper surface is attached with a sponge pad 126 to prevent damage to the glass substrate 10 and to assist in vacuum adsorption. In the glass substrate edge grinder system of the present invention, a second belt conveyor 22 of the supply device 20 is positioned between the first and second fixed stands 121 and 122 of the first transport device 100.

또한, 제1 운반장치(100)는 테이블유닛(120)의 제1 및 제2 고정스탠드(121, 122)에 대하여 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)의 간격을 조정할 수 있는 간격조정유닛(130)을 구비한다. 간격조정유닛(130)은 마이크로미터헤드(131)와, 이 마이크로미터헤드(131)의 조정에 의해 회전되는 조정축(132)을 갖는다. 조정축(132)은제1 및 제2 고정스탠드(121, 122)를 관통하는 연결축부(132a)와, 이 연결축부 (132a)의 양단에 연결되는 왼나사축부(132b)와 오른나사축부(132c)로 구성된다. 조정축(132)의 왼나사축부(132b)와 오른나사축부(132c)에는 제1 및 제2 가동스탠드 (123, 124)의 하면에 고정되는 왼나사이송너트(133)와 오른나사이송너트 (134)가 각각 체결된다. 작업자가 수동조작에 의해 간격조정유닛(130)의 마이크로미터헤드 (131)를 회전시키면, 조정축(132)의 왼나사축부(132b)와 오른나사축부 (132c)를 따라 왼나사이송너트(133)와 오른나사이송너트(134)가 각각 나선운동되고, 제1 및 제2 고정스탠드(121, 122)에 대하여 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)가 직선운동되어 간격이 조정된다.In addition, the first conveying apparatus 100 adjusts a gap in which the interval between the first and second movable stands 123 and 124 can be adjusted with respect to the first and second fixed stands 121 and 122 of the table unit 120. The unit 130 is provided. The gap adjusting unit 130 has a micrometer head 131 and an adjustment shaft 132 which is rotated by the adjustment of the micrometer head 131. The adjusting shaft 132 includes a connecting shaft portion 132a penetrating through the first and second fixing stands 121 and 122, a left screw shaft portion 132b and a right screw shaft portion 132c connected to both ends of the connecting shaft portion 132a. It consists of. The left screw feed nut 133 and the right screw feed nut 134 which are fixed to the lower surfaces of the first and second movable stands 123 and 124 on the left screw shaft portion 132b and the right screw shaft portion 132c of the adjustment shaft 132. Are fastened respectively. When the operator rotates the micrometer head 131 of the gap adjusting unit 130 by manual operation, the left screw feed nut 133 along the left screw shaft portion 132b and the right screw shaft portion 132c of the adjustment shaft 132 and The right screw feed nut 134 is helically moved, and the first and second movable stands 123 and 124 are linearly moved with respect to the first and second fixed stands 121 and 122 to adjust the spacing.

제1 운반장치(100)는 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)의 하면 양단에 배치되어 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)의 직선운동을 보조하는 가이드유닛(140)을 구비한다. 가이드유닛(140)은 베이스플레이트(110)의 상면에 고정되는 가이드레일 (141)과, 이 가이드레일(141)을 따라 직선운동하며 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)의 하면에 고정되는 슬라이드(142)로 구성된다. 제1 운반장치(100)의 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)는 클램핑유닛(150)에 의해 이동이 구속된다. 클램핑유닛 (150)은 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)의 외측에 고정되는 고정블록(151)과, 이 고정블록(151)과 서로 대응되는 위치의 베이스플레이트(110)의 상면에 세로방향으로 고정되며 슬롯(152a)이 형성되어 있는 가이드블록(152)과, 가이드블록(152)의 슬롯(152a)을 따라 이동되고 슬롯(152b)로부터의 이탈이 방지되도록 장착되는 로킹너트(153)와, 고정블록(151)을 관통하여 로킹너트(153)에 체결되는 클램프레버(154)로 구성된다. 고정블록(151)의 근접위치에는 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124)의 위치를 측정할 수 있는 스케일(155)이 장착된다. 도면에는, 네개의 가이드유닛(140)과 네개의 클램핑유닛(150)이 베이스플레이트(110)의 모서리에 각각 설치되어 있는 것을 나타냈으나 이들의 설치숫자 및 위치는 필요에 따라서 적정하게 변경할 수 있다.The first transport apparatus 100 is disposed on both ends of the lower surfaces of the first and second movable stands 123 and 124 to guide the guide unit 140 to assist the linear movement of the first and second movable stands 123 and 124. Equipped. The guide unit 140 is fixed to the guide rail 141 fixed to the upper surface of the base plate 110 and the lower surface of the first and second movable stands 123 and 124 while linearly moving along the guide rail 141. Consisting of a slide 142. The first and second movable stands 123 and 124 of the first transport apparatus 100 are constrained by the clamping unit 150. The clamping unit 150 is fixed to the outer side of the first and second movable stand (123, 124) fixed block 151, the fixing block 151 and the upper surface of the base plate 110 in a position corresponding to each other A guide block 152 fixed in the longitudinal direction and having a slot 152a formed therein, and a locking nut 153 which is moved along the slot 152a of the guide block 152 and is mounted to prevent separation from the slot 152b; And a clamp lever 154 that is fastened to the locking nut 153 through the fixing block 151. A scale 155 capable of measuring the positions of the first and second movable stands 123 and 124 is mounted at a proximal position of the fixed block 151. In the figure, it is shown that four guide units 140 and four clamping units 150 are installed at the corners of the base plate 110, respectively, but their installation numbers and positions can be changed as necessary. .

도 4 내지 도 7에 보이는 바와 같이, 제1 운반장치(100)는 제1 이송유닛 (160)에 의해 가이드레일(90)을 따라 시스템메인보디(50)의 반입위치와 방향전환위치 사이를 운동한다. 제1 이송유닛(160)은 시스템메인보디(50)의 선단에서 중앙까지 유리기판(10)의 이송방향을 따라 가이드레일(90)과 나란하게 배치되는 이송나사축(161)과, 이 이송나사축(161)을 회전시키는 이송모터(162)와, 이송나사축(161)을 따라 나선운동되며 베이스플레이트(110)의 하면에 고정되는 이송너트(163)로 구성된다.As shown in FIGS. 4 to 7, the first transport apparatus 100 is moved between the loading position and the turning position of the system main body 50 along the guide rail 90 by the first transfer unit 160. do. The first conveying unit 160 is a feed screw shaft 161 disposed in parallel with the guide rail 90 along the conveying direction of the glass substrate 10 from the front end to the center of the system main body 50, the feed screw The feed motor 162 for rotating the shaft 161, and the feed nut 163 is spirally moved along the feed screw shaft 161 and fixed to the bottom surface of the base plate 110.

베이스플레이트(110)의 후단에 유리기판(10)으로부터 이물질을 제거하는 스프레이유닛(170)이 설치되며, 스프레이유닛(170)은 베이스플레이트(110)의 세로방향으로 배열되어 물을 분사하는 다수의 노즐(171)을 갖는다. 시스템메인보디(50)의 반입위치와 방향전환위치에는 제1 운반장치(100)의 이송을 구속하는 제1 및 제2 스토퍼(180a, 180b)와, 제1 운반장치(100)의 위치를 감지하여 이송모터(162)의 구동을 제어하는 제1 및 제2 센서(181a, 181b)가 각각 장착된다.A spray unit 170 is installed at the rear end of the base plate 110 to remove foreign substances from the glass substrate 10. The spray unit 170 is arranged in the longitudinal direction of the base plate 110 to spray water. It has a nozzle 171. The first and second stoppers 180a and 180b for restraining the conveyance of the first conveying device 100 and the position of the first conveying device 100 are sensed at the carrying position and the redirection position of the system main body 50. First and second sensors 181a and 181b for controlling the driving of the transfer motor 162 are mounted.

도 3, 도 6 및 도 9 및 도 18을 참조하면, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템은 시스템메인보디(50)의 반입위치에서 공급장치(20)로부터 인계되어 제1운반장치(100)의 테이블유닛(120)에 안착되는 유리기판(10)의 중심을 맞추는 제1 센터링장치(200)를 구비한다.3, 6 and 9 and 18, the glass substrate edge grinder system of the present invention is taken over from the supply device 20 at the loading position of the system main body 50 of the first transport device 100 A first centering device 200 for centering the glass substrate 10 seated on the table unit 120 is provided.

도 6, 도 9 내지 도 11에 보이는 바와 같이, 제1 센터링장치(200)는 제1 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)의 선단에 설치되며 유리기판(10)의 이송방향 선단을 지지하여 후단을 향하여 밀어주는 한쌍의 제1 푸시유닛(210)을 구비하고, 제1 푸시유닛(210)은 유리기판(10)의 두 지점을 지지할 수 있도록 소정의 거리를 두고 이격되어 배치된다. 제1 푸시유닛(210)은 제1 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)에 고정되는 베드(211)를 가지며, 베드(211)의 상면에는 한쌍의 실린더로드 (212a)를 갖는 푸시실린더(212)가 장착된다. 푸시실린더(212)는 볼트 (213)의 체결에 의해 베드(211)에 고정되며, 푸시실린더(212)의 실린더로드(212a)의 스트로크스타트는 센서(214)에 의해 감지된다.As shown in FIGS. 6 and 9 to 11, the first centering device 200 is installed at the front end of the base plate 110 of the first transporting device 100 and supports the front end of the glass substrate 10 in the transport direction. There is a pair of first push unit 210 to push toward the rear end, the first push unit 210 is spaced apart a predetermined distance so as to support two points of the glass substrate (10). The first push unit 210 has a bed 211 is fixed to the base plate 110 of the first conveying apparatus 100, the push cylinder having a pair of cylinder rods (212a) on the upper surface of the bed 211 ( 212) is mounted. The push cylinder 212 is fixed to the bed 211 by the fastening of the bolt 213, the stroke start of the cylinder rod 212a of the push cylinder 212 is sensed by the sensor 214.

또한, 푸시실린더(212)의 실린더로드(212a)에는 브래킷(215)의 개재에 의해 승강조정유닛(220)이 장착된다. 승강조정유닛(220)은 브래킷(215)의 일측에 수직하게 장착되는 가이드레일(221)과, 가이드레일(221)을 따라 직선운동하는 슬라이드 (222)와, 가이드레일(221)의 하단에 장착되며 나사구멍(223a)을 갖는 조정블록 (223)과, 조정블록(223)의 나사구멍(223a)을 통하여 슬라이드(222)에 고정되는 조정나사축(224)으로 구성된다. 가이드레일(221)의 일측에 유리기판(10)의 이송방향 선단을 지지하는 푸시롤러(225)가 포스트(225a)를 중심으로 회전되도록 장착된다. 승강조정유닛(220)의 조정나사축(224)를 조정하면, 가이드레일(221)을 따라 슬라이드(222)가 상하로 직선운동되고, 푸시롤러(225)도 승강된다. 따라서, 승강조정유닛(220)의 작동에 의해 유리기판(10)과 접촉하는 푸시롤러(225)의 접촉부위가 변경되므로, 푸시롤러(225)의 수명이 연장된다.In addition, the elevating adjustment unit 220 is mounted to the cylinder rod 212a of the push cylinder 212 by the bracket 215. The elevating adjustment unit 220 is mounted on a guide rail 221 mounted vertically on one side of the bracket 215, a slide 222 linearly moving along the guide rail 221, and a lower end of the guide rail 221. And an adjusting screw shaft 224 fixed to the slide 222 through a screw hole 223a of the adjusting block 223 and an adjusting block 223 having a screw hole 223a. On one side of the guide rail 221, the push roller 225 for supporting the front end of the transport direction of the glass substrate 10 is mounted so as to rotate about the post (225a). When adjusting the adjustment screw shaft 224 of the elevating adjustment unit 220, the slide 222 is linearly moved up and down along the guide rail 221, and the push roller 225 is also elevated. Therefore, since the contact portion of the push roller 225 in contact with the glass substrate 10 is changed by the operation of the lifting adjustment unit 220, the life of the push roller 225 is extended.

도 6, 도 9, 도 12 및 도 13에 보이는 바와 같이, 제1 센터링장치(200)는 유리기판(10)의 이송방향 후단을 지지하여 제1 푸시유닛(210)에 대하여 밀어주는 한쌍의 제2 푸시유닛(230)을 구비하며, 제2 푸시유닛(230)은 제1 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)의 후단에 제1 푸시유닛(210)과 서로 대향되도록 설치된다. 제2 푸시유닛(230)은 제1 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)에 고정되는 베드(231)을 가지며, 베드(231)의 상면에는 유리기판(10)의 이송방향으로 가이드레일(232)이 장착되고, 가이드레일(232)의 중앙에 슬롯(232a)이 형성된다. 가이드레일(232)의 슬롯(232b)에는 직선운동하는 슬라이드(233)가 장착되며, 슬라이드(233)의 상면에 한쌍의 실린더로드(234a)를 갖는 푸시실린더(234)가 장착된다. 그리고, 가이드레일 (232)의 슬롯(232b)에는 로킹너트(235)가 슬롯(232a)로부터의 이탈이 방지되도록 장착되어 있으며, 로킹너트(235)에는 슬라이드(233)를 관통하는 볼트(236)가 체결된다. 슬라이드(233)는 볼트(236)의 체결에 의해 가이드레일(232)에 고정된다.As shown in FIGS. 6, 9, 12, and 13, the first centering apparatus 200 supports a rear end of the glass substrate 10 in the conveying direction to push against the first push unit 210. 2 is provided with a push unit 230, the second push unit 230 is installed on the rear end of the base plate 110 of the first transport apparatus 100 to face the first push unit 210. The second push unit 230 has a bed 231 fixed to the base plate 110 of the first conveying device 100, the upper surface of the bed 231 in the conveying direction of the glass substrate 10 guide rail ( 232 is mounted, and a slot 232a is formed at the center of the guide rail 232. A slot 232b of the guide rail 232 is mounted with a slide 233 which linearly moves, and a push cylinder 234 having a pair of cylinder rods 234a is mounted on an upper surface of the slide 233. In addition, the locking nut 235 is mounted to the slot 232b of the guide rail 232 to prevent separation from the slot 232a, and the bolt 236 penetrates the slide 233 to the locking nut 235. Is fastened. The slide 233 is fixed to the guide rail 232 by fastening the bolt 236.

푸시실린더(234)의 실린더로드(234a)에는 브래킷(237)의 개재에 의해 승강조정유닛(240)이 장착된다. 승강조정유닛(240)은 브래킷(237)의 일측에 수직하게 장착되는 가이드레일(241)과, 가이드레일(241)을 따라 직선운동하는 슬라이드(242)와, 가이드레일(241)의 하단에 장착되며 나사구멍(243a)을 갖는 조정블록(243)과, 조정블록(243)의 나사구멍(243a)을 통하여 슬라이드(242)에 고정되는 조정나사축 (244)으로 구성된다. 가이드레일(241)의 일측에 유리기판(10)의 이송방향 선단을지지하는 푸시롤러(245)가 포스트(245a)를 중심으로 회전되도록 장착된다.The elevating adjustment unit 240 is mounted to the cylinder rod 234a of the push cylinder 234 by the bracket 237. The elevating adjustment unit 240 is mounted on a guide rail 241 vertically mounted on one side of the bracket 237, a slide 242 linearly moving along the guide rail 241, and a lower end of the guide rail 241. And an adjusting block 243 having a screw hole 243a and an adjusting screw shaft 244 fixed to the slide 242 via the screw hole 243a of the adjusting block 243. On one side of the guide rail 241, the push roller 245 for supporting the front end of the transport direction of the glass substrate 10 is mounted so as to rotate around the post 245a.

도 6, 도 9, 도 14 내지 도 17을 참조하면, 제1 센터링장치(200)는 시스템메인보디(50)의 반입위치에 설치되어 유리기판(10)의 이송방향 양측단을 지지하여 중앙을 향하여 서로 협동하여 밀어주는 한쌍의 제3 푸시유닛(250)과 제4 푸시유닛 (310)을 구비하며, 제3 및 제4 푸시유닛(250, 310) 각각은 서로 마주하여 배치되어 있다. 제3 및 제4 푸시유닛(250, 310)은 시스템메인보디(50)의 상면에 부착되는 베이스플레이트(251, 311)를 가지며, 베이스플레이트(251, 311)의 상면에 한쌍의 가이드레일(252, 312)이 소정의 간격을 두고 세로방향으로 나란하게 장착되고, 가이드레일(252, 312)에는 직선운동하는 슬라이드(253, 313)가 장착된다. 슬라이드 (253, 313)의 상면에 테이블(254, 314)이 부착되며, 테이블(254, 314)의 상면 양측에는 한쌍의 실린더로드(255a, 315a)를 갖는 한쌍의 푸시실린더(255, 315)가 세로방향으로 수직하게 각각 장착된다.6, 9, 14 to 17, the first centering device 200 is installed in the carry-in position of the system main body 50 to support both ends of the transfer direction of the glass substrate 10 to the center A pair of the third push unit 250 and the fourth push unit 310 to cooperate to push toward each other toward each other, each of the third and fourth push unit 250, 310 is disposed facing each other. The third and fourth push units 250 and 310 have base plates 251 and 311 attached to the top surface of the system main body 50, and a pair of guide rails 252 on the top surfaces of the base plates 251 and 311. 312 are mounted side by side in the longitudinal direction at predetermined intervals, and slides 253 and 313 are linearly mounted on the guide rails 252 and 312. Tables 254, 314 are attached to the upper surfaces of the slides 253, 313, and a pair of push cylinders 255, 315 having a pair of cylinder rods 255a, 315a are provided on both sides of the upper surfaces of the tables 254, 314. It is mounted vertically and vertically, respectively.

푸시실린더(255, 315)의 실린더로드(255a, 315a)의 선단에는 브래킷(256, 316)의 개재에 의해 승강조정유닛(260, 320)이 장착된다. 승강조정유닛(260, 320)은 브래킷(256, 316)의 일측에 수직하게 장착되는 가이드레일(261, 321)과, 이 가이드레일(261, 321)을 따라 직선운동하는 슬라이드(262, 322)와, 가이드레일(261, 321)의 하단에 장착되며 나사구멍(263a, 323a)을 갖는 조정블록(263, 323)과, 조정블록(263, 323)의 나사구멍(263a, 323a)을 통하여 슬라이드(262, 322)에 고정되는 조정나사축(264, 324)으로 구성된다. 가이드레일(261, 321)의 일측에 유리기판(10)의 이송방향 선단을 지지하는 한쌍의 푸시롤러(265, 325)가 포스트(265a, 325a)를중심으로 회전되도록 장착된다.Lifting adjustment units 260 and 320 are mounted to the front ends of the cylinder rods 255a and 315a of the push cylinders 255 and 315 by the brackets 256 and 316. The elevating adjustment units 260 and 320 are guide rails 261 and 321 mounted vertically to one side of the brackets 256 and 316, and slides 262 and 322 linearly moving along the guide rails 261 and 321. And slides through the adjusting blocks 263 and 323 mounted on the lower ends of the guide rails 261 and 321 and having the screw holes 263a and 323a, and through the screw holes 263a and 323a of the adjusting blocks 263 and 323. And adjusting screw shafts 264 and 324 fixed to 262 and 322. On one side of the guide rails 261 and 321, a pair of push rollers 265 and 325 supporting the front end of the transport direction of the glass substrate 10 are mounted to rotate about the posts 265a and 325a.

푸시실린더(255, 315)의 후단에는 실린더로드(255a, 315a)의 스트로크를 감지하는 감지유닛(270, 330)이 설치된다. 감지유닛(270, 330)은 실린더로드(255a, 315a)의 후단에 장착되는 센싱바(271, 331)와, 센싱바(271, 331)의 스트로크스타트와 스트로크엔드를 감지할 수 있도록 테이블(254, 314)의 일측에 부착되어 있는 브래킷(272, 332)에 소정의 간격을 두고 이격되어 배치되는 스타트센서(273a, 333a)와 엔드센서(273b, 333b)로 구성된다. 푸시실린더(255, 315)의 구동에 의해 실린더로드(255a, 315a)가 전후진되면, 센싱바(271, 331)의 스트로크스타트와 스트로크엔드는 스타트센서(273a, 333a)와 엔드센서(273b, 333b)에 의해 감지된다. 이와 같은 스타트센서(273a, 333a)와 엔드센서(273b, 333b)의 감지에 의해 푸시실린더(255, 315)의 구동이 제어되고, 이 결과 푸시롤러(265, 325)가 유리기판(10)에 접촉하는 위치가 정밀하게 제어된다.The rear end of the push cylinder (255, 315) is provided with a sensing unit (270, 330) for detecting the stroke of the cylinder rod (255a, 315a). The sensing units 270 and 330 are sensing bars 271 and 331 mounted on the rear ends of the cylinder rods 255a and 315a, and a table 254 to detect the stroke start and stroke end of the sensing bars 271 and 331. And start sensors 273a and 333a and end sensors 273b and 333b spaced apart from each other at predetermined intervals on the brackets 272 and 332 attached to one side of the 314. When the cylinder rods 255a and 315a are advanced back and forth by driving the push cylinders 255 and 315, the stroke start and stroke end of the sensing bars 271 and 331 are started with the start sensors 273a and 333a and the end sensor 273b, 333b). The driving of the push cylinders 255 and 315 is controlled by the detection of the start sensors 273a and 333a and the end sensors 273b and 333b. As a result, the push rollers 265 and 325 are connected to the glass substrate 10. The contact position is precisely controlled.

제3 및 제4 푸시유닛(250, 310)의 테이블(254, 314)은 위치조정유닛(280, 340)의 조정에 의해 가이드레일(261, 321)을 따라 직선운동된다. 위치조정유닛 (280, 340)은 마이크로미터헤드(281, 341)와, 이 마이크로미터헤드(281, 341)의 조정에 의해 회전되는 조정나사축(282, 342)과, 조정나사축(282, 342)을 따라 나선운동되며 테이블(254, 314)의 하면에 고정되는 이송너트(283, 343)로 구성된다. 마이크로미터헤드(281, 341)의 조정에 의해 조정나사축(282, 342)이 회전되면, 이송너트(283, 343)는 조정나사축(282, 342)을 따라 나선운동되고, 슬라이드(262, 322)와의 병행운동에 의해 테이블(254, 314)은 가이드레일(261, 321)을 따라 직선운동된다. 이와 같은 제3 및 제4 푸시유닛(250, 310)은 테이블(254, 314)의 위치조정에 의해 크기가 다른 유리기판(10)의 센터링에 범용화가 용이하다. 베이스플레이트 (251, 311)의 상면 일단에 일측의 가이드레일(261, 321)과 나란하도록 스케일(284, 344)이 장착되고, 이 스케일(284, 344)에 의해 베이스플레이트 (251, 311)에 대한 테이블(254, 314)의 위치를 측정한다.The tables 254 and 314 of the third and fourth push units 250 and 310 are linearly moved along the guide rails 261 and 321 by the adjustment of the position adjusting units 280 and 340. The position adjusting units 280 and 340 include micrometer heads 281 and 341, adjustment screw shafts 282 and 342 which are rotated by the adjustment of the micrometer heads 281 and 341, and adjustment screw shafts 282 and 340. It is composed of a feed nut (283, 343) which is spirally moved along the 342 and fixed to the lower surface of the table (254, 314). When the adjustment screw shafts 282, 342 are rotated by the adjustment of the micrometer heads 281, 341, the feed nuts 283, 343 are spirally moved along the adjustment screw shafts 282, 342, and the slides 262, By parallel movement with the 322, the tables 254 and 314 are linearly moved along the guide rails 261 and 321. The third and fourth push units 250 and 310 may be easily used for centering the glass substrates 10 having different sizes by adjusting the positions of the tables 254 and 314. Scales 284 and 344 are mounted on one end of the upper surface of the base plates 251 and 311 so as to be parallel with the guide rails 261 and 321 on one side, and the scales 284 and 344 are attached to the base plates 251 and 311 by the scales 284 and 344. The positions of the tables 254 and 314 for the measurement are measured.

제3 및 제4 푸시유닛(250, 310)의 테이블(254, 314)은 고정유닛(290, 350)에 의해 베이스플레이트(251, 311)에 고정된다. 고정유닛(290, 350)은 베이스플레이트 (251, 311)의 상면에 일측의 가이드레일(261, 321)과 나란하도록 장착되고 슬롯 (291a, 351a)이 형성되는 고정블록(291, 351)과, 고정블록(291, 351)의 슬롯(291a, 351a)을 따라 이동되며 슬롯(291a, 351a)로부터의 이탈이 방지되도록 장착되는 로킹너트(292, 352)와, 테이블(254, 314)을 관통하여 로킹너트(292, 352)에 체결되는 클램프레버(293, 353)로 구성된다. 따라서, 테이블(254, 314)은 로킹너트(292, 352)와 클램프레버(293, 353)의 체결에 의해 베이스플레이트(251, 311)에 고정된다.The tables 254 and 314 of the third and fourth push units 250 and 310 are fixed to the base plates 251 and 311 by the fixing units 290 and 350. The fixing units 290 and 350 are mounted on the upper surfaces of the base plates 251 and 311 so as to be parallel to the guide rails 261 and 321 on one side, and the fixing blocks 291 and 351 to which the slots 291a and 351a are formed. The locking nuts 292 and 352 move along the slots 291a and 351a of the fixed blocks 291 and 351 and are mounted so as to prevent their departure from the slots 291a and 351a, and through the tables 254 and 314. And clamp levers 293 and 353 fastened to the locking nuts 292 and 352. Accordingly, the tables 254 and 314 are fixed to the base plates 251 and 311 by fastening the locking nuts 292 and 352 to the clamp levers 293 and 353.

도 14 및 도 15를 살펴보면, 제3 푸시유닛(250)은 실린더로드(255a)의 스트로크엔드를 미세 조정하는 스트로크엔드조정유닛(300)을 구비한다. 스트로크엔드조정유닛(300)은 센싱바(271)의 중앙을 관통하여 장착되는 마이크로미터헤드(301)와, 마이크로미터헤드(301)와 접촉하여 센싱바(271)의 스트로크엔드를 구속하도록 푸시실린더(255)의 후단에 장착되는 스토퍼(302)로 구성된다. 그리고, 센싱바(271)의 스트로크엔드는 테이블(254)의 상면에 장착되어 있는 다이얼인디케이터(303)에 의해 측정된다. 스트로크엔드조정유닛(300)의 마이크로미터헤드(301)가 스토퍼(302)에 걸리는 위치를 마이크로미터헤드(301)에 의해 미세 조정하고, 이와 병행하여 센싱바(271)의 스트로크엔드를 다이얼인디케이터(303)에 의해 측정하여 푸시실린더 (255)의 구동에 의해 전후진되는 실린더로드(255a)의 스트로크엔드와 센싱바(271)의 위치오차를 조정한다. 이와 같은 스트로크엔드조정유닛(300)의 조정에 의해 제3 푸시유닛(250)의 신뢰성이 확보된다.14 and 15, the third push unit 250 includes a stroke end adjusting unit 300 for finely adjusting the stroke end of the cylinder rod 255a. The stroke end adjustment unit 300 contacts the micrometer head 301 mounted through the center of the sensing bar 271 and the push cylinder to contact the micrometer head 301 to restrain the stroke end of the sensing bar 271. It consists of the stopper 302 attached to the rear end of 255. In FIG. The stroke end of the sensing bar 271 is measured by the dial indicator 303 mounted on the upper surface of the table 254. The position where the micrometer head 301 of the stroke end adjustment unit 300 is caught by the stopper 302 is finely adjusted by the micrometer head 301, and in parallel with this, the stroke end of the sensing bar 271 is dialed indicator ( The position error of the stroke end of the cylinder rod 255a and the sensing bar 271 which are measured and measured by 303 and advanced back and forth by the drive of the push cylinder 255 are adjusted. By adjusting the stroke end adjustment unit 300 as described above, the reliability of the third push unit 250 is ensured.

도 16 및 도 17에 보이는 바와 같이, 제4 푸시유닛(310)은 실린더로드(315a)의 선단에 장착되어 있는 브래킷(316)과 승강조정유닛(320) 사이에 댐퍼(360)를 구비한다. 댐퍼(360)는 브래킷(316)에 대하여 승강조정유닛(320)의 슬라이드(322)가 직선운동할 수 있도록 연결하는 한쌍의 가이드핀(361)과, 이 가이드핀(361)의 외주에 장착되어 슬라이드(322)를 외측으로 바이어스시키는 스프링(362)으로 구성된다. 댐퍼(360)의 스프링(362)은 탄성변형에 의해 제4 푸시유닛(310)의 푸시롤러(325)가 유리기판(10)의 측단을 밀어줄 때 발생되는 반력을 흡수한다. 또한, 제4 푸시유닛(310)의 승강조정유닛(320)의 슬라이드(322)는 스프링(362)의 탄성변형에 의해 가이드핀(361)을 따라 직선운동하며, 이에 따라 제3 푸시유닛(250)의 푸시롤러(325)가 유리기판(10)의 측단을 미는 위치가 센터링의 기준이 된다.As shown in FIGS. 16 and 17, the fourth push unit 310 includes a damper 360 between the bracket 316 and the lift adjusting unit 320 mounted at the tip of the cylinder rod 315a. The damper 360 is mounted on a pair of guide pins 361 and the outer circumference of the guide pins 361 so as to allow the slide 322 of the elevating adjustment unit 320 to linearly move relative to the bracket 316. And a spring 362 that biases the slide 322 outward. The spring 362 of the damper 360 absorbs the reaction force generated when the push roller 325 of the fourth push unit 310 pushes the side end of the glass substrate 10 by elastic deformation. In addition, the slide 322 of the elevating adjustment unit 320 of the fourth push unit 310 is linearly moved along the guide pin 361 due to the elastic deformation of the spring 362, and thus the third push unit 250 The position at which the push roller 325 pushes the side end of the glass substrate 10 becomes a reference for centering.

도 2, 도 4 및 도 18을 참조하면, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템은 시스템메인보디(50)의 제1 연마위치에는 제1 운반장치(100)에 의해 이송되는 유리기판(10)의 이송방향 양측단, 예를 들어 두 단변(11)의 연마공정을 행하는 제1 연마장치(400)를 구비한다.2, 4, and 18, the glass substrate edge grinder system of the present invention is characterized in that the glass substrate 10 is conveyed by the first conveying apparatus 100 at the first polishing position of the system main body 50. The 1st grinding | polishing apparatus 400 which grinds the both ends of a conveyance direction, for example, the two short sides 11 is provided.

도 19 및 도 20에 보이는 바와 같이, 제1 연마장치(400)는 마운팅프레임(52)의 선단에 세로방향으로 설치되는 세로이송대(401)를 가지며, 세로이송대(401)에는 제1 연마유닛(410)과 제2 연마유닛(450)이 소정의 간격을 두고 이격되어 설치된다. 제1 및 제2 연마유닛(410, 450) 각각은 이송모터(411, 451)의 구동에 의해 회전하는 이송나사축(412, 422)을 따라 직선운동하는 캐리지(413, 453)를 가지며, 캐리지(413, 453)의 일측에 가이드레일(414, 454)이 수직하게 장착되고, 가이드레일(414, 454)에는 직선운동하는 슬라이드(415, 455)가 장착된다. 슬라이드(415, 455)는 볼트(415a, 455a)의 체결에 의해 캐리지(413, 453)에 대하여 이동이 구속된다.As shown in FIGS. 19 and 20, the first polishing apparatus 400 has a vertical carriage 401 installed in the longitudinal direction at the front end of the mounting frame 52, and the first polishing unit (401) is provided in the longitudinal carriage 401. The 410 and the second polishing unit 450 are spaced apart from each other at a predetermined interval. Each of the first and second polishing units 410 and 450 has carriages 413 and 453 which linearly move along the feed screw shafts 412 and 422 which are rotated by the drive of the transfer motors 411 and 451. Guide rails 414 and 454 are vertically mounted to one side of 413 and 453, and slides 415 and 455 for linear movement are mounted to the guide rails 414 and 454. The slides 415 and 455 are constrained with respect to the carriages 413 and 453 by the fastening of the bolts 415a and 455a.

캐리지(413, 453)는 이송나사축(412, 422)의 양단에 근접되어 장착되는 제1 스토퍼(416a, 456a)와 제2 스토퍼(416b, 456b)에 의해 운동이 구속되며, 제1 및 제2 스토퍼(417a,457a)에 근접위치에는 캐리지(413, 453)의 위치를 감지하여 이송모터(411, 451)의 구동을 제어하는 제1 센서(417a, 457a)와 제2 센서(417b, 457b)가 각각 장착된다.The carriages 413 and 453 are constrained by the first stoppers 416a and 456a and the second stoppers 416b and 456b mounted close to both ends of the feed screw shafts 412 and 422. 2 The first sensors 417a and 457a and the second sensors 417b and 457b that sense the positions of the carriages 413 and 453 at positions close to the stoppers 417a and 457a to control the driving of the transfer motors 411 and 451. Are mounted respectively.

슬라이드(415, 455)의 일측에 스핀들모터(418, 458)가 설치되며, 스핀들모터 (418, 458)에는 회전운동하는 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)이 작동적으로 연결된다. 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 외주에는 원주방향을 따라 유리기판(10)을 연마하는 다섯개의 연마홈(421, 561)이 동일한 간격으로 형성된다. 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)은 다이아몬드를 소재로 제조되어 있으며 스핀들모터(418, 458)의 구동에 의해 회전되어 연마홈(421, 561)들중 하나에 진입되어 있는 유리기판(10)의단변(11)을 연마한다. 그리고, 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 외측은 커버(422, 562)에 의해 감싸진다.Spindle motors 418 and 458 are installed at one side of the slides 415 and 455, and the first and second polishing wheels 420 and 460 which are in rotational motion are connected to the spindle motors 418 and 458. Five polishing grooves 421 and 561 for polishing the glass substrate 10 along the circumferential direction are formed on the outer circumference of the first and second polishing wheels 420 and 460 at equal intervals. The first and second abrasive wheels 420 and 460 are made of diamond, and are rotated by the driving of the spindle motors 418 and 458 to enter the glass substrates 421 and 561 into one of the abrasive grooves 421 and 561. The short side 11 of 10) is polished. The outer sides of the first and second polishing wheels 420 and 460 are surrounded by the covers 422 and 562.

또한, 제1 및 제2 연마유닛(410, 450)의 슬라이드(415, 455)는 승강조정유닛 (430, 470)에 의해 가이드레일(414, 454)을 따라 상하로 직선운동되고, 이에 따라 유리기판(10)에 대한 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 연마위치가 미세 조정된다. 승강조정유닛(430, 470)은 마이크로미터헤드(431, 471)와, 이 마이크로미터헤드 (431, 471)의 조정에 의해 회전되는 조정나사축(432, 472)과, 슬라이드(415, 455)의 일측에 고정되며 조정나사축(432, 472)을 따라 나선운동하는 이송너트(433, 473)로 구성된다. 작업자가 승강조정유닛(430, 470)의 마이크로미터헤드(431, 471)를 조정하여 조정나사축(432, 472)을 회전시키면, 이송너트(433, 473)가 나선운동되어 가이드레일(414, 454)을 따라 슬라이드(415, 455)가 승강되며, 이와 병행한 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 승강에 의해 유리기판(10)에 대한 연마홈(421, 561)의 위치가 미세 조정된다. 이 결과, 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 수명이 연장된다. 마이크로미터헤드(431, 471)의 조정에 의한 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 연마위치는 다이얼인디케이터(434, 474)에 의해 측정한다.In addition, the slides 415 and 455 of the first and second polishing units 410 and 450 are linearly moved up and down along the guide rails 414 and 454 by the elevating adjustment units 430 and 470, and thus the glass The polishing positions of the first and second polishing wheels 420 and 460 relative to the substrate 10 are finely adjusted. The elevating adjustment units 430 and 470 include micrometer heads 431 and 471, adjustment screw shafts 432 and 472 rotated by adjustment of the micrometer heads 431 and 471, and slides 415 and 455. It is fixed to one side of and consists of feed nuts (433, 473) spirally moving along the adjustment screw shaft (432, 472). When the operator adjusts the micrometer heads 431 and 471 of the elevating adjustment units 430 and 470 to rotate the adjustment screw shafts 432 and 472, the feed nuts 433 and 473 are spirally moved to guide rails 414, The slides 415 and 455 are elevated along the 454 and the positions of the polishing grooves 421 and 561 with respect to the glass substrate 10 are increased by the lifting of the first and second abrasive wheels 420 and 460 in parallel. Fine-tuned. As a result, the lifespan of the first and second polishing wheels 420 and 460 is extended. The polishing positions of the first and second polishing wheels 420 and 460 by the adjustment of the micrometer heads 431 and 471 are measured by the dial indicators 434 and 474.

도 2, 도 22 및 도 23에 보이는 바와 같이, 제1 및 제2 연마유닛(410, 450)의 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)을 감싸고 있는 커버(422, 562)의 일측에는 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)을 냉각시키는 냉각유닛(440, 480)이 설치된다. 냉각유닛(440, 480)의 노즐(441, 481)은 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 연마홈(421, 561)에 대하여 상방향에서 대략 45도의 각도로 냉각수를 분사한다. 따라서, 냉각유닛(440, 480)의 노즐(441, 480)을 통한 냉각수의 분사에 의하여 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 열화 및 유리기판(10)의 소손이 방지된다. 그리고, 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 일측에 근접되어 연마홈(421, 561)에 압축공기를 주기적으로 분사하는 드레싱유닛(445, 485)의 노즐(546, 486)이 설치된다. 드레싱유닛(445, 485)의 노즐(546, 486)을 통하여 분사되는 압축공기는 유리부스러기에 의한 연마홈(421, 561)의 눈메움 및 날무딤을 제거한다.2, 22 and 23, one side of the cover (422, 562) surrounding the first and second polishing wheels (420, 460) of the first and second polishing units (410, 450) Cooling units 440 and 480 for cooling the first and second polishing wheels 420 and 460 are installed. The nozzles 441 and 481 of the cooling units 440 and 480 spray the cooling water at an angle of about 45 degrees from the upper direction with respect to the polishing grooves 421 and 561 of the first and second polishing wheels 420 and 460. Therefore, deterioration of the first and second polishing wheels 420 and 460 and burnout of the glass substrate 10 are prevented by the injection of the cooling water through the nozzles 441 and 480 of the cooling units 440 and 480. In addition, nozzles 546 and 486 of the dressing units 445 and 485 are disposed in proximity to one side of the first and second polishing wheels 420 and 460 to periodically inject compressed air into the polishing grooves 421 and 561. do. Compressed air that is injected through the nozzles 546 and 486 of the dressing units 445 and 485 removes the glazing and sharpening of the polishing grooves 421 and 561 by the glass chips.

도 2, 도 3, 도 24 내지 26에 보이는 바와 같이, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템은 시스템메인보디(50)의 방향전환위치에 배치되어 제1 연마장치 (400)의 연마공정을 지난 유리기판(10)의 방향을 전환시키는 터닝장치 (500)를 구비한다. 터닝장치(500)는 마운팅프레임(52)의 상면 중앙에 부착되는 베이스플레이트(501)를 가지며, 베이스플레이트(501)의 중앙에는 인덱스모터(510)의 구동축 (511)과 기어열(512)에 의해 작동적으로 연결되어 회전하는 작동축(520)이 수직하게 장착된다. 구동축(511)과 기어열(512)은 케이싱(513)에 의해 감싸여진다. 그리고, 작동축(520)은 승강실린더(530)의 실린더로드(530a)와 조인트플레이트(531)의 개재에 의해 작동적으로 연결되어 승강되며, 조인트플레이트(531)는 가이드레일 (632)을 따라 직선운동되어 승강된다.2, 3, and 24 to 26, the glass substrate edge grinder system of the present invention is disposed at the turning position of the system main body 50 and has undergone the polishing process of the first polishing apparatus 400. A turning device 500 for changing the direction of the substrate 10 is provided. The turning device 500 has a base plate 501 attached to the center of the upper surface of the mounting frame 52, and in the center of the base plate 501 to the drive shaft 511 and the gear train 512 of the index motor 510. The operating shaft 520 that is operatively connected and rotated is mounted vertically. The drive shaft 511 and the gear train 512 are wrapped by the casing 513. In addition, the operating shaft 520 is operatively connected by the cylinder rod 530a of the lifting cylinder 530 and the interposition of the joint plate 531 to be elevated, and the joint plate 531 is along the guide rail 632. It moves up and down linearly.

또한, 작동축(520)의 하단에는 유리기판(10)을 척킹하는 척킹유닛(540)이 부착된다. 척킹유닛(540)의 터닝플레이트(541)는 구동축(520)의 하단에 고정되고, 터닝플레이(541)의 하면 중앙에는 어댑터(542)의 개재에 의해 유리기판(10)의 중앙을 진공흡착하는 메인진공패드(543)가 장착된다. 터닝플레이트(541)의 모서리에는 슬롯(544a)을 갖는 네개의 아암(544)이 반경방향으로 연장되어 각각 연결되며, 아암(544)의 슬롯(544a)에는 서로의 간격조정이 가능하도록 한쌍의 서브진공패드 (545)가 장착된다. 아암(544)의 슬롯(544a)을 따라 메인진공패드(543)을 기준으로 서브진공패드(545)의 간격을 조정하면, 메인진공패드(543)와 서브진공패드(545)의 협동에 의해 유리기판(10)이 안정적으로 척킹되는 것은 물론, 크기가 다른 유리기판(10)의 척킹이 가능하다.In addition, a chucking unit 540 for chucking the glass substrate 10 is attached to the lower end of the operating shaft 520. The turning plate 541 of the chucking unit 540 is fixed to the lower end of the drive shaft 520, and the center of the lower surface of the turning play 541 is vacuum-adsorbed to the center of the glass substrate 10 by the interposition of the adapter 542. The main vacuum pad 543 is mounted. Four arms 544 having slots 544a are radially extended at the corners of the turning plate 541, respectively, and a pair of subs are arranged in the slots 544a of the arms 544 so as to be mutually adjustable. The vacuum pad 545 is mounted. If the distance between the sub-vacuum pads 545 is adjusted based on the main vacuum pads 543 along the slots 544a of the arm 544, the glass is formed by the cooperation of the main vacuum pads 543 and the sub-vacuum pads 545. Not only the substrate 10 is stably chucked, but also the chucking of the glass substrates 10 having different sizes is possible.

도 2, 도 3 및 도 27 내지 도 29를 참조하면, 시스템메인보디(50)의 가이드레일(90)에는 방향전환위치와 반출위치 사이를 운동하는 제2 운반장치(600)가 설치된다. 도 27 내지 도 29에 보이는 제2 운반장치(600)는 도 6 내지 도 8에서 설명한 제1 운반장치(100)와 구성 및 작용이 동일한 것으로, 제1 운반장치(100)와 구성 및 작용이 동일한 제2 운반장치(600)에 대한 상세한 설명은 생략한다. 제2 운반장치 (600)는 제2 이송유닛(760)에 의해 가이드레일(90)을 따라 시스템메인보디 (50)의 방향전환위치와 반출위치 사이를 운동한다. 그리고, 제2 운반장치(600)의 스프레이유닛(170)은 베이스플레이트(710)의 선단에 설치되어 유리기판(10)으로부터 이물질을 제거한다.2, 3 and 27 to 29, the guide rail 90 of the system main body 50 is provided with a second conveying device 600 for moving between the direction change position and the discharge position. 27 to 29 are identical in configuration and operation to the first transportation device 100 described with reference to FIGS. 6 to 8, and have the same configuration and operation as the first transportation device 100. Detailed description of the second transport device 600 will be omitted. The second conveying device 600 moves between the redirection position and the discharging position of the system main body 50 along the guide rail 90 by the second conveying unit 760. In addition, the spray unit 170 of the second transport device 600 is installed at the tip of the base plate 710 to remove foreign substances from the glass substrate 10.

도 2, 도 3, 도 30 내지 도 39를 참조하면, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템은 시스템메인보디(50)의 반입위치에서 공급장치(20)로부터 인계되어 제2 운반장치(600)의 테이블유닛(720)에 안착되는 유리기판(10)의 중심을 맞추는 제2 센터링장치(700)를 구비한다. 도 30 내지 도 38에 보이는 제2 센터링장치(700)의 제 1 내지 제4 푸시유닛(710, 730, 750, 810)은 도 9 내지 도 17에서 설명한 제1센터링장치(200)의 제1 내지 제4 푸시유닛(210, 230, 250, 310)과 구성 및 작용이 동일한 것으로, 제1 센터링장치(200)의 제1 내지 제4 푸시유닛(210, 230, 250, 310)과 구성 및 작용이 동일한 제2 센터링장치(700)의 제 1 내지 제4 푸시유닛(710, 730, 750, 810)에 대한 상세한 설명은 생략한다.2, 3, 30 to 39, the glass substrate edge grinder system of the present invention is taken over from the supply device 20 at the loading position of the system main body 50 of the second conveying device 600. A second centering device 700 for centering the glass substrate 10 seated on the table unit 720 is provided. The first to fourth push units 710, 730, 750, and 810 of the second centering device 700 shown in FIGS. 30 to 38 are the first to the first centering devices 200 described with reference to FIGS. 9 to 17. The configuration and action are the same as the fourth push unit (210, 230, 250, 310), the configuration and action is the same as the first to fourth push unit (210, 230, 250, 310) of the first centering device 200 Detailed description of the first to fourth push units 710, 730, 750, and 810 of the same second centering device 700 will be omitted.

이와 같은 구성을 갖는 제2 센터링장치(700)는 도 3, 도 27 및 도 28에 보이는 바와 같이, 제1 푸시유닛(710)은 제2 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)의 후단에 설치되고 유리기판(10)의 이송방향 후단을 지지한다. 제2 푸시유닛(730)은 제2 운반장치(600)의 베이스플레이트(710)의 선단에 설치되며 유리기판(10)의 이송방향 선단을 지지한다. 제2 센터링장치(700)의 제3 푸시유닛(750)과 제4 푸시유닛(810)은 시스템메인보디(50)의 방향전환위치에 설치되어 유리기판(10)의 이송방향 양측단을 지지한다.As shown in FIGS. 3, 27, and 28, the second centering device 700 having the above configuration has the first push unit 710 at the rear end of the base plate 110 of the second conveying device 100. It is installed and supports the rear end in the conveying direction of the glass substrate 10. The second push unit 730 is installed at the front end of the base plate 710 of the second transport device 600 and supports the front end of the glass substrate 10 in the transport direction. The third push unit 750 and the fourth push unit 810 of the second centering device 700 are installed at the direction change position of the system main body 50 to support both ends of the glass substrate 10 in the transfer direction. .

도 2, 도 3 및 도 39를 참조하면, 본 발명의 유리기판 에지 그라인더 시스템은 시스템메인보디(50)의 제2 연마위치에는 제2 운반장치(700)에 의해 이송되는 유리기판(10)의 이송방향 양측단, 예를 들어 두 장변(11)의 연마공정을 행하는 제2 연마장치(900)를 구비한다. 도 39 내지 도 44에 보이는 제2 연마장치(900)는 도 18 내지 도 23에서 설명한 제1 연마장치(400)와 구성 및 작용이 동일한 것으로, 제1 연마장치(400)와 구성 및 작용이 동일한 제2 연마장치(900)에 대한 상세한 설명은 생략한다.2, 3, and 39, the glass substrate edge grinder system of the present invention is characterized in that the glass substrate 10 is conveyed by the second conveying apparatus 700 at the second polishing position of the system main body 50. The 2nd grinding | polishing apparatus 900 which performs the grinding | polishing process of the both sides 11, for example, two long sides of a conveyance direction is provided. 39 to 44 are identical in structure and operation to the first polishing apparatus 400 described with reference to FIGS. 18 to 23, and have the same structure and operation as the first polishing apparatus 400. Detailed description of the second polishing apparatus 900 will be omitted.

지금부터는 본 발명에 따른 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템에 대한 작동을 설명한다.The operation of the glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device according to the present invention will now be described.

도 2에 보이는 바와 같이, 작업자는 공급장치(20)의 제1 및 제2 벨트컨베이어(21, 22)를 통하여 유리기판(10)의 보호용 필름(15)이 상방향을 향하고 장변(12)이 이송방향을 향하도록 탑재시켜 공급시킨다.As shown in FIG. 2, the operator uses the first and second belt conveyors 21 and 22 of the feeder 20 to turn the protective film 15 of the glass substrate 10 upward and the long side 12. It is mounted so as to face the feeding direction.

도 6 내지 도 8에 보이는 바와 같이, 제1 운반장치(100)의 테이블유닛(120)에 탑재된 후에는, 제1 센터링장치(200)의 제1 내지 제4 푸시유닛(210, 230, 250, 310) 각각의 푸시실린더(212, 234, 255, 315)가 구동되어 실린더로드(212a, 234a, 255a, 315a)를 전진시킨다. 실린더로드(212a, 234a, 255a, 315a)의 전진으로 인하여 푸시롤러(225, 245, 265, 325)가 유리기판(10)의 단변(11)과 장변(12)을 사방에서 중앙으로 밀어 중심을 맞춰준다. 이때, 제1 푸시유닛(210)의 실린더로드(212a)의 스트로크스타트는 센서(214)의 감지에 의해 제어되므로, 유리기판(10)의 장변(12)에 대한 센터링의 기준은 제1 푸시유닛(210)이 된다.6 to 8, after being mounted on the table unit 120 of the first transport apparatus 100, the first to fourth push units 210, 230, and 250 of the first centering apparatus 200. Each push cylinder (212, 234, 255, 315) is driven to advance the cylinder rod (212a, 234a, 255a, 315a). Push rollers 225, 245, 265, and 325 push the short sides 11 and long sides 12 of the glass substrate 10 from all directions toward the center due to the advance of the cylinder rods 212a, 234a, 255a, and 315a. Guess At this time, since the stroke start of the cylinder rod 212a of the first push unit 210 is controlled by the detection of the sensor 214, the reference of the centering of the long side 12 of the glass substrate 10 is the first push unit. (210).

도 14 내지 도 17을 참조하면, 제4 푸시유닛(310)의 브래킷(316)과 승강조정유닛(320) 사이에 구비되어 있는 댐퍼(470)의 스프링(471)은 탄성변형에 의해 푸시롤러(325)가 유리기판(10)의 측단을 밀어줄 때 발생되는 반력을 흡수한다. 그리고, 스프링(471)의 탄성변형에 의해 승강조정유닛(320)의 슬라이드(322)는 가이드핀 (471)을 따라 직선운동하며, 이에 따라 제3 푸시유닛(250)의 푸시롤러(325)가 유리기판(10)의 측단을 미는 위치가 유리기판(10)의 단변(10)에 대한 센터링의 기준이 된다. 제1 센터링장치(200)의 작동에 의해 유리기판(10)의 중심이 맞춰지면, 제1 운반장치(100)의 제1 및 제2 고정스탠드(121, 122)와 제1 및 제2 가동스탠드(123, 124) 각각에 형성되어 있는 흡기구멍(125)을 통하여 공기가 흡기되고, 유리기판(10)은 스펀지패드(126)에 진공흡착된다. 유리기판(10)이 스펀지패드(126)에 진공흡착되어 고정되면, 푸시실린더(212, 234, 255, 315)의 구동에 의해 실린더로드 (212a, 234a, 255a, 315a)가 후퇴되고, 푸시롤러(225, 245, 265, 325)는 유리기판(10)으로부터 이격된다.14 to 17, the spring 471 of the damper 470 provided between the bracket 316 and the elevating adjustment unit 320 of the fourth push unit 310 is push roller (d) by elastic deformation. 325 absorbs the reaction force generated when pushing the side end of the glass substrate (10). In addition, the slide 322 of the elevating adjustment unit 320 is linearly moved along the guide pin 471 due to the elastic deformation of the spring 471, whereby the push roller 325 of the third push unit 250 is The position pushing the side end of the glass substrate 10 is a reference of the centering of the short side 10 of the glass substrate 10. When the glass substrate 10 is centered by the operation of the first centering apparatus 200, the first and second fixed stands 121 and 122 and the first and second movable stands of the first transport apparatus 100 are aligned. Air is inhaled through the intake holes 125 formed in the respective 123 and 124, and the glass substrate 10 is vacuum-adsorbed to the sponge pad 126. When the glass substrate 10 is vacuum-adsorbed and fixed to the sponge pad 126, the cylinder rods 212a, 234a, 255a, and 315a are retracted by the push cylinders 212, 234, 255, and 315, and the push rollers are retracted. 225, 245, 265, and 325 are spaced apart from the glass substrate 10.

도 4 및 도 5에 보이는 바와 같이, 제1 이송유닛(160)의 이송모터(162)가 구동되어 이송나사축(161)이 회전되면, 이송너트(163)는 이송나사축(161)을 따라 나선운동되어 제1 운반장치(100)를 시스템메인보디(50)의 반입위치에서 제1 연마위치로 이송시킨다.4 and 5, when the feed motor 162 of the first transfer unit 160 is driven to rotate the feed screw shaft 161, the feed nut 163 is along the feed screw shaft 161. Spiral motion to transfer the first conveying device 100 from the loading position of the system main body 50 to the first polishing position.

도 18 내지 도 23을 참조하면, 제1 운반장치(100)가 시스템메인보디(50)의 제1 연마위치에 도달되면, 유리기판(10)의 이송방향 선단 모서리는 제1 연마장치(400)의 스핀들모터(418, 458)의 구동에 의해 회전되는 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 연마홈(421, 561)에 각각 접촉한다. 그리고, 제1 및 제2 연마유닛(410, 450)의 이송모터(411, 451)가 구동되어 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)이 유리기판(10)의 양측단, 즉 두 단변(11)에 접촉되도록 세로이송대(401)의 양단을 향하여 캐리지(413, 453)를 이송시킨다. 따라서, 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 연마에 의해 유리기판(10)의 이송방향 선단 모서리에는 모따기부(13)가 형성되며 두 단변(11)이 각각 연마된다. 냉각유닛(440, 480)의 노즐(441, 481)은 제1 및 제2 연마유닛(410, 450)의 연마홈(421, 561)에 냉각수를 분사시켜 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 열화 및 유리기판(10)의 소손을 방지한다. 드레싱유닛(445, 485)의 노즐(546, 486)은 제1 및 제2 연마유닛(410, 450)의 연마홈(421, 561)에 압축공기를 주기적으로 분사시켜 유리부스러기에 의한 연마홈(421, 561)의 눈메움 및 날무딤을 방지한다. 그리고, 제1 운반장치(100)의 후단에 설치되어 있는 스프레이유닛(170)의 노즐(171)은 유리기판(10)에 물을 분사시켜 연마에 의해서 발생되는 유리가루를 제거한다.18 to 23, when the first transport device 100 reaches the first polishing position of the system main body 50, the leading edge of the glass substrate 10 in the feed direction is first polisher 400. Contact with the polishing grooves 421 and 561 of the first and second polishing wheels 420 and 460 rotated by the driving of the spindle motors 418 and 458, respectively. Then, the transfer motors 411 and 451 of the first and second polishing units 410 and 450 are driven so that the first and second polishing wheels 420 and 460 are formed at both ends of the glass substrate 10, that is, at two short sides. Carriages 413 and 453 are transferred toward both ends of the longitudinal transfer table 401 to be in contact with (11). Accordingly, the chamfer 13 is formed at the leading edge of the glass substrate 10 in the feed direction edge of the glass substrate 10 by polishing the first and second polishing wheels 420 and 460, and the two short sides 11 are polished, respectively. The nozzles 441 and 481 of the cooling units 440 and 480 spray cooling water into the polishing grooves 421 and 561 of the first and second polishing units 410 and 450, respectively. The degradation of the 460 and the burnout of the glass substrate 10 are prevented. The nozzles 546 and 486 of the dressing units 445 and 485 periodically spray compressed air into the polishing grooves 421 and 561 of the first and second polishing units 410 and 450 so that the polishing grooves are formed by glass chips. 421, 561) to prevent blindness and dullness. In addition, the nozzle 171 of the spray unit 170 installed at the rear end of the first transport apparatus 100 sprays water onto the glass substrate 10 to remove glass powder generated by polishing.

이와 같은 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 연마동작에서 제1 운반장치 (100)에 탑재되어 이송되는 유리기판(10)의 이송속도에 대하여 제2 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)의 이송속도가 서로 다르게 조정되면, 도 1에 보이는 바와 같이 유리기판(10)의 이송방향 선단 모서리에는 모따기부(13)와 방위표시부(14)가 형성된다. 유리기판(10)의 방위표시부(14)는 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)중 이송속도가 상대적으로 느린 쪽에 의해 형성된다. 방위표시부(14)는 유리기판(10)의 이송방향 후단 모서리에 형성할 수 도 있다. 한편, 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)이 유리기판(10)의 이송방향 후단 모서리에 근접하면, 제1 및 제2 연마휘일(420, 460)이 이송모터(411, 451)의 구동에 의해 세로이송대(401)의 중앙을 향하여 이송된다. 따라서, 유리기판(10)의 이송방향 후단 모서리에는 모따기부(13)가 형성된다.In the polishing operation of the first and second polishing wheels 420 and 460, the second first and second polishing wheels (for the feeding speed of the glass substrate 10 mounted on the first conveying device 100 and conveyed) When the feed speeds of the 420 and 460 are adjusted differently, as shown in FIG. 1, the chamfer 13 and the orientation display part 14 are formed at the leading edge of the glass substrate 10 in the feed direction. The azimuth display portion 14 of the glass substrate 10 is formed by the relatively slow conveying speed of the first and second abrasive wheels 420 and 460. The orientation display unit 14 may be formed at the trailing edge of the glass substrate 10 in the conveying direction. On the other hand, when the first and second abrasive wheels 420 and 460 are close to the trailing edges of the glass substrate 10 in the feed direction, the first and second abrasive wheels 420 and 460 may be connected to the transfer motors 411 and 451. It is conveyed toward the center of the vertical feed stand 401 by drive. Therefore, the chamfer 13 is formed in the trailing edge of the glass substrate 10.

제1 이송유닛(160)의 이송모터(762)의 구동에 의해 제1 운반장치(100)가 시스템메인보디(50)의 제1 연마위치를 지날 때 제1 세척건조장치(60)의 제1 및 제2 노즐(61a, 61b)중 어느 하나를 통하여 유리기판(10)에 물을 분사시켜 이물질을 세척한 후, 제1 및 제2 노즐(61a, 61b)중 다른 하나를 통하여 압축공기를 분사시켜 유기기판(10)을 건조시킨다.When the first conveying device 100 passes the first polishing position of the system main body 50 by driving the conveying motor 762 of the first conveying unit 160, the first of the first washing and drying device 60 is applied. And cleaning the foreign matter by spraying water on the glass substrate 10 through one of the second nozzles 61a and 61b, and then spraying compressed air through the other of the first and second nozzles 61a and 61b. The organic substrate 10 is dried.

도 4 및 도 5를 다시 참조하면, 제1 운반장치(100)가 시스템메인보디(50)의제1 연마위치를 지나 방향전환위치에 도달되면, 제1 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)는 제2 스토퍼(180b)에 걸리고, 제1 운반장치(100)의 위치를 감지하는 제2 센서(181b)의 제어에 의해 이송모터(162)의 구동이 정지된다.Referring to FIGS. 4 and 5 again, when the first conveying device 100 reaches the redirection position past the first polishing position of the system main body 50, the base plate 110 of the first conveying device 100 Is caught by the second stopper 180b, and the driving of the transfer motor 162 is stopped by the control of the second sensor 181b that detects the position of the first transport apparatus 100.

도 2, 도 3, 도 18, 도 24 내지 도 26에 보이는 바와 같이, 시스템메인보디 (50)의 방향전환위치에서 제1 운반장치(100)의 이송이 정지된 후, 터닝장치(500)의 승강실린더(530)가 구동되어 실린더로드(530a)가 전진되면, 작동축(520)과 터닝플레이트(541)가 병행하여 하강된다. 터닝플레이트(541)의 하강 후, 메인진공패드 (543)와 서브진공패드(545)에 의해 유리기판(10)의 상면을 진공흡착하고, 제1 운반장치(100)의 테이블유닛(120)에 형성되어 있는 흡기구멍(125)을 통하여 유리기판 (10)의 진공흡착력을 제거한다. 이와 같은 상태에서 터닝장치(500)의 승강실린더 (530)가 구동되어 실린더로드(530a)가 후퇴되면, 작동축(520)과 터닝플레이트(541)가 병행하여 초기위치로 상승되고, 메인진공패드(543)와 서브진공패드 (545)에 의해 진공흡착되어 있는 유리기판(10)도 제1 운반장치(100)의 테이블유닛 (120)으로부터 상승된다. 계속해서, 인덱스모터(510)의 구동에 의해 작동축(520)이 90도 회전되고, 이에 따라 척킹유닛(540)에 척킹되어 장변(12)이 이송방향을 향하고 있던 유리기판(10)은 그 단변(11)이 이송방향을 향하게 된다.2, 3, 18, 24 to 26, after the transfer of the first conveying device 100 is stopped in the turning position of the system main body 50, the turning device 500 When the lifting cylinder 530 is driven and the cylinder rod 530a is advanced, the operation shaft 520 and the turning plate 541 are lowered in parallel. After the turning plate 541 is lowered, the upper surface of the glass substrate 10 is vacuum-adsorbed by the main vacuum pad 543 and the sub-vacuum pad 545, and the table unit 120 of the first transport apparatus 100 is vacuum-absorbed. The vacuum suction force of the glass substrate 10 is removed through the formed intake hole 125. In this state, when the lifting cylinder 530 of the turning device 500 is driven and the cylinder rod 530a is retracted, the operation shaft 520 and the turning plate 541 are raised to the initial position in parallel, and the main vacuum pad. The glass substrate 10 vacuum-absorbed by the 543 and the sub-vacuum pad 545 is also lifted from the table unit 120 of the first conveying apparatus 100. Subsequently, the driving shaft 520 is rotated by 90 degrees by the driving of the index motor 510, thereby chucking the chucking unit 540 so that the glass substrate 10 in which the long side 12 faces the conveying direction is removed. The short side 11 faces the conveyance direction.

도 4 및 도 5를 또 다시 참조하면, 터닝장치(500)의 구동에 의해 유리기판(10)의 상승되는 과정에서 제1 이송유닛(160)의 이송모터(162)가 구동되고, 제1 운반장치(100)는 메인시스템보디(50)의 방향전환위치에서 반입위치로 복귀된다. 제1 운반장치(100)가 시스템메인보디(50)의 반입위치에 도달되면, 제1 운반장치(100)의 베이스플레이트(110)는 제1 스토퍼(180a)에 걸리고, 제1 운반장치 (100)의 위치를 감지하는 제1 센서(181a)의 제어에 의해 모터(162)의 구동이 정지된다. 제1 운반장치(100)의 복귀 후, 제2 이송유닛(760)의 이송모터(762)의 구동에 의해 제2 운반장치(600)가 시스템메인보디(50)의 반출위치에서 방향전환위치로 이송된다. 제2 운반장치(600)가 시스템메인보디(50)의 방향전환위치에 도달되면, 제2 운반장치(600)의 베이스플레이트(710)는 제1 스토퍼(780a)에 걸리고, 제1 운반장치 (600)의 위치를 감지하는 제1 센서(781a)의 제어에 의해 이송모터(762)의 구동이 정지된다.Referring again to FIGS. 4 and 5, the transfer motor 162 of the first transfer unit 160 is driven while the glass substrate 10 is lifted by the turning device 500 to drive the first conveyance. The device 100 is returned from the turning position of the main system body 50 to the loading position. When the first conveying apparatus 100 reaches the loading position of the system main body 50, the base plate 110 of the first conveying apparatus 100 is caught by the first stopper 180a and the first conveying apparatus 100 is provided. The driving of the motor 162 is stopped by the control of the first sensor 181a that detects the position of. After the return of the first conveying apparatus 100, the second conveying apparatus 600 is moved from the carrying out position of the system main body 50 to the redirection position by driving the conveying motor 762 of the second conveying unit 760. Transferred. When the second conveying device 600 reaches the redirection position of the system main body 50, the base plate 710 of the second conveying device 600 is caught by the first stopper 780a, and the first conveying device ( The driving of the transfer motor 762 is stopped by the control of the first sensor 781a that detects the position of 600.

이와 같이 제2 운반장치(600)가 시스템메인보디(50)의 방향전환위치에 이송된 후, 터닝장치(500)의 승강실린더(530)가 구동되어 실린더로드(530a)가 전진된다. 실린더로드(530a)의 전진으로 인하여 작동축(520)과 터닝플레이트(541)가 병행하여 하강된 후에는, 척킹유닛(540)의 메인진공패드(543)와 서브진공패드(545)에 척킹되어 있는 유리기판(10)은 진공흡착력의 제거에 의해 제2 운반장치(600)의 테이블유닛(720)에 탑재시킨다. 그리고, 터닝장치(500)의 승강실린더(530)가 구동되어 실린더로드(530a)가 후퇴되면, 척킹유닛(540)은 상승되어 초기위치로 복귀된다.As described above, after the second conveying device 600 is transferred to the direction change position of the system main body 50, the lifting cylinder 530 of the turning device 500 is driven to move the cylinder rod 530a. After the operation shaft 520 and the turning plate 541 are lowered in parallel due to the advance of the cylinder rod 530a, the chucking unit 540 is chucked to the main vacuum pad 543 and the sub vacuum pad 545. The glass substrate 10 is mounted on the table unit 720 of the second transportation device 600 by removing the vacuum suction force. When the lifting cylinder 530 of the turning device 500 is driven to retract the cylinder rod 530a, the chucking unit 540 is raised to return to the initial position.

도 27 내지 도 29를 참조하면, 터닝장치(500)의 구동에 의해 제2 운반장치(600)의 테이블유닛(720)에 유리기판(10)의 단변(11)이 이송방향을 향하도록 탑재된 후에는, 제1 센터링장치(200)의 제1 내지 제4 푸시유닛(210, 230, 250, 310)과 마찬가지의 동작으로 제2 센터링장치(700)의 제1 내지 제4 푸시유닛(710, 730, 750, 810) 각각의 푸시실린더(812, 834, 855, 915)가 구동되어 실린더로드(812a, 834a, 855a, 915a)를 전진시킨다. 실린더로드(812a, 834a, 855a, 915a)의 전진으로 인하여 푸시롤러(825, 845, 865, 825)가 유리기판(10)의 단변(11)과 장변(12)을 사방에서 중앙으로 밀어 중심을 맞춰준다. 제2 센터링장치(700)의 작동에 의해 유리기판(10)의 중심이 맞춰지면, 제2 운반장치(600)의 테이블유닛(720)에 형성되어 있는 흡기구멍(725)을 통하여 공기가 흡기되고, 유리기판(10)은 스펀지패드(726)에 진공흡착된다. 유리기판(10)이 스펀지패드(726)에 진공흡착되어 고정되면, 푸시실린더(812, 834, 855, 915)의 구동에 의해 실린더로드(812a, 834a, 855a, 915a)가 후퇴되고, 푸시롤러(825, 845, 865, 925)는 유리기판(10)으로부터 이격된다.Referring to FIGS. 27 to 29, the short side 11 of the glass substrate 10 is mounted on the table unit 720 of the second conveying device 600 by the turning device 500 so as to face the conveying direction. Afterwards, the first to fourth push units 710 of the second centering apparatus 700 are operated in the same manner as the first to fourth push units 210, 230, 250, 310 of the first centering apparatus 200. Push cylinders 812, 834, 855, 915 of each of 730, 750, and 810 are driven to advance the cylinder rods 812a, 834a, 855a, 915a. Push rollers 825, 845, 865, and 825 push the short side 11 and long side 12 of the glass substrate 10 from all directions toward the center due to the advance of the cylinder rods 812a, 834a, 855a, and 915a. Guess When the center of the glass substrate 10 is aligned by the operation of the second centering device 700, the air is inhaled through the intake hole 725 formed in the table unit 720 of the second conveying device 600. The glass substrate 10 is vacuum-adsorbed to the sponge pad 726. When the glass substrate 10 is vacuum-adsorbed and fixed to the sponge pad 726, the cylinder rods 812a, 834a, 855a, and 915a are retracted by the push cylinders 812, 834, 855, and 915, and the push rollers are retracted. 825, 845, 865, and 925 are spaced apart from the glass substrate 10.

도 4, 도 5, 도 39 내지 도 44를 참조하면, 제2 이송유닛(760)의 이송모터 (762)가 구동되어 이송나사축(761)이 회전되면, 이송너트(763)는 이송나사축(761)을 따라 나선운동되어 제2 운반장치(600)를 시스템메인보디(50)의 방향전환위치에서 제2 연마위치로 이송시킨다. 제2 운반장치(600)가 시스템메인보디(50)의 제2 연마위치에 도달되면, 유리기판(10)의 이송방향 선단 모서리는 제2 연마장치(900)의 스핀들모터(918, 958)의 구동에 의해 회전되는 제1 및 제2 연마휘일(920, 960)의 연마홈(921, 961)에 각각 접촉된다. 제2 연마장치(900)의 제1 및 제2 연마휘일(920, 960)은 제1 연마장치(400)의 제1 및 제2 연마유닛(410, 450)과 마찬가지의 동작으로 유리기판(10)의 두 장변(12)을 연마한다. 제2 연마장치(900)의 연마동작 중에 냉각유닛(940, 980)의 노즐(941, 981)은 냉각수를 분사하고, 드레싱유닛(945, 985)의 노즐(946, 986)은 압축공기를 주기적으로 분사한다. 그리고, 제2운반장치(600)의 선단에 설치되어 있는 스프레이유닛(770)의 노즐(771)은 유리기판 (10)에 물을 분사시켜 연마에 의해 발생되는 유리가루를 제거한다.4, 5, and 39 to 44, when the feed motor 762 of the second transfer unit 760 is driven and the feed screw shaft 761 is rotated, the feed nut 763 is fed to the feed screw shaft. Spiral motion along 761 transfers the second conveying device 600 from the turning position of the system main body 50 to the second polishing position. When the second conveying device 600 reaches the second polishing position of the system main body 50, the leading edge of the glass substrate 10 in the feed direction is determined by the spindle motors 918 and 958 of the second polishing device 900. The polishing grooves 921 and 961 of the first and second polishing wheels 920 and 960 rotated by driving are respectively contacted. The first and second polishing wheels 920 and 960 of the second polishing apparatus 900 may operate in the same manner as the first and second polishing units 410 and 450 of the first polishing apparatus 400. Polish the two long sides 12). During the polishing operation of the second polishing apparatus 900, the nozzles 941 and 981 of the cooling units 940 and 980 spray cooling water, and the nozzles 946 and 986 of the dressing units 945 and 985 periodically compress the compressed air. Spray into. In addition, the nozzle 771 of the spray unit 770 installed at the tip of the second transportation device 600 sprays water onto the glass substrate 10 to remove glass powder generated by polishing.

제2 이송유닛(760)의 이송모터(762)의 구동에 의해 제2 운반장치(600)가 시스템메인보디(50)의 제2 연마위치를 지날 때 제2 세척건조장치(70)의 제1 및 제2 노즐(71a, 71b)은 제1 세척건조장치(60)과 마찬가지의 동작으로 물 또는 압축공기를 분사시켜 유리기판(10)을 세척하고 건조시킨다. 제2 운반장치(600)가 시스템메인보디(50)의 제2 연마위치를 지나 반출위치에 도달되면, 제2 운반장치(600)의 베이스플레이트(710)는 제2 스토퍼(780b)에 걸리고, 제2 운반장치(600)의 위치를 감지하는 제2 센서(781b)의 제어에 의해 이송모터(762)의 구동이 정지된다.The first of the second cleaning and drying apparatus 70 when the second conveying device 600 passes the second polishing position of the system main body 50 by driving the conveying motor 762 of the second conveying unit 760. The second nozzles 71a and 71b spray water or compressed air in the same operation as the first washing and drying apparatus 60 to clean and dry the glass substrate 10. When the second conveying device 600 reaches the carrying out position beyond the second polishing position of the system main body 50, the base plate 710 of the second conveying device 600 is caught by the second stopper 780b, The driving of the transfer motor 762 is stopped by the control of the second sensor 781b that detects the position of the second transport device 600.

도 2에 보이는 바와 같이, 제2 연마장치(900)가 시스템메인보디(50)의 반출위치에 이송된 후에는, 자동이송장치(30)의 척킹유닛(31)이 작동되어 유리기판(10)의 상면을 진공흡착하고, 제2 운반장치(600)의 테이블유닛(720)에 형성되어 있는 흡기구멍(725)을 통하여 유리기판(10)의 진공흡착력을 제거한다. 그리고, 자동이송장치(30)는 유리기판(10)을 배출장치(40)의 벨트컨베이어(41)에 인계하여 배출시킨다.As shown in FIG. 2, after the second polishing apparatus 900 is transferred to the carrying out position of the system main body 50, the chucking unit 31 of the automatic transfer apparatus 30 is operated to operate the glass substrate 10. The upper surface of the vacuum suction is performed, and the vacuum suction force of the glass substrate 10 is removed through the intake hole 725 formed in the table unit 720 of the second transportation device 600. Then, the automatic transfer device 30 takes over the glass substrate 10 to the belt conveyor 41 of the discharge device 40 to discharge.

상기한 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한 것에 불과하고, 본 발명의 권리범위는 예시한 실시예에 한정되는 것은 아니며 특허청구범위내에서 적절하게 변경할 수 있는 것이다. 예를 들어 본 발명의 실시예에 나타난 각 구성 요소의 형상 및 구조는 변형하여 실시할 수 있는 것이다.The above embodiments are merely illustrative of preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the illustrated embodiments and may be appropriately changed within the claims. For example, the shape and structure of each component shown in the embodiment of the present invention can be modified.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템에 의하면, 유리기판의 이송과 연마가 안정적이고 정확하게 이루어져 고품질의 유리기판을 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 또한, 유리기판의 크기에 맞추어 범용으로 사용할 수 있으며, 대형 유리기판의 연마가 가능하면서도 구성 및 배치가 간단하고 설치공간을 축소할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the glass substrate edge grinder system for liquid crystal display device according to the present invention, the glass substrate can be transported and polished stably and accurately, thereby producing a high quality glass substrate, and improving productivity. It works. In addition, it can be used universally in accordance with the size of the glass substrate, it is possible to polish a large glass substrate, yet the configuration and arrangement is simple and has the effect of reducing the installation space.

Claims (5)

선단과 후단에 유리기판의 반입위치와 반출위치, 제1 연마위치와 제2 연마위치를 각각 제공하며, 상기 제1 연마위치와 제2 연마위치 사이에 유리기판의 이송방향을 전환시키는 방향전환위치를 제공하는 시스템메인보디와;At the front end and the rear end, the loading and unloading positions, the first polishing position and the second polishing position of the glass substrate are provided, respectively, and the direction switching position for switching the transfer direction of the glass substrate between the first polishing position and the second polishing position. The system provides a main body; 상기 반입위치와 방향전환위치 사이를 운동하고, 상기 공급장치로부터 유리기판을 인수하여 운반하는 제1 운반장치와;A first conveying device that moves between the retracted position and the redirection position and receives and transports a glass substrate from the supply device; 상기 반입위치에서 상기 제1 운반장치에 탑재되는 유리기판의 중심을 맞추는 제1 센터링장치와;A first centering device for centering a glass substrate mounted on the first transport device at the loading position; 상기 제1 연마위치에서 상기 제1 운반장치에 의해 운반되는 유리기판의 이송방향 측단을 연마하는 제1 연마장치와;A first polishing device for polishing the side end of the glass substrate conveyed by the first conveying device at the first polishing position; 상기 방향전환위치에서 상기 제1 운반장치로부터 유리기판을 인수하여 그 이송방향을 전환시키는 터닝장치와;A turning device which takes in a glass substrate from the first conveying device in the redirection position and changes its conveying direction; 상기 방향전환위치와 반출위치 사이를 운동하며, 상기 터닝장치로부터 유리기판을 인수하여 운반하는 제2 운반장치와;A second conveying device which moves between the redirection position and the discharging position, and takes in and transports a glass substrate from the turning device; 상기 방향전환위치에서 상기 제2 운반장치에 탑재되는 유리기판의 중심을 맞추는 제2 센터링장치와;A second centering device for centering the glass substrate mounted on the second conveying device at the redirection position; 상기 제2 연마위치에서 상기 제2 운반장치에 의해 운반되는 유리기판의 이송방향 측단을 연마하는 제2 연마장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템.And a second polishing apparatus for polishing the side end of the glass substrate conveyed by the second conveying device at the second polishing position. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제2 운반장치 각각은,The method of claim 1, wherein each of the first and second conveying apparatus, 상기 시스템메인보디의 상면에 부착되는 가이드레일을 따라 이송되는 베이스플레이트와;A base plate conveyed along a guide rail attached to an upper surface of the system main body; 상기 베이스플레이트의 상면 중앙에 유리기판의 이송방향을 따라 서로 나란하게 고정되는 제1 및 제2 고정스탠드와, 제1 및 제2 고정스탠드의 양측에 세로방향으로의 간격을 조정할 수 있도록 나란하게 배치되는 제1 및 제2 가동스탠드를 가지며, 상기 제1 및 제2 고정스탠드와 제1 및 제2 가동스탠드에 형성되는 흡기구멍을 통하여 유리기판을 진공흡착하는 테이블유닛과;The first and second fixing stands fixed in parallel with each other along the conveying direction of the glass substrate in the center of the upper surface of the base plate, and arranged side by side so as to adjust the interval in the vertical direction on both sides of the first and second fixing stands. A table unit having a first and a second movable stand, wherein the table unit vacuum-adsorbs a glass substrate through intake holes formed in the first and second fixed stands and the first and second movable stands; 상기 제1 및 제2 고정스탠드에 대하여 상기 제1 및 제2 가동스탠드의 간격을 조정하는 간격조정유닛과;A gap adjusting unit for adjusting a gap between the first and second movable stands with respect to the first and second fixed stands; 상기 제1 및 제2 가동스탠드의 운동을 보조하는 가이드유닛과;A guide unit to assist the movement of the first and second movable stands; 상기 제1 및 제2 가동스탠드의 운동을 구속하는 클램핑유닛으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템.And a clamping unit for restraining movement of the first and second movable stands. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 연마장치 각각은,The method of claim 1, wherein each of the first and second polishing apparatus, 세로이송대와;Vertical feeder; 상기 세로이송대에 소정의 간격을 두고 이격되어 설치되고, 이송모터의 구동에 의해 회전하는 이송나사축을 따라 직선운동하는 캐리지와 상기 캐리지의 일측에 제공되어 스핀들모터의 구동에 의해 회전되는 제1 및 제2 연마휘일을 각각 갖는제1 및 제2 연마유닛과;First and second carriages which are spaced apart from each other at predetermined intervals on the longitudinal carriage, and which are provided on one side of the carriage and the carriage linearly moving along the feed screw axis rotated by the drive of the transfer motor and rotated by the drive of the spindle motor. First and second polishing units each having two polishing wheels; 상기 제1 및 제2 연마휘일을 승강시키는 승강조정유닛과;An elevating adjustment unit for elevating the first and second abrasive wheels; 상기 제1 및 제2 연마휘일을 냉각시키는 냉각유닛으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템.And a cooling unit configured to cool the first and second polishing wheels. 제 1 항에 있어서, 상기 터닝장치는,The method of claim 1, wherein the turning device, 인덱스모터와 작동적으로 연결되어 회전되는 작동축과;An operating shaft operatively connected to the index motor to rotate; 상기 작동축을 승강시키는 승강실린더와;An elevating cylinder for elevating the working shaft; 상기 작동축의 하단에 부착되는 터닝플레이트와, 이 터닝플레이트의 하면 중앙에 장착되어 유리기판을 진공흡착하는 메인진공패드와, 상기 터닝플레이트의 모서리에 반경방향으로 연장되는 아암과, 상기 아암을 따라 서로의 간격조정이 가능하도록 장착되어 유리기판을 진공흡착하는 한쌍의 서브진공패드를 갖는 척킹유닛으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템.A turning plate attached to the lower end of the working shaft, a main vacuum pad mounted at the center of the lower surface of the turning plate to suction the glass substrate, an arm extending radially at the corner of the turning plate, and along the arm; A glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device, comprising a chucking unit having a pair of sub-vacuum pads mounted on the substrate to allow a gap adjustment of the glass substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 센터링장치 각각은,The method of claim 1, wherein each of the first and second centering device, 상기 제1 및 제2 운반장치의 일단에 설치되고, 유리기판의 이송방향 일단을 지지하여 밀어주는 한쌍의 제1 푸시유닛과;A pair of first push units installed at one end of the first and second conveying devices and supporting and pushing one end of the glass substrate in the conveying direction; 상기 제1 및 제2 운반장치의 타단에 설치되며, 유리기판의 이송방향 타단을 지지하여 상기 제1 푸시유닛에 대하여 밀어주는 한쌍의 제2 푸시유닛과;A pair of second push units installed at the other ends of the first and second conveying apparatuses and supporting the other ends of the glass substrate in the conveying direction to push against the first push units; 상기 시스템메인보디에 설치되고, 유리기판의 이송방향 양측단을 지지하여 중앙을 향하여 서로 협동하여 밀어주는 한쌍의 제3 및 제4 푸시유닛으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 유리기판 에지 그라인더 시스템.A glass substrate edge grinder system for a liquid crystal display device installed in the main body of the system and comprising a pair of third and fourth push units which support both ends of the glass substrate in the conveying direction and push each other in cooperation toward the center. .
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