KR20010057478A - 간이 청정 작업대 - Google Patents

Abstract

오염입자의 정체와 와류현상을 최소화할 수 있도록 한 간이 청정 작업대(clean bench)가 개시된다.

이를 구현하기 위하여 본 발명에서는, 하단에는 프리 필터가 부착된 제 1 구조물이 배치되고, 상기 제 1 구조물의 전단에는 프리 필터와 대응되는 위치에 송풍 모터가 배치되며, 상기 제 1 구조물의 상단에는 작업 테이블을 사이에 두고 헤파 필터가 부착된 제 2 구조물이 배치되도록 이루어진 간이 청정 작업대에 있어서, 상기 헤파 필터의 양 사이드쪽에 위치한 상기 제 2 구조물 내의 각이진 모서리 부분에 라운딩 에어 가이드가 더 부착되도록 설계된 간이 청정 작업대가 제공된다.

그 결과, 헤파 필터를 통해 청정 작업 공간 내로 외기 유입시 위치별 유속의 편차가 심화되는 것을 억제할 수 있게 되므로, 작업시 발생되는 오염 입자의 정체와 와류 현상을 최소화할 수 있게 된다.

Description

간이 청정 작업대{clean bench}

본 발명은 간이 청정 작업대(clean bebch)에 관한 것으로, 특히 오염입자의 정체와 와류현상을 최소화할 수 있도록 한 간이 청정 작업대에 관한 것이다.

클린 룸(clean room)의 발전은 트랜지스터와 IC의 출연을 계기로 과거 제약, 유전공학 분야를 비롯한 BCR(Bio Clean Room) 계통과 정밀 기계, 로봇, 전자 산업등과 같은 ICR(Industrial Clean Room)의 일대 혁신을 가져온 계기가 되었다. 최근에 들어서는 첨단 산업에 속하는 업종으로 분류되고 있는 대부분은 클린 룸 기술과 더불어 가속적으로 발전되고 있는 실정이다.

간이 청정 작업대(일명, clean bench라 한다)는 클린 룸 내의 공간 중 원하는 수준의 고청정 분위기가 유지되지 않는 부분에만 선택적으로 설치하여 이 부분의 오염된 공기를 고청정 상태로 유지시키고자 할 때 사용하는 장비로서, 기류방식에 따라 크게 수평기류, 수직기류, 난류 가입식의 세종류로 분리된다. 이러한 장비의 시장 점유율은 각각 80%, 15%, 5%로 수평기류 방식의 간이 청정 작업대가 거의 주종을 이루고 있는 것이 사실이다.

그러나 수평기류 방식은 작은 물체의 취급 및 작업은 용이하지만 대물체를 취급하는 작업의 경우에는 난류가 발생하여 오염된 외기가 간이 청정 작업대 내로 유입될 가능성이 높고 헤파 필터(HEPA filter)의 양 사이드(side) 공간에서 와류 현상이 발생하여, 작업시 발생되는 각종 오염 입자들이 간이 청정 작업대의 외부로 비산되는 것이 아니라 내부에 정체되는 문제점을 안고 있다.

이를 도 1 및 도 2에 제시된 도면을 참조하여 살펴보면 다음과 같다. 여기서, 도 1은 종래 일반적으로 사용되어 오던 간이 청정 작업대의 구조를 도시한 측단면도를 나타내고, 도 2는 도 1의 작업대를 위에서 내려다본 평면도를 나타낸다.

도 1에 의하면, 종래의 간이 청정 작업대는 크게, 하단에는 프리 필터(pre filter)(2)가 부착된 제 1 구조물(1)이 배치되고, 상기 제 1 구조물(1)의 전단에는 프리 필터(2)와 대응되는 위치에 송풍 모터(4)가 배치되며, 상기 제 1 구조물(1)의 상단에는 작업 테이블(3)을 사이에 두고 헤파 필터(HEPA filter)(5)가 부착된 제 2 구조물(6)이 배치되도록 이루어져, 제 1 구조물(1)에 의해 한정되는 내부 공간은 외기(외부 공기) 흡입 공간(1a)으로 사용되고, 제 2 구조물(6)에 의해 한정되는 내부 공간은 청정 작업 공간(6a)으로 사용되도록 구성되어 있음을 알 수 있다.

이때, 제 1 구조물(1)은 프리 필터(2)와 마주보는 면이 오픈되도록 설계되고, 제 2 구조물(6)은 헤파 필터(5)와 마주보는 면이 오픈되도록 설계되며, 상기 제 2 구조물(6)은 도 2의 평면도에서 알 수 있듯이 헤파 필터(5)의 양 사이드쪽에서 각지도록 설계된다.

따라서, 상기 구조의 간이 청정 작업대 내에서는 오픈면을 통해 외기 흡입 공간(1a) 내로 외기가 유입되면, 상기 외기가 프리 필터(2)를 거쳐 헤파 필터(5)쪽으로 유입되게 되고, 헤파 필터(5)을 거친 외기는 다시 작업 공간(6a) 내로 흘러들어가는 방식으로 외기의 순환이 이루어지게 된다. 이때, 상기 프리 필터(2)는 외기 내의 하드 파티클(hard paticle) 성분을 필터링하여 걸러주는 역할을 담당하고, 상기 헤파 필터(4)는 하드 파티클 성분이 걸러진 외기 내의 파인 파티클(fine paticle) 성분을 필터링하여 걸러주는 역할을 담당한다. 그 결과, 간이 청정 작업대 주변의 오염된 공기가 고청정 상태의 공기로 변화하게 된다.

그러나 상기 구조를 가지도록 간이 청정 작업대를 설계할 경우는 헤파 필터(5)를 거쳐 청정 작업 공간(6a) 내로 외기 유입시, 헤파 필터의 인접부에서 위치별 유속의 편차가 심하여 그 현상으로 인해 청정 작업 공간(6a) 내부의 각이진 모서리 부분(도 2에서 참조부호 Ⅰ로 표시된 부분)에서 와류 현상이 발생되는 문제가 야기된다. 이러한 문제가 야기될 경우, 작업시 발생되는 각종 오염 입자들이 간이 청정 작업대의 외부로 비산되는 것이 아니라 내부에 정체되어져 청정 작업 공간이 고청정 상태를 유지할 수 없게 되므로, 이에 대한 개선책이 시급하게 요구되고 있다.

이에 본 발명의 목적은, 헤파 필터가 부착된 구조물 내의 각이진 모서리 부분에 라운딩 에어 가이드를 별도 더 설치하여 각이진 모서리 부분을 라운딩처리해 주므로써, 작업시 발생되는 오염 입자의 정체와 와류 현상을 최소화할 수 있도록 한 간이 청정 작업대를 제공함에 있다.

도 1은 간이 청정 작업대의 일반적인 구조를 도시한 측단면도,

도 2는 종래 기술로서, 도 1의 청정 작업대를 위에서 내려다본 평면도,

도 3은 본 발명으로서, 도 1의 청정 작업대를 위에서 내려다본 평면도이다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서는, 하단에는 프리 필터가 부착된 제 1 구조물이 배치되고, 상기 제 1 구조물의 전단에는 프리 필터와 대응되는 위치에 송풍 모터가 배치되며, 상기 제 1 구조물의 상단에는 작업 테이블을 사이에 두고 헤파 필터가 부착된 제 2 구조물이 배치되도록 구성된 간이 청정 작업대에 있어서, 상기 헤파 필터의 양 사이드쪽에 위치한 상기 제 2 구조물 내의 각이진 모서리 부분에 라운딩 에어 가이드가 더 부착되도록 설계된 간이 청정 작업대가 제공된다.

상기 구조를 가지도록 간이 청정 작업대를 설계할 경우, 라운딩 에어 가이드로 인해 헤파 필터가 부착된 구조물의 각이진 모서리 부분이 라운딩 처리된 효과를 얻을 수 있게 되므로, 헤파 필터를 거쳐 청정 작업 공간 내로 외기 유입시 위치별 유속의 편차를 심화되는 것을 억제할 수 있게 되어, 와류 현상이 발생되는 것을 최소화할 수 있게 된다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상세히 설명한다.

도 3은 본 발명에서 제안된 간이 청정 작업대의 구조를 위에서 내려다본 평면도를 나타낸 것으로, 이를 도 1과 연관지어 구체적으로 살펴보면 다음과 같다. 여기서, 도 1의 측단면도 구조를 그대로 인용한 것은 간이 청정 작업대의 기본적인 구조 자체는 도 1의 골격을 그대로 유지하기 때문이다.

도 1 및 도 3에 의하면, 본 발명에서 제안된 간이 청정 작업대는 하단에는 프리 필터(2)가 부착된 제 1 구조물(1)이 배치되고, 상기 제 1 구조물(1)의 전단에는 프리 필터(2)와 대응되는 위치에 송풍 모터(4)가 배치되며, 상기 제 1 구조물(1)의 상단에는 작업 테이블(3)을 사이에 두고 헤파 필터(5)가 부착된 제 2 구조물(6)이 배치되도록 이루어져, 제 1 구조물(1)에 의해 한정되는 내부 공간은 외기 흡입 공간(1a)으로 사용되고, 제 2 구조물(6)에 의해 한정되는 내부 공간은 청정 작업 공간(6a)으로 사용되도록 장비 구성이 이루어져 있다는 점에서는 종래와 기본 구조 자체를 동일하게 가져가고 있으나, 제 2 구조물(6) 내의 각이진 모서리 부분에 흠집이나 열 등에 의해 변형되지 않는 SUS 재질의 라운딩 에어 가이드(7)가 더 부착되어 있다는 점에서 차이를 지님을 알 수 있다.

이 경우 역시, 제 1 구조물(1)은 프리 필터(2)와 마주보는 면이 오픈되도록 설계되고, 제 2 구조물(6)은 헤파 필터(5)와 마주보는 면이 오픈되도록 설계된다.

이와 같이 헤파 필터(5)의 양 사이드쪽에 위치한 제 2 구조물(6)의 각이진 모서리 부분에 라운딩 에어 가이드(7)를 별도 더 설치한 것은 헤파 필터(5)를 거쳐 청정 작업 공간(6a) 내로 외기 유입시, 헤파 필터(5)의 인접부에서 위치별 유속의 편차가 심화되는 것을 억제하여, 이 부분에서의 와류 현상을 최소화하기 위함이다.

그 결과, 헤파 필터(5)가 부착된 제 2 구조물의 각이진 모서리 부분이 라운딩 처리된 효과를 얻을 수 있게 되므로, 청정 작업 공간 내로 외기 유입시에 위치별 유속의 편차가 심화되는 것을 억제할 수 있게 되고, 와류 현상을 최소화할 수 있게 될 뿐 아니라 작업시 발생되는 오염 입자의 정체 또한 막을 수 있게 된다.

이상, 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하였지만 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야의 통상의 지식으로 그 변형이나 개량이 가능함은 물론이다.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 의하면, 간이 청정 작업대 설계시 헤파 필터가 부착된 구조물 내의 각이진 모서리 부분에 라운딩 에어 가이드를 별도 더 설치해 주므로써, 헤파 필터를 통해 청정 작업 공간 내로 외기 유입시 위치별 유속의 편차가 심화되는 것을 억제할 수 있게 되므로, 작업시 발생되는 오염 입자의 정체와 와류 현상을 최소화할 수 있게 된다.

Claims (2)

1. 하단에는 프리 필터가 부착된 제 1 구조물이 배치되고, 상기 제 1 구조물의 전단에는 프리 필터와 대응되는 위치에 송풍 모터가 배치되며, 상기 제 1 구조물의 상단에는 작업 테이블을 사이에 두고 헤파 필터가 부착된 제 2 구조물이 배치되도록 구성된 간이 청정 작업대에 있어서,

   상기 헤파 필터의 양 사이드쪽에 위치한 상기 제 2 구조물 내의 각이진 모서리 부분에 라운딩 에어 가이드가 더 부착된 것을 특징으로 하는 간이 청정 작업대.
2. 제 1항에 있어서, 상기 라운딩 에어 가이드는 SUS 재질로 구성된 것을 특징으로 하는 간이 청정 작업대.