KR20010002683A - 투영 노광 장치 - Google Patents

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Abstract

광 효율을 향상시킬 수 있는 고리형 변형 노광 방법을 수행하는 데 적합한 노광장치가 개시되어 있다. 광원에서 생성된 빛을 파리눈 렌즈를 통과하면서 평행광으로 전환하고, 다중 프리즘 렌즈를 사용하여 상기 평행광을 광축 중심부의 빛이 광축 주변부의 빛보다 굴절각도를 크게 하면서 굴절시켜서 제1 고리상으로 1차적으로 수렴한다. 볼록렌즈에 의해 상기 1차적으로 수렴된 빛을 광축을 중심으로 하여 보다 상기 제1 고리상보다 작은 직경을 갖도록 제2 고리상으로 2차적으로 수렴한다. 제2 고리상을 형성한 광선은 마스크에 사입사 각도로 조사되어 고리 조명계를 갖는 변형 노광에 있어서와 같이 0차 회절광과 +1차 회절광이 웨이퍼상에 간섭하면서 포토레지스트를 선택적으로 노광하게 된다. 따라서, 광선을 손실없이 고리 조명계의 변형 노광 방법에 사용할 수 있어서 광량의 손실을 방지할 수 있어서, 반도체 장치의 제조 공정에서 생산성이 향상된다.

Description

투영 노광 장치{LIGHT ILLUMINATION SYSTEM}
본 발명은 변형 노광 방법을 수행하기 위한 투영 노광 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로는 본 발명은 반도체 장치의 포토리소그래피(Photolithography)공정에서 사입사 조명 방법에서 고리 조명계를 이용한 변형된 투영 노광 방법에 사용하는 투영 노광 장치에 관한 것이다.
64M DRAM이후의 집적도를 갖는 ULSI를 제조하기 위하여는 0.3㎛이상의 해상도와 적당한 초점 심도(DOF; Depth-of-Focus)가 필요하고, 이에 따라 서브 하프 미크론(Sub-half micron) 패턴을 형성하기 위하여 많은 새로운 기술이 개발되고 있다. 이러한 새로운 기술의 예로서는, 광원의 파장을 줄인 엑시머 레이저를 이용하는 방법, 위상 반전 마스크(Phase Shift Mask)를 이용한 노광 방법 및 사입사 조명 방법(Tilted Illumination)방법과 같은 변형 조명 방법(Modified Illumination Method)등을 들 수 있다. 이러한 변형 조명 방법의 예가 미합중국 특허 제5,445,587호(issued to Kang et al.)에 개시되어 있다.
변형 조명 방법은 렌즈 및 조명계를 변형하지 않고, 단순하게 파리눈 렌즈 다음에 구성된 구경(aperture)을 변형함으로써 라인(Line)과 스페이스(Space)가 반복적으로 형성된 패턴에서의 초점 심도(DOF) 및 해상도의 향상을 기대할 수 있다는 측면에서 관심을 끌고 있다. 변형 조명 방법은 구경의 형상에 따라서 사점(Quadrupole) 조명 방법, 쉬링크(Shrinc) 조명 방법, 고리형(Annular)조명 방법 등으로 구분된다. 그 중에서 고리형 조명 방법은 패턴의 정확성(Pattern Fidelity)의 측면에서 가장 우수한 사입사 조명 방법으로 평가받고 있다.
도 1은 종래의 고리형 사입사 조명 장치를 나타내는 개략도이고, 도 2는 도 1에 도시된 고리형 구경(Annular Aperture)을 나타내는 평면도이다.
도 1에 도시한 바와 같이 종래의 고리형 사입사 조명 장치는 광원(110), 파리눈 렌즈(112), 고리형 구경(114), 콘덴서 렌즈(116)등을 포함한다. 광원(110)에서 생성된 빛은 파리눈 렌즈(112)의 출구 표면에서 고리형 구경(114)에 의해 부분적으로 제한된다.
일반적인 투영 노광 방법에서는, 콘덴서 렌즈를 통하여 푸리에 변환면(Fourier transform plane)과 일치하도록 마스크상에 빛을 조사하게 된다. 푸리에 변환면상에 조명된 빛의 분포는 하나의 원내에 형성되고, 0차 회절광(zero-order diffracted light)은 광축을 따라서 진행하고(수직 입사 성분), +1차와 -1차로 회절된 빛(+1st and -1st order diffracted light)은 회절각(θ)을 갖고 진행하여(사입사 성분) 웨이퍼상에는 0차, +1차 및 -1차로 회절된 빛이 웨이퍼상에서 서로 간섭하면서 이미지를 형성하게 된다.
마스크 패턴이 미세할수록 회절각(θ)은 증가하고, sinθ가 렌즈의 개구수(NA)보다 크다면, +1차 및 -1차로 회절된 빛은 투영 렌즈를 통과하지 않을 것이고, 0차로 회절된 빛만이 통과하여 웨이퍼의 표면에 도달하게 되고, 간섭은 일어나지 않는다. 이때, 최소의 해상도(R)는 다음과 같다.
R = λ/ 2NA
이에 대하여, 도 1에 도시한 변형 조명 장치에 있어서는, 고리형 구경(114)을 통과한 빛은 특정한 사입사각을 갖고 마스크(118)에 조명한다. 사입사각(α)은 하기 식과 같이 광축과 고리형 구경(114)의 투명부와의 거리(x) 및 콘덴서 렌즈의 초점거리(f)에 의해 다음과 같이 정의된다.
f * sin(α) = x
마스크(118)상에 조명된 빛은 마스크(118)상에 형성된 마스크 패턴(118a)에 의해서 회절되며, 0차 빛은 광축에 대하여 회절각(θ)의 각으로 회절되고, +1차 및 -1차로 회절된 빛의 경로와 광축과의 각은 다음과 같이 정의된다.
+ 1차 빛의 각(θ1): sin(θ1) + sin (α) = λ/Pr
- 1차 빛의 각(θ2): sin(θ2) - sin (α) = λ/Pr
상기 식에서, Pr은 마스크상의 라인 및 스페이스의 피치이다.
보다 고차로 회절된 빛은 다른 경로를 거치게 된다. 패턴의 피치가 미세하고, 마스크(130)측의 투영렌즈(120)의 개구수가 sin(θ2)보다 크기 때문에, -1차 또는 고차로 회절된 빛은 투영 렌즈로 들어가지 않는다. 따라서, 0차 및 1차로 회절된 빛만이 웨이퍼상에서 간섭할 것이고, 이미지를 형성한다. 이러한 방법에 의해 종래의 일반적인 투영 노광방법에 의해 한계 해상도는 약 1.5배로 증가시킬 수 있다.
이와 같이 일반적으로 고리형 개구를 이용한 사입사 조명법에 의하면, 유효한 사입사 각도를 얻기 위하여, 빛의 0차 회절광이 통과하는 개구의 중앙부분을 차단하는 것이다. 그렇지만 이로 인한 노광량의 저하는 심각하다.
예를 들면, 도 2를 참조하면, NA=0.6 이고, σ1=0.6 인 KrF 엑시머 레이저를 노광원으로 하여 0.20 ㎛ 의 라인/스페이스 패턴을 얻기 위하여는 유효한 사입사 성분이 σ2=0.5 가 된다. 이 때의 노광량은 σ=0.6인 종래의 투영 노광방법의 노광량이 100%라 했을 때, 이의 약 32%정도밖에 되지 않는다.
이에 따라 노광시간이 현저하게 길어지고 노광장치의 오류가 발생하여 균일성이 저하될 가능성이 높다.
이러한 고리형 개구를 이용한 사입사 조명 방법에서 노광량을 향상시키기 위하여, 한 쌍의 오목 및 볼록 원추형 (concave and convex conical) 렌즈를 사용하여 중앙의 빛을 외부로 분산시키고(diverge), 분산 빛을 수렴하여 고리형 개구에 광원으로부터 방출된 빛을 집중시키는 방법이 제안되어 있다 (미합중국 특허 제5,757,470호(issued to Dewa et al.) 참조). 도 3은 상기 특허에 사용되는 렌즈를 이용하여 고리형 개구에 광을 집중시키는 방법을 나타낸 개략도이다.
도 3을 참조하면, 광원(21)에서 발생된 빛은 파리눈 렌즈(22)를 통과하여 오목한 원추형 렌즈(35)에 입사된다. 입사된 광은 도시한 바와 같이 주변부로 일정한 각도로 분산된다. 분산된 빛은 볼록한 원추형 렌즈(36)에 입사되어 볼록한 원추형 렌즈(36)에 의해 수렴되면서 고리형 개구(23)에 도달하게 된다.
상술한 방법에 의하면, 광축의 중심부에 있는 광을 이용을 할 수 있어서 광의 효율은 증대시킬 수는 있지만 광주변부의 광도 분산되면서 고리형 개구로 모두가 수렴할 수 없기 때문에 광의 효율을 향상시키는 데는 한계가 있다.
또한, 본 발명자에 의하여 1995년 9월 21일자로 "크리스탈 구경을 갖는 변형 노광장치"란 명칭으로 출원되고(출원 번호 제95-31043호), 1997년 4월 28일자로 공개된 대한 민국 특허 공개 공보 제97-016819호에는, 고리형 개구를 이용한 사입사 조명 방법에서, 오목한 원추형 렌즈와 볼록 렌즈를 이용하여 파리눈 렌즈를 통과한 빛을 고리형으로 집중시키는 방법이 개시되어 있다. 도 4는 상기 출원에 개시되어 있는 변형 노광 방법을 나타내는 개략도이다. 도시한 바와 같이, 파리눈 렌즈(40)를 통과한 빛은 오목한 원추형 렌즈(42)에 의해 주변부로 일정한 각도로 분산되고, 분산된 빛은 오목렌즈(44)에 의해 집중되어 고리형 개구(46)에 조사된다.
그렇지만, 상술한 방법에 의하여도 오목한 원추형 렌즈를 사용하기 때문에 주변부의 광선도 중심부의 광선과 일정한 각도로 외측으로 분산되기 때문에 광원으로부터의 빛을 완전하게 이용할 수는 없다.
본 발명은 상술한 종래 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 광 효율을 향상시킬 수 있는 고리형 변형 노광 방법을 수행하는 데 적합한 노광장치를 제공하는 것이다.
도 1은 종래의 고리형 사입사 조명 장치를 나타내는 개략도이다.
도 2는 도 1에 도시된 고리형 구경(Annular Aperture)을 나타내는 평면도이다.
도 3은 종래의 고리형 사입사 조명 방법에서 렌즈를 이용하여 고리형 개구에 광을 집중시키는 방법을 나타낸 개략도이다.
도 4는 종래의 고리형 사입사 조명 방법에서 광원의 효율을 향상시키기 위한 변형 노광 방법을 나타내는 개략도이다.
도 5는 본 발명의 변형 조명 방법의 원리를 설명하기 위한 개략도이다.
도 6은 도 5에 도시한 다중 프리즘 렌즈의 상면도이다.
도 7은 도 5에 도시한 다중 프리즘 렌즈의 아래쪽에서 본 사시도이다.
도 8은 도 5에 도시한 다중 프리즘 렌즈가 다수개 회전기 형태로 프리즘 체인저에 장착된 상태를 나타내는 평면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 투영 노광 방법 및 장치를 설명하기 위한 개략도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
210: 광원 212: 파리눈 렌즈
214: 다중 프리즘 렌즈 215: 제1 고리상
216: 볼록 렌즈 218: 콘덴서 렌즈
222: 제2 고리상 224: 마스크
226: 크롬 패턴 228: 프로젝션 렌즈
230: 웨이퍼
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의하면, 광원에서 생성된 광선을 평행광으로 전환시키기 위한 렌즈어레이; 상기 평행광으로 전환된 빛을 광축 중심부의 빛이 광축 주변부의 빛보다 굴절각도를 크게 하면서 굴절하도록 진행시켜서 제1 고리상으로 1차적으로 수렴하기 위한 다중 프리즘 렌즈; 상기 1차적으로 수렴된 빛을 광축을 중심으로 하여 보다 상기 제1 고리상보다 작은 직경을 갖는 제2 고리상으로 2차적으로 수렴하기 위한 오목 렌즈; 및 상기 제2 고리상으로 수렴된 광을 웨이퍼에 조사하여 노광시키기 위한 투영 시스템을 구비하는 투영 노광 장치가 제공된다.
상기 다중 프리즘은, 예를 들면, 상기 광축을 중심으로 하여 외측으로 갈수록 굴절각이 적어지도록 굴절시키기 위하여 주변부로 갈수록 보다 큰 각도의 환형 프리즘이 연속하여 형성되어 구성된다.
본 발명에서는 광원에서 생성된 빛을 평행광으로 전환하고, 상기 평행광을 광축 중심부의 빛이 광축 주변부의 빛보다 굴절각도를 크게 하면서 굴절시켜서 제1 고리상으로 1차적으로 수렴한다. 상기 1차적으로 수렴된 빛을 광축을 중심으로 하여 보다 상기 고리상보다 작은 직경을 갖도록 제2 고리상으로 2차적으로 수렴하고, 상기 수렴된 빛을 웨이퍼상에 조사하는 단계로 구성된 투영 노광 방법이 제공된다.
광선은 다중 프리즘 렌즈에 의해 볼록 렌즈 상에 제1 고리상을 형성한다. 다음에, 볼록 렌즈에 의해 콘덴서 렌즈에 웨이퍼 노광을 위한 제2 고리상을 형성하게 된다. 제2 고리상을 형성한 광선은 마스크에 사입사 각도로 조사되어 고리 조명계를 갖는 변형 노광에 있어서와 같이 0차 회절광과 +1차 회절광이 웨이퍼상에 간섭하면서 포토레지스트를 선택적으로 노광하게 된다. 따라서, 광선을 손실없이 고리 조명계의 변형 노광 방법에 사용할 수 있어서 광량의 손실을 방지할 수 있어서, 반도체 장치의 제조 공정에서 생산성이 향상된다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 5는 본 발명의 변형 조명 방법의 원리를 설명하기 위한 개략도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 노광방법은 다중 프리즘(214)과 볼록렌즈(216)를 사용한다. 먼저, 광원(210)에서는 반도체 웨이퍼를 노광할 광선을 생성한다. 생성된 광선은 마이크로 렌즈들로 이루어진 파리눈 렌즈(212)를 통하여 평행광으로 전환된다. 파리눈 렌즈(212)를 통과한 빛은 다중 프리즘 렌즈(214)를 통과하여 광축 중심부의 빛이 광축 주변부의 빛보다 굴절각도를 크게 하면서 굴절하도록 진행하여 볼록 렌즈(216)상에 제1 고리상(215)을 형성하도록 1차적으로 수렴한다.
도시한 바와 같이 다중 프리즘 렌즈(214)는 띠모양의 환형의 프리즘띠가 연속적인 구조를 갖도록 형성되어 있다. 구체적으로는, 광축을 중심으로 하여 외측으로 갈수록 굴절각이 적어지도록 굴절시키기 위하여 주변부로 갈수록 보다 큰 각도의 띠모양의 환형 프리즘이 연속하여 형성되어 다중 프리즘(214)을 구성한다. 다중 프리즘 렌즈(214)는 차등화된 프리즘의 각도로 인하여 파리눈 렌즈(212)를 통과하여 입사된 광선을 상기 다중 프리즘 렌즈(214)의 아래에 위치하는 볼록 렌즈(216)상의 가장자리의 일정 지점에 조사한다. 이와 같이, 볼록 렌즈(216)의 일정 지점에 조사되도록 다중 프리즘 렌즈(214)의 프리즘 각도를 적절하게 조절한다.
도 5에 도시한 바와 같이 본 발명에서 사용되는 다중 프리즘 렌즈(214)는 중앙부에는 완만한 경사를 갖는 환형의 프리즘띠가 형성되어 있고, 가장자리로 갈수록 경사의 각도가 크고 폭이 좁은 환형의 프리즘띠가 형성된다. 도 6은 상기 다중 프리즘 렌즈(214)의 상면도이다. 상면에서 보면 환형의 프리즘 띠들이 연속하여 접하도록 구성되어 있음을 알 수 있다. 도 7은 다중 프리즘 렌즈(214)의 아래쪽에서 본 사시도이다. 상기 다중 프리즘 렌즈(214)는 노광 파장에 투명한 성질을 가져야 한다. 따라서, 다중 프리즘 렌즈(214)는 투명한 물질, 예를 들면, 석영으로 제작한다.
다중 프리즘 렌즈(214)의 아래에 위치하는 렌즈, 바람직하게는 볼록 렌즈(216)는 상기 1차적으로 수렴된 빛을 광축을 중심으로 하여 상기 제1 고리상(215)보다 작은 직경을 갖는 제2 고리상(218)으로 2차적으로 수렴한다.
상부의 다중 프리즘 렌즈(214)에 의해 입사광은 다중 프리즘 렌즈(214)를 구성하는 띠상의 원뿔형 프리즘 렌즈의 지름보다 크게 바깥쪽으로 퍼지게 된다. 따라서, 상기 다중 프리즘 렌즈(214)의 하부에 위치하는 볼록 렌즈(216)의 지름은 다중 프리즘 렌즈(214)의 지름보다 반드시 크게 형성되어야 한다.
상기 다중 프리즘 렌즈(214)와 렌즈(216)를 사용하는 경우에 콘덴서 렌즈의 상단에 형성되는 고리 조명의 유효한 사입사 각도를 위하여 고리조명의 반경을 조절하여야 한다. 이러한 고리 조명의 반경을 조절하기 위하여는 프리즘 렌즈(214)와 렌즈(216)간의 거리(ΔS)와 렌즈의 상부 곡면의 곡률(A) 및 하부 곡면의 곡률(B)가 적절하게 조정되어야 한다.
구체적으로는, 도 2의 고리조명의 외부 반경(ρ1)에 상응하는 제2 고리상(218)의 외경은 상부의 다중 프리즘 렌즈(214)와 하부의 렌즈(216)간의 거리(ΔS)를 조절하여 적정화할 수 있다. 이와 같이 다중 프리즘 렌즈(214)와 렌즈(216)간의 거리를 조절하기 위하여는 예를 들면 다중 프리즘 렌즈(214)와 렌즈(216)에 래크 및 피니언과 같은 기어를 설치하고 이를 구동하기 위한 전동장치를 구비함으로써 용이하게 달성할 수 있다.
또한, 도 2의 고리조명의 내부 반경(ρ2)에 해당하는 제2 고리상(218)의 내경은 하부 렌즈(216)의 상부 곡면의 곡률(A)과 하부 곡면의 곡률(B)을 적절하게 조정함으로써 적정화한다. 예를 들면, 하부 곡면의 곡률(B)의 반경의 상부 곡면(A)의 곡률 반경보다 크게 제작함으로써 달성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 환형 개구의 개구폭(Open Width)를 변화시킬 수 있게 하기 위하여는, 띠모양의 다중 프리즘 렌즈(214)의 프리즘의 각도를 원하는 폭을 얻도록 변화시킨 다수개의 다중 프리즘 렌즈(214)를 회전기(Revolver)의 형태로 되어 있는 프리즘 렌즈 체인저에 장착하여 원하는 환형 개구를 얻도록 할 수 있다. 도 8은 상기 다중 프리즘 렌즈(214)가 다수개 회전기 형태로 프리즘 체인저(220)에 장착된 상태를 나타내는 평면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 투영 노광 방법 및 장치를 설명하기 위한 개략도이다. 도 9에서 동일한 부재에 대하여는 도 5에서와 동일한 참조부호를 사용하여 나타낸다.
도 9를 참조하면, 광원(210)에서 생성된 광선은 마이크로 렌즈 어레이로 구성된 파리눈 렌즈(212)에 입사되어 파리눈 렌즈(212)에 의해 평행광으로 전환된다.
파리눈 렌즈(212)를 통과한 광선은 다중 프리즘 렌즈(214)에 입사된다. 도시한 바와 같이 다중 프리즘 렌즈(214)는 환형의 띠상 프리즘이 연속적으로 형성되어 있으므로, 입사된 광선은 중앙부는 상대적으로 보다 크게 굴절하고, 주변부는 점차로 보다 적게 굴절하여, 다중 프리즘 렌즈(214)의 아래에 위치하는 볼록 렌즈(216)상에 제1의 고리상(215)을 형성하게 된다.
볼록 렌즈(216)상에 형성된 볼록 렌즈(216)를 통과하면서 콘덴서 렌즈(222)상에 상기 제1의 고리상(215)보다 작은 직경을 갖는 제2의 고리상을(218)을 형성하게 된다.
제2의 고리상(218)을 형성한 광선은 콘덴서 렌즈(218)에 의해 노광 영역을 한정하기 위한 불투명한 크롬 패턴(226)을 갖는 마스크(224)상에 사입사각을 갖고 조사된다.
마스크(224)상에 사입사각으로 조사된 광선은 마스크(224)를 통과하면서 회절되어 프로젝션 렌즈(228)를 통과하게 된다. 이때, 사입사각을 갖고 입사한 광선중에서 0차로 회절된 광 및 1차로 회절된 광선은 프로젝션 렌즈(228)를 통과하게 되지만, -1차로 회절된 광선은 프로젝션 렌즈(228)의 외부로 향하게 된다.
보다 고차로 회절된 광선들은 다른 경로를 거치게 된다. 프로젝션 렌즈(228)를 통과한 0차로 회절된 광과 1차로 회절된 광은 웨이퍼(232)상에 간섭하면서, 웨이퍼상에 형성된 포토레지스트막에 소정의 노광 영역을 형성하여 반도체 장치의 패턴을 형성하게 된다.
광축의 중심부에서의 광선은 다중 프리즘 렌즈(224)에 의해 볼록 렌즈(216)상에 제1 고리상(215)을 형성하는 데 사용되고, 볼록 렌즈(216)에 의해 콘덴서 렌즈(222)에 웨이퍼 노광을 위한 제2 고리상(218)을 형성하게 된다. 제2 고리상(218)을 형성한 광선은 마스크(224)에 사입사 각도로 조사되어 고리 조명계를 갖는 변형 노광에 있어서와 같이 0차 회절광과 +1차 회절광이 웨이퍼상에 간섭하면서 포토레지스트를 선택적으로 노광하게 된다. 따라서, 파리눈 렌즈(212)를 통과하는 모든 광선을 고리 조명계의 변형 노광 방법에 사용할 수 있어서 광량의 손실을 방지할 수 있어서, 반도체 장치의 제조 공정에서 생산성이 향상된다. 또한, 종래의 고리 조명계 형성을 위한 별도의 필터를 사용할 필요가 없다.
본 발명에 의하면, 광축의 중심부 부근의 광선들도 포토레지스트를 노광하는 데 사용할 수 있어서 광량의 거의 제로에 가깝게 손실을 방지할 수 있어서 반도체 장치 제조 공정에서의 생산성이 향상된다.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범주 내에서 다양한 개량이나 변형이 가능하고, 이러한 개량이나 변형 또한 본 발명에 속한다는 것을 당업자라면 인지할 수 있을 것이다.

Claims (3)

  1. 광원에서 생성된 광선을 평행광으로 전환시키기 위한 렌즈어레이;
    상기 평행광으로 전환된 빛을 광축 중심부의 빛이 광축 주변부의 빛보다 굴절각도를 크게 하면서 굴절하도록 진행시켜서 제1 고리상으로 1차적으로 수렴하기 위한 다중 프리즘 렌즈;
    상기 1차적으로 수렴된 빛을 광축을 중심으로 하여 보다 상기 제1 고리상보다 작은 직경을 갖는 제2 고리상으로 2차적으로 수렴하기 위한 오목 렌즈; 및
    상기 제2 고리상으로 수렴된 광을 웨이퍼에 조사하여 노광시키기 위한 투영 시스템을 구비하는 투영 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 다중 프리즘은, 상기 광축을 중심으로 하여 외측으로 갈수록 굴절각이 적어지도록 굴절시키기 위하여 주변부로 갈수록 보다 큰 각도의 환형 프리즘이 연속하여 형성되어 구성된 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  3. 제1항에 있어서, 환형 개구의 개구폭(Open Width)을 변화시킬 수 있게 하기 위하여는, 띠모양의 다중 프리즘 렌즈의 프리즘의 각도를 원하는 폭을 얻도록 변화시킨 다수개의 상기 다중 프리즘 렌즈를 포함하고, 상기 다수개의 다중 프리즘 렌즈를 회전기(Revolver)의 형태로 장착하여 원하는 환형 개구를 얻도록 하기 위한 프리즘 렌즈 체인저를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
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