KR20010075572A

KR20010075572A - 4,4'-디할로겐-ｏ-하이드록시디페닐 화합물의 제조방법

Info

Publication number: KR20010075572A
Application number: KR1020017004247A
Authority: KR
Inventors: 디테오도로아르만도; 횔츨베르너; 라이너디터; 친크루돌프
Original assignee: 에프. 아. 프라저, 에른스트 알테르 (에. 알테르), 한스 페터 비틀린 (하. 페. 비틀린), 피. 랍 보프, 브이. 스펜글러, 페. 아에글러; 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크.
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1999-09-27
Publication date: 2001-08-09
Also published as: BR9914265A; AU5982199A; WO2000020366A1; EP1119540A1; JP2002526515A; RU2220946C2; ZA200102818B; IL141947A0; SK4542001A3; CN1321142A

Abstract

본 발명은, 디페닐 화합물의 할로겐화 반응(단계 1a)이나 p-할로페놀과 p-디할로벤젠과의 반응(단계 1b), 프리델-크라프츠(Friedel-Crafts) 반응에서의 디할로겐 화합물의 아실화 반응(제2 단계), 아실 화합물의 산화 반응(제3 단계) 및 가수분해 반응(제4 단계)에 의한 화학식 1의 4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 화합물의 4단계 제조방법에 관한 것이다.

화학식 1의 화합물은 미생물로부터 유기 물질과 대상물을 보호하는 데 사용된다.

화학식 1

Description

4,4'-디할로겐-ｏ-하이드록시디페닐 화합물의 제조방법{Process for the preparation of 4,4'-dihalogen-o-hydroxydiphenyl compounds}

본 발명은 화학식 1의 4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 화합물의 제조방법 및 미생물로부터 유기 물질과 대상물을 보호하기 위한 이들 화합물의 용도에 관한 것이다.

위의 화학식 1에서,

Hal은 할로겐 원자이다.

4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 화합물의 제조는 일반적으로 2-아미노-4,4'-디클로로디페닐 에테르(화학식 2의 화합물)의 디아조화 반응 및 후속적인 가수분해 반응에 의해 수행된다.

그러나, 상이한 화학 반응이 동시에 발생할 수 있으므로, 이러한 제조방법으로 수득된 수율은 만족스럽지 않다.

따라서, 본 발명은 바람직하지 않은 동시 반응이 억제된 4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 화합물의 경제적인 제조방법을 제공하고자 함을 그 목적으로 한다.

이러한 목적은 본 발명에 따라 반응식 1에 상응하는 4단계 반응, 즉 제1 단계에서는 디페닐 화합물을 할로겐화하거나 p-할로페놀을 구리 및/또는 구리 염의 존재하에 p-디할로페놀과 반응시키고, 제2 단계에서는 디할로겐 화합물을 프리델-크라프츠(Friedel-Crafts) 반응으로 아실화시키며, 제3 단계에서는 아실 화합물을 산화시키고, 제4 단계에서는 산화된 화합물을 가수분해시키는 반응으로 달성된다.

위의 반응식 1에서,

R은 치환되지 않거나 1 내지 3개의 할로겐 원자 또는 하이드록시로 치환된 C₁-C₈알킬; 치환되지 않은 C₆-C₁₂아릴; 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자, C₁-C₅알킬 또는 C₁-C₈알콕시로 치환되거나 이들의 조합으로 치환된 C₆-C₁₂아릴이고,

Hal은 할로겐 원자이다.

C₁-C₈알킬은 측쇄 또는 직쇄상 알킬, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, 2-에틸헥실 또는 n-옥틸이다.

C₁-C₈알콕시는 직쇄 또는 측쇄상 라디칼, 예를 들어, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 부톡시, 펜틸옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시 또는 옥틸옥시이다.

할로겐은 플루오로, 브로모 또는, 바람직하게는, 클로로이다.

위의 반응식 1에서의 화학식 6 및 화학식 7에서, R은 C₁-C₄알킬, 바람직하게는 메틸이다.

할로겐이 바람직하게는 염소인 경우, 반응 단계 1a에 사용되는 염소화제는, 예를 들면, 설퍼릴 클로라이드 또는, 바람직하게는, 기체상 염소이다. 반응은 바람직하게는 촉매, 예를 들어, 디벤조티오펜, 메틸 설파이드, 프로필 설파이드, 페닐 설파이드, 루이스 산(예: 염화알루미늄) 또는 이들 화합물의 혼합물의 존재하에수행된다. 신규한 염소화 반응에 특히 적합한 촉매는 프로필 설파이드와 동몰량의 염화알루미늄과의 혼합물이다.

제1 단계의 반응 온도는, 예를 들면, -10 내지 50℃와 같이 광범위하게 선택될 수 있다. 반응은 바람직하게는 0 내지 40℃의 온도에서 수행된다.

반응 시간도 광범위하다. 반응은 통상적으로 1 내지 48시간, 바람직하게는 2.5 내지 10시간에 걸쳐 수행된다.

단계 1b의 반응은 통상적으로 120 내지 200℃, 바람직하게는 130 내지 170℃의 온도에서 수행되며, 이는 화학식 4a의 페놀 화합물 및 화학식 4b의 디할로겐 화합물이 화학량론적 비율로 존재해야 하고, 알칼리 하이드록사이드는 등가량 미만(이론치의 20 내지 80%)으로 존재해야 한다.

사용되는 구리 촉매는 바람직하게는 울만(Ullmann) 합성에 통상적으로 사용되는 구리 염, 예를 들어, 산화구리(II), 산화구리(I), 탄산구리, 염기성 탄산구리, 염화구리(I), 염화구리(II), 브롬화구리(I), 브롬화구리(II) 또는 황산구리이다.

반응 단계 1b에 대한 추가의 세부사항은 DE-OS 제2,242,519호에서 찾을 수 있다.

아실화 반응(제2 단계)은 통상적으로 루이스 산(예: 염화알루미늄)의 존재하에 수행된다. 루이스 산은 이러한 경우에, 화학식 5의 할로겐화 아실 화합물을 기준으로 하여, 1 내지 3몰, 바람직하게는 1.25 내지 2몰의 양으로 사용된다. 당해 반응에 적합한 아실화제는 아실 할라이드, 바람직하게는 아세틸 클로라이드이다.또 다른 적합한 아실화제는, 예를 들면,,,또는이다.

이러한 경우, 루이스 산과 아실화제는 바람직하게는 동몰량으로 사용된다. 반응은 프리델-크라프츠 반응에 통상적으로 사용되는 용매, 예를 들어, 할로겐화 용매, 바람직하게는 메틸렌 클로라이드 또는 에틸렌 클로라이드 속에서 수행된다.

본 발명의 특정한 양태에서, 아실화 반응은 동몰량으로 사용된 아세틸 클로라이드와 염화알루미늄의 존재하에 수행된다.

반응 시간은 당해 반응 단계에 부수적으로 중요하며, 예를 들면, 1 내지 18시간으로 광범위할 수 있다.

할로겐화 반응(제1 단계) 및 아실화 반응(제2 단계) 뿐만 아니라, 임의로 반복되는 염소화 반응은 바람직하게는 동일한 반응 용기 속에서 수행되므로 원 포트(one-pot) 반응이다.

화학식 7의 화합물로의 화학식 6의 아실 화합물의 산화 반응[베이어-빌리거(Baeyer-Villiger) 산화 반응]은 상이한 산화제를 사용하여 수행될 수 있다. 적합한 산화제는, 예를 들면,

- 촉매량의 과염소산의 존재하에 묽은 과아세트산과 무수 아세트산과의 동몰량의 혼합물,

- 수 중의 과량의 3-클로로-과벤조산,

- 디-퍼옥시도데칸 이산(DPDDA),

- 묽은 과아세트산, 무수 아세트산 및 황산과의 혼합물,

- 과황산,

- 진한 황산, 무수 아세트산 및 과산화수소와의 혼합물,

- m-클로로퍼벤조산(MCPBA), 트리플루오로아세트산 및 디클로로메탄과의 혼합물,

- 과붕산나트륨과 트리플루오로아세트산과의 혼합물,

- 포름산, 과산화수소, 무수 아세트산, 포스포로펜톡사이드 및 아세트산과의 혼합물,

- 아세트산, 과산화수소, 무수 아세트산 및 포스포로펜톡사이드와의 혼합물,

- K₂S₂O₈, 황산 및 1:1 물/메탄올 혼합물과의 혼합물,

- 아세트산과 모노퍼옥소말레산의 칼륨 염과의 혼합물,

- 트리클로로메틸렌, 모노퍼옥소말레산의 칼륨 염 및 황산수소나트륨과의 혼합물,

- 무수 말레산, 무수 아세트산, 과산화수소 및 트리클로로메탄과의 혼합물,

- 무수 말레산, 우레아-과산화수소 착화합물 및 아세트산과의 혼합물 및

- Mg-모노퍼프탈레이트이다.

진한 황산, 무수 아세트산 및 과산화수소와의 혼합물이 바람직하게는 산화 반응에 사용된다.

필요한 경우, 시판 중인 습윤화제가 산화제에 첨가될 수 있다.

반응 시간은 약 1 내지 약 24시간, 바람직하게는 1 내지 5시간으로 광범위할 수 있다.

반응 온도 범위는 -20 내지 약 80℃이다. 반응은 바람직하게는 실온에서 수행된다.

화학식 1의 목적하는 4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 에테르로의 후속적인 가수분해 반응은 양적으로 수행된다.

본 발명에 따라 제조된 4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 화합물은 수 불용성이나, 묽은 수산화나트륨 용액과 수산화칼륨 용액, 사실상 모든 유기 용매에 가용성이다. 이들 용해도 예비조건으로 인해, 이들은 미생물, 특히 박테리아를 박멸하고 미생물로부터 유기 물질과 대상물을 보호하는 데 매우 다방면으로 적용 가능하다. 따라서, 이들은 살균, 탈취, 피부, 점막 및 모든 외피 부속물(모발)의 통상적인 항균 처리, 매우 특히 손 및 상처의 살균에 특히 적합하다.

따라서, 당해 화합물은 바디 케어(body-care) 제품, 예를 들어, 샴푸, 바쓰(bath) 첨가제, 모발 관리 제품, 액상 비누 및 고형 비누(합성 계면활성제 및 포화 및/또는 불포화 지방산의 염 기준), 로션, 크림, 탈취제, 기타 수성액 또는 알콜성 용액, 예를 들어, 피부용 세정액, 습식 클렌징 티슈, 오일 또는 파우더에서 항균 활성 물질로서 적합하다.

따라서, 본 발명은 또한 화학식 1의 화합물을 하나 이상 함유하는 바디 케어 제품 및 화장품용으로 허용 가능한 캐리어 또는 보조제에 관한 것이다.

신규한 바디 케어 제품은, 조성물의 전체 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량%의 화학식 1의 화합물 뿐만 아니라 화장품용으로 허용 가능한 보조제를 포함한다.

바디 케어 제품의 제공 형태에 따라, 화학식 1의 화합물 이외에, 기타 성분, 예를 들면, 격리제, 착색제, 방향유, 증점제 또는 점도 조절제, 완화제, UV 흡수제, 피부 보호제, 산화방지제, 기계적 특성 개선용 첨가제(예: 카복실산 및/또는 C₁₄-C₂₂지방산의 Al, Zn, Ca, Mg 염) 및, 임의로, 추가의 항균 활성 물질을 함유한다.

신규한 바디 케어 제품은 유중수(W/O) 또는 수중유(O/W) 유액으로서, 알콜성 또는 알콜 함유 제제로서, 이온성 또는 비이온성 양쪽 친매성 지질의 소포 분산액으로서, 겔, 고형 스틱 또는 에어로졸 제제로서 제조될 수 있다.

화학식 1의 화합물을 함유하는 유중수 또는 수중유 유액은 화장품용으로 허용 가능한 보조제로서, 바람직하게는 오일 상 5 내지 50%, 유화제 5 내지 20% 및 물 30 내지 90%를 함유한다.

오일 상은 이러한 경우에 화장품에 적합한 임의의 오일, 예를 들어, 하나 또는 몇몇의 탄화수소 오일, 왁스, 천연 오일, 실리콘 오일, 지방산 에스테르 또는 지방산 알콜을 함유한다. 바람직한 모노올 또는 폴리올은 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 글리세롤 및 소르비톨이다.

본 발명의 화합물은 상이한 화장품 속에 존재할 수 있다. 특히 적합한 제제의 예는 다음과 같다:

- 피부 관리 제품, 예를 들어, 막대형 비누나 액상 비누 형태의 피부 세척제 및 피부 세정제, 합성 세제 또는 세정 페이스트,

- 바쓰 제품, 예를 들어, 액상(거품형 바쓰, 밀크, 샤워용품) 또는 고형 바쓰 제품, 예를 들어, 바쓰 펄(bath pearl) 및 바쓰 솔트(bath salt),

- 피부 관리 제품, 예를 들어, 피부 유액, 다중 유액 또는 피부 오일,

- 장식용 바디 케어 제품, 예를 들어, 데이 크림 또는 파우더 크림 형태의 페이스 메이크업, 페이스 파우더(루스형 및 압축형), 루즈 또는 크림 메이크업, 아이 케어 제품(예: 아이 섀도우 제품, 마스카라, 아이라이너, 아이 크림 또는 아이 픽스 크림), 입술 관리 제품(예: 립스틱, 립 글로스, 립 라이너), 손톱 관리 제품(예: 네일 와니스, 네일 와니스 리무버, 손톱 강화제 또는 큐티클 리무버),

- 여성용 위생 제품, 예를 들어, 여성용 위생 세정 로션 또는 스프레이,

- 발 관리 제품, 예를 들어, 풋 바쓰, 풋 파우더, 풋 크림 또는 풋 발삼, 특별 탈취제 및 땀 방지제 또는 캘러스 스크럽제,

- 썬스크린, 예를 들어, 밀크, 로션, 크림, 오일, 썬블록 또는 트로픽컬, 프리썬 제품 또는 애프터썬 제품,

- 썬탠 제품, 예를 들어, 셀프 태닝 크림,

- 침착 방지제, 예를 들어, 피부 미백제 또는 화이트닝제,

- 방충제, 예를 들어, 곤충 오일, 로션, 스프레이 또는 스틱,

- 탈취제, 예를 들어, 탈취 스프레이, 논에어로졸 스프레이, 탈취 겔, 스틱또는 롤-온(roll-on),

- 땀 방지제, 예를 들어, 땀 방지제 스틱, 크림 또는 롤-온,

- 피부 오염 세정제 및 처리제, 예를 들어, 합성 세제(고형 또는 액상), 필링제 또는 스크럽제 또는 필링 마스크,

- 화학적 탈모제, 예를 들어, 탈모 파우더, 액상 탈모제, 크림형 또는 페이스트형 탈모제, 탈모 겔 또는 에어로졸 발포체,

- 쉐이빙(shaving) 제품, 예를 들어, 쉐이빙 비누, 발포성 쉐이빙 크림, 비발포성 쉐이빙 크림, 쉐이빙 발포체 및 겔, 건식 쉐이빙용 프리쉐이빙 제품, 애프터쉐이브 또는 애프터쉐이브 로션,

- 향수, 예를 들어, 퍼퓸(오 드 콜롱, 오 드 뚜알렛, 오 드 파퓸, 파퓸 드 뚜알렛, 퍼퓸), 퍼퓸 오일 또는 퍼퓸 크림,

- 구강 및 치아 위생용 뿐만 아니라 의치용 제품, 예를 들어, 치약, 겔형 치약, 분말형 치약, 구강 세척 농축액, 안티플라그 구강 세척제, 의치 세정제 또는 의치 부착제,

- 헤어 트리트먼트용 화장품, 예를 들어, 샴푸 형태의 모발 세척제, 헤어 컨디셔너, 모발 관리제(예: 전처리제, 헤어 토닉, 헤어 스타일링 크림 및 겔, 포마드, 헤어 린스, 딥 컨디셔닝 트리트먼트, 인텐시브 헤어 케어 트리트먼트), 모발 셋팅제[예: 퍼머용 웨이빙제(고온 웨이브, 중온 웨이브, 저온 웨이브), 헤어 스트레이터닝제, 액상 헤어 고정제, 헤어 폼, 헤어 스프레이], 탈색제(예: 과산화수소액, 탈색 샴푸, 탈색 크림, 탈색 파우더, 탈색 페이스트 또는 오일), 일시적, 반일시적 또는 영구적 모발 염료(예: 헤나 또는 카밀레).

항균 비누의 조성은, 예를 들면,

화학식 1의 화합물 0.01 내지 5중량%,

이산화티탄 0.3 내지 1중량%,

스테아르산 1 내지 10중량% 및

비누 염기, 예를 들어, 탈로우 지방산 및 코코넛 지방산 또는 글리세롤의 나트륨 염을 가해 약 100%이다.

샴푸의 조성은, 예를 들면,

화학식 1의 화합물 0.01 내지 5중량%,

나트륨-라우레트-2-설페이트 12.0중량%,

코카미도프로필베타인 4.0중량%

NaCl 3.0중량% 및

물을 가해 약 100%이다.

탈취제의 조성은, 예를 들면,

화학식 1의 화합물 0.01 내지 5중량%,

에탄올 60중량%,

방향유 0.3중량% 및

물을 가해 약 100%이다.

O/W 유액의 예:

(a):

화학식 1의 화합물 0.01 내지 5중량%,

글리세릴 스테아레이트 12중량%,

파라핀유 6중량%,

카프릴산/카프르산 트리글리세라이드 6중량%,

글리세롤 4중량%,

이나트륨 EDTA 0.2중량%,

시트르산(20%) 1.0중량% 및

물 65.8 내지 70.8중량%.

(b):

화학식 1의 화합물 0.01 내지 5중량%,

PEG-30 디폴리하이드록시스테아레이트 3.5중량%,

파라핀유 10.0중량%,

카프릴산/카프르산 트리글리세라이드 4중량%,

디카프릴산 에테르 4중량%,

이나트륨 EDTA 0.2중량%,

글리세롤 3.4중량% 및

물 69.9 내지 74.9중량%.

또 다른 양상에서, 본 발명은, 조성물의 전체 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15중량%의 화학식 1의 화합물 뿐만 아니라 구강용으로 허용 가능한 보조제를 함유하는, 구강용 조성물에 관한 것이다.

구강용 조성물의 예는

소르비톨 10중량%,

글리세롤 10중량%,

에탄올 15중량%,

프로필렌 글리콜 15중량%,

나트륨 라우릴 설페이트 0.5중량%,

나트륨 메틸코실 타우레이트 0.25중량%,

폴리옥시프로필렌/폴리옥시에틸렌 블록 공중합체 0.25중량%,

페파민트 방향제 0.10중량%,

화학식 1의 화합물 0.1 내지 0.5중량% 및

물 48.6중량%이다.

신규한 구강용 조성물은, 예를 들어, 겔, 페이스트, 크림 또는 수성 제제(구강 세척제)일 수 있다.

신규한 구강용 조성물은 카리에스 형성을 방지하는 데 효과적인 플루오라이드 이온을 방출하는 화합물, 예를 들어, 무기 플루오라이드 염(예: 나트륨, 칼륨, 암모늄 또는 칼슘 플루오라이드) 또는 유기 플루오라이드[예: 아민 플루오라이드, 상표명 올라플루오르(Olafluor)]를 추가로 함유할 수 있다.

본 발명에 따라 사용되는 화학식 1의 화합물은 섬유 재료를 항균 처리하는 데 추가로 적합하다. 이들 재료는, 예를 들면, 실크, 울, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리프로필렌 또는 폴리우레탄의 염색되지 않거나 염색된 섬유 재료 또는 날염된 섬유 재료 및, 바람직하게는, 모든 종류의 셀룰로스 함유 섬유 재료이다. 이러한 섬유 재료는, 예를 들면, 천연 셀룰로스 섬유(예: 면, 아마, 황마 및 대마)와 셀룰로스 및 재생 셀룰로스이다. 특히 적합한 섬유 재료는 면으로 이루어진 것이다.

단독으로 또는 기타 항균 물질과의 배합물로의 화학식 1의 화합물은 또한 화장품, 예를 들어, 샴푸, 바쓰 첨가제, 모발 관리 제품, 액상 및 고형 비누(합성 계면활성제 및 포화 및/또는 불포화 지방산 기준), 로션, 크림, 탈취제, 기타 수성액 또는 알콜성 용액, 예를 들어, 피부용 세정액, 습식 클렌징 티슈, 오일 또는 파우더 및 가정용품, 예를 들어, 액상 및 분말상 세제 또는 연화제 등의 세척제 및 세정제를 보존하는 데 적합하다.

또한, 본 발명에 따라 사용되는 화학식 1의 화합물은 합성 물질, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 라텍스 등을 항균 처리하는 데 적합하다. 이들의 적용 영역은 전형적으로 마루바닥, 플라스틱 피막, 플라스틱 용기 재료 및 포장 재료, 부엌용품과 욕실용품(예: 브러쉬, 샤워 커텐, 스폰지, 욕실 매트), 라텍스 필터 재료(공기 필터 및 물 필터), 의료 분야에 사용되는 플라스틱 부품(예: 밴드 재료, 주사기, 카테테르 등), 소위 의료 장치, 장갑 및 매트리스이다.

종이, 예를 들어, 위생 종이도 화학식 1의 신규한 화합물로 항균 후처리될 수 있다.

본 발명에 따른 부직포, 예를 들어, 기저귀, 위생 타월, 위생 패드, 위생 티슈 및 가정용품을 항균 후처리할 수도 있다.

하이드록시페닐-1,3-프로판디온은 특히 가정용품과 경질 표면 세척 및 소독용의 다목적 세정제에 사용될 수도 있다.

세정제의 조성은, 예를 들면,

화학식 1의 화합물 0.01 내지 5%,

옥틸 알콜 4EO 3.0%,

지방 알콜 C₈-C₁₀폴리글루코사이드 1.3%,

이소프로판올 3.0% 및

물을 가해 약 100%이다.

화장품 및 가정용품을 보존하는 것 이외에, 기술 제품, 예를 들어, 종이 처리액, 전분 또는 셀룰로스 유도체로 이루어진 인쇄 증점제, 도료 시스템 및 도료를 보존하고 항균 후처리할 수도 있다.

화학식 1의 화합물은 항균 목재 처리 및 피혁의 항균 처리와 후처리에도 적합하다.

다음의 비제한적인 실시예는 본 발명을 보다 상세하게 예시한다.

실시예 1

반응 단계 1a

반응식

디페닐 에테르 170g을 용기에 넣고, 교반시키면서 30 내지 40℃에서 용융시킨다. 이어서, 디프로필설파이드 4.7g과 염화알루미늄 4.8g을 첨가한다. 반응 혼합물이 목적하는 정도의 염소화 반응에 도달할 때까지 35 내지 40℃에서 염소를 유입시켜 염소화시킨다. 기체 크로마토그래피 또는 HPLC를 통해 반응을 모니터링한다. 반응 혼합물을 증류시켜 분리시킬 수 있으며 모노클로로디페닐 에테르를 재순환시킬 수 있다. 염소화 반응이 이염소 및 삼염소 정도(이염소 함량 80% 및 삼염소 함량 20%)까지 지속되는 경우, 반응 혼합물을 아실화 반응에 직접 사용할 수 있다.

실시예 2

아실화 반응(제2 반응 단계)

반응식

에틸렌 클로라이드 520g을 20 내지 25℃에서 교반시키면서 염화알루미늄 290g으로 충전시킨다. 아세틸 클로라이드 170g을 25 내지 40℃에서 15 내지 20분에 걸쳐 적가하고 혼합물을 40℃에서 10분 동안 교반시킨다. 1시간 동안, 에틸렌 클로라이드 400g 속의 4,4'-디클로로디페닐 에테르 239g의 용액을 당해 혼합물에 적가한다. 반응 혼합물을 40℃(±2℃)에서 4시간 동안 정치시킨 다음, 빙수 2500mL와 34% HCl 350mL와의 혼합물에 적가하며, 반드시 완전히 교반시킨다. 상을 15 내지 20℃에서 분리시킨다. 에틸렌 클로라이드를 유기 상으로부터 증류 제거시킨다.

조 아실 유도체(=300g)로 이루어진 잔사를 70℃에서 이소프로필 알콜 1000g에 용해시키고 약간의 활성화 탄소를 사용하여 여과에 의해 정제시킨다. 교반하면서, 물 350mL를 60℃에서 첨가한다. 용액을 서서히 냉각시키고, 45℃에서 결정을 시딩시키면서 결정화를 개시한다. 용액을 15시간 동안 교반시키고, 결정을 25℃에서 여과로 회수하며 이소프로필 알콜 210g과 물 70mL로 이루어진 혼합물로 세척한다. 50℃에서 진공하에 건조시켜 비점이 65 내지 66℃인 화학식 101c의 연한 베이지색 결정성 생성물을 192.5g 수득한다.

실시예 3

베이어-빌리거 산화 반응

반응식

아세트산(100%) 130g을 용기에 넣고, 15 내지 20℃에서 냉각시키면서 진한 H₂SO₄31g과 혼합한다. 동일 온도에서, 혼합물을 30분 동안 과산화수소(50%) 30g으로 충전시킨다. 이러한 반응액을 1시간에 걸쳐 화학식 101c의 아세틸 화합물 70g의 즉석 용액에 적가하고, 20 내지 25℃에서 아세트산(100%) 180g과 진한 H₂SO₄87g에 용해시킨다. 혼합물을 20 내지 25℃에서 3시간 동안 교반시키고 45℃로 서서히 가열시켜 화학식 101d의 화합물의 페놀 에스테르를 완전히 가수분해시킨다. 동일 온도를 2시간 동안 유지시킨 다음, 반응 혼합물을 물 130g과 톨루엔 360g으로 이루어진 혼합물에 적가하니 최종 온도가 25 내지 30℃이다. 상을 분리시키고, 유기 상을 중성이 될 때까지 물로 세정시키고 톨루엔을 증류 제거시킨다. 잔류하는 잔사는 143g이며 화학식 101의 조 생성물로 이루어진다. 석유/에테르 80/110으로부터 재결정화시켜 순수한 생성물을 비점이 74 내지 75℃인 무색 결정의 형태로 수득한다.

Claims

반응식 1에 따라, 디페닐 화합물을 할로겐화하거나(단계 1a) p-할로페놀과 p-디할로벤젠을 구리 및/또는 구리 염의 존재하에 반응시키고(단계 1b), 디할로겐 화합물을 프리델-크라프츠(Friedel-Crafts) 반응으로 아실화시키며(제2 단계), 아실 화합물을 산화시키고(제3 단계), 후속적으로 가수분해시킴(제4 단계)을 포함하는, 4,4'-디할로겐-o-하이드록시디페닐 화합물의 제조방법.

반응식 1

위의 반응식 1에서,

R은 치환되지 않거나 1 내지 3개의 할로겐 원자 또는 하이드록시로 치환된 C₁-C₈알킬; 치환되지 않은 C₆-C₁₂아릴; 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자, C₁-C₅알킬 또는 C₁-C₈알콕시로 치환되거나 이들의 조합으로 치환된 C₆-C₁₂아릴이고,

Hal은 할로겐 원자이다.
제1항에 있어서, R이 C₁-C₄알킬인 방법.
제2항에 있어서, R이 메틸인 방법.
제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 할로겐이 클로로인 방법.
제4항에 있어서, 염소화 반응(단계 1a)이 염소원자를 사용하여 수행되는 방법.
제5항에 있어서, 염소화 반응이 프로필 설파이드와 동몰량의 염화알루미늄으로 이루어진 혼합물의 존재하에 수행되는 방법.
제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 반응 단계 1b에 사용되는 구리 촉매가 산화구리(II), 산화구리(I), 탄산구리, 염기성 탄산구리, 염화구리(I), 염화구리(II), 브롬화구리(I), 브롬화구리(II) 또는 황산구리인 방법.
제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 아실화 반응(제2 단계)이 동몰량으로 사용된 아세틸 클로라이드와 염화알루미늄의 존재하에 수행되는 방법.
제8항에 있어서, 아실화 반응이 할로겐화 용매의 존재하에 수행되는 방법.
제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 할로겐화 반응(제1 단계)과 아실화 반응(제2 단계)이 원 포트(one-pot) 반응으로 수행되는 방법.
제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, 진한 황산, 무수 아세트산 및 과산화수소로 이루어진 혼합물을 용매로서 사용하여 산화 반응(제3 단계)을 수행함을 포함하는 방법.
제11항에 있어서, 산화 반응 시간이 1 내지 약 24시간이고 산화 반응이 실온에서 수행되는 방법.
미생물의 침투로부터 유기 물질과 대상물을 보호하기 위한, 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 따르는 방법으로 제조한 화합물의 용도.
피부, 점막 및 모발을 항균 처리하기 위한, 화학식 1의 화합물의 용도.
섬유 재료를 항균 처리하기 위한, 화학식 1의 화합물의 용도.
세척제 및 세정제에서의 화학식 1의 화합물의 용도.
플라스틱 물질, 종이, 부직포, 목재 또는 피혁을 항균 처리하기 위한, 화학식 1의 화합물의 용도.
화장품을 보존하기 위한, 화학식 1의 화합물의 용도.
조성물의 전체 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15중량%의 화학식 1의 화합물 뿐만 아니라 화장품용으로 허용 가능한 보조제를 포함하는, 바디 케어(body-care) 제품.
조성물의 전체 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 15중량%의 화학식 1의 화합물 뿐만 아니라 구강용으로 허용 가능한 보조제를 포함하는, 구강용 조성물.