KR20010084291A - Semiconductor memory device - Google Patents

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KR20010084291A
KR20010084291A KR1020000009189A KR20000009189A KR20010084291A KR 20010084291 A KR20010084291 A KR 20010084291A KR 1020000009189 A KR1020000009189 A KR 1020000009189A KR 20000009189 A KR20000009189 A KR 20000009189A KR 20010084291 A KR20010084291 A KR 20010084291A
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KR1020000009189A
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최종현
강상석
정우섭
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윤종용
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Abstract

PURPOSE: A semiconductor memory device is provided, which can judge a fail of a memory cell during a write operation by controlling a precharge operation when testing the semiconductor device operating at a high frequency with a low frequency apparatus. CONSTITUTION: The device comprises an active precharge signal generator(30), a mode signal generator(32), a PMOS transistor(P) and a latch(34) comprising inverters(I1,I2). A WCBR state is set if an inverted row address strobe signal(RASB) of a low level, an inverted column address strobe signal(CASB), an inverted write enable signal(WEB) and an inverted chip selection signal(CSB) are applied, and if a specific address is applied under the above state, the mode signal generator activates a signal(MRS_RDL) to a high level. The active precharge signal generator generates a pulse signal(PRDL) which is transitted to a high level after being transitted to a low level in response to a signal(TCKE) or a signal(TWE) if the signal(MRS_RDL) is activated to a high level. The PMOS transistor makes a signal(PRB) transit to a high level by being turned on in response to the pulse signal of a low level. The latch inverts and latches the signal(PRB). A row address latch(16) outputs a signal(LRAi) by latching a row address(RAi) in response to a signal(PR) of a high level, and outputs a signal(LRAi) of a low level in response to the signal(PR) of a low level.

Description

반도체 메모리 장치{Semiconductor memory device}Semiconductor memory device

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 저주파수 장비를 이용하여 고주파수로 동작하는 반도체 장치를 정확하게 테스트할 수 있는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device capable of accurately testing a semiconductor device operating at a high frequency using low frequency equipment.

고집적화되는 과정에서 메모리 셀은 더욱 작아져서 공정은 더욱 힘들어지고있으며 이와 관련하여 메모리 셀에 데이터를 입출력함에 따른 불량은 다양한 형태로 나타나고 있다. 또한, 고집적화 뿐만아니라 고속화 추세에 따라 이러한 불량을 스크린(screen)하기 위하여 테스트 타임과 더불어 고주파수 장비를 사용해야 하는 어려운 점이 있다. 이러한 문제를 제거하면서 효율적으로 셀 불량을 스크린하는 것이 중요하며 이는 생산 비용을 낮추는 첩경이다.In the process of high integration, memory cells become smaller and the process becomes more difficult. In this regard, defects caused by inputting and outputting data to and from memory cells appear in various forms. In addition, there is a difficulty in using high frequency equipment along with test time in order to screen such defects according to the trend of high integration as well as high speed. It is important to screen cell defects efficiently while eliminating this problem, which reduces the cost of production.

특히, 메모리 셀 불량 중에서 라이트 동작에 의한 불량을 효과적으로 스크린하는 것이 무엇보다 중요한데 동기형 동적 반도체 메모리 장치에 있어서 라이트 동작은 여러 가지 타이밍상에서 이뤄지고 있다. 즉, 액티브 신호 입력과 함께 로우 어드레스가 입력되면 이 입력 어드레스에 의해서 외부 로우 어드레스에 대응되는 워드 라인이 선택된다. 그리고, 비트 라인을 선택하는 컬럼 어드레스와 함께 리드, 라이트 명령이 인가되면 리드, 라이트 동작이 수행되게 된다.In particular, it is important to effectively screen the defects caused by the write operation among the memory cell defects. In the synchronous dynamic semiconductor memory device, the write operation is performed at various timings. That is, when a row address is input together with the active signal input, the word line corresponding to the external row address is selected by the input address. When a read and write command is applied together with a column address for selecting a bit line, read and write operations are performed.

그런데, 저주파수 장비를 이용하여 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치를 테스트할 때, 반도체 메모리 장치로 저주파수 신호가 인가됨으로써 정확한 테스트가 불가능하다는 문제점이 있다.However, when testing a semiconductor memory device operating at a high frequency by using a low frequency device, a low frequency signal is applied to the semiconductor memory device, thereby preventing accurate testing.

반도체 메모리 장치가 라이트 동작을 수행하는 경우에 라이트 동작이 종료되면 프리차지 동작을 수행하게 되는데, 저주파수 장비로부터 인가되는 저주파수 신호에 응답하여 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치가 프리차지 동작을 수행하게 됨으로써 라이트 명령이 인가되는 사이클의 클럭신호의 상승 엣지에서부터 메모리 셀에 데이터가 라이트되기 까지의 시간(tRDL)이 길어지게 된다.When the write operation is terminated when the semiconductor memory device performs the write operation, the precharge operation is performed. The semiconductor memory device operating at a high frequency in response to the low frequency signal applied from the low frequency equipment performs the precharge operation. The time tRDL from the rising edge of the clock signal of the cycle in which the command is applied until the data is written to the memory cell becomes long.

즉, 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치의 시간(tRDL)은 짧게 정해져있는데, 저주파수 장비에 의해서 테스트를 수행하게 되면 시간(tRDL)이 길어지게 되어 페일로 판단되어야 할 메모리 셀이 정상인 것으로 판단되게 된다는 문제점이 있다.In other words, the time tRDL of a semiconductor memory device operating at a high frequency is set to be short. When a test is performed by a low frequency device, the time tRDL becomes long, and a memory cell to be determined to fail is determined to be normal. There is this.

또한, 웨이퍼상태에서 테스트가 수행될 때 메모리 소자 정상동작 여부를 검증하기 위해 프로우브 카드(probe card)의 입력 핀에 의한 입출력 캐패시턴스 때문에 고주파수로 동작시키는데 한계가 따르기 때문에 고주파수로 동작하는 반도체 장치의 라이트 동작을 스크린하는데 어려움이 있다.In addition, when the test is performed in the wafer state, the operation of the semiconductor device operating at a high frequency is limited because the limit is limited to operating at a high frequency due to input / output capacitance by an input pin of a probe card. There is a difficulty in screening the action.

본 발명의 목적은 저주파수 장비로 고주파수로 동작하는 반도체 장치를 테스트할 때 프리차지 동작을 제어함으로써 라이트 동작시 메모리 셀의 불량을 정확하게 판단할 수 있는 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of accurately determining a defect of a memory cell during a write operation by controlling a precharge operation when testing a semiconductor device operating at a high frequency with low frequency equipment.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 테스트시에 테스터의 제어하에 모드 신호를 활성화하기 위한 모드 신호 발생수단, 상기 테스터로부터 인가되는 제어신호들에 응답하여 액티브 신호를 발생하기 위한 액티브 신호 발생수단, 상기 테스트시에 상기 모드 신호 및 상기 테스터로부터 인가되는 프리차지 제어신호에 응답하여 상기 액티브 신호를 디액티브하기 위한 디액티브 수단, 및 상기 액티브 신호에 응답하여 어드레스를 래치하고 디코딩하여 워드 라인 선택신호들을 발생하기 위한 어드레스 디코더를 구비한 것을 특징으로 한다.The semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is a mode signal generating means for activating the mode signal under the control of the tester during the test, an active signal for generating an active signal in response to the control signals applied from the tester Generating means, deactivating means for deactivating the active signal in response to the mode signal and a precharge control signal applied from the tester, and latching and decoding an address in response to the active signal to form a word line And an address decoder for generating selection signals.

도1은 종래의 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.1 is a block diagram showing the structure of a conventional semiconductor memory device.

도2는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.2 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device of the present invention.

도3은 도2에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기의 일실시예의 회로도이다.3 is a circuit diagram of one embodiment of the active precharge signal generator shown in FIG.

도4는 도3에 나타낸 회로가 도2에 나타낸 장치에 적용되는 경우의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도이다.FIG. 4 is an operation timing diagram for explaining the operation when the circuit shown in FIG. 3 is applied to the apparatus shown in FIG.

도5는 도2에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기의 다른 실시예의 회로도이다.FIG. 5 is a circuit diagram of another embodiment of the active precharge signal generator shown in FIG.

도6은 도5에 나타낸 회로가 도2에 나타낸 장치에 적용되는 경우의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도이다.FIG. 6 is an operation timing diagram for explaining the operation when the circuit shown in FIG. 5 is applied to the apparatus shown in FIG.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 반도체 메모리 장치를 설명하기전에 종래의 반도체 메모리 장치를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a conventional semiconductor memory device will be described with reference to the accompanying drawings before describing the semiconductor memory device of the present invention.

도1은 종래의 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 블록도로서, 메모리 셀 어레이(10), 로우 디코더(12), 액티브 신호 발생기(14), 로우 어드레스 래치(16), 및 로우 어드레스 프리 디코더(18)로 구성되어 있다.1 is a block diagram showing the structure of a conventional semiconductor memory device, which includes a memory cell array 10, a row decoder 12, an active signal generator 14, a row address latch 16, and a row address predecoder 18. FIG. It consists of).

도1에 나타낸 구성을 이용하여 비트 라인 프리차지 동작을 설명하면 다음과 같다.A bit line precharge operation will be described using the configuration shown in FIG. 1 as follows.

액티브 신호 발생기(14)는 클럭신호(CLK)의 상승 엣지에서 "로우"레벨의 반전 칩 선택신호(CSB), "로우"레벨의 반전 행 어드레스 신호(RASB)가 인가되면 "하이"레벨로 천이하는 출력신호(PR)가 발생되고, 액티브 명령이 인가된 후에 클럭신호(CLK)의 상승 엣지에서 "로우"레벨의 반전 열 어드레스 신호(CASB), "로우"레벨의 반전 라이트 인에이블 신호(WEB)가 인가되면 소정 시간 후에 "로우"레벨로 천이하는 출력신호(PR)가 발생된다. 로우 어드레스 래치(16)는 "하이"레벨의 신호(PR)에 응답하여 i비트의 로우 어드레스(RAi)를 래치하여 래치된 출력신호(LRAi)를 출력한다. 로우 어드레스 프리 디코더(18)는 래치된 출력신호(LRAi)를 디코딩하여 디코딩 출력신호(DRAij)를 발생한다. 로우 디코더(12)는 디코딩 출력신호(DRAij)에 응답하여 워드 라인 선택신호(WL1, ..., WLn)를 발생한다.The active signal generator 14 transitions to the "high" level when the "low" level inverted chip select signal CSB and the "low" level inverted row address signal RASB are applied at the rising edge of the clock signal CLK. After the output signal PR is generated and the active command is applied, the inverted column address signal CASB of the "low" level and the inverted write enable signal WEB of the "low" level at the rising edge of the clock signal CLK. Is applied, an output signal PR which transitions to the "low" level after a predetermined time is generated. The row address latch 16 latches the i-bit row address RAi in response to the signal " high " level to output the latched output signal LRAi. The row address predecoder 18 decodes the latched output signal LRAi to generate a decoded output signal DRAij. The row decoder 12 generates word line select signals WL1, ..., WLn in response to the decoding output signal DRAij.

액티브 신호 발생기(14)의 출력신호(PR)가 "로우"레벨로 천이되면 메모리 셀 어레이(10)의 비트 라인 프리차지 동작이 수행된다.When the output signal PR of the active signal generator 14 transitions to the "low" level, the bit line precharge operation of the memory cell array 10 is performed.

그런데, 저주파수 테스트 장치를 이용하여 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치를 테스트하는 경우에 비트 라인 프리차지 시점이 늦어짐으로 인해서 라이트 동작시에 페일이 발생한 메모리 셀을 정상인 메모리 셀로 판단하게 된다는 문제점이 있다.However, when testing a semiconductor memory device operating at a high frequency by using a low frequency test device, a memory device in which a fail occurs during a write operation is determined to be a normal memory cell because a bit line precharge time is delayed.

즉, 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치의 라이트 타임은 짧게 설정되어 있고, 짧은 시간에 데이터가 메모리 셀에 정확하게 라이트되는지를 판단해야하는데 프리차지 시점이 늦어지게 되면 라이트 타임이 길어지게 되어 스펙에 정해진대로 정확하게 동작하는지를 판단할 수 없게 된다는 문제점이 있다.That is, the write time of the semiconductor memory device operating at a high frequency is set to be short, and it is necessary to determine whether the data is correctly written to the memory cell in a short time. When the precharge time is delayed, the write time becomes longer and according to the specification. There is a problem that it is impossible to determine whether it operates correctly.

도2는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 구성을 나타내는 블록도로서, 도1에 나타낸 블록도에 액티브 프리차지 신호 발생기(30), 모드 신호 발생기(32), PMOS트랜지스터(P), 및 인버터들(I1, I2)로 구성된 래치(34)가 추가되어 구성되어 있다.FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor memory device of the present invention, in which the active precharge signal generator 30, the mode signal generator 32, the PMOS transistor P, and the inverters ( A latch 34 composed of I1 and I2 is added and configured.

도2에 나타낸 추가된 블록들 각각의 기능을 설명하면 다음과 같다.The function of each of the added blocks shown in FIG. 2 is as follows.

모드 신호 발생기(32)는 "로우"레벨의 반전 행 어드레스 스트로우브 신호(RASB), 반전 열 어드레스 스트로우브 신호(CASB), 반전 라이트 인에이블 신호(WEB), 반전 칩 선택신호(CSB)가 인가되면 WCBR 상태가 설정되고 이 상태에서 특정 어드레스가 인가되면 신호(MRS_RDL)가 "하이"레벨로 활성화된다.The mode signal generator 32 is applied with an inverted row address strobe signal RABS, an inverted column address strobe signal CASB, an inverted write enable signal WEB, and an inverted chip select signal CSB having a "low" level. WCBR state is set, and when a specific address is applied in this state, the signal MRS_RDL is activated to the "high" level.

액티브 프리차지 신호 발생기(30)는 신호(MRS_RDL)가 "하이"레벨로 활성화되면 신호(TCKE) 또는 신호(TWE)에 응답하여 "로우"레벨로 천이한 후 소정 시간 후에 "하이"레벨로 천이하는 펄스 신호(PRDL)를 발생한다. 신호(TCKE)는 WCBR타이밍에 의해서 명령이 인가되는 경우에 라이트 또는 명령이 인가되는 사이클의 클럭신호(CLK)의 상승 엣지부터 프리차지 시작 시점까지의 시간(tRDL)이 경과된 후에 발생되는 네거티브 펄스 신호이다. 그리고, 신호(TWE)는 반전 라이트 인에이블신호(WEB)가 인가되는 경우에 "하이"레벨로 천이된 후 라이트 명령이 인가되는 사이클의 클럭신호(CLK)의 상승 엣지부터 프리차지 시작 시점까지의 시간(tRDL)이 경과된 후에 발생되는 네거티브 펄스 신호이다. PMOS트랜지스터(P)는 "로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)에 응답하여 온되어 신호(PRB)를 "하이"레벨로 천이하게 한다. 래치(34)는 신호(PRB)를 반전하고 래치한다. 로우 어드레스 래치(16)는 "하이"레벨의 신호(PR)에 응답하여 로우 어드레스(RAi)를 래치하여 신호(LRAi)를 출력하고, "로우"레벨의 신호(PR)에 응답하여 "로우"레벨의 신호(LRAi)를 출력한다.The active precharge signal generator 30 transitions to the "high" level after a predetermined time after the signal MRS_RDL is activated to the "high" level and then transitions to the "low" level in response to the signal TCKE or the signal TWE. To generate a pulse signal PRDL. The signal TCKE is a negative pulse generated after the time tRDL from the rising edge of the clock signal CLK of the cycle in which the write or command is applied to the precharge start time has elapsed when the command is applied by the WCBR timing. It is a signal. When the inverted write enable signal WEB is applied, the signal TWE transitions to a “high” level and then, from the rising edge of the clock signal CLK of the cycle to which the write command is applied, to the precharge start time. Negative pulse signal generated after time tRDL has elapsed. The PMOS transistor P is turned on in response to the pulse signal PRDL of the "low" level to cause the signal PRB to transition to the "high" level. The latch 34 inverts and latches the signal PRB. The row address latch 16 latches the row address RAi in response to the signal "PR" at the "high" level to output the signal LRAi, and "low" in response to the signal PR at the "low" level. Output the level signal LRAi.

즉, 신호(MRS_RDL)가 활성화된 상태에서 신호(TCKE) 또는 신호(TWE)가 발생되면 "로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)를 발생된다. "로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)가 발생되면 신호(PRB)가 "하이"레벨로 천이되어 신호(PR)가 "로우"레벨로 천이되게 된다. 따라서, 워드 라인 선택신호들(WL1, ..., WLn)이 모두 "로우"레벨로 천이되고 프리차지 동작이 수행되게 된다.That is, when the signal TCKE or the signal TWE is generated while the signal MRS_RDL is activated, a pulse signal PRDL having a "low" level is generated. When the pulse signal PRDL of the "low" level is generated, the signal PRB transitions to the "high" level and the signal PR transitions to the "low" level. Accordingly, the word line select signals WL1, ..., WLn all transition to the "low" level and the precharge operation is performed.

본 발명의 반도체 메모리 장치는 테스트시에 라이트 명령이 인가되면 메모리 셀에 데이터가 라이트되는 라이트 타임이 경과된 후에 신호(PR)가 "로우"레벨로 천이되고, 비트 라인 프리차지 동작이 수행된다.In the semiconductor memory device of the present invention, when a write command is applied during the test, the signal PR transitions to the "low" level after the write time of writing data to the memory cell has elapsed, and the bit line precharge operation is performed.

따라서, 저주파수 테스트 장치를 이용하여 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치를 테스트하더라도 프리차지 타임이 길어짐에 따라 페일인 메모리 셀이 정상인 메모리 셀로 판단되는 문제점을 방지할 수 있다.Therefore, even when testing a semiconductor memory device operating at a high frequency by using a low frequency test device, it is possible to prevent a problem that the fail-in memory cell is determined to be a normal memory cell as the precharge time increases.

도3은 도2에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기의 일실시예의 회로도로서, 인버터들(I3, I7), NAND게이트(NA1), 인버터들(I4, I5, I6)로 구성된 반전 및 지연회로(40), 및 NOR게이트(NOR)로 구성되어 있다.FIG. 3 is a circuit diagram of an embodiment of the active precharge signal generator shown in FIG. 2, inverting and delaying circuit 40 composed of inverters I3, I7, NAND gate NA1, and inverters I4, I5, I6. ) And a NOR gate (NOR).

도3에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the circuit shown in Fig. 3 is as follows.

인버터(I3)는 "하이"레벨의 신호(TWE)를 반전하여 출력한다. NAND게이트(NA1)는 "하이"레벨의 신호(MRS_RDL)에 응답하여 "로우"레벨의 신호를 발생한다. 반전 및 지연회로(40)는 "로우"레벨의 신호를 반전하고 지연하여 "하이"레벨의 신호를 발생한다. NOR게이트(NOR)는 "로우"레벨의 NAND게이트(NA1)의 출력신호 및 인버터(I6)의 출력신호를 비논리합하여 "하이"레벨의 펄스 신호를 발생한다. 인버터(I7)는 "하이"레벨의 펄스 신호를 반전하여 "로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)를 발생한다.The inverter I3 inverts and outputs the signal TWE of the "high" level. The NAND gate NA1 generates a signal of the "low" level in response to the signal of the "high" level MRS_RDL. The inversion and delay circuit 40 inverts and delays the signal of the "low" level to generate a signal of the "high" level. The NOR gate NOR non-logically combines the output signal of the NAND gate NA1 of the "low" level and the output signal of the inverter I6 to generate a pulse signal of the "high" level. The inverter I7 inverts the pulse signal of the "high" level to generate the pulse signal PRDL of the "low" level.

즉, 도3에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기는 신호(TWE)의 "로우"레벨로의 천이에 응답하여 "로우"레벨로 천이하였다가 소정 시간 후에 "하이"레벨로 천이하는 펄스 신호(PRDL)를 발생한다.That is, the active precharge signal generator shown in Fig. 3 makes the pulse signal PRDL transition to the "low" level in response to the transition to the "low" level of the signal TWE and then to the "high" level after a predetermined time. Occurs.

도4는 도3에 나타낸 회로가 도2에 나타낸 반도체 메모리 장치에 적용되어 테스트되는 경우의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도를 나타내는 것이다.FIG. 4 shows an operation timing diagram for explaining the operation when the circuit shown in FIG. 3 is applied and tested to the semiconductor memory device shown in FIG.

먼저, 클럭신호(CLK)의 상승 엣지에서 "로우"레벨의 반전 칩 선택신호(CSB), 반전 로우 어드레스 스트로우브 신호(RASB), 반전 컬럼 어드레스 스트로우브 신호(CASB), 및 반전 라이트 인에이블 신호(WEB)가 인가되면 모드 신호 발생기(32)가 "하이"레벨의 신호(MRS_RDL)를 발생한다. 그 후에, 클럭신호(CLK)의 상승 엣지에서 "로우"레벨의 반전 칩 선택신호(CSB), 및 반전 로우 어드레스 스트로우브 신호(RASB)가 인가되면 신호(PRB)가 액티브 신호 발생기(14)가 "로우"레벨로 천이하는 신호(PRB)를 발생한다. 그러면, 로우 어드레스 래치(16) 및 로우 어드레스 프리 디코더(18), 및 로우 디코더(12)가 동작하여 워드 라인 선택신호(WL1, ..., WLn)를 발생한다. 그 후에, 클럭신호(CLK)의 상승 엣지에서 "로우"레벨의 반전 칩 선택신호(CSB), 반전 컬럼 어드레스 스트로우브 신호(CASB), 및 반전 라이트 인에이블 신호(WEB)가 인가되고, 반전 라이트 인에이블 신호(WEB)를 반전한 포지티브 펄스 신호(TWE)가 인가되면 액티브 프리차지 신호 발생기(30)는 신호(TWE)의 "로우"레벨로의 천이에 응답하여 "로우"레벨로 천이한 후 소정 시간 후에 "하이"레벨로 천이하는 네거티브 펄스 신호(PRDL)가 발생된다. 펄스 신호(PRDL)가 "로우"레벨로 천이하게 되면 PMOS트랜지스터(P)가 온되어 신호(PRB)가 "하이"레벨로 천이된다.First, the inverting chip select signal CSB of the "low" level, the inverted low address strobe signal RASB, the inverted column address strobe signal CASB, and the inverted write enable signal at the rising edge of the clock signal CLK. When the WEB is applied, the mode signal generator 32 generates a signal MRS_RDL of the "high" level. Thereafter, when the inverting chip select signal CSB having the "low" level and the inverting low address strobe signal RASB are applied at the rising edge of the clock signal CLK, the signal PRB is activated by the active signal generator 14. Generate a signal PRB that transitions to the "low" level. Then, the row address latch 16, the row address predecoder 18, and the row decoder 12 operate to generate word line select signals WL1, ..., WLn. Thereafter, at the rising edge of the clock signal CLK, an inverting chip select signal CSB having a "low" level, an inverting column address strobe signal CASB, and an inverting write enable signal WEB are applied to the inverting write. When the positive pulse signal TWE inverting the enable signal WEB is applied, the active precharge signal generator 30 transitions to the "low" level in response to the transition of the signal TWE to the "low" level. After a predetermined time, a negative pulse signal PRDL is generated, which transitions to the "high" level. When the pulse signal PRDL transitions to the "low" level, the PMOS transistor P is turned on so that the signal PRB transitions to the "high" level.

따라서, 라이트 명령이 인가되면 라이트 명령이 인가되는 사이클의 클럭신호(CLK)의 상승 엣지로부터 메모리 셀에 데이터가 라이트되는데 걸리는 시간(tRDL)이 경과되면 곧바로 신호(PRB)가 "하이"레벨로 천이하게 됨으로써 비트 라인 프리차지 동작이 수행될 수 있게 된다.Therefore, when the write command is applied, the signal PRB transitions to the "high" level as soon as the time tRDL for writing data to the memory cell has elapsed from the rising edge of the clock signal CLK of the cycle in which the write command is applied. As a result, the bit line precharge operation may be performed.

도5는 도2에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기의 다른 실시예의 회로도로서, 인버터(I8), 및 NAND게이트(NA2)로 구성되어 있다.FIG. 5 is a circuit diagram of another embodiment of the active precharge signal generator shown in FIG. 2, which is composed of an inverter I8 and a NAND gate NA2.

도5에 나타낸 회로의 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of the circuit shown in Fig. 5 is as follows.

인버터(I8)는 "로우"레벨의 펄스 신호(TCKE)를 반전하여 "하이"레벨의 펄스 신호를 발생한다. NAND게이트(NA2)는 "하이"레벨의 신호(MRS_RDL)에 응답하여 "하이"레벨의 펄스 신호를 반전하여 "로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)를 발생한다.The inverter I8 inverts the pulse signal TCKE of the "low" level to generate a pulse signal of the "high" level. The NAND gate NA2 inverts the "high" level pulse signal in response to the "high" level signal MRS_RDL to generate a "low" level pulse signal PRDL.

"로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)가 발생되면 PMOS트랜지스터(P)가 온되어신호(PRB)를 "하이"레벨로 만들게 된다.When the pulse signal PRDL of the "low" level is generated, the PMOS transistor P is turned on to bring the signal PRB to the "high" level.

도5에 나타낸 회로로 인가되는 신호(TCKE)는 네거티브 펄스 신호로서, 도5에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기는 신호(TCKE)의 "로우"레벨로의 천이에 응답하여 "로우"레벨로 천이하고 신호(TCKE)의 "하이"레벨로의 천이에 응답하여 "하이"레벨로 천이하는 펄스 신호(PRDL)를 발생한다.The signal TCKE applied to the circuit shown in FIG. 5 is a negative pulse signal, and the active precharge signal generator shown in FIG. 5 transitions to the "low" level in response to the transition of the signal TCKE to the "low" level. In response to the transition of the signal TCKE to the "high" level, a pulse signal PRDL is generated which transitions to the "high" level.

따라서, 도5에 나타낸 액티브 프리차지 신호 발생기는 라이트 또는 리드 명령이 인가되는 사이클의 클럭신호의 상승 엣지로부터 프리차지 시작 시점까지의 시간(tRDL)이 경과되면 "로우"레벨의 펄스 신호(PRDL)를 발생한다.Accordingly, the active precharge signal generator shown in Fig. 5 generates a "low" level pulse signal when the time tRDL from the rising edge of the clock signal of the cycle to which the write or read command is applied to the precharge start time has elapsed. Occurs.

도6은 도5에 나타낸 회로가 도2에 나타낸 반도체 메모리 장치에 적용되어 테스트되는 경우의 동작을 설명하기 위한 동작 타이밍도를 나타내는 것이다.FIG. 6 shows an operation timing diagram for explaining the operation when the circuit shown in FIG. 5 is applied and tested to the semiconductor memory device shown in FIG.

클럭신호(CLK), 반전 칩 선택신호(CSB), 반전 로우 어드레스 스트로우브 신호(RASB), 반전 컬럼 어드레스 스트로우브 신호(CASB), 반전 라이트 인에이블 신호(WEB), 및 신호(MRS_RDL)의 타이밍은 도4에 나타낸 타이밍과 동일하다.Timing of the clock signal CLK, the inverted chip select signal CSB, the inverted row address strobe signal RASB, the inverted column address strobe signal CASB, the inverted write enable signal WEB, and the signal MRS_RDL Is the same as the timing shown in FIG.

신호(TCKE)는 라이트 명령이 인가되는 사이클의 상승 엣지에서 프리차지 시작 시점까지의 시간(tRDL)이 경과된 후에 인가되는 네거티브 펄스 신호이다. 신호(PRDL)는 신호(TCKE)에 응답하여 발생되는 네거티브 펄스 신호이다. 신호(PRDL)이 "로우"레벨로 천이되면 신호(PRB)가 "하이"레벨로 천이하게 된다. 그러면, 신호(PR)가 "로우"레벨로 천이되고 로우 어드레스 래치(16), 로우 어드레스 프리 디코더(18), 및 로우 디코더(12)가 디스에이블됨으로써 워드 라인 선택신호(WL1, ..., WLn)가 활성화되지 않게 된다. 따라서, 비트 라인 프리차지 동작이 수행될 수 있다.The signal TCKE is a negative pulse signal applied after the time tRDL from the rising edge of the cycle in which the write command is applied to the precharge start time has elapsed. The signal PRDL is a negative pulse signal generated in response to the signal TCKE. When the signal PRDL transitions to the "low" level, the signal PRB transitions to the "high" level. Then, the signal PR is transitioned to the "low" level and the row address latch 16, the row address predecoder 18, and the row decoder 12 are disabled, thereby making the word line select signals WL1, ..., WLn) is not activated. Thus, the bit line precharge operation may be performed.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below. I can understand that you can.

따라서, 본 발명은 저주파수로 동작하는 테스트 장치로부터 프리차지 제어신호가 인가되어 프리차지 동작이 제어됨으로써 고주파수로 동작하는 반도체 메모리 장치에 대한 정확한 테스트가 가능하다.Accordingly, the present invention enables accurate testing of a semiconductor memory device operating at a high frequency by applying a precharge control signal from a test device operating at a low frequency to control the precharge operation.

Claims (3)

테스트시에 테스터의 제어하에 모드 신호를 활성화하기 위한 모드 신호 발생수단;Mode signal generating means for activating a mode signal under control of the tester during the test; 상기 테스터로부터 인가되는 제어신호들에 응답하여 액티브 신호를 발생하기 위한 액티브 신호 발생수단;Active signal generating means for generating an active signal in response to control signals applied from the tester; 상기 테스트시에 상기 모드 신호 및 상기 테스터로부터 인가되는 프리차지 제어신호에 응답하여 상기 액티브 신호를 디액티브하기 위한 디액티브 수단; 및Deactivating means for deactivating the active signal in response to the mode signal and a precharge control signal applied from the tester during the test; And 상기 액티브 신호에 응답하여 어드레스를 래치하고 디코딩하여 워드 라인 선택신호들을 발생하기 위한 어드레스 디코더를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.And an address decoder for latching and decoding an address in response to the active signal to generate word line selection signals. 제1항에 있어서, 상기 디액티브 수단은The method of claim 1 wherein the deactive means is 상기 테스트시에 상기 모드 신호 및 상기 테스터로부터 인가되는 프리차지 제어신호에 응답하여 프리차지 신호를 발생하기 위한 프리차지 신호 발생수단;Precharge signal generating means for generating a precharge signal in response to the mode signal and a precharge control signal applied from the tester during the test; 상기 프리차지 신호에 응답하여 상기 액티브 신호를 디액티브하기 위한 디액티브 수단; 및Deactivating means for deactivating the active signal in response to the precharge signal; And 상기 액티브 신호를 반전하고 래치하여 상기 어드레스 디코더로 출력하기 위한 래치를 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.And a latch for inverting and latching the active signal and outputting the latch to the address decoder. 제2항에 있어서, 상기 프리차지 신호는The method of claim 2, wherein the precharge signal is 상기 테스트시에 라이트 명령이 인가되는 사이클의 클럭신호의 상승 엣지로부터 소정 시간 후에 발생되는 펄스 신호인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치.And a pulse signal generated after a predetermined time from the rising edge of the clock signal of the cycle in which the write command is applied during the test.
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