KR20010041172A - 광신호 장치용 회절격자 제조방법 및 그 회절격자를 포함하는 광신호 장치 - Google Patents

광신호 장치용 회절격자 제조방법 및 그 회절격자를 포함하는 광신호 장치 Download PDF

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KR20010041172A
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루에이 엘다다
싱 진
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알프레드 엘. 미첼슨
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Abstract

본 발명은 기판상에 파장필터를 제조하기 위한 방법에 관한 것으로, 주름을 가진 위상 마스크가 서로 다른 굴절률을 가진 적어도 2개의 코모노머로 이루어진 고분자 기판상에 배치되며, 선택된 파장의 빛을 반사시킬 수 있는 굴절격자를 생성하기 위해 서로 다른 회절차수에 대응하는 2개의 빔이 형성되도록 상기 위상 마스크에 빛을 통과시키게 된다. 또한, 이와 같은 방법으로 제조된 격자를 사용하는 광신호 장치가 개시되어 있다.

Description

광신호 장치용 회절격자 제조방법 및 그 회절격자를 포함하는 광신호 장치{FABRICATION OF DIFFRACTION GRATINGS FOR OPTICAL SIGNAL DEVICES AND OPTICAL SIGNAL DEVICES CONTAINING THE SAME}
데이터의 스위칭, 부가/하락 및 경로지정(routing)에 사용되는 광신호 장치가 알려져 있다. 파장 코드화 신호(특정 파장 또는 파장들의 빛)를 부가 및 하락시키는 장치가 당업계에 알려져 있다. 이러한 장치는 근거리통신망, 컴퓨터 네트워크 및 그 동등물 뿐만 아니라 원거리 통신 시스템에 널리 사용되는 광섬유를 사용한다. 광섬유는 다량의 정보를 전송할 수 있는데, 상기 광학 장치는 서로 다른 파장 채널로 전송되는 정보를 분리하여 상기 섬유로부터 선택된 양의 정보를 추출하는 것을 목적으로 한다.
이러한 형태의 장치는 파장 코드화 신호를 함께 분리하는 다양한 소자를 포함한다. 순간 방향성 커플링을 구현하기 위해 집적 광학 커플러, 특히 방향 커플러가 개발되었다. 광신호는 하나의 평면 도파관으로부터 다른 평면 도파관으로 커플링된다. 제 2 평면 도파관의 신호는 당해 신호가 제 1 평면 도파관에서 움직이는 것과 동일한 방향으로 전파한다.
파장의 협대역을 단리시키기 위해 회절격자(예를 들어, 브레그 격자)가 사용된다. 이러한 격자 반사기는 섬유 광학 전송 시스템에 또는 그 시스템으로부터 다른 파장의 다른 신호를 교란시키지 않고 소정의 유심 파장(centered wavelength) 광신호를 부가 또는 하락시키는데 사용되는 장치를 구성할 수 있도록 한다.
광학 커플러 장치에 사용되는 브레그 격자 시스템이 엘리아스 스니처의 미국 특허 제 5,574,807호에 개시되어 있다. 상기 제 5,574,807호 특허는 신호를 다른 파장으로 반송하는 파장 분할 멀티플렉스 섬유 광학 전송 시스템에 또는 그 시스템으로부터 소정의 유심 파장 광신호를 부가 또는 하락시키는데 사용되는 장치를 개시하고 있다. 커플링 영역을 형성하는 실질적으로 동일한 2개의 단일 모드 섬유로 이루어진 쌍코어 섬유가 제조되며, 상기 섬유는 빛을 하나의 코어로부터 다른 코어까지 소정의 파장 경간으로 완벽하게 순간 필드 커플링하기 위한 것이다. 상기 쌍코어 섬유는 당해 쌍코어 섬유의 축에 대해 대체로 수직인 브레그 격자 시스템도 포함한다.
전술한 바와 같이 종래의 기술로 개시된 장치는 많은 단점이 있다. 그중 하나는 제조가 어렵다는 것이다. 두번째 단점은 격자 영역에서 광도파관의 암(arms)을 가로질러 브레그 격자를 정렬하는 것이 곤란하다는 것이다.
따라서, 격자의 정렬과 관련한 문제점을 제거하여 빛의 손실을 최소화하고, 제조가 비교적 용이한 격자 시스템을 제공하는 것은 광신호 장치 분야에서 상당한 발전이다.
본 발명은 마하 젠더(Mach Zehnder) 장치 또는 방향 커플러와 같은 광신호 장치에서 협대역 파장을 단리시키는데 사용되는 회절격자의 제조방법에 관한 것이다. 상기 제조방법은 주름을 가진 위상 마스크를 사용하되, 상기 주름은 당해 주름을 통과하여 굴절률이 서로 다른 코모노머(comonomers)로 이루어진 고분자 기판까지 전송되는 빛을 주기적으로 지체시킨다. 상기 방법과 그에 따라 제조된 광신호 장치는 통상의 광신호 장치보다 광손실이 적다.
첨부도면은 본 발명의 실시예를 도시한 것으로, 본 명세서의 일부인 청구범위에 포함된 본 발명을 한정하는 것은 아니다.
도 1은 기판, 피복층 및 코어층의 상대 위치를 나타낸 도면으로서, 본 발명의 광학 장치의 측면도이고,
도 2는 장치의 중앙에서 2개의 이격된 암과 교차하는 브레그 격자와, 2개의 3㏈ 커플러 영역에서 순간 커플링이 가능하도록 위치된 도파관이 구비된 마하 젠더 간섭계를 포함하는 본 발명의 제 1 실시예를 도시한 개략도이며,
도 3은 본 발명에 따른 격자의 제조에 유용한 일련의 중합체에 대한 단량체 전환과 시간의 상호관계를 나타낸 그래프이고,
도 4는 본 발명에 따른 광신호 장치내에 격자를 생성하기 위하여 기판상에 위상 마스크를 배치하는 것을 나타낸 개략도이며,
도 5는 본 발명의 격자 시스템에서 굴절률 변조의 엔벨로프(envelope)에 대한 바람직한 파동 함수를 나타낸 그래프이다.
본 발명은 광신호 장치에 관한 것으로, 특히 광신호를 부가 및 하락시키는 광신호 장치에 관한 것이다. 본 발명은 현재의 광신호 장치보다 더 효과적이면서 적은 광손실로 광신호를 하락시키는 개선된 격자 시스템을 제공한다.
특히, 본 발명은
a) 굴절률이 서로 다른 코모노머로 이루어진 고분자 기판에 주름을 가진 위상 마스크를 배치하는 단계; 및
b) 선택된 파장의 빛을 반사시킬 수 있는 굴절격자를 생성하기 위해 서로 다른 회절차수에 대응하는 2개의 광 빔이 형성되도록 상기 위상 마스크에 단일 광 빔을 통과시키는 단계를 포함하는 파장필터(예를 들어, 브레그 격자) 제조방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 이러한 방법으로 제조된 파장필터가 구비된 광신호 장치를 포함한다.
본 발명은 다중 파장 광원으로부터 분리된 신호의 파장을 제어하고 콘트라스트가 향상된(즉, 굴절률 변조가 큰) 반사 격자 시스템의 제조방법에 관한 것이다.
광신호 장치의 격자는 커플러, 디플렉터(deflectors), 반사기, 파장 필터 및 모드 변환기를 포함하는 많은 수동소자에 사용되는 미세 주기적 굴절률 변형체이다. 이러한 장치는 다양한 용도로 사용되지만, 일반적으로 광학 파장 신호를 제어하기 위한 시스템을 구성한다.
본 발명에 따라, 일련의 주름을 가진 위상 마스크를 포함하여 고분자 기판상에 격자 시스템 형태의 파장 필터가 제공된다. 선택된 파장의 빛을 반사시킬 수 있는 굴절격자를 생성하기 위해 서로 다른 회절차수에 대응하는 2개의 광 빔이 형성되도록 상기 위상 마스크를 단일 광 빔이 통과하게 된다.
본 발명의 광신호 장치의 제조에 사용되는 기판은 글라스, 실리콘, 플라스틱(예를 들면, 폴리우레탄 및 폴리카보네이트) 및 그 동등물을 포함하는 다양한 물질로부터 선택할 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 광신호 장치(2)를 구성하는 주요층은 하부 피복층(6)과 상부 피복층(8)이 위에 형성된 기판(4)을 포함한다. 내부에 도파관(미도시)이 각인된 코어층(10)이 상기 피복층(6)(8) 사이에 샌드위치된다.
도 2를 참조하면, 단일 채널 부가/하락 광신호가 기판(도 1에서 기판의 상대위치를 참조)상에 형성된 마하 젠더 장치(20)의 형태로 도시되어 있다. 커플링 영역에서 순간 커플링이 발생하는 도 2의 장치(20)는 방향 커플러 형태로 2개의 3㏈ 커플링 영역(26)(28)에서 서로 정렬된 대체로 동일한 2개의 평면 도파관(22)(24)을 갖는다. 커플링 영역(26)(28) 사이에는 본 발명에 따라 제조된 격자 시스템(32)(예를 들어, 브레그 격자)을 포함하는 격자 영역(30)이 존재한다.
상기 코어층(10)에 각인되는 도파관은 광신호 장치를 제공하도록 배열되어지되, 상기 장치에서 다중 파장 광원으로부터 나온 빛의 단일파장이 분리되어 당해 장치로부터 방출된다.
바람직하게, 상기 하부 피복층(6), 상부 피복층(8) 및 코어층(10)은 하기된 조건을 만족시키는 코모노머를 포함하는 고분자 물질로 제조된다. 특히, 상기 코모노머의 상대량은 빛이 비춰지는 영역과 빛이 비춰지지 않는 영역에서 서로 다르기 때문에, 빛이 위상 마스크를 통과한 후 빛에 의해 형성된 간섭패턴에서 밝은 줄무늬와 어두운 줄무늬간에 굴절률 차이가 커지도록 할 만큼 굴절률의 차(△n)가 충분히 크게 하기 위해 서로 다른 굴절률을 가진 코노소머를 선택하게 된다.
바람직하게, 상기 코모노머는 서로 다른 확산율을 갖는다. 즉, 단량체중 하나는 밝은 줄무늬로부터 벗어나려는 경향이 있는 반면 다른 단량체는 밝은 줄무늬에 잔존하려는 경향이 있다. 또한, 밝은 줄무늬에 잔존하는 코모노머는 빠른 중합반응율을 갖는 반면, 밝은 줄무늬(어두운 영역)를 벗어난 다른 단량체는 느린 중합반응율을 갖는 것이 바람직하다. 다양한 단량체의 예와, 단량체 상태에서 중합체로의 전환이 시간의 함수로서 도 3에 도시되어 있다.
도 3을 참조하면, 예를 들어, HDDA 단량체가 EBDA보다 더 빠른 전환율을 갖는 것을 관찰할 수 있다. 이 단량체 쌍이 본 발명에 사용하기 위한 고분자 물질의 제조에 적합할 것이다. 역으로, EBDM과 HDDA의 조합은 각 단량체의 중합반응율이 유사하기 때문에 적합하지 않다. 전술한 조건을 만족시키는 중합체는 본 발명에 따른 파장 필터 또는 격자를 수용하기에 특히 적당하다.
상기 고분자 물질속으로 전달되는 광원이 통과하게 되는 위상 마스크는 글라스 및 석영을 포함하는 다양한 물질로부터 선택될 수 있다. 빛은 공기를 통과하는 것 보다 위상 마스크 물질을 더 저속으로 통과하기 때문에, 상기 위상 마스크는 광 빔이 당해 위상 마스크 물질(예를 들어, 글라스)과 공기를 모두 통과한 다음 주기적으로 지체되도록 일련의 주름을 가질 필요가 있다. 결과적으로, 상기 빛은 회절되고, 서로 다른 회절차수에 대응하는 2개의 광 빔이 서로 다른 각도로 상기 위상 마스크를 빠져 나가게 된다.
도 4를 참조하면, 복수의 주름이 그 내부에 형성된 위상 마스크(42)를 가진 전술한 형태의 고분자 기판(40)이 도시되어 있다. 참조번호 46으로 표시된 광원이 위상 마스크를 통해 하기된 바와 같이 광 빔을 보내게 되며, 빛은 위상 마스크에서 2개의 빔(48)(50)으로 회절된다.
상기 위상 마스크를 빠져 나온 2개의 빔은 서로 간섭하여 밝은 영역과 어두운 영역을 형성하게 된다. 상기 밝은 영역과 어두운 영역의 주기는 위상 마스크에서 주름 주기의 1/2에 해당한다. 따라서, 예를 들면, 위상 마스크의 주기가 1,040㎚이면, 위상 마스크를 빠져 나온 2개의 빔은 주기가 520㎚인 간섭 패턴을 형성하게 된다.
상기 격자 시스템에서 반사되는 빛의 파장은 하기된 식에 따라 결정된다.
여기서, λ는 반사된 파장이고, Neff는 도파관에서의 유효 굴절률이며, Λ는 격자의 주기이다. 따라서, 예를 들면, 반사된 빛의 파장이 1,560㎚이고, 도파관에서의 유효 굴절률이 1.5라면, 격자의 주기는 520㎚이 된다.
본 발명에 따라, 위상 마스크를 통과하는 광 빔을 생성하는 광원은 상대적으로 작은 직경의 레이저 빔, 바람직하게는 직경이 약 2 내지 3㎜인 레이저 빔을 갖는 레이저이다. 본 발명에 사용하기 적당한 레이저 빔은 아르곤 이온 레이저 빔이다. 소형 빔을 사용함으로써 격자의 위치를 더 양호하게 제어할 수 있다. 상기 바람직한 아르곤 이온 레이저 빔의 파장은 350 내지 365㎚이다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 위상 마스크의 주사 속도는 격자의 진폭이 변할 수 있도록 변화될 수 있다. 반사 스펙트럼의 메인 피크(main peak) 주변의 사이드로브(sidelobes)를 줄임으로써, 더 정확하게 원하는 소정 파장을 하락시키기 위해 파동함수의 가장자리보다 중심에서 코모노머의 굴절률차(△n)가 더 심하도록 하는 것이 바람직하다. 대형 사이드로브는 파장 채널 사이에 누화 간섭을 발생시킨다. 따라서, 본 발명의 격자는 반사 스펙트럼에서 원하는 파장에 대형 피크를 제공하고, 가장자리에는 단지 작은 피크만을 제공한다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 격자에서 굴절률 변조의 엔벨로프는 도 5에 표시된 바와 같이 sinc(x)=[sin(x)]/x인 sinc형 프로파일을 갖는 것이 바람직하다. 반사 스펙트럼은 감소된 사이드로브뿐만 아니라, 통신 시스템 광원으로부터 발생된 빛의 파장에서의 약간의 요동에도 불구하고 파장 채널 하락 효율에서의 작동 안정성을 가능하게 하는 직사각 또는 정사각 형상의 중앙 피크를 갖는다.
본 발명의 다른 특징에 따라, 소형 레이저 스폿의 주사속도를 변경하거나 대형 레이저 스폿의 강도를 변조하여 아포디제이션(apodization) 또는 임의의 엔벨로프를 얻을 수 있다. 따라서, 속도를 변경하며 위상 마스크를 주사하기 위해 소형 레이져 빔(2 내지 3㎜)를 사용함으로써, 격자의 국소 강도를 변형할 수 있으며, 이는 제 1 형태의 아포디제이션을 야기하게 된다. 이는 반사 스펙트럼에서 원하는 파장에 강한 피크와, 상기 메인 피크의 측부을 향하는 약한 피크를 만들게 된다. 전술한 바와 같은 격자를 위해 sinc형 엔벨로프를 사용함으로써, 사이드로브를 줄일 수 있으며, 그 결과 누화 간섭을 줄일 수 있다. 다른 잇점은 정사각 또는 직사각형 중앙 피크가 반사 스펙트럼에서 얻어진다는 것이며, 이는 동일하거나 매우 유사한 파장의 모든 빛이 원하는 하락 포트에서 하락될 수 있도록 한다.
본 발명의 또 다른 특징으로서, 상기 격자는 코어층뿐만 아니라 모든 피복층과 교차하게 된다. 공지의 광신호 장치의 도파관을 관통하는 빛의 25% 정도가 피복층으로 전파한다는 것이 알려져 있다. 본 발명은 피복 영역에서 빛을 반사시키기 때문에, 하락 광신호 손실을 25% 이하 수준으로 크게 감소시킨다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 코어층뿐만 아니라 피복층으로도 사용된 코모노머는 위상 마스크를 사용하여 격자를 형성하기 이전에 완전히 경화되지 않는다. 상기 코모노머를 반경화 상태로 유지함으로써, 코모노머가 이용할 수 있는 움직임이 일부 존재하기 때문에, 격자를 제조하기 위해 아르곤 이온 레이저 빔으로 가공할 때 상기 코모노머는 레이저 빔으로부터 회절된 빔에 대응하여 여전히 움직일 수 있다. 본 발명에 따른 격자를 제조한 다음, 자외선광 및 그 동등물을 사용하여 완전 경화를 시작할 수 있다. 완전 경화는 도파관과 격자내의 모든 물질의 굴절률을 동결시킨다.
본 발명의 다른 특징으로서, 상기 격자는 하부 피복층이 코어층 위에 배치된 후 광신호 장치에 제공된다. 중합반응은 산소에 의해 지체된다고 알려져 있다. 상기 코어층 위에 피복층을 구성한 다음 격자 시스템을 제공함으로써, 상부 피복층은 산소 투과에 대한 차단막 역할을 하여 격자 시스템이 장착될 때 상기 중합반응의 완성을 방지하게 될 산소의 이용도를 제한하게 된다. 따라서, 격자 시스템이 상부 피복층을 통해 제공된다면 이는 본 발명의 바람직한 특징이다.
본 발명에 따른 피복층과 코어층에 고분자 시스템을 사용함으로써, 광신호 장치의 격자 외측 영역(예를 들어, 커플러 영역)과 본질적으로 동일한 평균 굴절률을 가진 격자 영역을 제공하게 된다. 상기 평균 굴절률을 동일한 값으로 유지함으로써 아포디제이션이 사용될 때 반사된 피크의 청색측의 확장을 방지하게 된다.
실시예 1
실리콘 웨이퍼를 기판으로 사용하였다. 음성 액체 포토모노머(20.0g의 에토시레이티드 비스페놀 디아크릴레이트, 10.0g의 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 0.6g의 포토이니시에이터 이가큐어 651 및 0.09g의 안티옥시던트 이가녹스 1010의 혼합물)를 회전 코팅하여 두께가 10㎛인 층을 형성한 다음, 수은등(Hg i-라인, 파장=365㎚)에서 균일하게 자외선 경화시켜 하부 피복층으로서 굴절률이 1.4895(완전 경화시)인 고형 박막을 형성하였다. 이때, 노출 시간을 짧게(1초) 유지하여 부분적으로 중합된 층을 얻었다. 음성 액체 포토모노머(20.0g의 에토시레이티드 비스페놀 디아크릴레이트, 8.0g의 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 2.0g의 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 0.6g의 포토이니시에이터 이가큐어 651 및 0.09g의 안티옥시던트 이가녹스 1010의 혼합물)를 상기 하부 피복층에 회전 코팅하여 두께가 6㎛인 층을 형성한 다음, 도파관 회로(4개의 부가/하락 소자가 각각 마하-젠더 간섭계인 다단 4채널 부가/하락 장치)가 뚜렷한 마스크와 접촉시킨 후(마스크에서 도파관의 폭은 6㎛임), 상기 층을 수은등에서 마스크를 통해 선택적으로 자외선 경화시켜(부분적으로 중합되도록 3초의 짧은 시간동안 경화시킴) 코어 도파관 회로의 굴절률이 (완전 경화시)1.4970이 되도록 고형화하였다. 상기 마스크를 제거하고, 메탄올을 사용하여 노출되지 않은 부분이 드러나게 하였다. 하부 피복층 성형에 사용된 것과 동일한 포토모노머를 상기 코어 구조에 회전 코팅하여 두께가 10㎛인 공형층(conformal layer)을 형성한 다음, 상기 층을 수은등에서 블랭킷(blanket) 자외선에 노출시켜 상부 피복층으로서 굴절률이 (완전 경화시)1.4895인 고형 공형 필름을 형성하였다. 이 단계에서, 상기 층을 부분적으로 중합시키기 위해 짧은 시간(1초)동안 노출시켰다. 4개의 격자가 구비된 위상 마스크를 사용하여, 4개의 마하-젠더 장치 각각의 이격된 암에 교차되게 격자를 (363.8㎚로 작동하는 아르곤 이온 레이저를 사용하여)인쇄하였다. 평면 도파관 회로가 구비된 샘플을 상기 위상 마스크로부터 50㎛ 거리에 평행하게 유지하였다. 상기 마스크와 샘플에 수직하게 레이저 빔을 조사하였다. 레이저 빔의 직경은 3㎜였다(1/e2강도). 6㎜ 길이의 마하 젠더 암의 중앙을 가로질러 3㎜를 레이저로 주사하여 부분적으로 경화된 3개의 도파관 층에 격자를 생성하였다. 상기 샘플을 질소 분위기에서 수은등(60초)으로 자외선 경화 및 (1시간 동안 90℃로)열경화시켜 3개의 모든 층이 완전 중합되도록 하였다. 샘플을 실험한 결과, 모든 격자가 원하는 파장 채널을 반사시키는 것으로 나타났다.

Claims (22)

  1. 기판상에 파장필터를 제조하기 위한 방법으로서,
    a) 굴절률이 서로 다른 적어도 2개의 코모노머로 이루어진 적어도 1개의 고분자 기판에 주름을 가진 위상 마스크를 배치하는 단계; 및
    b) 상기 기판상에 선택된 파장의 빛을 반사시킬 수 있는 굴절격자를 생성하기 위해 서로 다른 회절차수에 대응하는 2개의 빔이 형성되도록 상기 위상 마스크에 광원으로부터 나온 빛을 통과시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 빛은 아르곤 이온 레이저 빔인 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 고분자 기판은 상부 피복층, 하부 피복층 및 그 사이의 코어층을 포함하고, 상기 방법은 상기 각 층에 굴절격자를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 코어층 위에 상부 피복층을 배치한 다음 상기 기판에 굴절격자를 배치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 위상 마스크를 통과하는 빛의 밝은 줄무늬와 어두운 줄무늬간에 굴절률 차이가 나타나도록 할 만큼 굴절률의 차가 충분한 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 코모노머는 서로 다른 확산율을 가지며, 코모노머중 하나는 위상 마스크를 통과하는 빛의 밝은 줄무늬로부터 벗어나는 반면 다른 코모노머는 밝은 줄무늬에 잔존하려는 경향있을 만큼 확산율의 차가 충분한 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 코모노머는 서로 다른 중합반응율을 갖는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  8. 제 3 항에 있어서, 상기 고분자 기판을 부분적으로 경화시키는 단계, 상기 층 위에 굴절격자를 형성하는 단계 및 상기 고분자 기판을 완전 경화시켜 모든 굴절률을 동결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 코모노머는 에토시레이티드 비스페놀 디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 에토시레이티드 비스페놀 디메타아크릴레이트 및 1,6-헥산디올 디메타아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 위상 마스크는 글라스 및 석영으로 이루어진 군으로부터 선택된 물질로 제조된 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 위상 마스크를 빠져 나가는 2개의 광 빔은 서로 간섭하여 밝은 줄무늬와 어두운 줄무늬를 형성하고, 그 주기는 위상 마스크의 주름 주기의 1/2에 해당하는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 위상 마스크를 통과하는 빛은 약 2 내지 3㎜의 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  13. 제 2 항에 있어서, 상기 아르곤 이온 레이저 빔의 파장은 약 350 내지 365㎚인 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  14. 제 1 항에 있어서, 상기 기판상에 형성되는 굴절격자의 진폭을 변형하기 위해, 위상 마스크를 가로지르는 광원의 주사속도를 변경시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  15. 제 1 항에 있어서, 상기 코모노머의 굴절률간의 차이는 파동함수의 가장자리보다 중심에서 더 심한 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  16. 제 1 항에 있어서, 상기 격자는 sinc(x)=[sin(x)/x]로 표현되는 sinc형 프로파일을 갖는 엔벨로프에 의한 굴절률 변조를 갖는 것을 특징으로 하는 파장필터 제조방법.
  17. a) 광신호를 전파시키기 위한 광도파관을 포함하고, 굴절률이 서로 다른 적어도 2개의 코모노머로 이루어진 적어도 1개의 중합체를 포함하는 기판; 및
    b) 1개 또는 복수의 반사격자를 가진 상기 기판을 가로지르는 격자 영역;을 포함하고, 상기 기판의 나머지 부분과 격자 영역의 평균 굴절률은 거의 동일한 것을 특징으로 하는 광신호 장치.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 코모노머는 서로 다른 확산율을 갖는 것을 특징으로 하는 광신호 장치.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 코모노머는 서로 다른 중합반응율을 갖는 것을 특징으로 하는 광신호 장치.
  20. 제 17 항에 있어서, 상기 코모노머는 에토시레이티드 비스페놀 디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 에토시레이티드 비스페놀 디메타아크릴레이트 및 1,6-헥산디올 디메타아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 광신호 장치.
  21. 제 17 항에 있어서, 상기 코모노머의 굴절률간의 차이는 파동함수의 가장자리보다 중심에서 더 심한 것을 특징으로 하는 광신호 장치.
  22. 제 17 항에 있어서, 상기 격자는 sinc(x)=[sin(x)/x]로 표현되는 sinc형 프로파일을 갖는 굴절률 변조를 갖는 것을 특징으로 하는 광신호 장치.
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