KR20010012320A - 치환된 2-벤조일-시클로헥산-1,3-디온 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 하기 화학식 I의 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온에 관한 것이다.
〈화학식 I〉
식 중, R1및 R2는 각각 수소, 머캅토, 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR10, -OCOR10, -OSO2R10, -S(O)nR10, -SO2OR10, -SO2NR3R10, -NR10SO2R10또는 -NR10COR이고;
Q는 2위치에 결합된 치환 또는 비치환된 시클로헥산-1,3-디온 고리이고;
A는 제1항에서와 동일한 의미의 치환기를 갖는 하기 화학식 IIa, IIb 또는 III의 기이다.
〈화학식 IIa〉
〈화학식 IIb〉
〈화학식 III〉
본 발명은 또한 농업에서 사용될 수 있는 상기 화합물의 염에 관한 것이다.

Description

치환된 2-벤조일-시클로헥산-1,3-디온{Substituted 2-Benzoyl-Cyclohexane-1,3-Diones}
본 발명은 하기 화학식 I의 치환된 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온 및 그의 농업상 유용한 염에 관한 것이다.
식 중, R1및 R2는 각각 수소, 머캅토, 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR10, -OCOR10, -OSO2R10, -S(O)nR10, -SO2OR10, -SO2NR3R10, -NR10SO2R10또는 -NR10COR이고;
Q는 2위치에 결합된 치환 또는 비치환된 시클로헥산-1,3-디온 고리이고;
A는 하기 화학식 IIa, IIb 또는 III의 기이고;
R3은 수소, C1-C6-알킬 또는 페닐이고, 여기서 언급된 알킬 및 페닐기는 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR8R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR8COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR8R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R4내지 R7은 동일하거나 또는 상이할 수 있으며, 각각 독립적으로 수소, 히드록실, 머캅토, 아미노, 할로겐, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, 페닐, -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3또는 -OCOR10이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3, -OCOR10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR8R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR8COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR8R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R4및 R5는 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성할 수 있고;
R6및 R7은 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성할 수 있고;
n은 0, 1 또는 2이고;
R5및 R6은 함께, 이들이 이웃한 탄소 원자에 결합되어 있고 R4및 R7이 각각 수소라면, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C3-C4-알킬렌 또는 C3-C4-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있고;
R8및 R9는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 독립적으로 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, C5-C6-헤테로시클릴, -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10, 페닐, 페닐-C1-C6-알킬 및 5원 또는 6원 헤타릴이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR8R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR8COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR8R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R8및 R9는 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있고;
R10은 수소, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, 페닐 또는 페닐-C1-C6-알킬이고, 여기서 언급된 알킬기는 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있다.
또한, 본 발명은 화학식 I의 화합물을 제조하기 위한 방법 및 중간체, 이들을 포함하는 조성물, 및 해로운 식물을 방제하기 위한 화학식 I의 화합물 및 이들을 포함하는 조성물의 용도에 관한 것이다.
2-벤조일시클로헥산-1,3-디온은 예를 들어, 유럽 특허 출원 공개 제278 742호, 동 제298 680호, 동 제320 864호 및 국제 특허 출원 공개 제96/14285호에 기재되어 있다.
그러나, 종래 화합물의 제초 특성 및 그의 농작물 안전성은 완전히 만족스럽지는 못하다.
본 발명의 목적은 개선된 특성을 갖는 신규한, 특히 제초 활성의 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 이 목적이 화학식 I의 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온 및 그의 제초 활성에 의해 달성되었다는 것을 발견하였다.
또한, 본 발명자들은 화학식 I의 화합물을 포함하며 매우 양호한 제초 활성을 갖는 제초 조성물을 발견하였다. 더우기, 본 발명자들은 이런 조성물의 제조 방법 및 화학식 I의 화합물을 사용하여 원치않는 식물을 방제하는 방법을 발견하였다.
본 발명은 또한 화학식 I의 화합물의 입체 이성질체에 관한 것이다. 순수한 입체 이성질체 및 또한 그의 혼합물이 포함된다.
치환 패턴에 따라, 화학식 I의 화합물은 하나 이상의 키랄 중심을 가질 수 있고, 이 화합물이 그러한 경우라면 거울상 이성질체 또는 부분 입체 이성질체의 혼합물로 존재한다. 본 발명은 순수한 거울상 이성질체 또는 부분 입체 이성질체 및 또한 그의 혼합물에 관한 것이다.
화학식 I의 화합물은 또한 그들의 농업상 유용한 염의 형태로 존재할 수 있으며, 염의 종류는 일반적으로 중요하지 않다. 화학식 I의 제초 활성에 악영향을 미치지 않는, 양이온 또는 음이온 각각의 양이온의 염 또는 산부가염이 일반적으로 적합하다.
양이온으로는 특히 알칼리 금속 이온 (바람직하게는 리튬, 나트륨 및 칼륨), 알칼리 토금속 이온 (바람직하게는 칼슘 및 마그네슘), 전이 금속 이온 (바람직하게는 망간, 구리, 아연 및 철), 및 또한 암모늄 이온 (필요하다면, 수소 원자 1 내지 4개는 C1-C4-알킬 또는 히드록시-C1-C-알킬 및(또는) 하나의 페닐 또는 벤질로 치환될 수 있으며, 바람직하게는 디이소프로필암모늄, 테트라메틸암모늄, 테트라부틸암모늄, 트리메틸벤질암모늄임)이 적합하고, 또한 포스포늄 이온, 술포늄 이온 (바람직하게는 트리(C1-C4-알킬)술포늄) 및 술폭소늄 이온 (바람직하게는 트리(C1-C4-알킬)술폭소늄)이 적합하다.
산부가염의 음이온으로는 주로 클로라이드, 브로마이드, 플루오라이드, 수소 술페이트, 술페이트, 이수소 포스페이트, 수소 포스페이트, 니트레이트, 수소 카보네이트, 카보네이트, 헥사플루오로실리케이트, 헥사플루오로포스페이트, 벤조에이트 및 또한 C1-C4-알카노산의 음이온이 유용하고, 포르메이트, 아세테이트, 프로피오네이트 및 부티레이트가 바람직하다.
2위치에서 결합된 변수 Q가 하기 화학식 IV의 시클로헥산-1,3-디온 고리인 본 발명의 화학식 I의 화합물이 강조된다.
여기서, 화학식 IV는 하기 화학식 IV' 및 IV''의 호변 이성질체로도 나타낸다.
식 중, R11, R12, R14및 R16은 각각 수소 또는 C1-C4-알킬이고;
R13은 수소이거나, 또는 할로겐, C1-C4-알킬티오 또는 C1-C4-알콕시의 치환기 중 1 내지 3개로 치환될 수 있는 C1-C4-알킬 또는 C3-C4-시클로알킬이거나, 또는
테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 테트라히드로티오피란-2-일, 테트라히드로티오피란-3-일, 테트라히드로티오피란-4-일이거나, 또는 C1-C4-알킬기 1 내지 3개로 치환될 수 있는 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥산-2-일, 1,3-옥사티올란-2-일, 1,3-옥사티안-2-일, 1,3-디티올란-2-일 또는 1,3-디티안-2-일이고;
R15는 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C6-알콕시카르보닐이거나, 또는
R13및 R16은 함께 π 결합 또는 3 내지 6원 카르보시클릭 고리를 형성하거나, 또는
CR13R14단위는 C=O로 대체될 수 있다.
방법 A:
화학식 IV의 시클로헥산-1,3-디온을 바람직하게는 동일계 내에서 활성화시킨 화학식 Va의 활성화 카르복실산 또는 화학식 Vb의 카르복실산과 반응시켜 화학식 VII의 아실화 생성물을 얻고, 이어서 본 발명의 화학식 I의 화합물로 전위 반응시킨다.
L1은 할로겐 (예를 들어, 브롬 또는 염소), 헤타릴 (예를 들어, 이미다졸릴 또는 피리딜), 또는 카르복실레이트 (예를 들어, 아세테이트, 트리플루오로아세테이트) 등과 같은 친핵 반응에 의해 치환가능한 이탈기이다.
활성화 카르복실산은 아실 할로겐화물의 경우와 같이 직접 사용할 수 있거나, 또는 예를 들어 디시클로헥실카르보디이미드, 트리페닐포스핀/아조디카르복실산 에스테르, 2-피리딘 디술파이트/트리페닐포스핀, 카르보닐디이미다졸 등을 사용하여 동일계 내에서 생성시킬 수 있다.
염기의 존재하에서 아실화 반응을 수행하는 것이 이로울 수 있다. 출발 물질 및 보조 염기는 등몰량으로 사용하는 것이 이롭다. 약간 과량의 보조 염기, 예를 들어, 화학식 II의 화합물을 기준으로 1.2 내지 1.5 몰 당량이 특정 조건하에서 이로울 수 있다.
보조 염기로는 3급 알킬아민, 피리딘 또는 탄산 알칼리 금속이 적합하다. 사용할 수 있는 용매의 예로는 염화 메틸렌, 1,2-디클로로에탄과 같은 염소화 탄화수소, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠과 같은 방향족 탄화수소, 디에틸 에테르, 메틸 tert-부틸 에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산과 같은 에테르, 아세토니트릴, 디메틸포름아미드, 디메틸 술폭시드와 같은 극성 비양성자성 용매 또는 아세트산 에틸과 같은 에스테르, 또는 이들의 혼합물이다.
아실 할로겐화물을 활성화 카르복실산 성분으로 사용한다면, 반응 파트너의 첨가시 반응 혼합물을 0 내지 10 ℃로 냉각시키는 것이 이로울 수 있다. 이후에 반응이 완결될 때까지, 혼합물을 20 내지 100 ℃, 바람직하게는 25 내지 50 ℃에서 교반시킨다. 예를 들어, 반응 혼합물을 물에 부어 주요 생성물을 추출시키는 통상의 방법에 의해 반응을 종결시킨다. 이를 위해 특히 적합한 용매는 염화 메틸렌, 디에틸 에테르 및 아세트산 에틸이다. 유기층을 건조하고 용매를 제거한 후, 화학식 VII의 에놀 에스테르 조화합물을 바람직하게는 크로마토그래피에 의해 정제한다. 별법으로, 더 정제하지 않고 화학식 VII의 에놀 에스테르 조화합물을 전위 반응에 사용하는 것도 가능하다.
화학식 VII의 에놀 에스테르의 화학식 I의 화합물로의 전위 반응은 20 내지 40 ℃에서, 용매 중에서 및 염기의 존재하에서, 적당하다면 시아노 화합물의 존재하에서 수행하는 것이 이롭다.
사용할 수 있는 용매의 예로는 아세토니트릴, 염화 메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 디옥산, 아세트산 에틸, 톨루엔 또는 이들의 혼합물이 있다. 바람직한 용매는 아세토니트릴 및 디옥산이다.
염기로는 트리에틸아민, 피리딘과 같은 3급 아민 또는 탄산 나트륨, 탄산 칼륨과 같은 탄산 알칼리 금속이 적합하며, 이들은 에스테르를 기준으로 등몰량으로 또는 4배까지의 과량으로 사용하는 것이 바람직하다. 트리에닐아민 또는 탄산 알칼리 금속을 사용하는 것이 바람직하다.
시아노 화합물로는 나트륨 시아나이드, 칼륨 시아나이드와 같은 무기 시아나이드 및 아세톤 시아노히드린, 트리메틸실릴 시아나이드와 같은 유기 시아노 화합물이 적합하다. 이들은 보통 에스테르를 기준으로 1 내지 50몰%의 양으로 사용된다. 예를 들어, 아세톤 시아노히드린 또는 트리메틸실릴 시아나이드는 에스테르를 기준으로 5 내지 15몰%, 바람직하게는 10몰%의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.
아세토니트릴 또는 디옥산 중의 탄산 칼륨과 같은 탄산 알칼리 금속을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
공지된 방법, 예를 들면 반응 혼합물을 5%의 염산 또는 황산과 같은 묽은 무기산으로 산성화시키고, 염화 메틸렌, 아세트산 에틸과 같은 유기 용매로 추출시켜 반응을 종결시킨다. 유기 추출물은 5 내지 10%의 탄산 알칼리 금속 용액, 예를 들면 탄산 나트륨 또는 탄산 칼륨 용액으로 추출시킬 수 있다. 수성층은 산성화하고, 형성된 침전물은 흡인 여과하고(거나) 염화 메틸 또는 아세트산 에틸로 추출, 건조, 농축시킨다 (히드록시피라졸의 합성법 및 에스테르의 전위 반응의 예가 예를 들어 유럽 특허 출원 공개 제282 944호 또는 미국 특허 제4 643 757호에 언급되어 있음).
하기 화학식 V의 벤조산은 신규한 화합물이다.
식 중, R1및 R2는 각각 수소, 머캅토, 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR10, -OCOR10, -OSO2R10, -S(O)nR10, -SO2OR10, -SO2NR3R10, -NR10SO2R10또는 -NR10COR이고;
A는 하기 화학식 IIa, IIb 또는 III의 기이고;
〈화학식 IIa〉
〈화학식 IIb〉
〈화학식 III〉
식 중, R3은 수소, C1-C6-알킬 또는 페닐이고, 여기서 언급된 알킬 및 페닐기는 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R4내지 R7은 동일하거나 또는 상이할 수 있으며, 각각 독립적으로 수소, 히드록실, 머캅토, 아미노, 할로겐, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, C4-C6-시클로알케닐, 페닐, -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3또는 -OCOR10이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3, -OCOR10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R4및 R5는 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성할 수 있고;
R6및 R7은 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10, NOR10또는 NNR3R10임)를 형성할 수 있고;
n은 0, 1 또는 2이고;
R5및 R6은 함께, 이들이 이웃한 탄소 원자에 결합되어 있고 R4및 R7이 각각 수소라면, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C3-C4-알킬렌 또는 C3-C4-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있고;
R8및 R9는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 독립적으로 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, C4-C6-시클로알케닐, C5-C6-헤테로시클릴, -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10, 페닐, 페닐-C1-C6-알킬 및 5원 또는 6원 헤타릴이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R8및 R9는 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있고;
R10은 수소, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, 페닐 또는 페닐-C1-C6-알킬이고, 여기서 언급된 알킬기는 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R17은 히드록실 또는 가수분해에 의해 제거될 수 있는 기이다.
가수분해에 의해 제거될 수 있는 기의 예로는, 치환될 수 있는 알콕시, 페녹시, 알킬티오 및 페닐티오기, 및 치환될 수 있는 질소, 아미노 및 이미노기를 통해 결합되는 할라이드, 헤타릴기 등이 있다.
L이 할로겐인 하기 화학식 Va의 벤조일 할라이드 (R17이 할로겐인 화학식 V)가 바람직하다.
식 중, 변수 R1, R2및 A는 각각 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고,
L은 할로겐, 특히 염소 또는 브롬이다.
하기 화학식 Vb의 벤조산 (R17이 히드록실인 화학식 V)도 또한 바람직하다.
식 중, 변수 R1, R2및 A는 각각 화학식 V에서 정의된 바와 동일하다.
하기 화학식 Vc의 벤조산 에스테르 (R17이 C1-C6-알콕시인 화학식 V)도 또한 바람직하다.
식 중, 변수 R1, R2및 A는 각각 화학식 V에서 정의된 것과 동일하고,
M은 C1-C6-알콕시이다.
화학식 Va의 화합물 (L=할로겐)은 문헌 [L.G. Fieser, M. Fieser "Reagents for Organic Synthesis", Vol. I, (1967) pp. 767-769]에 공지된 방법과 유사한 방법에 의해, 화학식 Vb의 벤조산을 염화 티오닐, 브롬화 티오닐, 포스겐, 디포스겐, 트리포스겐, 염화 옥살릴 및 브롬화 옥살릴과 반응시켜 합성할 수 있다.
화학식 Vb의 벤조산은 특히 화학식 Vc의 벤조산 에스테르 (M=C1-C6-알콕시)를 가수분해하여 얻을 수 있다.
본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르는 하기의 실시예에 의해 설명되는 바와 같은, 문헌 [a: G. Dittus in Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, Volume VI/3, Oxygen Compound I, 4th Edition, 1965, p. 493 ff., Georg Thieme Verlag; b: T.L. Gilchrist, Heterocyclenchemie, 2nd Edition, Verlag Chemie, 1995]에 공지되어 있는 여러가지 방법에 의해 합성할 수 있다.
방법 A:
알칼리 반응 조건하에서 하기 화학식 VIIIa 또는 VIIIb의 1,3-할로히드린의 고리화 반응에 의해 변수 R1, R2및 M 각각은 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 IIa 및 IIb의 기와 동일하며, L2는 친핵 반응에 의해 치환가능한 이탈기, 바람직하게는 요오드, 브롬 또는 염소인 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르가 얻어진다.
특히 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 수산화물 (예를 들어, 수산화 칼륨 또는 수산화 나트륨) 또는 유기 염기 (예를 들어, 나트륨 메톡사이드와 같은 알콕사이드, 또는 디에틸아민과 같은 2급 아민)을 제거제로서 사용하기에 적합하다.
할로겐화 수소의 제거는 알칼리 염에 의해서도, 예를 들어 칼륨 플루오라이드에 의해 수행될 수 있다 [E. Gryszkiewics-Trochimowski, O. Gryszkiewics-Trochimowski, Bulletin de la Societe Chimique de France, Memoires 123 (1953)].
분해제는 용액 중에서 또는 물이 없는 상태로 사용할 수 있고, 메탄올 나트륨 메톡사이드 용액 중에서 사용하는 것이 바람직하다.
고리화는 불활성 용매, 예를 들면 메탄올 또는 에탄올과 같은 알콜 중에서 수행한다.
방법 B:
화학식 IX의 알데히드 또는 화학식 X의 케톤을 화학식 XI의 올레핀, 바람직하게는 화학식 XI의 에놀 에테르 (R7=OR10)로 광화학 고리 첨가 반응하여 변수 R1, R2, R3, R10및 M 각각은 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고 A는 화학식 IIa의 기인 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르를 얻는다.
광화학 고리 첨가 반응은 사용되는 분광학적 범위 내에서 유의한 UV 흡수가 없는 불활성 용매 중에서 수행한다. 따라서, 예를 들어 아세토니트릴, 또는 n-헥산 또는 톨루엔과 같은 지방족 또는 방향족 탄화수소를 사용할 수 있다.
방사 원으로는 적합한 UV 방사기, 바람직하게는 저압, 중압 또는 고압 수은 램프가 적합하다 [A.M. Braun, M.T. Maurette, E. Oliveros, Photochemical Technology, John Wiley ＆ Sons Ltd. 1991]. 저압 수은 램프는 189 및 253 nm에서 방출하고, 189 nm에서의 방출은 산소, 물 또는 용매에 의해 거의 완전히 흡수되어 저압 수은 램프는 가시적으로는 253 nm에서 단일광 방사선을 방출한다.
중압 및 고압 수은 램프는 압력 및 온도에 따라 200 내지 600 nm의 파장 범위에서 1 내지 100 atm의 압력에서 작동 및 방출하고, 중압 수은 램프는 366 nm에서 우세한 방출선을 가지며, 고압 수은 램프는 436 및 546 nm에서 2개의 우세한 방출선을 갖는다.
또한, 탈륨 할라이드, 인듐 할라이드, 나트륨 할라이드 또는 갈륨 할라이드와 같은 금속염으로 도핑된 중압 및 고압 수은 램프를 사용하는 것이 가능하다. 도핑은 중압 및 고압 수은 램프의 방출 스펙트럼을 변형시켜 본 발명의 도핑에 특징적인 추가의 방출선을 방출한다.
또한, 원치않는 파장 범위를 억제하는 적당한 필터를 사용하는 것이 가능하다.
적당한 광반응기는 사용된 UV 범위 내에서 흡수해서는 않되지만, 적당한 UV 방사기에 의해 방출되는 파장에서는 투명해야 한다.
이런 목적을 위해서는 UV 범위에서 보로실리케이트 유리 보다 훨씬 더 투명한 보로실리케이트 유리, 예를 들어 보로실리케이트 BK7 (스코트사 (Schott) 제품) 또는 코닝(Corning) 7740 (파이렉스사 (Pyrex) 제품) 또는 석용 유리가 특히 적합하다.
강하막(falling-film) 반응기가 바람직한 광반응기이다.
방법 C:
β-할로지방산 또는 하기 화학식 XIIa 또는 XIIb의 알칼리 금속 염을 분자간 고리화 반응시켜 변수 R1, R2및 M 각각이 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기이고, L2는 친핵 반응에 의해 치환가능한 이탈기, 바람직하게는 요오드, 브롬 또는 염소인 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르를 얻는다.
알칼리 금속 염 수용액, 예를 들면 탄산 나트륨 용액에 의해 β-할로지방산 또는 그의 염 (예를 들면, 나트륨염)으로부터 할로겐화 수소를 제거하여 β-락톤을 형성한다 [A. Einhorn, Chem. Ber. 16 (1883), 2208]. 할로겐화 수소를 제거하는데에 탄산 나트륨 대신에 산화 은 또는 은 염이 성공적으로 종종 사용된다.
수성 알칼리 금속 할로겐화물의 존재하에서의 β-락톤의 불안정성 때문에, 형성된 β-락톤을 수성층으로부터 가능한한 빨리 제거하기 위해 용매의 존재하에서 수용성 β-락톤을 제조하는 것이 필수적이다 [Org. Reactions 8 (1954), 309]. 적합한 용매로는 예를 들어, 디에틸 에테르 및 클로로포름이 포함된다.
방법 D:
하기 화학식 IX의 알데히드 또는 하기 화학식 X의 케톤을 화학식 XIII의 케텐과 고리 첨가 반응시켜 변수 R1, R2, R3, R4, R5및 M 각각이 화학식 V에서 정의된 바와 같고, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일한 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르를 얻는다.
촉매의 종류 및 반응 조건에 따라, 케텐은 20 내지 100 ℃, 바람직하게는 40 내지 80 ℃에서 카르보닐 화합물과 반응하여 에놀 아세테이트 또는 β-락톤을 형성한다 (예를 들어, 문헌 [H. Kroeper in Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, Volume VI/2, Oxygen Compounds I, Part 2, 4th Edition, 1965, p. 511 ff., Georg Thieme Verlag] 참조). 3급 아민 또는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속과 같은 염기성 촉매를 사용한다면 β-락톤의 형성은 C-아세틸화 후에 일어난다 [J.A. Spence, E.F. Degering, Chem. Abst. 43 (1949), 6654]. 특정 촉매의 존재하에서, 알데히드 또는 케톤은 심지어 0 내지 10 ℃의 저온에서도 가장 간단한 케텐과 축합하여 β-락톤을 형성한다. 촉매의 선택은 각각의 카르보닐 화합물에 좌우된다. 방향족 알데히드에 적합한 촉매는 예를 들어, 붕산, 트리아세틸 보레이트, 아연 티오시아네이트 및 염화 아연, 염화 알루미늄, 염화 수은(II), 및 활성화 알루미나 및 실리카이다.
고수율을 달성하기 위해 반응은 무수 매질 중에서 수행되어야 한다.
용매로는 에테르 (예를 들면, 디에틸 에테르), 할로알켄 (예를 들면, 염화 메틸렌 또는 클로로포름)이 적합하며, β-락톤의 중합화하려는 경향 때문에 케톤이 바람직하다.
방법 E:
화학식 IX의 알데히드 또는 화학식 X의 케톤에 문헌 [R.L. Danheiser, J.S. Nowick, Journal of Organic Chemistry 56 (1991), 1176]에 공지되어 있는 것과 유사한 방법에 의해 화학식 XIV의 티올 에스테르 에놀레이트를 첨가하여 변수 R1, R2, R3, R4, R5및 M 각각이 화학식 V에 정의된 바와 동일하고, A가 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일한 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르를 얻는다.
출발 물질로서 사용된 화학식 XIV의 티올 에스테르 에놀레이트는 카르복실산 유도체로부터 간단한 1단계 반응으로 제조할 수 있다 (예를 들어, 문헌 [T. Mukaiyama, T. Takeda, K. Atsumi, Chemistry Letters 1974, 187] 참조).
알데히드 또는 케톤과 함께 화학식 Vc의 목적 화합물, 특히 β-락톤을 형성하는 상응하는 에놀레이트는 등가의 염기, 바람직하게는 예를 들어, 리튬 디이소프로필아미드와 같은 리튬 염기의 존재하에서 형성된다.
방법 F:
알칼리 반응 조건하에서 하기 화학식 XVa 또는 XVb의 1,2-할로히드린의 고리화 반응에 의해 변수 R1, R2및 M 각각이 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 III의 화합물과 동일하고, L2는 친핵 반응에 의해 치환가능한 이탈기, 바람직하게는 요오드, 브롬 또는 염소인 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르가 얻어진다.
출발 물질로 1,2-할로히드린 대신에, 그의 아세테이트를 유사한 방법으로 사용하는 것도 가능하다.
언급된 방법은 2-히드록시톨루엔술포네이트로부터 p-톨루엔술폰산의 제거에 의한 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르의 제법과 관련이 있다 (예를 들어, 문헌 [H. Ohle, L. v. Vargha, Chemische Berichte 62, (1929), 2440] 참조).
알칼리 금속 수산화물 및 알칼리 토금속 수산화물이 특히 적합한 제거제이고, 유기 염기, 예를 들면 알콕시드, 2급 아민 또는 피리딘 및 콜리딘과 같은 그의 동족체는 덜 자주 사용된다. 바람직한 알칼리 금속 수산화물 및 알칼리 토금속 수산화물은 예를 들어, 수산화 칼륨, 수산화 나트륨 또는 수산화 칼슘이다.
몇몇 경우에서, 할로겐화 수소의 제거는 알칼리 염, 예를 들면 탄산 칼륨, 탄산 바륨 또는 플루오르화 칼륨에 의해서도 수행될 수 있다. 또한, 알루미네이트, 실리케이트 및 진케이트 (예를 들어, 문헌 [J.S. Zech, Chemical Abstracts, 46 (1952), 8672] 참조), 산화 납(II), 산화 알루미늄, 아질산 은 또는 알칼리 이온 교환제가 기재되어 있다.
분해제는 용액 중에서 또는 물이 없는 상대로, 어떤 경우에는 분말 형태, 예를 들어 분말상 수산화 칼륨 상태로 사용할 수 있다.
고리화 반응은 불활성 용매 중에서 수행된다. 이를 위해 열린 쇄 또는 고리형 에테르, 예를 들어 디에틸 에테르 또는 디옥산, 또는 방향족 탄화수소, 예를 들어 벤젠 또는 톨루엔이 적합하다.
방법 G:
화학식 XVI의 올레핀의 에폭시드화에 의해 변수 R1, R2및 M 각각이 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 IIV의 기와 동일한 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르가 얻어진다.
문헌에 공지된 방법과 유사하게, 에폭시드화는 과산, 예를 들면 과벤조산, 모노과프탈산, 과포름산, 과아세트산, 트리플루오로과아세트산 또는 과프로피온산 (예를 들어, 문헌 [R. Criegee, Houben-Weyl, "Methoden der Organischen Chemie", Volume VIII, Oxygen Compound III, 4th Edition, 1965, p. 40 ff., Georg Thieme Verlag] 참조), 알칼리 용액, 바람직하게는 수산화 나트륨 수용액 중의 과산화 수소 또는 tert-부틸 히드로퍼옥시드를 사용하여, 또는 디옥시란, 예를 들면 디메틸디옥시란 또는 그의 유도체 (예를 들어, (트리플루오로메틸)메틸디옥시란)을 사용하여 [W.Adam, A.K. Smerz, Bulletin des Societes Chimiques Belges 105 (1996), 581] 종종 수행된다.
과산 에폭시드화는 디에틸 에테르, 클로로포름, 사염화탄소, 염화 에틸과 같은 불활성 용매 중에서, 또는 때때로 빙초산 중에서 수행하지만, 디옥산은 아세톤 또는 그의 유도체, 예를 들어 트리플루오로메틸 메틸 케톤 중에서 사용하는 것이 바람직하다.
과산, 과산화수소, tert-부틸 히드로퍼옥시드 또는 디옥시란은 종종 반응을 위해 약간 과량으로 사용되지만, 산화제를 충분히 이용할 수 있다면 과량의 올레핀이 이로울 수 있다.
방법 H:
화학식 IX의 알데히드를 알칼리 축합제의 존재하에서 화학식 XVII의 α-할로지방산 에스테르 또는 관련된 α-할로지방산 유도체, 예를 들면 α-할로지방산 아미드, 니트릴 또는 케톤과 예를 들어, 문헌 [M. Ballester, Chemicla Reviews 55 (1955), 283]에 공지된 방법에 의한 축합에 의해 변수 R1, R2, R10및 M 각각은 화학식 V에서 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 III의 기와 동일한 본 발명의 화학식 Vc의 벤조산 에스테르가 얻어진다.
축합제로는 무기 또는 유기 촉매, 예를 들면 광유 중의 수소화 나트륨, 수소화 리튬, 테트라에틸암모늄 에톡시드, 나트륨 에톡시드, 칼륨 tert-부톡시드 또는 브롬화 디이소프로필마그네슘이 적합하다.
반응은 불활성 용매, 예를 들면 크실렌, 디에틸 에테르, 메탄올, 에탄올 또는 tert-부탄올 중에서 수행된다.
A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일하고,
R4내지 R7은 각각 수소, 히드록실, 머캅토, 아미노, 할로겐, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, 페닐, -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3또는 -OCOR10이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3, -OCOR10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있는 본 발명의 화학식 I의 화합물이 강조된다.
추가로, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일하고,
R4및 R5는 함께 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성하고(거나),
R6및 R7은 함께 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성하는 본 발명의 화학식 I의 화합물이 강조된다.
또한, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일하고,
R5및 R6은 함께, 인접한 탄소 원자에 결합되고 R4및 R7이 각각 수소라면, 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C3-C4-알킬렌 또는 C3-C4-알케닐렌 쇄를 형성하는 본 발명의 화학식 I의 화합물이 강조된다.
또한, A는 화학식 IVb와 기와 동일하고,
R8및 R9는 각각이 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, C5-C6-헤테로시클릴, -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10, 페닐, 페닐-C1-C6-알킬 및 5원 또는 6원 헤타릴이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있는 본 발명의 화학식 I의 화합물이 강조된다.
추가로, A는 화학식 IVb의 기와 동일하고,
R8및 R9는 함께 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하는 본 발명의 화학식 I의 화합물이 강조된다.
치환기 R1내지 R16에 언급된 유기 잔기 또는 페닐, 헤타릴 및 헤테로시클릴 고리에 있는 기란 개별적인 기 요소의 개별적인 설명에 대한 총괄적인 용어이다. 모든 탄소수소 쇄, 즉, 모든 알킬, 할로알킬, 시클로알킬, 알콕시알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬이미노옥시, 알콕시아미노, 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 알킬카르보닐, 할로알킬카르보닐, 알콕시카르보닐, 알콕시알콕시카르보닐, 알케닐, 시클로알케닐, 알키닐 잔기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다. 달리 명시되지 않는다면, 할로겐화 치환기는 바람직하게 1 내지 5개의 동일하거나 상이한 할로겐 원자가 결합되며, 각각의 경우에 할로겐이란 플루오르, 염소, 브롬 또는 요오드를 의미한다.
그밖의 의미들의 예가 다음과 같다:
- C1-C4-알킬, 및 C1-C4-알킬카르보닐의 알킬 잔기: 메틸, 에틸, n-프로필, 1-메틸에틸, 부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필 및 1,1,-디메틸에틸;
- C1-C6-알킬, 및 C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬 및 C1-C6-알킬카르보닐의 알킬 잔지: 상기 언급된 C1-C4-알킬, 및 또한 펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, 헥실, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1-에틸부틸, 2-에틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1-에틸-1-메틸프로필 및 1-에틸-3-메틸프로필;
- C1-C4-할로알킬: 일부 또는 전부가 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 치환되는 상기 언급된 C1-C4-알킬기, 즉, 예를 들어 클로로메틸, 디클로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 디플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 클로로플루오로메틸, 디클로로플루오로메틸, 클로로디플루오로메틸, 2-플루오로에틸, 2-클로로에틸, 2-브로모에틸, 2-요오도에틸, 2,2-디플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 2-클로로-2-플루오로에틸, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸, 2,2,2-트리플루오로에틸, 펜타플루오로에틸, 2-플루오로프로필, 3-플루오로프로필, 2,2-디플루오로프로필, 2,3-디플루오로프로필, 2-클로로프로필, 3-클로로프로필, 2,3-디클로로프로필, 2-브로모프로필, 3-브로모프로필, 3,3,3-트리플루오로프로필, 3,3,3-트리클로로프로필, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필, 헵타플루오로프로필, 1-(플루오로메틸)-2-플루오로에틸, 1-(클로로메틸)-2-클로로에틸, 1-(브로모메틸)-2-브로모에틸, 4-플루오로부틸, 4-클로로부틸, 4-브로모부틸 및 노나플루오로부틸;
- C1-C6-할로알킬, 및 C1-C6-할로알킬카르보닐의 할로알킬 잔기: 상기 언급된 C1-C4-할로알킬 및 또한 5-플루오로펜틸, 5-클로로펜틸, 5-브르모펜틸, 5-요오도펜틸, 운데카플루오로펜틸, 6-플루오로헥실, 6-클로로헥실, 6-브로모헥실, 6-요오도헥실 및 도데카플루오로헥실;
- C1-C4-알콕시, 및 C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐 및 C1-C4-알콕시카르보닐의 알콕시 잔기: 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 1-메틸에톡시, 부톡시, 1-메틸프로폭시, 2-메틸프로폭시 및 1,1-디메틸에톡시;
- C1-C6-알콕시, 및 C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시-C2-C6-알킬, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐 및 C1-C6-알콕시카르보닐의 알콕시 잔기: 상기 언급된 C1-C4-알콕시, 및 또한 펜톡시, 1-메틸부톡시, 2-메틸부톡시, 3-메톡시부톡시, 1,1-디메틸프로폭시, 1,2-디메틸프로폭시, 2,2-디메틸프로폭시, 1-에틸프로폭시, 헥속시, 1-메틸펜톡시, 2-메틸펜톡시, 3-메틸펜톡시, 4-메틸펜톡시, 1,1-디메틸부톡시, 1,2-디메틸부톡시, 1,3-디메틸부톡시, 2,2-디메틸부톡시, 2,3-디메틸부톡시, 3,3-디메틸부톡시, 1-에틸부톡시, 2-에틸부톡시, 1,1,2-트리메틸프로폭시, 1,2,2-트리메틸프로폭시, 1-에틸-1-메틸프로폭시 및 1-에틸-2-메틸프로폭시;
- C1-C4-할로알콕시: 일부 또는 전부가 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 치환된, 상기 언급된 C1-C4-알콕시기, 즉, 예를 들어 플루오로메톡시, 디플루오로메톡시, 트리플루오로메톡시, 클로로디플루오로메톡시, 브로모디플루오로메톡시, 2-플루오로에톡시, 2-클로로에톡시, 2-브로모에톡시, 2-요오도에톡시, 2,2-디플루오로에톡시, 2,2,2-트리플루오로에톡시, 2-클로로-2-플루오로에톡시, 2-클로로-2,2-디플루오로에톡시, 2,2-디클로로-2-플루오로에톡시, 2,2,2-트리클로로에톡시, 펜타플루오로에톡시, 2-플루오로프로폭시, 3-플루오로프로폭시, 2-클로로프로폭시, 3-클로로프로폭시, 2-브르모프로폭시, 3-브르모프로폭시, 2,2-디플루오로프로폭시, 2,3-디플루오로프로폭시, 2,3-디클로로프로폭시, 3,3,3-트리플루오로프로폭시, 3,3,3-트리클로로프로폭시, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로폭시, 헵타플루오로프로폭시, 1-(플루오로메틸)-2-플루오로에톡시, 1-(클로로메틸)-2-클로로에톡시, 1-(브로로메틸)-2-브로모에톡시, 4-플루오로부톡시, 4-클로로부톡시, 4-브로모부톡시 및 노나플루오로부톡시;
- C1-C4-알킬술포닐 (C1-C4-알킬-S(=O)2-): 메틸술포닐, 에틸술포닐, 프로필술포닐, 1-메틸에틸술포닐, 부틸술포닐, 1-메틸프로필술포닐, 2-메틸프로필술포닐 및 1,1-디메틸에틸술포닐;
- C1-C6-알킬술포닐: 상기 언급된 C1-C4-알킬술포닐, 및 또한 펜틸술포닐, 1-메틸부틸술포닐, 2-메틸부틸술포닐, 3-메틸부틸술포닐, 2,2-디메틸프로필술포닐, 1-에틸프로필술포닐, 1,1-디메틸프로필술포닐, 1,2-디메틸프로필술포닐, 헥실술포닐, 1-메틸펜틸술포닐, 2-메틸펜틸술포닐, 3-메틸펜틸술포닐, 4-메틸펜틸술포닐, 1,1-디메틸부틸술포닐, 1,2-디메틸부틸술포닐, 1,3-디메틸부틸술포닐, 2,2-디메틸부틸술포닐, 2,3-디메틸부틸술포닐, 3,3-디메틸부틸술포닐, 1-에틸부틸술포닐, 2-에틸부틸술포닐, 1,1,2-트리메틸프로필술포닐, 1,2-2-트리메틸프로필술포닐, 1-에틸-1-메틸프로필술포닐 및 1-에틸-2-메틸프로필술포닐;
- C1-C6-할로알킬술포닐: 일부 또는 전부가 플루오르, 염소, 브롬 및(또는) 요오드에 의해 치환된, 상기 언급된 C1-C6-알킬술포닐, 즉, 플루오로메틸술포닐, 디플루오로메틸술포닐, 트리플루오로메틸술포닐, 클로로디플루오로메틸술포닐, 브로모디플루오로메틸술포닐, 2-플루오로에틸술포닐, 2-클로로에틸술포닐, 2-브로모에틸술포닐, 2-요오도에틸술포닐, 2,2-디플루오로에틸술포닐, 2,2,2-트리플루오로에틸술포닐, 2,2,2-트리클로로에틸술포닐, 2-클로로-2-플루오로에틸술포닐, 2-클로로-2,2-디플루오로에틸술포닐, 2,2-디클로로-2-플루오로에틸술포닐, 펜타플루오로에틸술포닐, 2-플루오로프로필술포닐, 3-플루오로프로필술포닐, 2-클로로프로필술포닐, 3-클로로프로필술포닐, 2-브로모프로필술포닐, 3-브로모프로필술포닐, 2,2-디플루오로프로필술포닐, 2,3-디플루오로프로필술포닐, 2,3-디플루오로프로필술포닐, 3,3,3-트리플루오로프로필술포닐, 3,3,3-트리클로로프로필술포닐, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필술포닐, 헵타플루오로프로필술포닐, 1-(플루오로메틸)-2-플루오로에틸술포닐, 1-(클로로메틸)-2-클로로에틸술포닐, 1-(브르모메틸)-2-브로모에틸술포닐, 4-플루오로부틸술포닐, 4-클로로부틸술포닐, 4-브로모부틸술포닐, 노나플루오로부틸술포닐, 5-플루오로펜틸술포닐, 5-클로로펜틸술포닐, 5-브로모펜틸술포닐, 5-요오도펜틸술포닐, 6-플루오로헥실술포닐, 6-브로모헥실술포닐, 6-요오도헥실술포닐 및 도데카플루오로헥실술포닐;
- C1-C4-알킬이미노옥시: 메틸이미노옥시, 에틸이미노옥시, 1-프로필이미노옥시, 2-프로필이미노옥시, 1-부틸이미노옥시 및 2-부틸이미노옥시;
- C3-C6-알케닐: 프로프-1-엔-1-일, 프로프-2-엔-1-일, 1-메틸에테닐, 부텐-1-일, 부텐-2-일, 부텐-3-일, 1-메틸프로프-1-엔-1-일, 2-메틸프로프-1-엔-1-일, 1-메틸프로프-2-엔-1-일, 2-메틸프로프-2-엔-1-일, 펜텐-1-일, 펜텐-2-일, 펜텐-3-일, 펜텐-4-일, 1-메틸부트-1-엔-1-일, 2-메틸부트-1-엔-1-일, 3-메틸부트-1-엔-1-일, 1-메틸부트-2-엔-1-일, 2-메틸부트-2-엔-1-일, 3-메틸부트-2-엔-1-일, 1-메틸부트-3-엔-1-일, 2-메틸부트-3-엔-1-일, 3-메틸부트-3-엔-1-일, 1,1-디메틸프로프-2-엔-1-일, 1,2-디메틸프로프-1-엔-1-일, 1,2-디메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸프로프-1-엔-2-일, 1-에틸프로프-2-엔-1-일, 헥스-1-엔-1-일, 헥스-2-엔-1-일, 헥스-3-엔-1-일, 헥스-4-엔-1-일, 헥스-5-엔-1-일, 1-메틸펜트-1-엔-1-일, 2-메틸펜트-1-엔-1-일, 3-메틸펜트-1-엔-1-일, 4-메틸펜트-1-엔-1-일, 1-메틸펜트-2-엔-1-일, 2-메틸펜트-2-엔-1-일, 3-메틸펜트-2-엔-1-일, 4-메틸펜트-2-엔-1-일, 1-메틸펜트-3-엔-1-일, 2-메틸펜트-3-엔-1-일, 3-메틸펜트-3-엔-1-일, 4-메틸펜트-3-엔-1-일, 1-메틸펜트-4-엔-1-일, 2-메틸펜트-4-엔-1-일, 3-메틸펜트-4-엔-1-일, 4-메틸펜트-4-엔-1-일, 1,1-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,1-디메틸부트-3-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-1-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,2-디메틸부트-3-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-1-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 1,3-디메틸부트-3-엔-1-일, 2,2-디메틸부트-3-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-1-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 2,3-디메틸부트-3-엔-1-일, 3,3-디메틸부트-1-엔-1-일, 3,3-디메틸부트-2-엔-1-일, 1-에틸부트-1-엔-1-일, 1-에틸부트-2-엔-1-일, 1-에틸부트-3-엔-1-일, 2-에틸부트-1-엔-1-일, 2-에틸부트-2-엔-1-일, 2-에틸부트-3-엔-1-일, 1,1,2-트리메틸프로프-1-엔-1-일, 1-에틸-1-메틸프로프-2-엔-1-일, 1-에틸-2-메틸-프로프-1-엔-1-일 및 1-에틸-2-메틸프로프-2-엔-1-일;
- C2-C6-알케닐: 상기 언급된 바와 같은 C3-C6-알케닐, 및 또한 에테닐;
- C3-C6-알키닐: 프로프-1-인-1-일, 프로프-2-인-1-일, 부트-1-인-1-일, 부트-1-인-3-일, 부트-1-인-4-일, 부트-2-인-1-일, 펜트-1-인-1-일, 펜트-1-인-3-일, 펜트-1-인-4-일, 펜트-1-인-5-일, 펜트-2-인-1-일, 펜트-2-인-4-일, 펜트-2-인-5-일, 3-메틸부트-1-인-3-일, 3-메틸부트-1-인-4-일, 헥스-1-인-1-일, 헥스-1-인-3-일, 헥스-1-인-4-일, 헥스-1-인-5-일, 헥스-1-인-6-일, 헥스-2-인-1-일, 헥스-2-인-4-일, 헥스-2-인-5-일, 헥스-2-인-6-일, 헥스-3-인-1-일, 헥스-3-인-2-일, 3-메틸펜트-1-인-1-일, 3-메틸펜트-1-인-3-일, 3-메틸펜트-1-인-4-일, 3-메틸펜트-1-인-5-일, 4-메틸펜트-1-인-1-일, 4-메틸펜트-2-인-4-일 및 4-메틸펜트-2-인-5-일;
- C2-C6-알키닐: 상기 언급된 바와 같은 C3-C6-알키닐, 및 또한 에틸닐:
- C3-C6-시클로알킬: 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실;
- C4-C6-시클로알케닐: 시클로부텐-1-일, 시클로부텐-3-일, 시클로펜텐-1-일, 시클로펜텐-3-일, 시클로펜텐-4-일, 시클로헥센-1-일, 시클로헥센-3-일 및 시클로헥센-4-일;
- 헤테로시클릴, 및 또한 헤테로시클릴옥시에서의 헤테로시클릴기: 산소, 질소 및 황으로 구성된 군 중에서 선택된 1 내지 3개의 헤테로 원자를 갖는 3 내지 7원의 포화 또는 부분 불포화 모노- 또는 폴리시클릭 헤테로사이클, 예를 들면 옥시라닐, 2-테트라히드로푸라닐, 3-테트라히드로푸라닐, 2-테트라히드로티에닐, 3-테트라히드로티에닐, 2-피롤리디닐, 3-피롤리디닐, 3-이속사졸리디닐, 4-이속사졸리디닐, 5-이속사졸리디닐, 3-이소티아졸리디닐, 4-이소티아졸리디닐, 5-이소티아졸리디닐, 3-피라졸리디닐, 4-피라졸리디닐, 5-피라졸리디닐, 2-옥사졸리디닐, 4-옥사졸리디닐, 5-옥사졸리디닐, 2-티아졸리디닐, 4-티아졸리디닐, 5-티아졸리디닐, 2-이미다졸리디닐, 4-이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리딘-3-일, 1,2,4-옥사디아졸리딘-5-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-3-일, 1,2,4-티아디아졸리딘-5-일, 1,2,4-트리아졸리딘-3-일, 1,3,4-옥사디아졸리딘-2-일, 1,3,4-티아디아졸리딘-2-일, 1,3,4-트리아졸리딘-2-일, 2,3-디히드로푸란-2-일, 2,3-디히드로푸란-3-일, 2,3-디히드로푸란-4-일, 2,3-디히드로푸란-5-일, 2,5-디히드로푸란-2-일, 2,5-디히드로푸란-3-일, 2,3-디히드로티엔-2-일, 2,3,-디히드로티엔-3-일, 2,3-디히드로티엔-4-일, 2,3-디히드로티엔-5-일, 2,5-디히드로티엔-2-일, 2,5-디히드로티엔-3-일, 2,3-디히드로피롤-2-일, 2,3-디히드로피롤-3-일, 2,3-디히드로피롤-4-일, 2,3-디히드로피롤-5-일, 2,5-디히드로피롤-2-일, 2,5-디히드로피롤-3-일, 2,3-디히드로이속사졸-3-일, 2,3-디히드로이속사졸-4-일, 2,3-디히드로이속사졸-5-일, 4,5-디히드로이속사졸-3-일, 4,5-디히드로이속사졸-4-일, 4,5-디히드로이속사졸-5-일, 2,5-디히드로이속사졸-3-일, 2,5-디히드로이속사졸-4-일, 2,5-디히드록사졸-5-일, 2,3-디히드로이소티아졸-3-일, 2,3-디히드로이소티아졸-4-일, 2,3-디히드로이소티아졸-5-일, 4,5-디히드로이소티아졸-3-일, 4,5-디히드로이소티아졸-4-일, 4,5-디히드로이소티아졸-5-일, 2,5-디히드로이소티아졸-3-일, 2,5-디히드로이소티아졸-4-일, 2,5-디히드로이소티아졸-5-일, 2,3-디히드로피라졸-3-일, 2,3-디히드로피라졸-4-일, 2,3-디히드로피라졸-5-일, 4,5-디히드로피라졸-3-일, 4,5-디히드로피라졸-4-일, 4,5-디히드로피라졸-5-일, 2,5-디히드로피라졸-3-일, 2,5-디히드로피라졸-4-일, 2,5-디히드로피라졸-5-일, 2,3-디히드로옥사졸-2-일, 2,3-디히드로옥사졸-4-일, 2,3-디히드로옥사졸-5-일, 4,5-디히드로옥사졸-2-일, 4,5-디히드로옥사졸-5-일, 4,5-디히드로옥사졸-5-일, 2,5-디히드로옥사졸-2-일, 2,5-디히드로옥사졸-4-일, 2,5-디히드로옥사졸-5-일, 2,3-디히드로티아졸-2-일, 2,3-디히드로티아졸-4-일, 2,3-디히드로티아졸-5-일, 4,5-디히드로티아졸-2-일, 4,5-디히드로티아졸-4-일, 4,5-디히드로티아졸-5-일, 2,5-디히드로티아졸-2-일, 2,5-디히드로티아졸-4-일, 2,5-디히드로티아졸-5-일, 2,3-디히드로이미다졸-2-일, 2,3-디히드로이미다졸-4-일, 2,3-디히드로이미다졸-5-일, 4,5-디히드로이미다졸-2-일, 4,5-디히드로이미다졸-4-일, 4,5-디히드로이미다졸-5-일, 2,5-디히드로이미다졸-2-일, 2,5-디히드로이미다졸-4-일, 2,5-디히드로이미다졸-5-일, 2-모르폴리닐, 3-모르폴리닐, 2-피페리디닐, 3-피페리디닐, 4-피페리디닐, 3-테트라히드로피리다지닐, 4-테트라히드로피리다지닐, 2-테트라히드로피리미디닐, 4-테트라히드로피리미디닐, 5-테트라히드로피리미디닐, 2-테트라히드로피라지닐, 1,3,5-테트라히드로트리아진-2-일, 1,2,4-테트라히드로트리아진-3-일, 1,3-디히드로옥사진-2-일, 1,3-디티안-2-일, 2-테트라히드로피라닐, 3-테트라히드로피라닐, 4-테트라히드로피라닐, 2-테트라히드로티오피라닐, 3-테트라히드로티오피라닐, 4-테트라히드로티오피라닐, 1,3-디옥솔란-2-일, 3,4,5,6-테트라히드로피리딘-2-일, 4H-1,3-티아진-2-일, 4H-3,1-벤조티아진-2-일, 1,1-디옥소-2,3,4,5-테트라히드로티엔-2-일, 2H-1,4-벤조티아진-3-일, 2H-1,4-벤족사진-3-일, 1,3-디히드로옥사진-2-일,
- 헤타릴, 및 또한 헤타릴옥시에서의 헤타릴기: 탄소 고리원 이외에, 추가로 1 내지 4개의 질소 원자, 또는 1 내지 3개의 질소 원자 및 1개의 산소 또는 1개의 황 원자, 또는 1개의 산소 또는 1개의 황 원자를 가질 수 있는 방향족 모노- 또는 폴리시클릭기, 예를 들어 2-푸릴, 3-푸릴, 2-티에닐, 3-티에닐, 2-피롤릴, 3-피롤릴, 3-이속사졸릴, 4-이속사졸릴, 5-이속사졸릴, 3-이소티아졸릴, 4-이소티아졸릴, 5-이소티아졸릴, 3-피라졸릴, 4-피라졸릴, 5-피라졸릴, 2-옥사졸릴, 4-옥사졸릴, 5-옥사졸릴, 2-티아졸릴, 4-티아졸릴, 5-티아졸릴, 2-이미다졸릴, 4-이미다졸릴, 1,2,4-옥사디아졸-3-일, 1,2,4-옥사디아졸-5-일, 1,2,4-티아디아졸-3-일, 1,2,4-티아디아졸-5-일, 1,2,4-트리아졸-3-일, 1,3,4-옥사디아졸-2-일, 1,3,4-티아디아졸-2-일, 1,3,4-트리아졸-2-일, 2,-피리디닐, 3-피리디닐, 4-피리디닐, 3-피리다지닐, 4-피리다지닐, 2-피리미디닐, 4-피리미디닐, 5-피리미디닐, 2-피라지닐, 1,3,5-트리아진-2-일, 1,2,4-트리아진-3-일, 1,2,4,5-테트라진-3-일, 및 상응하는 벤조-융합 유도체.
모든 페닐, 헤타릴 및 헤테로시클릴 고리는 바람직하게는 비치환되거나, 또는 1 내지 3개의 할로겐 원자 및(또는) 니트로, 시아노, 메틸, 트리플루오로메틸, 메톡시, 트리플루오로메톡시 또는 메톡시카르보닐 중에서 선택된 1 또는 2개의 기에 결합된다.
제조제로서의 본 발명의 화학식 I의 화합물의 용도 관점에서, 변수들은 바람직하게는 하기의 의미를 갖는데, 즉, 각 경우 단독으로 또는 조합된 의미를 갖는다:
R1은 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR5또는 -S(O)nR7이고, 니트로, 플루오르, 염소 또는 브롬과 같은 할로겐, C1-C6-할로알킬, -OR5뙤는 -SO2R7가 특히 바람직하고;
R2는 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR5또는 -S(O)nR7이고, 수소, 니트로, 플루오르, 염소 또는 브롬과 같은 할로겐, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, -OR5또는 -SO2R7이 특히 바람직하고;
R4내지 R7은 각각 수소, 히드록실, 머캅토, 아미노, 할로겐, C1-C4-알킬, C5-C6-시클로알킬, C5-C6-시클로알케닐, 페닐, -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3또는 -OCOR10이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3, -OCOR10기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 니트로, 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알콕시카르보닐 중 1 내지 3개를 가질 수 있고, 수소, 히드록실, 머캅토, 플루오르, 염소 또는 브롬과 같은 할로겐, C1-C4-알킬, -OSO2R10, -OPO3R10, -Si(CH3)3가 특히 바람직하고;
R4및 R5는 함께 1 또는 2개의 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 바람직하게 산소 원자 또는 NR10임)를 형성하는 것이 바람직하고, R4및 R5는 =X의 기 (여기서, =X는 바람직하게는 산소 원자임)를 형성하는 것이 특히 바람직하고;
R6및 R7는 함께 1 또는 2개의 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 바람직하게는 산소 원자 또는 NR10임)를 형성하는 것이 바람직하고, R4및 R5는 =X의 기 (여기서, =X는 바람직하게는 산소 원자임)를 형성하는 것이 특히 바람직하고;
n은 2이고;
R5및 R6은 함께, 이들이 이웃한 탄소 원자에 결합되고 R4및 R7은 각각 수소라면, 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C3-C4-알킬렌 또는 C3-C4-알케닐렌 쇄를 형성하는 것이 바람직하고;
R8및 R9는 각각 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬, C5-C6-시클로알킬, C5-C6-시아노알케닐, C5-C6-헤테로시클릴, -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬 및 5원 또는 6원 헤타릴이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 니트로, 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알콕시카르보닐 중 1 내지 3개를 가질 수 있고,
R10은 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C2-C4-알케닐, 페닐 또는 페닐-C1-C4-알킬이고, 여기서 언급된 페닐기는 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 니트로, 시아노, C1-C4-알킬, C1-C4-할로알킬, C1-C4-알콕시, C1-C4-할로알콕시, C1-C4-알콕시카르보닐의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
R11, R12, R14및 R16는 각각 수소 또는 C1-C4-알킬이고, 수소, 메틸 또는 에틸이 특히 바람직하고,
R13은 수소이거나, 또는 할로겐, C1-C4-알콕시 또는 C1-C4-알킬티오의 치환기 중 1 내지 3개로 치환될 수 있는 C1-C4-알킬, C3-C4-시클로알킬이거나, 또는;
테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 테트라히드로티오피란-2-일, 테트라히드로티오피란-3-일, 테트라히드로티오피란-4-일이거나, 또는 C1-C4-알킬기 1 내지 3개로 치환될 수 있는 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥산-2-일, 1,3-옥사티올란-2-일, 1,3-옥사티안-2-일, 1,3-디티안-2-일 또는 1,3-디티올란-2-일이고;
수소, 메틸, 에틸, 시클로프로필, 디(메톡시)메틸, 디(에톡시)메틸, 2-에틸티오프로필, 테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 테트라히드로티오피란-2-일, 테트라히드로티오피란-3-일, 테트라히드로티오피란-4-일, 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥산-2-일, 5,5-디메틸-1,3-디옥산-2-일, 1,3-옥사티올란-2-일, 1,3-옥사티안-2-일, 1,3-디티올란-2-일, 5,5-디메틸-1,3-디티안-2-일 또는 1-메틸티오시클로프로필이 특히 바람직하고;
R15는 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시카르보닐이고, 수소, 메틸 또는 메톡시카르보닐이 특히 바람직하다.
또한, R13및 R16이 π결합을 형성해서 이중 결합계를 형성하는 것이 이로울 수 있다.
CR13R14단위 또한 C=O에 의해 치환되는 것이 이로울 수 있다.
R1은 페닐 고리의 2 위치에 결합되고, R2는 4위치에 결합된 화학식 Ia의 화합물이 특히 바람직하다.
〈화학식 Ia〉
치환기 R1, R2및 Q 각각은 상기 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기이고,
R4내지 R7은 각각 수소, 히드록실, 아미노, 할로겐, C1-C4-알킬, C5-C6-시클로알킬, 페닐, -OR10, -SO2R10, -OSO2R10, PO3(R10)2, -OPO3(R10)2, -NR3R10또는 -OCOR10이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -SO2R10, -OSO2R10, -PO3(R10)2, -OPO3(R10)2, -NR3R10, -OCOR10의 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 히드록실, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -NR3R10, -OCOR10, -CO2R10, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 페닐, 벤질, 페녹시 및 벤질옥시의 기 중 1 내지 3개를 갖는 화학식 Ia의 화합물이 가장 특히 바람직하다.
추가로, 본 발명의 화학식 Ia의 화합물은 치환기 R1, R2및 Q 각각은 상기에서 정의환 바와 동일하고, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일하고,
R4및 R5는 함께 1 또는 2개의 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하거나, =X의 기 (여기서, X는 산소 원자가 바람직함)를 형성하고(거나),
R6및 R7은 함께 1 또는 2개의 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하거나, =X의 기 (여기서, X는 산소 원자가 바람직함)를 형성하는 화합물이 가장 특히 바람직하다.
또한, 본 발명의 화학식 Ia의 화합물은 변수 R1, R2및 Q는 각각 상기에서 정의된 바와 동일하고, A는 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일하고,
R5및 R6은 함께, 이들이 이웃한 탄소 원자에 결합되고 R4및 R7이 각각 수소라면, 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C3-C4-알킬렌 또는 C3-C4-알케닐렌 쇄를 형성한다.
변수 R1, R2및 Q 각각이 상기 언급된 바와 동일하고, A가 화학식 IVb와 기와 동일한 화학식 Ia의 화합물이 가장 특히 바람직하다.
R8및 R9는 각각 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬, C5-C6-시클로알킬, C5-C6-시클로알케닐, C5-C6-헤테로시클릴, -OR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10, 페닐, 페닐-C1-C4-알킬 및 5원 또는 6원 헤타릴이며, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10의 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나) 히드록실, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -NR3R10, -OCOR10, -CO2R10, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 페닐, 벤질, 페녹시 및 벤질옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있다.
추가로, 본 발명의 화학식 Ia의 화합물은 변수 R1, R2및 Q 각각이 상기 언급된 바와 동일하고, A는 화학식 IVb의 기와 동일하고,
R8및 R9는 함께 1 또는 2개의 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성하는 화합물이 가장 특히 바람직하다.
표 1 내지 36의 화학식 Ib의 화합물이 매우 특히 바람직하다.
하기 화학식 Ib의 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온을 기초로 한다.
표 1: 화합물 1.1-1.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 2: 화합물 2.1-2.514
R1및 R2는 염소이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 3: 화합물 3.1-3.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 4: 화합물 4.1-4.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 5: 화합물 5.1-5.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 6: 화합물 6.1-6.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 7: 화합물 7.1-7.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 8: 화합물 8.1-8.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 9: 화합물 9.1-9.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 10: 화합물 10.1-10.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 11: 화합물 11.1-11.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12,R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 12: 화합물 12.1-12.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 13: 화합물 13.1-13.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 14: 화합물 14.1-14.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 15: 화합물 15.1-15.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 16: 화합물 16.1-16.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 17: 화합물 17.1-17.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 18: 화합물 18.1-18.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 19: 화합물 19.1-19.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위체는 C=O 기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 20: 화합물 20.1-20.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 21: 화합물 21.1-21.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 22: 화합물 22.1-22.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 23: 화합물 23.1-23.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 24: 화합물 24.1-24.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 25: 화합물 25.1-25.514
R1은 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 26: 화합물 26.1-26.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 27: 화합물 27.1-27.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 28: 화합물 28.1-28.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 29: 화합물 29.1-29.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 30: 화합물 30.1-30.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 31: 화합물 31.1-31.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 32: 화합물 32.1-32.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 33: 화합물 33.1-33.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 34: 화합물 34.1-34.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 35: 화합물 35.1-35.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
표 36: 화합물 36.1-36.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 A의 1열에 해당하는 화학식 Ib의 화합물.
하기 표 37 내지 72는 하기 화학식 Ic의 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온을 기초로 한다.
표 37: 화합물 37.1-37.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 38: 화합물 38.1-38.514
R1및 R2는 염소이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 39: 화합물 39.1-39.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 40: 화합물 40.1-40.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 41: 화합물 41.1-41.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 42: 화합물 42.1-42.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 43: 화합물 43.1-43.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 44: 화합물 44.1-44.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 45: 화합물 45.1-45.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 46: 화합물 46.1-46.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 47: 화합물 47.1-47.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12,R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 48: 화합물 48.1-48.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 49: 화합물 49.1-49.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 50: 화합물 50.1-50.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 51: 화합물 51.1-51.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 52: 화합물 52.1-52.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 53: 화합물 53.1-53.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 54: 화합물 54.1-54.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 55: 화합물 55.1-55.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위체는 C=O 기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 56: 화합물 56.1-56.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 57: 화합물 57.1-57.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 58: 화합물 58.1-58.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 59: 화합물 59.1-59.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 60: 화합물 60.1-60.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 61: 화합물 61.1-61.514
R1은 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 62: 화합물 62.1-62.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 63: 화합물 63.1-63.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 64: 화합물 64.1-64.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 65: 화합물 65.1-65.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 66: 화합물 66.1-66.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 67: 화합물 67.1-67.514
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 68: 화합물 68.1-68.514
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 69: 화합물 69.1-69.514
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 70: 화합물 70.1-70.514
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 71: 화합물 71.1-71.514
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
표 72: 화합물 72.1-72.514
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 B의 1열에 해당하는 화학식 Ic의 화합물.
하기 표 73 내지 108은 하기 화학식 Id의 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온을 기초로 한다.
표 73: 화합물 73.1-73.102
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 74: 화합물 74.1-74.102
R1및 R2는 염소이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 75: 화합물 75.1-75.102
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 76: 화합물 76.1-76.102
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 77: 화합물 77.1-77.102
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 78: 화합물 78.1-78.102
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R14, R15및 R16은 각각 수소이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 79: 화합물 79.1-79.102
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 80: 화합물 80.1-80.102
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 81: 화합물 81.1-81.102
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 82: 화합물 82.1-82.102
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 83: 화합물 83.1-83.102
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12,R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 84: 화합물 84.1-84.102
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 수소이고, R13및 R14는 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 85: 화합물 85.1-85.102
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 86: 화합물 86.1-86.102
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 87: 화합물 87.1-87.102
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 88: 화합물 88.1-88.102
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 89: 화합물 89.1-89.102
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 90: 화합물 90.1-90.102
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13및 R14는 각각 수소이고, R15및 R16은 각각 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 91: 화합물 91.1-91.102
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위체는 C=O 기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 92: 화합물 92.1-92.102
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 93: 화합물 93.1-93.102
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 94: 화합물 94.1-94.102
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 95: 화합물 95.1-95.102
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 96: 화합물 96.1-96.102
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R15및 R16은 각각 메틸이고, CR13R14단위는 C=O기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 97: 화합물 97.1-97.102
R1은 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 98: 화합물 98.1-98.102
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 99: 화합물 99.1-99.102
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 100: 화합물 100.1-100.102
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 101: 화합물 101.1-101.102
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 102: 화합물 102.1-102.102
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R13, R15및 R16은 각각 수소이고, R14는 메틸이며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 103: 화합물 103.1-103.102
R1은 염소이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 104: 화합물 104.1-104.102
R1및 R2는 각각 염소이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 105: 화합물 105.1-105.102
R1은 염소이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 106: 화합물 106.1-106.102
R1은 메틸이고, R2는 염소이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 107: 화합물 107.1-107.102
R1은 메틸이고, R2는 메틸술포닐이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
표 108: 화합물 108.1-108.102
R1은 메틸이고, R2는 트리플루오로메틸이고, R11, R12, R14및 R15는 각각 수소이고, R13및 R16은 함께 메틸렌기를 형성하며, 각각의 개별 화합물에 대한 R3내지 R7치환기는 표 C의 1열에 해당하는 화학식 Id의 화합물.
화학식 I의 화합물 및 그의 농업적으로 유용한 염은 이성질체 혼합물의 형태 및 순수한 이성질체의 형태로 제초제로서 적당하다. 화학식 I의 화합물을 포함하는 제초성 조성물은 미경작지의 식물 생장을 특히 높은 시용양으로 매우 효과적으로 방제한다. 이들은 작물에 실질적인 손상을 가하지 않고 밀, 벼, 옥수수, 콩 및 목화와 같은 작물 중의 활엽 잡초 및 볏과의 잡초에 대해 작용한다. 이런 효과는 특히 낮은 시용양으로도 관찰된다.
해당 시용 방법에 따라, 화학식 I의 화합물 또는 그를 포함하는 제초제 조성물을 또한 추가의 다수의 작물에 사용하여 바람직하지 못한 식물을 제거할 수 있다. 적당한 작물의 예는 다음과 같다:
양파 (Allium cepa), 아나나스 코모수스 (Ananas comosus), 땅콩 (Arachis hypogaea), 아스파라가스 (Asparagus officinalis), 근대 종. 알티시마 (Beta vulgaris spec. altissima), 사탕무우 (Beta vulgaris spec. rapa), 십자화과 식물 [브라시카 나푸스 변종 나푸스 (Brassica napus var. napus), 브라씨카 나푸스 변종 나포브라씨카 (Brassica napus var. napobrassica), 브라씨카 라파 변종 실베스트리스 (Brassica rapa var. silvestris)], 차과 식물 (Camellia sinensis), 잇꽃 (Carthamus tinctorius), 카랴 일리노이넨시스 (Carya illinoinensis), 레몬 (Citrus limon), 당귤 (Citrus sinensis), 커피나무 (Coffea arabica) [코페아 카네포라 (Coffea canephora), 코페아 리베리카 (Coffea liberica)], 오이 (Cucumis sativus), 우산대 잔디 (Cynodon dactylon), 당근 (Daucus carota), 엘라에이스 귀닌시스 (Elaeis guineensis), 딸기 (Fragaria vesca), 글리신 맥스 (Glycine max), 무궁화과 식물 (Gossypium hirsutum) [고시퓸 아르보레움 (Gossypium arboreum), 황면 (Gossypium herbaceum), 고시퓸 비티폴륨 (Gossipium vitifolium)], 해바라기 (Helianthus annuus), 파라고무 (Hevea brasiliensis), 쌀보리 (Hordeum vulgare), 호프 (Humulus lupulus), 단고구마 (Ipomoea batatas), 호두과 식물 (Juglans regia), 렌스 쿨리나리스 (Lens culinaris), 아마 (Linum usitatissimum), 리코페르시콘 리코페르시쿰 (Lycopersicon lycopersicum), 말루스 종 (Malus spec.), 대극과 식물 (Manihot esculenta), 자주개 자리 (Medicago sativa), 파초과 식물 (Musa spec.), 담배 (Nicotiana tabacum) [당담배 (N. rustica)], 오리브 (Olea europaea), 자도 (Oryza sativa), 화본과 식물 (Phaseolus lunatus), 돔부·강낭채두 (Phaseolus vulgaris), 주목과 식물 (Picea abies), 소나무 종 (Pinus spec.), 완두 (Pisum sativum), 양벗 (Prunus avium), 숭도 (Prunus persica), 서양배 (Pyrus communis), 범의귀과 식물 (Ribes sylvestre), 피마자 (Ricinus communis), 사탕수수 (Saccaharum officinarum), 호밀 (Secale cereale), 감자 (Solanum tuberosum), 수수 (Sorghum bicolor) [소르굼 불가레 (S. vulgare)], 카카오 (Theobroma cacao), 붉은 토끼풀 (Trifolium pratense), 밀 (Triticum aestivum), 자라풀과 식물 (Triticum durum), 잠두 (Vicia faba), 포도 (Vitis vinifera) 및 옥수수 (Zea mays).
덧붙여서, 화학식 I의 화합물은 유전 공학적 방법을 포함하는 육종의 결과로서 제초제의 작용에 내성이 있는 작물에도 사용할 수 있다.
화학식 I의 활성 성분 또는 제초제 조성물은 발아전 또는 발아후 시용할 수 있다. 활성 성분이 특정 작물에 대한 내성이 적을 경우, 활성 성분이 이들 작물의 아래에서 또는 노출된 토양 표면에서 자라는 원치않는 식물의 잎에 도달하게 하는 동안, 민감한 작물의 잎에 가능한한 적게 접촉하도록 분무기를 사용하여 제초제 조성물을 분무하는 시용 기술이 사용될 수 있다 (후방 집중식 레이-바이 처리법 : post-directed, lay-by).
화학식 I의 화합물, 또는 그를 포함하는 제초성 조성물은, 예를 들면 즉시 분무 가능한 수용액제, 분말제, 현탁제, 또는 고농축 수성, 유성 또는 다른 현탁제 또는 분산액제, 유제, 유성 분산액제, 페이스트제, 분제, 산포용 조성물 또는 입제의 형태로 분무, 아토마이징, 살분, 산포 또는 관주함으로써 사용할 수 있다. 사용 형태는 의도한 목적에 달려있지만, 어떠한 경우든지, 본 발명에 따른 활성 성분을 가능한 한 가장 미세하게 분산시켜야 한다.
적당한 불활성 보조제로는 주로 등유 또는 디젤유와 같은 중비등점 내지 고비등점 광유 분획물, 추가로 코울타르유 및 식물성 또는 동물성유, 지방족, 환족 및 방향족 탄화 수소 (예를 들면, 파라핀, 테트라히드로나프탈렌, 알킬화 나프탈렌 및 그의 유도체, 알킬화 벤젠 및 그의 유도체), 알콜 (예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올 및 시클로헥산올), 시클로헥사논과 같은 케톤, 강한 극성 용매 (예를 들면, N-메틸피롤리돈과 같은 아민 및 물)이 있다.
수성 사용 형태는 유제 농축물, 현탁액제, 페이스트제, 수화제 또는 수분산성 입제로부터 물을 첨가함으로써 제조할 수 있다. 유제, 페이스트제 또는 유성 분산액제를 제조하기 위해서는, 성분 그 자체, 또는 오일 또는 용매에 용해시킨 성분을 습윤화제, 접착성 부여제, 분산제 또는 유화제를 사용하여 물 중에 균질화시킬 수 있다. 대안적으로, 활성 성분, 습윤화제, 접착성 부여제, 분산제 또는 유화제, 필요하다면, 용매 또는 오일을 포함하는 농축물을 제조할 수도 있으며, 이들 농축물은 물로 희석시키기에 적당하다.
적당한 계면 활성제로는 방향족 술폰산 (예를 들면, 리그노술폰산, 페놀술폰산, 나프탈렌술폰산 및 디부틸나프탈렌술폰산), 및 지방산의 알칼리 금속 염, 알칼리 토 금속 염 및 암모늄 염, 알킬- 및 알킬아릴술폰산염, 알킬, 라우릴 에테르 및 지방 알콜 황산 염, 및 황산화 헥사-, 헵타- 및 옥타데칸올 염 및 또한 지방 알콜 글리콜 에테르 염, 술폰화 나프탈렌 및 그의 유도체와 포름알데히드의 축합물, 나프탈렌 또는 나프탈렌술폰산과 페놀 및 포름알데히드와의 축합물, 폴리옥시에틸렌 옥틸페놀 에테르, 에톡시화 이소옥틸페놀, 옥틸 페놀 또는 노닐페놀, 알킬페놀 폴리글리콜 에테르, 트리부틸페닐 폴리글리콜 에테르, 알킬아릴 폴리에테르 알콜, 이소트리데실 알콜, 지방 알콜/에틸렌 옥시드 축합물, 에톡시화 피마자유, 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 또는 폴리옥시프로필렌 알킬 에테르, 라우릴 알콜 폴리글리콜 에테르 아세테이트, 솔비톨 에스테르, 리그노아황산 폐액 또는 메틸셀룰로오즈가 있다.
분말, 산포용 및 분진 조성물은 활성 성분과 고상 담체를 함께 혼합 또는 분쇄시킴으로써 제조할 수 있다.
입제, 예를 들면, 피복 입제, 함침 입제 또는 균질 입제는 활성 성분을 고상 담체에 결합시켜서 제조할 수 있다. 고상 담체로는, 무기질 토류 (예를 들면, 실리카류, 실리카겔류, 실리케이트류, 탈크, 카올린, 석회석, 석회, 쵸크, 보울, 풍적 황토, 점토, 백운석, 규조토, 황산 칼슘, 황산 마그네슘, 산화 마그네슘, 토류 합성 물질), 및 비료 (예를 들면, 황산 암모늄, 인산 암모늄, 질산 암모늄, 우레아), 및 식물에서 유래된 생성물 (예를 들면, 곡분, 목피분, 목분 및 낙화생분), 셀룰로오즈 분말 또는 기타 고상 담체가 있다.
즉시 사용할 수 있는 제제 중의 화학식 I의 활성 성분 농도는 넓은 범위에서 변화될 수 있다. 일반적으로 제제는 1종 이상의 활성 성분을 약 0.001 내지 98 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 95 중량% 포함한다. 활성 성분은 90 % 내지 100 %, 바람직하게는 95 % 내지 100 % (NMR 스펙트럼에 의함)의 순도로 사용한다.
하기의 제제 예는 본 발명의 화학식 I의 화합물의 제조를 명시한다.
I. 화합물 제110.1번 20 중량부를 알킬화 벤젠 80 중량부, 8 내지 10 몰의 산화 에틸렌과 1 몰의 올레산 N-모노에탄올아미드와의 부가물 10 중량부, 도데실벤젠술폰산 칼슘 5 중량부 및 40 몰의 산화 에틸렌과 1 몰의 피마자유와의 부가물 5 중량부로 이루어지는 혼합물에 용해시킨다. 이 용액을 물 100,000 중량부에 붓고 미세하게 분산시켜 활성 성분을 0.02 중량% 함유하는 수성 분산액을 얻는다.
II. 화합물 제110.1번 20 중량부를 시클로헥산 40 중량부, 이소부탄올 30 중량부, 7 몰의 산화 에틸렌과 1 몰의 이소옥틸페놀과의 부가물 20 중량부, 40 몰의 산화 에틸렌과 1 몰의 피마자유와의 부가물 10 중량부로 이루어지는 혼합물에 용해시킨다. 이 용액을 물 100,000 중량부에 붓고 미세하게 분산시켜 활성 성분을 0.02 중량% 함유하는 수성 분산액을 얻는다.
III. 활성 성분 제110.1번 20 중량부를 시클로헥사논 25 중량부, 비등점이 210 내지 280 ℃인 광유 분획물 65 중량부 및 40 몰의 산화 에틸렌과 1 몰의 피마자유와의 부가물 10 중량부로 이루어지는 혼합물에 용해시킨다. 이 용액을 물 100,000 중량부에 붓고 미세하게 분산시켜 활성 성분을 0.02 중량% 함유하는 수성 분산액을 얻는다.
IV. 활성 성분 제110.1번 20 중량부를 디이소부틸나프탈렌술폰산 나트륨 3 중량부, 아황산염 폐액으로부터 얻은 리그노술폰산의 나트륨염 17 중량부 및 실리카겔 분말 60 중량부와 완전히 혼합하고, 혼합물을 해머 밀 중에서 분쇄시킨다. 혼합물을 물 20,000 중량부에 미세하게 분산시켜서 활성 성분을 0.1 중량% 함유하는 분무 혼합물을 얻는다.
V. 활성 성분 제110.1번 3 중량부를 미분 카올린 97 중량부과 혼합한다. 이것은 활성 성분을 3 중량% 함유하는 분제 조성물이 된다.
VI. 활성 성분 제110.1번 20 중량부를 도데실벤젠술폰산 칼슘 2 중량부, 지방 알콜 폴리글리콜 에테르 8 중량부, 페놀-우레아-포름알데히드 축합물의 나트륨염 2 중량부 및 파라핀 광유 68 중량부와 균질하게 혼합한다. 안정한 유성 분산액이 얻어진다.
VII. 활성 성분 제110.1번 1 중량부를 시클로헥사논 70 중량부, 에톡시화 이소옥틸페놀 20 중량부 및 에톡시화 피마자유 10 중량부로 이루어진 혼합물에 용해한다. 안정한 유제 농축물을 얻는다.
VIII. 활성 성분 제110.1번 1 중량부를 시클로헥사논 80 중량부 및 베톨 (Wettol) (등록상표) EM 31 (에톡시화 피마자유를 기재로 한 비이온성 유화제) 20 중량부로 이루어진 혼합물에 용해한다. 안정한 유제 농축물을 얻는다.
활성 범위를 확대하고 상승 효과를 얻기 위하여, 화학식 I의 치환된 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온은 다수의 대표적인 다른 제초제 군 또는 성장 조절 활성 화합물 군과 혼합될 수 있으며, 함께 사용할 수 있다. 적합한 혼합물 성분의 예로는 1,2,4-티아디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 아미드, 아미노인산 및 그의 유도체, 아미노트리아졸, 아닐리드, (헤트)아릴옥시알칸산 및 그의 유도체, 벤조산 및 그의 유도체, 벤조티아디아지논, 2-아로일-1,3-시클로헥산디온, 헤타릴아릴 케톤, 벤질이속사졸리디논, 메타-CF3-페닐 유도체, 카르바메이트, 퀴놀린카르복실산 및 그의 유도체, 클로로아세트아닐리드, 시클로헥산-1,3-디온 유도체, 디아진, 디클로로프로피온산 및 그의 유도체, 디히드로벤조푸란, 디히드로푸란-3-온, 디니트로아닐린, 디니트로페놀, 디페닐 에테르, 디피리딜, 할로카르복실산 및 그의 유도체, 우레아, 3-페닐우라실, 이미다졸, 이미다졸리논, N-페닐-3,4,5,6-테트라히드로프탈이미드, 옥사디아졸, 옥시란, 페놀, 아릴옥시- 및 헤타릴옥시페녹시프로피온산 에스테르, 페닐아세트산 및 그의 유도체, 페닐프로피온산 및 그의 유도체, 피라졸, 페닐피라졸, 피리다진, 피리딘카르복실산 및 그의 유도체, 피리미딜 에테르, 술폰아미드, 술포닐우레아, 트리아진, 트리아지논, 트리아졸리논, 트리아졸카르복스아미드 및 우라실이 있다.
더욱이, 화학식 I의 화합물은 단독으로, 또는 다른 제초제, 추가의 다른 작물 보호제와 혼합물 형태로 조합하고, 예를 들어, 해충 또는 식물 병원성 진균 또는 세균 방제용 조성물과 함께 사용하는 것이 유용할 수 있다. 또한 영양 및 미량 원소 결핍증 치료에 사용되는 무기염 용액과의 혼화성이 중요하다. 비식물 독성 오일 및 오일 농축물이 첨가될 수도 있다.
활성 성분의 시용량은 방제 목적, 연중 시기, 표적 식물 및 성장 단계에 따라 활성 성분 0.001 내지 3.0, 바람직하게는 0.01 내지 1 kg/ha이다.
몇몇 출발 물질의 합성법이 하기에 주어진다:
2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조산 (화합물 5.03)
단계 a: 메틸 2,4-디클로로-3-(3'-트리메틸실릴옥시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 (화합물 5.01)
n-헥산 1.0 리터 중의 메틸 2,4-디클로로-3-포르밀벤조에이트 10 g (0.043 몰) 및 2-트리메틸실릴옥시프로펜 8.4 g (0.065 몰)의 용액을 실온에서 24 시간 동안 UV 방사기 (Heraeus, TQ 150W)기로 조사하였다. 이후에, 용매를 감압하에서 증발시키고, 잔류물은 100:1 내지 5:1 (v/v)의 시클로헥산 및 아세트산 에틸의 혼합물을 사용하여 실리카 겔 (0.04 내지 0.06 mm) 100 g에서 정제하였다. 메틸 2,4-디클로로-3-(3'-트리메틸실릴옥시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 6.8 g이 얻어졌다.
1H NMR (CDCl3) δ [ppm]: 1.3 (t, 3H), 3.9 (dd, 3H), 4.6 (m, 2H), 6.4 (d, 1H), 7.0 (s, 1H), 7.3 (m, 2H)
단계 b: 메틸 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 (화합물 5.02)
메틸 2,4-디클로로-3-(3'-트리메틸실릴옥시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 14 g (0.039 몰) 및 이온 교환제 (Dowex 50 WX2, Serva) 14 g을 메탄올 100 ml 중에서 실온에서 12 시간 동안 교반시켰다. 이후에 용매를 감압하에 증발시키고, 잔류물은 100:1 내지 2:1 (v/v)의 시클로헥산 및 아세트산 에틸 혼합물을 사용하여 실리카 겔 (0.04 내지 0.06 mm) 100 g에서 정제하였다. 메틸 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 6.1 g이 얻어졌다.
1H NMR (CDCl3) δ [ppm]: 1.7 (s, 3H), 3.9 (s, 3H), 4.6 (d, 1H), 4.8 (d, 1H), 6.3 (s, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.6 (d, 1H).
별법:
단계 c: 메틸 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 (화합물 5.02)
메틸 2,4-디클로로-3-(3'-트리메틸실릴옥시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 1 g (0.003 몰) 및 염화 수소의 10% 메탄올 용액 5 ml를 메탄올 30 ml 중에서 실온에서 12 시간 동안 교반시켰다. 이후에 용매를 감압하에 제거하고, 잔류물은 디에틸 에테르에 녹였다. 이 에테르 용액을 물로 중성이 되게 세척하고, 황산 나트륨으로 건조하고, 여과하고, 용매는 감압하에서 증발시켰다. 메틸 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 0.7 g이 얻어졌다.
1H NMR (CDCl3) δ [ppm]: 1.7 (s, 3H), 3.9 (s, 3H), 4.6 (d, 1H), 4.8 (d, 1H), 6.3 (s, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.6 (d, 1H).
단계 d: 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조산 (화합물 5.03)
메틸 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조에이트 4.9 g (0.013 몰) 및 수산화 리튬 0.5 g (0.020 몰)의 용액을 테트라히드로푸란 20 ml 및 물 20 ml 중에서 0 ℃에서 12 시간 동안 교반시켰다. 이후에 10% 염산 수용액을 사용하여 이 용액의 pH를 1 내지 2로 조정하고, 디에틸 에테르로 추출시켰다. 이후에, 모아진 유기층은 황산 나트륨으로 건조하고, 여과하고, 용매는 감압하에서 증발시켰다. 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조산 3.5 g이 얻어졌다.
1H NMR (CDCl3) δ [ppm]: 2.5 (s, 3H), 4.7 (d, 1H), 4.9 (d, 1H), 6.4 (s, 1H), 7.4 (d, 1H), 7.7 (d, 1H), 8.6 (br s, 1H).
상기 화합물 이외에 비슷한 방법으로 제조되었거나 제조가능한 화학식 Vd의 다른 벤조산 유도체가 하기 표 109에 열거된다.
표 109-1:
최종 생성물의 제법
4-(2',4'-디클로로-3'-(3"-히드록시-3"-메틸-2"-옥세타닐-벤조일)-5,5-디메틸-1,3-시클로헥산디온 (화합물 110.1)
무수 아세토니트릴 40 ml 중의 2,4-디클로로-3-(3'-히드록시-3'-메틸-2'-옥세타닐)벤조산 0.8 g (0.003 M), 5,5-디메틸-1,3-시클로헥산디온 0.4 g (0.003 M) 및 디시클로헥실카르보디이미드 0.7 g (0.003 M)의 용액을 실온에서 12 시간 동안 교반시켰다. 이어서, 침전물을 여과한 다음, 여과액을 탄산 칼륨 수용액에 녹였다. 수성층을 아세트산 에틸로 추출한 후, 10% 염산 수용액을 사용하여 pH를 2로 조정하고, 혼합물 아세트산 에틸로 재추출하였다. 모아진 유기층을 물로 중성이 되게 세척하고, 황산 나트륨으로 건조하고, 여과하고, 용매를 감압하에서 증류시켰다. 잔류물은 100:1 내지 10:1 (v/v)의 디클로로메탄 및 메탄올 혼합물을 사용하여 실리카 겔 (0.04-0.06 mm) 50 g으로 정제하였다. 4-(2',4'-디클로로-3'-(3"-히드록시-3"-메틸-2"-옥세타닐벤조일)-5,5-디메틸-1,3-시클로헥산디온 0.2 g이 얻어졌다.
표 110
사용예
다음의 온실 실험은 화학식 I의 치환된 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온의 제초 활성을 나타낸다.
사용된 배양 화분은 하층토로서 약 3.0 % 부식토를 갖는 양토질 모래를 함유하는 플라스틱제 화분이었다. 시험 식물의 종자를 종 별로 분리하여 파종하였다.
발아 전 처리의 경우, 물에 현탁 또는 유탁시킨 활성 화합물을 미세 분산 노즐에 의해 파종한 후 직접 사용하였다. 발아 및 성장을 촉진하기 위하여 화분에 약간 관개한 후, 식물이 뿌리를 내릴 때까지 투명 플라스틱 후드로 덮어 두었다. 활성 화합물이 발아에 역효과를 주지 않는다면, 이런 덮개는 시험 식물이 균일하게 발아를 하게한다.
발아 후 처리를 위하여, 시험 식물을 먼저 성장 형태에 따라 3 내지 15 cm의 높이로 성장시킨 후에야 물 중에 현탁 또는 유탁시킨 활성 화합물로 처리하였다. 이를 위해 시험 식물을 화분에 직접 파종해서 그 화분에서 성장시키거나, 또는 별도로 먼저 묘목으로 성장시킨 후 처리하기 수일 전에 시험 화분에 옮겨 심었다. 발아 후 처리를 위한 시용량은 활성 성분 0.5 또는 0.25 g/ha였다.
종에 따라, 식물을 10-25 ℃ 또는 20-35 ℃로 유지하였다. 시험 기간은 2 내지 4 주 동안 지속되었다. 이 기간 동안에, 식물을 돌보고 각종 처리에 대한 이들의 반응을 평가하였다.
평가는 0 내지 100 등급을 사용하여 수행하였다. 100은 식물이 발아하지 않았거나 또는 적어도 지상 부분이 완전 사멸했음을 나타내고, 0은 손상되지 않거나 또는 정상적으로 성장하였음을 나타낸다.
온실 실험에서 사용된 식물은 하기 종에 속했다:
식물학명 일반명 약어
에키노클로아 크루스-갈리(Echinochloa crus-galli) 강피 (barnyardgrass) ECHCG
세타리아 비리디스(Setaria viridis) 강아지풀 (green foxtail) SETVI
케노포듐 알붐(Chenopodium album) 명아주 (lamsquaters)(goosefoot) CHEAL
폴리고눔 페르시카리아 (Polygonum persicaria) 여뀌속의 잡초 (ladythumb) POLPE
솔라늄 니그룸(Solanum nigrum) 까마중 (black nightshade) SOLNI
표 111:
온실에서의 발아후 방법으로 시용시 제초 활성
화합물 110.1
실시예 번호 110.1
시용량 (kg/ha) 0.5 0.25
시험 식물ECHCGSETVICHEALPOLPESOLNI 90909895100 9080989595

Claims (11)

  1. 하기 화학식 I의 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온 및 그의 농업상 유용한 염.
    〈화학식 I〉
    식 중, R1및 R2는 각각 수소, 머캅토, 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR10, -OCOR10, -OSO2R10, -S(O)nR10, -SO2OR10, -SO2NR3R10, -NR10SO2R10또는 -NR10COR이고;
    Q는 2위치에 결합된 치환 또는 비치환된 시클로헥산-1,3-디온 고리이고;
    A는 하기 화학식 IIa, IIb 또는 III의 기이고;
    〈화학식 IIa〉
    〈화학식 IIb〉
    〈화학식 III〉
    R3은 수소, C1-C6-알킬 또는 페닐이고, 여기서 언급된 알킬 및 페닐기는 일부또는 전부가 할로겐화되고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR8R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR8COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR8R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
    R4내지 R7은 동일하거나 또는 상이할 수 있으며, 각각 독립적으로 수소, 히드록실, 머캅토, 아미노, 할로겐, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, 페닐, -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3또는 -OCOR10이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -S(O)nR10, -OS(O)nR10, -PO(OR10)2, -NR3R10, -Si(R10)3, -OCOR10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR8R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR8COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR8R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
    R4및 R5는 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성할 수 있고;
    R6및 R7은 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있거나, 또는 =X의 기 (여기서, X는 산소 원자이거나, 또는 CR3R10, NR10또는 NOR10임)를 형성할 수 있고;
    n은 0, 1 또는 2이고;
    R5및 R6은 함께, 이들이 이웃한 탄소 원자에 결합되어 있고 R4및 R7이 각각 수소라면, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C3-C4-알킬렌 또는 C3-C4-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있고;
    R8및 R9는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 독립적으로 수소, 니트로, 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C3-C6-시클로알킬, C5-C6-헤테로시클릴, -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10, 페닐, 페닐-C1-C6-알킬 및 5원 또는 6원 헤타릴이고, 여기서 언급된 알킬 및 시클로알킬기, 및 -OR10, -SR10, -COR10, -COOR10, -CONR3R10의 기 중 R3및 R10은 일부 또는 전부가 할로겐화될 수 있고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR8R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR8COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR8R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있고;
    R8및 R9는 함께, 1 또는 2개의 질소 또는 산소 원자를 포함할 수 있는 C2-C5-알킬렌 또는 C2-C5-알케닐렌 쇄를 형성할 수 있고;
    R10은 수소, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, 페닐 또는 페닐-C1-C6-알킬이고, 여기서 언급된 알킬기는 일부 또는 전부가 할로겐화되고(거나), 히드록실, 머캅토, 아미노, 시아노, R10, -OR10, -SR10, -NR3R10, =NOR10, -OCOR10, -SCOR10, -NR3COR10, -CO2R10, -COSR10, -CONR3R10, C1-C4-알킬이미노옥시, C1-C4-알콕시아미노, C1-C4-알킬카르보닐, C1-C4-알콕시-C2-C6-알콕시카르보닐, C1-C4-알킬술포닐이나, 또는 치환될 수 있는 헤테로시클릴, 헤테로시클릴옥시, 페닐, 벤질, 헤타릴, 페녹시, 벤질옥시 및 헤타릴옥시의 기 중 1 내지 3개를 가질 수 있다.
  2. 제1항에 있어서, Q가 2 위치에 결합되는 하기 화학식 IV의 시클로헥산-1,3-디온 고리인 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온.
    〈화학식 IV〉
    식 중, R11, R12, R14및 R16은 각각 수소 또는 C1-C4-알킬이고,
    R13은 수소이거나, 또는 할로겐, C1-C4-알킬티오 또는 C1-C4-알콕시의 치환기 중 1 내지 3개로 치환될 수 있는 C1-C4-알킬 또는 C3-C4-시클로알킬이거나, 또는
    테트라히드로피란-2-일, 테트라히드로피란-3-일, 테트라히드로피란-4-일, 테트라히드로티오피란-2-일, 테트라히드로티오피란-3-일, 테트라히드로티오피란-4-일이거나, 또는 C1-C4-알킬기 1 내지 3개로 치환될 수 있는 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥산-2-일, 1,3-옥사티올란-2-일, 1,3-옥사티안-2-일, 1,3-디티올란-2-일 또는 1,3-디티안-2-일이고;
    R15는 수소, C1-C4-알킬 또는 C1-C6-알콕시카르보닐이거나, 또는
    R13및 R16은 함께 π 결합 또는 3 내지 6원 카르보시클릭 고리를 형성하거나, 또는
    CR13R14단위는 C=O로 대체될 수 있다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    R1은 니트로, 할로겐, 시아노, 티오시아나토, C1-C6-알킬, C1-C6-할로알킬, C1-C6-알콕시-C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, -OR5또는 -S(O)nR7이고;
    R2는 수소 또는 상기 R1에서 언급한 기 중 하나인 화학식 I의 화합물인 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 화학식 Ia의 화합물인 2-벤조일시클로헥산-1.3-디온.
    〈화학식 Ia〉
    식 중, R1, R2, Q 및 A 치환기 각각은 제1항 내지 제3항에서 언급된 바와 동일하다.
  5. 제3항에 있어서, A가 화학식 IIa 또는 IIb의 기와 동일한 화학식 Ia의 화합물인 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온.
  6. 제3항에 있어서, A가 화학식 III의 기와 동일한 화학식 Ia의 화합물인 2-벤조일시클로헥산-1,3-디온.
  7. 치환 또는 비치환된 시클로헥산-1,3-디온 Q를 하기 화학식 Va의 활성화 카르복실산 또는 하기 화학식 Vb의 카르복실산으로 아실화하고, 필요하다면 촉매의 존재하에서 이 아실화 생성물을 전위 반응시켜 화학식 I의 화합물을 얻는 것을 포함하는, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 화학식 I의 2-벤조시클로헥산-1,3-디온의 제조 방법.
    〈화학식 Va〉
    〈화학식 Vb〉
    식 중, R1, R2및 A 치환기 각각은 제1항에서 정의된 바와 동일하고, L은 친핵반응에 의해 치환가능한 이탈기이다.
  8. 제초 활성량의 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 화학식 I의 화합물 또는 화학식 I의 농업상 유용한 염 1종 이상, 및 농작물 보호제 제조에 통상적으로 사용되는 보조제를 포함하는 조성물.
  9. 제초 활성량의 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 화학식 I의 화합물 또는 화학식 I의 농업상 유용한 염 1종 이상, 및 농작물 보호제 제조에 통상적으로 사용되는 보조제를 혼합하는 것을 포함하는, 제8항의 제초 활성 조성물의 제조 방법.
  10. 제초 활성량의 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 화학식 I의 화합물 또는 화학식 I의 농업상 유용한 염 1종 이상을 식물, 식물 서식지 및(또는) 종자에 작용시키는 것을 포함하는, 원치않는 식물의 방제 방법.
  11. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 화학식 I의 화합물 및 그의 농업상 유용한 염의 제초제로서의 용도.
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