KR20010053247A - 감광성 매체에 형성된 광학 필터의 어포디제이션 - Google Patents

감광성 매체에 형성된 광학 필터의 어포디제이션 Download PDF

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바티아비크람
토마스 에이. 쿡
로버트 에이. 모다비스
크리스토퍼 디. 롭슨
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알프레드 엘. 미첼슨
코닝 인코포레이티드
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Abstract

도파관의 광학축(64)을 따라 상대적으로 변위된 피크 강도(72)(74)를 가진 간섭빔(38)(40) 형태의 화학광선에 코어를 노출시킴으로써, 감광성 코어를 가진 광도파관(50)내에 필터 격자가 형성된다. 각각의 간섭빔은 상대적으로 변위된 상기 2개의 빔 사이에 바람직한 줄무늬 콘트라스트를 구현하는데 필요한 소정의 공간적 결맞음과 단일 로브 강도 프로파일을 갖는다. 상기 감광성 코어에서의 굴절률 변조는 광선의 조사 패턴(간섭 패턴)과 일치한다. 상기 간섭빔의 상대 변위는 굴절률 변조의 평균 굴절률을 일정하게 함으로써 격자의 스펙트럼 응답의 사이드 로브를 저감시킨다. 빔의 간섭효과 없이 상기 2개의 빔에 의한 2차 노출은 평균 굴절률을 더 일정하게 만든다.

Description

감광성 매체에 형성된 광학 필터의 어포디제이션{APODIZATION OF OPTICAL FILTERS FORMED IN PHOTOSENSITIVE MEDIA}
브래그 격자 및 장주기 격자가 화학광선에 대한 패턴노출로써 감광성 매체에 형성될 수 있는 광학 필터의 예이다. 통상적으로, 상기 광학 필터는 게르마늄과 같은 감광성 물질로 도프된 코어를 갖되, 상기 감광성 물질은 코어의 굴절률이 화학광선에 대한 노출에 응답하여 변화될 수 있도록 하고, 상기 광선은 일반적으로 자외선 스펙트럼내에 존재한다. 일반적으로, 상기 충돌 광선은 노출된 코어 부분의 굴절률을 광선의 강도 및 노출 길이(시간)에 비례하여 증가시킨다.
커플링 강도 및 격자 주기를 모두 조절하는 패터닝은 간섭 또는 마스킹에 의해 이루어질 수 있다. 브래그 격자는 스펙트럼 응답의 중심파장의 1/2 이하인 주기를 가지며, 이는 2개의 화학광선 빔을 비스듬하게 간섭시킴으로써 가장 잘 이루어질 수 있다. 장주기 격자는 100 내지 1000배의 주기를 가지며, 이는 간단한 마스킹으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 장주기 격자를 형성하기 위해, 공간적으로 분리된 빛의 대역이 섬유 코어를 비출 수 있도록 진폭 마스크가 패턴화될 수 있다.
노출 양태와는 무관하게, 충돌 광선의 강도 프로파일은 유사한 형태의 코어의 굴절률 프로파일로 변형된다. 예를 들면, 마스킹 또는 간섭을 조건으로 하여 일정한 강도 프로파일을 가진 충돌 빔은 노출된 코어 부분을 따라 균일한 굴절률 변조 및 일정한 평균 굴절률을 형성한다. 그러나, 최종적인 스펙트럼 응답은 바람직한 대역저지의 양측에서 큰 사이드 로브를 갖는다. 더 전형적인 가우스 형태를 가진 충돌 빔은 역시 가우스 형태를 따르는 굴절률 변조 및 평균 굴절률을 형성한다. 굴절률 변조 크기에서의 가우스 변형은 대향 사이드 로브를 제거하는 쪽으로 도움이 되나, 이에 수반하는 평균 굴절률의 변화는 격자의 유효주기를 점진적으로 변화시키고, 통상적으로 바람직한 대역저지의 일측에 사이드 로브를 형성한다.
바람직하지 않은 사이드 로브를 제거하기 위한 격자의 교정은, 격자 진폭의 "차광(shading)"을 포함하기 때문에, 때때로 "어포디제이션"으로 불리운다. 일반적으로, 어포디제이션의 목적은 격자 길이 전체에 걸쳐서 일정한 유효주기를 유지하는 반면, 굴절률 변조 크기를 펄스형으로 변화(예를 들어, 가우스 또는, 더욱 일반적으로, 소정의 최고점(피크)까지 증가한 다음 감소하는 형태)시키는 것이다. 광학 격자를 어포디징하기 위한 많은 공지의 기술은 고가이며, 시간을 많이 소비하고, 필요한 정확도를 구현하기가 곤란하다.
예를 들어, 힐 등의 미국특허 제 5,367,588호는 감광성 광학 필터 매체 옆에 비선형 위상 마스크를 설치하고, 상기 매체를 간격이 균일하지 않은 간섭패턴에 노출시킨다. 그 자체가 격자 기능을 하는 상기 위상 마스크는 가우스 강도 프로파일을 가진 화학광선 빔을 2개의 간섭 빔으로 분할하게 되며, 상기 간섭 빔은 균일하지 않은 간섭패턴을 형성한다. 상기 최종 필터 격자의 피치를 변화시킴으로써 합성된 조명 빔의 강도 프로파일과 유사한 평균 굴절률의 변화를 보상하게 된다. 이와 같이 특수한 비선형 위상 마스크는 제조비용이 고가이며, 광학 필터를 제조하는데 많은 부가비용을 발생시킬 수 있다.
또한, 로빈슨의 미국특허 제 5,717,799호는 격자 주기를 변화시킴으로써, 바람직한 굴절률 변조 크기 변화를 수반하는 바람직하지 않은 평균 굴절률 변화를 교정할 것을 제안하고 있다. 이러한 목적을 실현시키기 위한 방법은 격자 엘리먼트를 개별적으로 형성하거나, 격자 엘리먼트가 형성될 때(노출될 때) 격자의 부분들을 차별적으로 여과시키는 단계를 포함한다. 통상의 브래그 격자는 그 주기가 1/2 미크론으로 매우 작기 때문에, 격자 엘리먼트를 개별적으로 형성하는 것은 매우 실용적이지 못하고, 격자의 부분들을 차별적으로 여과시키는 것은 제조공정이 매우 복잡하며 일률적이지 못한 결과를 가져올 수 있다.
미즈라히 등의 미국특허 제 5,309,260호는 브래그 격자를 어포다이징하기 위해 연속적인 노출을 사용한다. 1차 노출은 굴절률 변조에서 필요한 변화를 일으키기 위해 가우스 프로파일을 가진 2개의 간섭 빔으로 이루어진다. 단일 빔에 의한 2차 노출은 필터 스펙트럼 응답의 부수적 피크(미세구조)을 억압하기 위해 상기 격자의 일단에서 평균 굴절률을 상승시킨다. 그러나, 평균 굴절률 변화는 격자 길이를 따라 존재하게 되고, 이는 "첩(chirp)"과 유사한 기능을 할 수 있으며, 필터링된 신호에 바람직하지 않은 일시적 분산을 일으킨다.
일반적으로, 화학광선(actinic radiation)에 대한 패턴노출(예를 들어, 간섭)로써 감광성 광학 매체에 형성된 광학 필터는 대역통과(band-pass) 또는 대역저지(band-stop) 스펙트럼 응답 프로파일을 갖는다. 상기 매체내에서의 굴절률 변화에 대한 필요조건은 응답 프로파일에 바람직하지 않은 "구조"(예를 들어, 사이드 로브(side lobes))를 부가하게 되며, 이는 다양한 어포디제이션 기술로 처리가 가능하다.
도 1은 완벽하게 중첩된 2개의 빔 사이의 간섭 패턴에 노출됨으로써 형성된 광학 격자를 따라 위치의 함수로서 굴절률 변화를 나타낸 그래프이고,
도 2는 도 1에 도시된 굴절률 패턴을 가진 격자의 예상되는 스펙트럼 응답을 파장의 함수로서 반사율로 나타낸 그래프이며,
도 3은 도파관의 광학축을 따라 공간적으로 변위된 위치에서 2개의 빔을 간섭시키기 위해 배치된 간섭계의 구조도이고,
도 4는 공간적으로 변위된 2개의 빔에 노출됨으로써 만들어진 예시적 굴절률 변조를 나타낸 그래프이며,
도 5는 도 4의 굴절률 변조와 관련된 스펙트럼 응답을 나타낸 그래프이고,
도 6은 비추어진 도파관으로부터 오프셋된 위상 마스크로 공간적으로 변위된 2개의 빔을 만들기 위한 광학 구조도이며,
도 7은 상기 빔 사이에 더 이상의 간섭 효과없이 2차 노출을 부가함으로써 만들어진 예시적 굴절률 변조를 나타낸 그래프이고,
도 8은 도 7의 굴절률 변조와 관련된 스펙트럼 응답을 나타낸 그래프이다.
본 발명은 필터의 광학축을 따라 평균 굴절률 변화로부터 굴절률 변조 크기 변화를 적어도 부분적으로 분리시킴으로써, 브래그 격자 및 장주기 격자를 포함하는 광학 필터의 응답곡선을 성형하는 것이다. 바람직하게, 상기 굴절률 변조는 단일 로브 강도 프로파일을 가진 화학광선 빔에 노출됨으로써 이루어진다. 상기 광학축을 따라 평균 굴절률에 더 영향을 주기 위해 동일하거나 다른 노출이 이용될 수 있다.
일실시예는 2개의 화학광선 빔을 합성하여 소정 광학필터의 감광성 코어에 적절한 주기의 간섭패턴을 형성하게 된다. 상기 2개의 빔은 약 sinc2강도 프로파일을 가진 공통의 공간적으로 결맞는 빔(common spatially coherent beam)으로부터 시작된다. 상기 2개의 빔의 축은 간섭 패턴의 줄무늬 간격을 조절할 수 있도록 서로에 대해 경사져 있으며, 바람직하게, 상기 줄무늬가 필터의 광학축과 교차하도록 필터의 공동 축평면내에 위치된다. 그러나, 상기 2개의 축의 교차점은 상기 2개의 축이 광학축을 따라 상대적으로 변위되도록 상기 광학축으로부터 오프셋된다. sinc2의 강도 프로파일을 가진 빔을 간섭시키기 위해, 약 0.88FWHM(반최대 진폭에서의 전폭(full width))의 축간이 바람직하다.
일반적으로, 상기 간섭빔은 필터의 광학축과 교차하는 지점에서 서로로부터 공간적으로 오프셋되기 때문에, 이러한 오프셋은 줄무늬 콘트라스트를 매우 저감시키게 된다. 그러나, 바람직하게, 상기 공동 빔을 성형하는 공간 필터가 사용되며, 이는 최종 간섭빔의 공간적 결맞음을 증대시켜 그들의 필요한 오정렬(misalignment)을 조절하게 된다. 상기 최종 간섭 패턴은 다소 짧으나, 펄스 성형된 콘트라스트 프로파일 및 동일한 줄무늬 간격을 유지하게 된다. 상기 2개의 빔의 합성된 강도 프로파일이 가장 영향을 받는다.
상기 필터의 광학축을 따라 간섭빔의 피크 강도를 오프셋시키면, 상기 빔이 겹치는 영역에서 합성강도의 축변화가 줄어들게 된다. 필터에 대한 효과는 상기 겹치는 영역내에 더 일정한 평균 굴절률을 제공하는 반면, 상기 영역내의 굴절률 변조 크기에서 바람직한 펄스 성형 변화를 유지한다. 굴절률 변조의 기초가 되는 줄무늬 콘트라스트는 2개의 빔간의 강도 차이로 인해 상기 겹치는 영역의 단부쪽으로 감소한다. 상기 신규한 필터는 사이드 로브 구조가 감소된 평탄형 스펙트럼 응답을 갖는다.
본 발명의 다른 실시예는 오프셋 위상 마스크와 공간 필터를 결합하여 유사한 스펙트럼 응답을 발생시킨다. 상기 공간 필터는 정상 입사시 위상 마스크를 향하는 화학광선 빔의 공간적 결맞음을 증대시키게 된다. 대부분의 화학광선은 위상 마스크에 의해 반대부호의 제1차수로 회절되며, 간섭빔으로서 상기 위상 마스크로부터 발산된다.
그러나, 통상의 절차에 따라 격자를 형성하기 위해 광학 필터 매체에 대해 위상 마스크를 직접 배치하는 대신, 상기 위상 마스크는 필터 매체의 광학축을 따라 간섭빔의 피크 강도를 분리시키는 소정 거리만큼 필터 매체로부터 이격된다. 분리의 정도는 전술한 실시예와 유사하게 조절됨으로써, 상기 광학축을 따라 빔이 겹치는 영역내에서 간섭빔의 합성강도를 비교적 일정하게 만든다. 또한, 전술한 실시예와 유사하게, 최종 간섭패턴에 의해 형성된 굴절률 변조는 변조 크기에서 펄스 성형 변화를 유지한다.
광학 필터의 스펙트럼 응답을 더욱 개선하기 위하여, 1차 노출과 함께 2차 노출이 사용될 수 있다. 필터의 광학축을 따라 이격된 위치에 2개의 빔이 동시에 사용된다. 그러나, 상기 빔간의 간격은 상기 노출마다 다르다. 1차 노출은 바람직한 굴절률 변조를 형성하고, 2차 노출은 1차 노출과 상호작용하여 평균 굴절률을 일정하게 한다. 상기 2개의 빔은 1차 노출의 간섭빔용 광원을 포함하는 동일한 광원으로부터 시작될 수 있다. 그러나, 2차 노출은 필터 매체에 굴절률 변조를 재형성하기 위해 이용되지 않는다. 2차 노출시, 상기 공간 필터는 중첩빔을 더 성형하지만 줄무늬가 형성되지 않도록 공간적 결맞음을 충분히 저감시키는 진폭 마스크로 대체될 수 있다. 선택적으로, 상기 필터 매체 또는 위상 마스크는 패턴화된 조명의 평균 노출 강도에 대해 디서(dither)될 수 있다(즉, 줄무늬를 "소실시킴").
바람직하게, 브래그 격자의 굴절률 변조는 간섭계 또는 위상 마스크로 형성되며, 2차 노출을 위해 유사한 장치가 사용된다. 상기 2가지 노출은 누적성이기 때문에, 그 차수는 역전될 수 있다. 장주기 격자의 굴절률 변조는 덜 민감한 장비로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 격자를 형성하기 위해 직사각형 투과성 진폭 마스크가 사용될 수 있다. 그러나, 바람직하게, 격자의 양단부에서 평균 굴절률을 조절하면서 모든 줄무늬를 소실시키기 위해, 상대적으로 발산하는 2개의 빔을 만들어내는 위상 마스크가 상기 진폭 마스크를 대체할 수 있다.
처음 2개의 도면, 즉 도 1 및 도 2는 광도파관의 감광성 코어를 가우스 강도 프로파일을 가진 2개의 간섭빔에 노출시켰을 경우, 과거에 기대되는 결과를 나타낸 그래프이다. 상기 2개의 빔은 감광성 코어를 따라 줄무늬 콘트라스트가 상기 빔의 합성된 가우스 강도 프로파일의 함수로서 변하는 간섭패턴을 만들어 낸다. 본 실시예에서 노출 강도의 함수로서 변하는 코어의 굴절률은 간섭패턴의 줄무늬 콘트라스트에 따라 변화한다. 따라서, 최종 굴절률 변조(10)는 합성빔의 가우스 강도 프로파일에 따라서 코어를 따라 크기가 변한다.
명확하게 이해할 수 있도록, 단지 수개의 굴절률 변조(10)만을 도시하였다. (1550㎚ 부근의 적외선 파장에서 작용하는 브래그 격자의 굴절률 변조(10)는 통상적으로 약 1/2 미크론의 주기로 이격된다.) 감광성 코어를 따라 변조(10)의 최고점대 저점의 크기 변화는 중심의 양측으로부터 바람직하게 점진적으로 감소되지만, 선(12)으로 표시된 평균 굴절률의 변화는 유효격자주기, 즉 주기의 광행로 길이를 변화시키는 바람직하지 않은 결과를 갖는다. 반사율에 관한 조건은 소정 대역의 파장을 벗어난 추가적인 파장에 의해 충족되며, 상기 최종 격자는 필터링된 신호의 바람직하지 않은 일시적 분산을 일으킬 수 있는 첩을 나타낼 수 있다.
도 2는 도 1에 도시된 굴절률 패턴을 가진 격자의 예상되는 스펙트럼 응답을 나타낸 그래프이다. 최종 스펙트럼 응답은 소정의 반사 대역(16) 외측에서 저파장의 반사율을 가진 사이드 로브(14)를 포함하며, 이는 응답 프로파일에 바람직하지 않은 "구조"를 부가하는 것으로 불리운다.
본 발명은, 하나 또는 그 이상의 다양한 실시예에서, 굴절률 변조(10)의 최고점대 저점의 크기에서 펄스 성형 변화를 유지하면서도 평균 굴절률(12)을 일정하게 하는 부가적인 자유를 제공한다. 이러한 2개의 실시예가 도 3 및 도 6에 도시되어 있다.
도 3의 실시예는 일시적으로 결맞는 화학광선 빔(24)을 형성하기 위한 레이저원(22)을 가진 간섭계(20)로 구성된다. 상기 레이저원(22)은 200 내지 250㎚ 범위의 파장에서 작용하여 격자를 형성하는 엑시머 펌프 주파수 이중 색소 레이저(excimer-pumped frequency-doubled dye laser)일 수 있다. 그러나, 다른 레이저 및 다른 파장도 그 파장 및 출력 형태에 반응하는 물질과 함께 사용될 수 있다. 펄스파 또는 연속파 광선이 사용될 수 있다.
상기 빔(24)을 실린더형 렌즈(26)가 선 초점(28)을 통해 수렴시킨다. 상기 선 초점(28)에 인접한 공간 필터(30)는 빔의 공간적 결맞음을 증대시키기 위해 빔(24)의 높은 공간 주파수 성분을 변환시킨다. 바람직한 공간 필터(30)의 상세한 내용이 미국 예비출원번호 제 60/047,859호(발명의 명칭: 고출력 레이저 빔용 공간 필터)에 개시되어 있다. 상기 공간 필터(30)를 떠날 때, 상기 빔(24)은 sinc2의 강도 프로파일을 갖는다. 시준기(32)가 빔(24)을 평행하게 하고, 제 2 공간필터(34)가 그 sinc2의 강도 프로파일로부터 사이드 로브를 제거한다.
상기 빔(24)을 빔분할기 블록(36)이 2개의 빔, 즉 각각 사절두(斜截頭)의 sinc2강도 프로파일을 가진 반사빔(38)과 투과빔(40)으로 분할한다. 미러(42)(44)는 상기 반사빔(38)의 중심축(46)이 광도파관(50)에 수직으로 연장된 선(48)에 대해 소정 각도(α)를 이루도록 방향을 설정하게 된다. 미러(52)(54)(56)는 상기 투과빔(40)을 동일한 반사횟수로 전달하며, 상기 투과빔(40)의 중심축(58)이 선(48)에 대해 크기는 동일하지만 부호는 반대인 각도(β)를 이루도록 방향을 설정하게 된다.
상기 실린더형 렌즈(26)와 수직하게 배치된 실린더형 렌즈(60)(62)는 도파관(50)의 공동 축평면(즉, 도 3의 도면 평면)내의 개별 선 초점쪽으로 빔(38)(40)을 수렴시킴으로써 상기 2개의 빔(38)(40)의 출력밀도를 증가시킨다. 약 5 내지 100 미크론의 빔 폭이 도파관(50)의 광학축(64)을 따라 약 5 내지 30㎜ 길이만큼 겹친다. 충돌하는 광선의 에너지 밀도는 약 200 mJ/cm2/pulse로 추정된다.
광섬유 또는 평면 광학기 형태를 가질 수 있는 도파관(50)은 피복으로 둘러싸인 감광성 코어를 포함하는 노출부(66)를 갖는다. 예를 들어, 감광성 코어는 실리카와 게르마늄 합성물로 제조되는 반면, 상기 피복은 실리카만으로 이루어질 수 있다. 감광성을 증대시키기 위해 수소 충진이 사용될 수 있다.
조절가능한 도파관 마운트(70)가 중첩되는 빔(38)(40)에 대한 도파관(50)의 위치를 결정하게 된다. 종래와는 다르게, 빔(38)(40)의 중심축(46)(58)은 도파관(50)의 광학축(64)으로부터 오프셋된 위치(76)에서 서로 교차한다. 즉, 빔(38)(40)의 피크 강도에 해당하는 중심축(46)(58)은 광학축(64)을 따라 상대적으로 변위된 위치(72)(74)에서 도파관(50)의 광학축(64)과 교차한다.
도파관(50)의 광학축(64)과 빔이 교차하는 위치에서 상기 빔(38)(40)의 중심축(46)(58)간의 오정렬은 도파관(50)의 노출부(66)에 조사되는 최종 간섭패턴에서 바람직한 줄무늬 콘트라스트를 구현하기 위해 빔(38)(40)사이에 고도의 공간적 결맞음을 필요로 한다. 상기 공간필터(30)가 이러한 요구를 충족시키기 위해 배치된다.
도 4 및 도 5는 광학축(64)을 따라 공간적으로 결맞는 빔(38)(40)의 피크 강도의 상대적 변위의 비교결과를 나타낸 것이다. 예를 들어, 도 4는 최고점대 저점굴절률 변조(78)의 필요 펄스 성형 변화는 유지되는 반면, 빔(38)(40)이 중첩되어 간섭하는 범위내에서 평균 굴절률(80)은 더욱 일정해짐을 나타낸다. 도 5는 사이드 로브(84)의 크기를 크게 줄임으로써 완성된 브래그 격자의 바람직한 반사 대역(82)이 얻어짐을 나타낸다. 또한, 기울기가 심한 반사 대역(82)의 사이드(86)(88)도 상기 격자에 향상된 성능(예를 들어, 누화 저감)을 제공한다.
바람직하게, 상기 2개의 빔(38)(40)의 중심축(46)(58)은 광학축(64)을 따라 반최대 강도(half maximum intensity)에서 적어도 그 전폭의 1/2만큼 이격된다. 그러나, sinc2강도 프로파일에 있어서, 반최대 강도에서 그 전폭의 약 0.88을 분리하는 것이 최적인 것으로 보인다. 광학축(64)을 따라 축(46)(58)사이를 너무 조금 분리하면, 격자의 양 단부에 비해 중심에서의 굴절률이 너무 높아질 수 있다. 너무 많이 분리하면 격자의 양 단부에 비해 중심에서의 굴절률을 과도하게 줄일 수 있으며, 또한, 내부에 굴절률 변조가 형성되는 빔(38)(40)간의 중첩 길이를 지나치게 짧게 만들 수 있다.
일정하게 부분적으로 겹치는 위치에서 단일 로브 빔에 의해 형성된 더 균일한 평균 굴절률의 효과를 얻기 위해, 간섭계(20)의 다양한 구성요소가 서로 다른 방식으로 배치되거나, 부가되거나, 생략되거나 대체될 수 있다. 예를 들어, 상기 빔(24)의 sinc2강도 프로파일은 특수 공간 필터(30)의 결과이지만, 가우스 빔 프로파일을 포함하는 다른 단일 로브 빔 프로파일도 사용될 수 있다. 필요하다면, 제 2 공간 필터(34) 다음에 시준기(32)가 배치될 수 있으며, 또는 한쌍의 시준기(32)가 빔분할기(36) 다음에 배치될 수 있다. 상기 빔(38)(40)의 방향을 상대적으로 정하기 위해 반사체(42)(44)(52)(54)(56)가 다소 사용될 수 있으며, 빔축(46)(58)의 교차점(76)이 도파관(50)의 광학축(64) 전후에 배치될 수 있다.
또한, 원하는 평면으로부터 도파관(50)의 노출부(66)에 간섭패턴을 확대하여 또는 확대하지 않고 투영하기 위해 영상 광학기(imaging optics)가 사용될 수 있다. 상기 평면은 도파관(50)의 노출부(66)에 직접 형성되었을 간섭패턴을 제지한다.
유사한 결과를 얻기 위한 다른 실시예(90)가 도 6에 도시되어 있다. 시점은 193㎚ 또는 248㎚ 파장에서 작용하는 엑시머 레이저와 같은 화학광선 광원(92)이다. 또한, 특정 용도 또는 물질에 적합한 다른 레이저 및 다른 파장이 사용될 수 있다. 공간 필터(100)와 함께 실린더형 렌즈(96)는 화학광선의 빔(94)의 공간적 결맞음을 증대시킨다. 빔(94)의 강도 프로파일은 시준기(102)로부터 빔(94)을 받아들이는 제 2 공간 필터(104)에 의해 더 성형된다. 미러(106)는 상기 실린더형 렌즈(96)에 대해 90°회전되는 다른 실린더형 렌즈(108)쪽으로 상기 빔(94)의 방향을 설정하게 되며, 상기 렌즈(108)는 광도파관(110)의 축평면(즉, 도 6의 도면 평면)내의 선 초점쪽으로 상기 빔을 수렴시킨다. 상기 축평면내에서, 빔(94)은 시준된 상태로 유지된다.
조절가능한 마운트(114)상에 지지된 위상 마스크(112)가 상기 시준되고 수렴하는 빔(94)을 차단하여, 상기 빔(94)을 광도파관(110)의 축평면내에서 시준은 되었으나 상대적으로 발산하는 2개의 빔(118)(120)으로 분할하게 된다. 바람직하게, 그 자체가 회절격자인 상기 위상 마스크(112)는 일정한 주기를 가지며, 격자의 반대부호의 제1차수로 충돌하는 대부분의 광선의 방향을 설정하도록 더 배치된다. 또한, 제로와 제1차수의 조합을 포함하여 다른 차수의 조합이 사용될 수 있으나, 2개의 제1차수가 바람직하다.
상기 위상 마스크(112) 부근에서, 상기 2개의 빔(118)(120)은 중첩되고 간섭한다. 그러나, 상기 위상 마스크(112)를 도파관(110)의 노출부(122)에 대해 직접 배치하는 대신, 상기 위상 마스크(112)는 도파관(110)의 광학축(128)을 따라 상기 2개의 빔(118)(120)(바람직하게는 빔의 중심축에 해당)의 피크 강도(124)(126)를 분리시키는 소정 거리만큼 노출부(122)로부터 이격된다. 1㎜ 내지 5㎜의 간격이 일반적이지만, 완성된 격자의 스펙트럼 응답 및 상기 2개의 빔의 폭에 따라 더 크거나 더 작은 간격도 사용될 수 있다.
(a) 광도파관(110)이 도 3의 광도파관(50)과 유사하고, (b) 상기 빔(94)이 도 3의 빔(24)과 유사하며, (c) 빔(118)(120)의 회절각도가 도 3의 경사도(α)(β)와 유사하고, (d) 피크 강도(124)(126)가 도 3의 광학축(64)을 따라 피크 강도(72)(74)가 분리되는 거리 만큼 광학축(128)을 따라 분리된다고 가정하면, 도 4 및 도 5의 실시예와 유사한 격자가 도 3 및 도 6의 실시예에 의해 제조될 수 있다. 또한, 구성요소도 유시하게 배치될 수 있다.
지금까지, 해당 도파관(50)(110)의 단일 노출과 관련하여 도 3 및 도 6의 실시예를 설명하였다. 도 4 및 도 5에서 상당히 개선되었음을 볼 수 있지만, 굴절률 변조의 최고점대 저점의 크기 변화를 변형시키지 않고 도파관 코어의 평균 굴절률을 조절하는 부가적 노출에 의해 추가적인 개선이 가능하다. 바람직하게, 2차 노출은 2개의 중첩빔으로 이루어지지만, 도파관 코어에 대한 간섭 줄무늬 효과는 회피된다.
다시 도 3을 참조하면, 상기 조절가능한 도파관 마운트(70)는 광학축(64)을 따라 빔(38)(40)의 피크 강도(72)(74)의 분리를 변화시키기 위해 화살표(130) 방향으로 움직여질 수 있다. 바람직하게, 2차 노출이 이루어질 때 분리의 정도는 1차 노출이 이루어질 때의 분리보다 더 크다. 상기 1차 노출은 굴절률 변조의 최고점대 저점의 크기 변화를 최적화시키며, 2차 노출은 굴절률 변조의 평균 굴절률을 더 최적화시킨다. 즉, 단지 1차 노출만이 굴절률 변조의 최고점대 저점의 크기 변화에 영향을 주지만, 상기 1차 및 2차 노출은 모두 굴절률 변조의 평균 굴절률에 영향을 준다.
빔(38)(40)간의 간섭은 빔간의 공간적 결맞음을 줄임으로써 상기 2차 노출시 억제될 수 있다. 공간적 결맞음은 공간 필터(30)용 진폭 마스크를 동일한 투과 기능으로 대체함으로써 저감될 수 있다. 또한, 공간적 결맞음을 더 저감시키기 위해 발산 광학기가 사용될 수 있으나, 상기 빔(38)(40)이 자신들의 유효 공간 오프셋을 증가시키도록 상대적으로 잘려질 수 있다.
선택적으로, 빔(38)(40)간의 간섭 줄무늬는 화살표(132)방향으로 광도파관을 디서(dithering)시킴으로써 "소실"될 수 있다. 도파관 부분(66)의 광학축(64)을 따라 임의의 지점이 복수의 줄무늬에 걸쳐있는 간섭패턴의 평균 강도에 노출된다.
상기 2가지 노출에 의한 더 개선된 결과가 도 7 및 도 8의 그래프로 나타나 있다. 굴절률 변조(136)의 최고점대 저점의 크기 변화는 상기 1차 노출에 의해 더 최적화된는 반면, 1차 및 2차 노출은 모두 굴절률 변조(136)의 범위에서 평균 굴절률(138)을 일정하게 하는데 기여한다. 도 8에 그래프로 도시된 스펙트럼 응답은 바람직한 반사율 대역(142)은 유지하면서도 사이드 로브(140)가 매우 저감되었음을 나타낸다.
도 6의 실시예는 비교가능한 결과를 얻을 수 있도록 이루어진다. 예를 들어, 광학축(128)을 따라 빔(118)(120)의 피크 강도(124)(126)의 분리를 변화시키기 위해, 조절가능한 마운트(114)상에서 위상 마스크(112)는 화살표(146) 방향으로 상대적으로 움직일 수 있다. 피크 강도간의 분리는 도 3의 실시예와 유사하게 그 지지체(148)상에서 도파관(110)을 움직임으로써 변화될 수 있다. 또한, 화살표(150) 방향으로 위상 마스크(112) 또는 도파관(110)을 디서시켜, 줄무늬를 소실시키거나 공간적 결맞음을 저감시킴으로써, 간섭효과가 회피될 수 있다.
상기 2가지 노출은 서로 구별할 수 있도록 하기 위해 1차 및 2차 노출로 기재하였으나, 순서가 2차보다는 1차, 또는 1차보다는 2차로 일어날 수 있다. 상기 2가지 노출중 적어도 하나의 피크 강도(72)(74)(124)(126)는 광도파관(50)(110)의 광학축(64)(128)을 따라 변위되지만, 원하는 사이드 로브 억압에 따라, 다른 노출의 피크 강도는 상기 광학축(64)(128)을 따라 필연적으로 변위되지 않을 수 있다.
장주기 격자의 굴절률 변조는 브래그 격자의 굴절률 변조보다 훨씬 더 넓게 이격되며, 디지탈 진폭 마스크를 포함하여 이를 형성하는데 있어서 더 많은 선택이 가능하다. 그러나, 상대적으로 변위된 2개의 빔에 격자를 동시에 노출시키는 위상 마스크에 의한 2차 노출은 모든 줄무늬를 소실시키면서 더 긴 굴절률 변조의 평균 굴절률을 일정하게 함으로써 성능을 개선할 수 있다.
본 발명에 따라 제조된 브래그 격자는 특히 통신 시스템에 유용하다. 예를 들면, 상기 브래그 격자는 특정 채널을 부가 또는 하락시키거나 상기 채널을 디멀티플렉싱 캐퍼시티로 각각 분할하기 위해 사용될 수 있다. 센서, 분산 보상기 또는 레이저 펌프 안정기 등 다른 용도로 사용될 수 있다. 본 발명에 따라 제조된 장주기 격자는 광학 증폭기 및 잡음 저감기와 같은 장치의 작동을 개선하기 위한 스펙트럼 선택성 또는 대역 제거필터로서 가장 잘 작동한다.

Claims (60)

  1. 광학축을 따라 서로 다른 고정된 위치에서 상대적으로 변위된 축을 가진 화학광선의 간섭빔의 강도 패턴에 대응하는 일련의 굴절률 변조를 광학축을 따라 가진 광학 매체에 형성된 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 굴절률 변조는 광학축을 따라 강도 패턴의 평균보다 상기 광학축을 따라 더 많이 변하는 평균 줄무늬 콘트라스트를 가진 상기 간섭빔간의 간섭패턴의 상대 강도와 그 크기가 대응하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 간섭빔은 강도 패턴의 평균이 간섭빔사이의 겹치는 범위에서 대체로 일정하게 유지될 수 있는 거리만큼 광학축을 따라 상대적으로 변위된 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 간섭빔의 축은 반최대 강도에서 적어도 그 전폭의 1/2만큼 이격된 위치에서 상기 광학축과 교차하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 간섭빔의 축은 반최대 강도에서 적어도 그 전폭의 약 0.88만큼 이격된 위치에서 상기 광학축과 교차하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 간섭빔은 sinc2강도 프로파일을 가진 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 간섭빔의 축은 광학 매체의 광학축보다 앞에서 교차하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 간섭빔의 축은 광학 매체의 광학축 뒤에서 교차하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  9. 화학광선의 광원으로부터 방출된 빔의 공간적 결맞음을 연장시키는 공간 필터; 및
    상기 공간적으로 결맞는 빔을 당해 빔의 연장된 공간적 결맞음내의 광도파관 매체에 조사되는 2개의 간섭빔으로 변환시켜 상기 매체내에 굴절률 변조를 제조하는 위상 마스크를 포함하되,
    상기 위상 마스크는 광도파관 매체를 따라 간섭빔의 피크 강도를 분리시키며 상기 광도파관 매체를 따라 간섭빔 사이의 겹치는 범위내에서 간섭빔의 합성 강도를 일정하게 하는 거리만큼 광도파관 매체로부터 이격된 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 빔의 피크 강도는 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 1/2만큼 광도파관 매체를 따라 분리되는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 공간 필터는 공간적으로 결맞는 빔에 sinc2강도 프로파일을 부여하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 간섭빔의 축은 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 약 0.88만큼 이격된 위치에서 상기 광학축과 교차하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  13. 제 9 항에 있어서, 상기 광도파관 매체를 따라 피크 강도간의 분리를 조절하기 위해 상기 광도파관 매체와 위상 마스크 사이의 간격을 변화시키는 조절장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 위상 마스크는, 중첩되는 빔의 피크 강도를 광도파관 매체를 따라 서로 다른 크기만큼 분리시킴으로써 상기 중첩되는 빔 사이의 겹쳐지는 범위내에서 광도파관 매체의 평균 굴절률 변화가 작아지도록 하는 제 2 거리 만큼 광도파관 매체로부터 이격된 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 광도파관 매체와 위상 마스크 사이의 제 2 거리에서 상기 겹치는 빔과 관련된 줄무늬 효과를 억제하기 위한 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 줄무늬 효과를 억제하기 위한 수단은 겹치는 빔에 대해 광도파관 매체를 상대적으로 디서시키는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 줄무늬 효과를 억제하기 위한 수단은 공간적으로 결맞는 빔에 대해 위상 마스크를 상대적으로 디서시키는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 줄무늬 효과를 억제하기 위한 수단은 상기 2개의 간섭빔의 공간적 결맞음을 저감시키는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  19. 제 9 항에 있어서, 상기 위상 마스크는 일정한 피치를 갖는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 시스템.
  20. 화학광선에 노출됨으로써 변화될 수 있는 굴절률을 가진 광도파관 매체를 제조하는 단계;
    상기 광도파관 매체를 조사하도록 2개의 경사진 화학광선 빔의 방향을 설정하는 단계; 및
    상기 광도파관 매체를 따라 평균 강도가 덜 변화하는 간섭패턴을 형성하도록 상기 2개의 경사진 빔의 공간적 결맞음의 범위내의 상기 2개의 빔의 교차점으로부터 소정 거리상에 광도파관 매체를 배치시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 배치시키는 단계는 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 1/2만큼 상기 광도관 매체를 따라 상기 2개의 경사진 빔의 피크 강도를 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 화학광선의 공동빔을 상기 2개의 경사진 빔으로 분할하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 화학광선의 공동빔을 공간적으로 필터링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  24. 제 23 항에 있어서, 상기 공동빔이 sinc2강도 프로파일을 나타내도록 배치시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  25. 제 22 항에 있어서, 상기 공동빔을 분할하는 단계는 빔분할기에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  26. 제 22 항에 있어서, 상기 공동빔을 분할하는 단계는 위상 마스크에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  27. 제 20 항에 있어서, 상기 간섭패턴의 공간적 연장범위내에서 광도파관 매체에 부여된 평균 강도 변화를 더 저감시키기 위해 상기 2개의 빔의 교차점으로부터 소정 거리상에 광도파관 매체를 배치시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  28. 광도파관 매체를 따라 제 1 고정 상대위치에 배치된 피크 강도를 가진 제 1 화학광선 중첩빔 세트로 광도파관 매체를 조사(illuminating)하는 단계;
    상기 제 1 고정 상대위치에서 제 1 중첩빔 세트에 의해 광도파관 매체상에 형성된 간섭패턴에 상당하는 굴절률 변조를 광도파관 매체에 형성하는 단계;
    상기 광도파관 매체를 따라 제 2 고정 상대위치에 배치된 피크 강도를 가진 제 2 화학광선 중첩빔 세트로 상기 광도파관 매체를 조사하는 단계; 및
    상기 조사된 광도파관 매체의 평균 굴절률이 광도파관 매체내에 형성된 굴절률 변조 범위에서 더 작은 변화를 나타내도록 상기 제 2 고정 상대위치에서 제 2 중첩빔 세트로 상기 조사된 광도파관 매체의 평균 굴절률을 조절하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 방법.
  29. 제 28 항에 있어서, 상기 조절 단계는 굴절률 변조 범위에서 평균 굴절률이 대체로 일정하도록 만드는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 방법.
  30. 제 28 항에 있어서, 상기 제 2 중첩빔 세트로 광도파관 매체를 조사하는 단계는 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 1/2만큼 광도파관 매체를 따라 중첩빔의 피크 강도를 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 방법.
  31. 제 28 항에 있어서, 상기 제 1 중첩빔 세트가 분할되어지는 공동빔을 공간적으로 필터링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 방법.
  32. 제 28 항에 있어서, 상기 제 2 중첩빔 세트로 광도파관 매체를 따라 굴절률 변조의 변화를 억제시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광도파관 매체내에 광학 필터를 제조하기 위한 방법.
  33. 제 28 항의 방법에 따라 제조되며, 감광성 도파관 매체를 가진 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  34. 화학광선에 노출됨으로써 변화될 수 있는 굴절률을 가진 광도파관 매체를 제조하는 단계;
    상기 광도파관 매체에 대해 제 1 위치에 배치된 위상 마스크를 통해 제 1 화학광선 빔의 방향을 설정하는 단계;
    상기 광도파관 매체의 광학축을 따라 굴절률 변조를 형성하는 제 1 중첩빔 세트로 상기 제 1 빔을 회절시키는 단계;
    상기 광도파관에 대해 제 1 위치로부터 제 2 위치로 상기 위상 마스크를 상대적으로 이동시키는 단계;
    상기 제 2 위치에 배치된 위상 마스크를 통해 제 2 화학광선 빔의 방향을 설정하는 단계; 및
    상기 광도파관 매체의 광학축을 따라 평균 굴절률을 변화시키는 제 2 중첩빔 세트로 상기 제 2 빔을 회절시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  35. 제 34 항에 있어서, 상기 이동시키는 단계는 광도파관의 광학축에 대해 대체로 수직하게 상기 위상 마스크를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  36. 제 35 항에 있어서, 상기 양 중첩빔 세트는 광도파관의 공동 축평면내에 배치되는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  37. 제 35 항에 있어서, 상기 제 2 위치는 광도파관으로부터 위상 마스크를 적어도 1㎜ 만큼 이격시키는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  38. 제 34 항에 있어서, 상기 위상 마스크는 일정한 피치를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  39. 제 34 항에 있어서, 상기 제 2 중첩빔 세트는 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 1/2만큼 상기 광도파관 매체를 따라 분리되는 피크 강도를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  40. 제 34 항에 있어서, 상기 제 2 빔을 회절시키는 단계는 제 1 중첩빔 세트 사이의 겹쳐지는 범위내에서 광도파관 매체의 광학축을 따라 평균 굴절률이 대체로 일정하도록 만드는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  41. 제 34 항에 있어서, 공간적 결맞음을 증대시키기 위해 상기 제 1 화학광선 빔을 공간적으로 필터링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  42. 제 34 항에 있어서, 상기 제 2 중첩빔 세트로 광학축을 따라 굴절률 변조의 변화를 억제시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 제조방법.
  43. 제 34 항의 방법에 따라 제조되며, 감광성 도파관 매체를 가진 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  44. 제 43 항에 있어서, 상기 광학 필터는 브래그 격자인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  45. 제 43 항에 있어서, 상기 광학 필터는 장주기 격자인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  46. 도파관 매체의 광학축을 따라 굴절률 변조에 의해 제조된 광학 필터를 어포다이징하는 방법으로서,
    자신의 전파 방향으로 연장되는 축을 가진 중첩빔으로 화학광선 빔을 분할하는 단계;
    상기 중첩빔으로 도파관 매체를 조사하는 단계;
    상기 도파관 매체의 광학축을 따라 중첩빔의 축을 분리시키는 단계; 및
    상기 광학축을 따라 굴절률 변조의 크기를 크게 변화시키지 않고 상기 광학축을 따라 평균 굴절률이 조절될 수 있도록, 상기 중첩빔간의 간섭효과로 인해 광학축을 따라 발생하는 굴절률 변조 변화를 억제시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  47. 제 46 항에 있어서, 상기 분리시키는 단계는 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 1/2만큼 상기 도파관 매체의 광학축을 따라 중첩빔의 축을 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  48. 제 46 항에 있어서, 상기 억제시키는 단계는 중첩빔에 대해 도파관 매체를 상대적으로 디서시키는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  49. 제 46 항에 있어서, 상기 분할하는 단계는 상기 빔을 분할하기 위해 위상 마스크를 사용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  50. 제 49 항에 있어서, 상기 억제시키는 단계는 위상 마스크를 디서시키는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  51. 제 46 항에 있어서, 상기 억제시키는 단계는 중첩빔의 공간적 결맞음을 저감시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  52. 제 46 항의 방법에 따라 어포다이징되며, 감광성 도파관 매체를 가진 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  53. 제 52 항에 있어서, 상기 광학 필터는 브래그 격자인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  54. 제 52 항에 있어서, 상기 광학 필터는 장주기 격자인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  55. 도파관 매체의 광학축을 따라 굴절률 변조에 의해 제조된 광학 필터를 어포다이징하는 방법으로서,
    상기 도파관 매체를 조사하는 중첩빔으로 화학광선 빔을 분할하는 위상 마스크를 통해 상기 화학광선 빔의 방향을 설정하는 단계;
    상기 광학축을 따라 중첩빔의 피크 강도를 분리시키는 거리만큼 도파관 매체로부터 상기 위상 마스크를 이격시키는 단계; 및
    상기 광학축을 따라 굴절률 변조의 크기를 크게 변화시키지 않고 상기 광학축을 따라 평균 굴절률이 조절될 수 있도록, 상기 중첩빔간의 간섭효과로 인해 광학축을 따라 발생하는 굴절률 변조 변화를 억제시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  56. 제 55 항에 있어서, 상기 이격시키는 단계는 반최대 강도에서 적어도 그 빔의 전폭의 1/2만큼 상기 광학축을 따라 중첩빔의 피크 강도를 분리시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  57. 제 55 항에 있어서, 상기 억제시키는 단계는 위상 마스크를 디서시키는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  58. 제 55 항에 있어서, 상기 억제시키는 단계는 중첩빔에 대해 도파관 매체를 상대적으로 디서시키는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  59. 제 55 항에 있어서, 상기 억제시키는 단계는 중첩빔의 공간적 결맞음을 저감시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터 어포다이징 방법.
  60. 제 55 항의 방법에 따라 어포다이징되며, 감광성 도파관 매체를 가진 것을 특징으로 하는 광학 필터.
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