KR20000070247A - 식기 세척용의 항세균성 액상 세제 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 명세서에는, 항세균성 특성을 갖는 액체 식기 세척용 조성물이 기재되어 있다. 이 조성물은 선택된 그룹으로부터의 계면활성제 또는 하이드로트로프와 불포화 지방족 테르펜 알콜 또는 유도체를 포함한다.
Description
소비자들은 원액으로 또는 희석시켜 사용할 수 있는 식기 세척용의 액상 조성물을 몹시 바라고 있다. 희석된 유형에 있어서, 조성물은 물 속에서 희석되어 세척하고자 하는 식기를 담그는 세척액을 형성한다. 원액 유형에 있어서, 조성물은 원액으로 식기에 직접 적용되며, 식기구는 종종 이러한 유형으로 사용되고 있다. 특히, 조성물은 기구, 일반적으로 스폰지 또는 행주에 적용하여, 이를 세척하고자 하는 식기와 차례로 접촉시킨다.
식기구는 대부분의 시간에는 습기 있는 채로 놓아 두어서, 세균이 성장하기에 유리한 배지를 제공한다는 문제가 생긴다. 식기를 세척하는 데 사용하는 기구가 오염되면, 식기도 차례로 오염될 것이다.
본 발명자들은, 특정 식기 세척용 조성물이 식기구에 대한 세균 성장을 저하하거나 제거하는 추가의 목적을 달성할 수 있음을 밝혀내었다.
발명의 요약
본 발명의 조성물은 다음 성분들을 포함하는 식기 세척용의 액상 조성물이다:
계면활성제,
큐멘 설포네이트, 톨루엔 설포네이트, 크실렌 설포네이트, 벤젠 설포네이트 또는 이들의 혼합물의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하이드로트로프(hydrotrope) 및
불포화 지방족 테르펜 알콜 또는 유도체.
본 발명은, 이러한 조성물을 사용하여 식기를 세척하는 방법을 추가로 포함한다. 이론으로 제한받기를 원하지는 않지만, 이러한 제형의 항세균성 효능은 주로 하이드로트로프(들)와 불포화 지방족 테르펜 알콜(들) 또는 유도체와의 상승작용으로 유도되는 것으로 여겨진다.
본 발명은 식기 세척용의 액상 세제 조성물에 관한 것이다. 이 조성물은 항세균성 특성을 갖는다.
본 발명의 조성물은 수성 액상 조성물이다. 전형적으로, 이는 물을 전체 조성물의 30 내지 90중량%, 바람직하게는 40 내지 85중량% 포함한다.
본 발명의 조성물은 액체여서, 전형적으로 20℃에서 제18호 스핀들(No. 18 spindle)하에 브룩필드 점도계(Brookfield Viscometer)로 측정한 점도가 5 내지 2,000cps, 바람직하게는 5 내지 400cps, 가장 바람직하게는 5 내지 350cps이다.
계면활성제
본 발명의 조성물은 필수 성분으로서 다음의 계면활성제를 1개 또는 수 개 포함한다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 것은 화학식의 아민 옥사이드(여기서, R2는 탄소수 10 내지 16의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐 그룹이고, R3과 R4는 C1-C4탄화수소 쇄, 바람직하게는 메틸 그룹 또는 에틸 그룹이다)이다. 일반적으로, R2에서의 탄소원자의 수가 10 미만인 경우, 조성물의 세정력이 저하되는 반면, 16을 초과하는 경우, 저온에서의 조성물의 안정성이 저하된다.
또한, 본 발명에서 사용하기에 적합한 것은 화학식 R1O(A)nSO3M의 알킬 알콕시화 설페이트(여기서, R1은 탄소수 9 내지 15의 알킬 또는 알케닐 그룹이고, A는 알콕시 그룹, 바람직하게는 에톡시 또는 프로폭시, 가장 바람직하게는 에톡시이며, n은 평균하여 실수인 0.5 내지 7이고, M은 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모늄 또는 알칸올암모늄 그룹이다)이다.
전형적으로, n이 1.0 이하인 경우, 동일한 중량을 기준으로 하여, n의 값이 낮은 알킬 알콕시화 설페이트를 사용함으로써, 음이온의 몰의 상응하는 증가로 인하여 유지 제거와 거품 형성(sudsing)에 대한 조성물의 성능이 향상되지만, 비알콕시화 알킬 설페이트의 전체 양이 증가하며, 이는 저온 불안정성이 보다 심해지게 하는 것으로 생각된다. n 값이 상이한 기타의 알킬 알콕시화 설페이트를 사용하는 경우, 조성물에서 생성된 알킬 알콕시화 설페이트의 평균 n 값은 조성물에서 사용하는 상이한 알킬 알콕시화 설페이트의 개개의 n 값의 중량 몰 평균 n 값이다.
평균 n 값이 0.5 미만인 경우, 피부에 대한 자극이 증가하는데, 이는 바람직하지 않다. 한편, 평균 n 값이 3 이상인 경우, 세정력이 저하된다.
R1에 관하여는, R1에서의 평균 탄소원자의 수가 9 미만인 경우, 세정력이 불충분한 반면, 16 이상인 경우, 저온에서의 안정성이 저하된다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 알킬 알콕시화 물질은 직쇄 또는 측쇄 물질일 수 있다. 측쇄 물질이란, R1은 이의 위치가 분지되면서 분지되며, 측쇄 그룹의 길이가 모알콜(parent alcohol)에서 CH2-OH 작용성 그룹의 위치에 따라 결정되는 바와 같음을 의미한다. 측쇄 물질의 비율을 증가시킴으로써, 저온에서의 조성물의 물리적 안정성을 향상시킬 수 있다.
이러한 점에 있어서, 분지된 알킬 알콕시화 설페이트 물질은 전체 알킬 알콕시화 설페이트(측쇄 및 직쇄)의 60중량% 이상이어서는 안된다는 점이 중요하며, 그렇지 않으면 생성물의 거품 형성 성능이 만족스럽지 않게 저하된다. 범위의 다른 한도에 있어서, 분지된 알킬 알콕시화 설페이트는 적합한 저온 안정성을 달성하기에 충분해야만 한다. 이러한 최소 값은 특정한 요건에 따라 달라지며, 소정의 매트릭스의 안정성을 목적하는 온도에서 측쇄 물질의 비율의 함수로서 플롯팅(plotting)함으로써 평가할 수 있다. 일반적으로, 분지된 알킬 알콕시화 설페이트는 60% 이하, 바람직하게는 10 내지 55%, 가장 바람직하게는 10 내지 50%의 양으로 존재해야만 한다.
다양한 쇄 길이, 알콕시화도 및 분지도(degree of branching)를 갖는 알킬 알콕시화 설페이트는 상표명 엠피콜(Empicol)RESA 70(AE1S) 또는 엠피콜RESB 70(AE2S)[알브라이트 앤드 윌슨(Albright & Wilson) 제품, 탄소 쇄 길이 분포가 C12/14이고 천연 알콜로부터 유도되며 100% 선형임], 상표명 엠피민(Empimin)RKSL68/A-AE1S 및 엠피민RKSN70/LA-AE3S[알브라이트 앤드 윌슨 제품, 쇄 길이 분포가 C12/13이고 약 60% 분지됨], 상표명 도바놀(Dobanol)R23[에톡시화 설페이트, 쉘(Shell) 제품, 쇄 길이 분포가 C12/13이고 약 18% 분지됨], 상표명 리알(Lial)R123[에톡시화 설페이트, 콘데아 오거스타(Condea Augusta) 제품, 쇄 길이 분포가 C12/13이고 약 60% 분지됨], 상표명 이살켐(Isalchem)R123[알콕시화 설페이트, 쇄 길이 분포가 C12/13이고 약 95% 분지됨]하에 시판되고 있다.
또한, 적합한 알킬 알콕시화 설페이트는, 문헌[참조: "Surfactants in Consumer Products" by J. Falbe and "Fatty oxo-alcohols: Relation between their alkyl chain structure and the performance of the derived AE, AS, AES", the 4th World Surfactants, Barcelona, 3-7 Ⅵ 1996 Congress by Condea Augusta]에 기재되어 있는 바와 같이, 적절한 알콜을 알콕시화하고 황산화하여 제조할 수 있다. 통상적인 옥소-알콜은 수 개의 이성체를 함유하는 1급 알콜과 동족체와의 혼합물이다. 공업적인 공정은 이러한 이성체를 분리시켜 선형 이성체 함량이 5 내지 10%에서 95%에 이르는 알콜을 생성시킨다. 알콕시화 및 황산화용으로 시판되고 있는 알콜의 예는 콘데아 오거스타가 제조한 라이R알콜(60% 분지됨), 콘데아 오거스타가 제조한 이살켐R알콜(95% 분지됨), 쉘이 제조한 도바놀R알콜(18% 분지됨)이다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 기타의 계면활성제는 다음과 같다:
- 알킬 그룹이 직쇄 또는 측쇄 배열에서 탄소원자를 9 내지 15개, 바람직하게는 탄소원자를 11 내지 40개 함유하는 알킬 벤젠 설페이트. 특히 바람직한 선형 알킬 벤젠 설포네이트는 탄소원자를 약 12개 함유한다. 미국 특허 제2,220,099호와 미국 특허 제2,477,383호에는, 이러한 계면활성제가 상세하게 기재되어 있다.
- 탄소수 8 내지 22, 바람직하게는 탄소수 12 내지 16의 알콜을 황산화하여 제조한 알킬 설페이트. 알킬 설페이트는 화학식 ROSO3 -M+의 화합물(여기서, R은 C8-22알킬 그룹이고, M은 1가 양이온 및/또는 2가 양이온이다)이다.
- 알킬 잔기의 탄소수가 8 내지 22, 바람직하게는 12 내지 16인 파라핀 설포네이트. 이러한 계면활성제는 훽스트 셀라네제가 호수타푸르(Hostapur) SAS로서 시판하고 있다.
- 탄소수 8 내지 22, 바람직하게는 탄소수 12 내지 16의 올레핀 설포네이트. 미국 특허 제3,332,880호에는, 적합한 올레핀 설포네이트의 설명이 포함되어 있다.
- 알킬 잔기의 탄소수가 8 내지 22, 바람직하게는 12 내지 16인 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트.
- 화학식의 지방산 에스테르 설포네이트(여기서, R1은 약 C8-C18, 바람직하게는 C12-C16의 직쇄 또는 측쇄 알킬이고, R2는 약 C1-C6, 바람직하게는 1급 C1의 직쇄 또는 측쇄 알킬이며, M+는 1가 양이온 또는 2가 양이온이다).
- 탄소수 6 내지 18, 바람직하게는 8 내지 16의 2급 알콜 설페이트.
본 발명의 기타의 적합한 공계면활성제는 다음과 같다:
- 화학식의 지방산 아미드 계면활성제[여기서, R6은 탄소수 7 내지 21, 바람직하게는 9 내지 17의 알킬 그룹이고, R7은 각각 수소, C1-C4알킬, C1-C4하이드록시알킬 및 -(C2H4O)xH(여기서, x는 1 내지 약 3이다)로 이루어진 그룹으로부터 선택된다].
- 화학식 Ⅰ의 폴리하이드록시 지방산 아미드 계면활성제:
위의 화학식 Ⅰ에서,
R1은 H, C1-C4하이드록시카빌, 2-하이드록시 에틸, 2-하이드록시 프로필 또는 이들의 혼합물, 바람직하게는 C1-C4알킬, 보다 바람직하게는 C1또는 C2알킬, 가장 바람직하게는 C1알킬(즉, 메틸)이고,
R2는 C5-C31하이드로카빌, 바람직하게는 직쇄 C7-C19알킬 또는 알케닐, 보다 바람직하게는 직쇄 C9-C17알킬 또는 알케닐, 가장 바람직하게는 직쇄 C11-C17알킬 또는 알케닐 또는 이들의 혼합물이며,
Z는 쇄에 직접 연결된 하이드록실이 3개 이상인 선형 하이드로카빌 쇄를 갖는 폴리하이드록시하이드로카빌 또는 이의 알콕시화 유도체(바람직하게는 에톡시화 유도체 또는 프로폭시화 유도체)이다.
Z는 환원성 아민화 반응에서 환원 당으로부터 유도되는 것이 바람직할 것이며, Z는 글리시틸이 보다 바람직할 것이다. 적합한 환원 당은 글루코즈, 프럭토즈, 말토즈, 락토즈, 갈락토즈, 만노즈 및 크실로즈를 포함한다. Z는 -CH2-(CHOH)n-CH2OH, -CH(CH2OH)-(CHOH)n-1-CH2OH 및 -CH2-(CHOH)2(CHOR')(CHOH)-CH2OH로 이루어진 그룹(여기서, n은 3 내지 5의 정수이고, R'는 H 또는 사이클릭 모노사카라이드, 지방족 모노사카라이드 및 이들의 알콕시화 유도체이다)으로부터 선택되는 것이 바람직할 것이다. n이 4, 특히 -CH2-(CHOH)4-CH2OH인 글리시틸이 가장 바람직하다.
위의 화학식 Ⅰ에서, R1은, 예를 들면, N-메틸, N-에틸, N-프로필, N-이소프로필, N-부틸, N-2-하이드록시 에틸 또는 N-2-하이드록시 프로필일 수 있다.
R2-CO-N<은, 예를 들면, 코크아미드, 스테아르아미드, 올레아미드, 라우르아미드, 미리스트아미드, 카프리크아미드, 팔미트아미드, 탈로우아미드 등일 수 있다.
Z는 1-데옥시글루시틸, 2-데옥시프럭티틸, 1-데옥시말티틸, 1-데옥시락티틸, 1-데옥시갈락티틸, 1-데옥시만니틸, 1-데옥시말토트리오티틸 등일 수 있다.
- 화학식의 베타인 세제 계면활성제(여기서, R은 탄소수 10 내지 22, 바람직하게는 탄소수 12 내지 18의 알킬 그룹, 처리되는 벤젠 환과 유사한 수의 약 2개에 상당하는 탄소원자와 아미드 또는 에테르 결합으로 차단된 유사한 구조를 함유하는 알킬 아릴 그룹 및 아릴 알킬 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 소수성 그룹이고, R1은 각각 탄소수 1 내지 3의 알킬 그룹이며, R2는 탄소수 1 내지 6의 알킬렌 그룹이다).
- 에틸렌 옥사이드 그룹(사실상 친수성임)을 유기 소수성 화합물과 축합시켜 제조한 화합물이라고 넓게 정의할 수 있으며, 사실상 지방족 또는 알킬 방향족일 수 있는 에틸렌 옥사이드 축합물. 특정한 소수성 그룹과 축합시킨 소수성 라디칼 또는 폴리옥시알킬렌 라디칼의 길이를 용이하게 조절하여 친수성 요소와 소수성 요소 사이에 목적하는 균형을 이루는 수용성 화합물을 수득할 수 있다.
거품 안정화제로서 적합한 에틸렌 옥사이드 축합물의 예는 지방족 알콜과 에틸렌 옥사이드와의 축합 생성물이다. 거품 안정화제로서의 성능을 최대로 하기 위한 지방족 알콜의 알킬 쇄는 직쇄 또는 측쇄일 수 있고, 일반적으로 탄소원자를 약 8 내지 약 18개, 바람직하게는 약 8 내지 약 14개 함유할 수 있으며, 에틸렌 옥사이드는 알콜 1몰당 에틸렌 옥사이드 약 8 내지 약 30몰, 바람직하게는 약 8 내지 약 14몰의 양으로 존재할 수 있다.
- 화학식의 양이온성 4급 암모늄 계면활성제 또는 화학식의 아민 계면활성제[여기서, R1은 알킬 쇄의 탄소수가 약 6 내지 약 16인 알킬 그룹 또는 알킬 벤질 그룹이고, R2는 각각 -CH2CH2-, -CH2CH(CH3)-, -CH2CH(CH2OH)-, -CH2CH2CH2- 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, R3은 각각 C1-C4알킬, C1-C4하이드록시알킬, 벤질 및 수소(y가 0이 아닌 경우)로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R4는 R3과 같거나 R1과 R4의 전체 탄소원자수가 약 8 내지 약 16인 알킬 쇄이며, y는 각각 약 0 내지 약 10이고, y 값의 합은 약 0 내지 약 15이며, X는 혼화성 음이온이다].
통상적으로, 본 발명의 조성물은 계면활성제 또는 이의 혼합물을 전체 조성물의 10 내지 60중량%, 바람직하게는 10 내지 55중량%, 가장 바람직하게는 10 내지 50중량 포함한다.
하이드로트로프
제2의 필수 성분으로서, 본 발명의 조성물은 큐멘 설포네이트, 톨루엔 설포네이트, 크실렌 설포네이트, 벤젠 설포네이트 또는 이들의 혼합물의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하이드로트로프를 포함한다. 바람직한 염은 암모늄 염과 나트륨 염이다.
전형적으로, 본 발명의 조성물은 하이드로트로프를 전체 조성물의 1 내지 15중량%, 바람직하게는 1 내지 10중량%, 가장 바람직하게는 2 내지 6중량% 포함한다.
불포화 지방족 테르펜 알콜 또는 유도체
제3의 필수 성분으로서, 본 발명의 조성물은 불포화 지방족 테르펜 알콜 또는 이들의 유도체(즉, 알콜 그룹이, 예를 들면, 아세테이트, 포르메이트, 프로피오네이트 등으로 관능화된 불포화 지방족 테르펜 알콜) 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 알콜 또는 유도체는 게라니올, 네롤, 시트로넬롤, 리날로올, 시트로넬릴 아세테이트, 게라닐 아세테이트, 리날릴 아세테이트, 시트로넬릴 포르메이트, 게라닐 포르메이트, 리날릴 포르메이트, 시트로넬릴 프로피오네이트, 게라닐 프로피오네이트 및 리날릴 프로피오네이트를 포함한다.
본 발명에서 사용하기에 가장 바람직한 것은 게라니올이다.
전형적으로, 본 발명의 조성물은 불포화 지방족 테르펜 알콜을 전체 조성물의 0.1 내지 3중량%, 바람직하게는 0.2 내지 2.5중량%, 가장 바람직하게는 0.4 내지 2중량% 포함한다.
임의 성분
본 발명의 조성물은 다음과 같은 다수의 기타의 임의 성분을 포함할 수 있다:
제1의 임의의, 그러나 바람직한 성분은 화학식 Ⅱ의 페놀성 화합물이다.
위의 화학식 Ⅱ에서,
R, R1, R2, R3및 R4는 독립적으로 H, 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 쇄, 화학식 Ra(A)n의 알콕시화 탄화수소 쇄(여기서, Ra는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 쇄이고, A는 부톡시, 프로폭시 및/또는 에톡시이며, n은 1 내지 4, 바람직하게는 1 내지 3의 정수이다) 또는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 아릴 쇄 또는 이들의 혼합물이다.
매우 바람직한 종류의 성분은 유게놀과 티몰이다.
본 발명의 조성물은 페놀성 화합물 또는 이들의 혼합물을 전체 조성물의 0.1 내지 4중량%, 바람직하게는 0.2 내지 1.5중량% 포함한다.
마그네슘 이온:
본 발명의 조성물은 마그네슘 이온을 조성물의 0 내지 2.0중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1.5중량%, 가장 바람직하게는 0.2 내지 1중량% 포함하는 것이 바람직한데, 이는 본 발명의 액체 세제 조성물에 첨가되어 거품 형성과 피부 무자극성을 향상시킬 뿐만 아니라 제품 안정성을 향상시킬 수 있다.
산 형태의 알킬에톡시 계면활성제를 물 속에서 산화마그네슘 또는 수산화마그네슘 슬러리를 사용하여 중화시킴으로써 마그네슘 이온을 도입시키는 것이 바람직하다. 일반적으로, 이러한 방법은 조성물 속의 음이온성 계면활성제의 양에 의해 제한을 받는다. 또 다른 방법은 MgCl2, MgSO4또는 기타의 무기 Mg 염을 사용하는 것이다. 이러한 물질은, 조성물 속에서 부식 문제(염화물 염)를 야기할 수 있거나, 제형물의 용해성을 저하시킬 수 있거나, 제형화도/안정성 문제를 야기할 수 있기 때문에 바람직하지 않다. 이러한 이유 때문에, 무기 염을 음이온성 무기 카운터이온의 2중량% 미만, 바람직하게는 1중량% 미만으로 제한하여 첨가하는 것이 바람직하다.
비겔화 중합체:
또 다른 임의 성분으로서, 본 발명의 조성물은 조성물의 겔화 저항성을 향상시키는 비겔화 중합체를 포함한다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 중합체의 분자량은 500 이상, 바람직하게는 500 내지 20,000, 보다 바람직하게는 1,000 내지 5,000, 가장 바람직하게는 1,000 내지 3,000이다.
비겔화 중합체의 필요량은 시도와 오차로 용이하게 결정할 수 있으나, 일반적으로, 본 발명의 조성물은 비겔화 중합체 또는 이의 혼합물을 전체 조성물의 0.5 내지 6중량%, 바람직하게는 0.5 내지 4중량%, 가장 바람직하게는 1.5 내지 3중량 포함한다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 중합체는 다음을 포함한다:
- 폴리알킬렌 글리콜, 바람직하게는 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜;
- 폴리아민; 본 발명에서 사용하기에 특히 적합한 폴리아민 중합체는 알콕시화 폴리아민 또는 폴리알콕시화 폴리아민이다. 편리하게는, 이러한 물질은 다음과 같은 반복 단위를 갖는 실험 구조의 분자(여기서, R은 일반적으로 탄소수 2 내지 6의 하이드로카빌 그룹이고, R1은 C1-C20탄화수소일 수 있으며, 알콕시 그룹은 에톡시, 프로폭시 등이고, y는 2 내지 30, 가장 바람직하게는 10 내지 20이며, n은 2 이상, 바람직하게는 2 내지 20, 가장 바람직하게는 3 내지 5의 정수이고, X-는 4급화 반응으로부터 생성된 할라이드 또는 메틸설페이트 등의 음이온이다)로서 나타낼 수 있다:
아민 형태
4급화 형태
소위 본 발명에서 사용하기에 가장 매우 바람직한 폴리아민은 에톡시화 폴리에틸렌 아민, 즉 화학식의 에틸렌 옥사이드와 에틸렌이민과의 중합 반응 생성물(여기서, y는 2 내지 30이다)이다. 본 발명에서 사용하기에 특히 바람직한 것은 에톡시화 폴리에틸렌 아민, 특히 에톡시화 테트라에틸렌 펜타민 및 4급화 에톡시화 헥사메틸렌 디아민이다.
- 테레프탈레이트계 중합체; 본 발명에서 사용하기에 적합한 테레프탈레이트 중합체는 화학식 Ⅲ의 중합체를 포함한다:
위의 화학식 Ⅲ에서,
R1은 각각 1,4-페닐렌 잔기이고,
R2는 필수적으로 1,2-프로필렌 잔기이며,
R3은 필수적으로 폴리옥시에틸렌 잔기 -(CH2H2O)q-CH2-CH2-이고,
X는 각각 에틸 또는 바람직하게는 메틸이며,
n은 각각 약 12 내지 약 45이고,
q는 약 12 내지 약 90이며,
u의 평균 값은 약 5 내지 약 20이고,
v의 평균 값은 약 1 내지 약 10이며,
u와 v의 합의 평균 값은 약 6 내지 약 30이고,
u 대 v의 비율은 약 1 대 약 6이다.
본 발명에서 사용하기에 매우 바람직한 중합체는 화학식 Ⅳ의 중합체이다:
위의 화학식 Ⅳ에서,
X는 적합한 캡핑 그룹(capping group)일 수 있고, 각각 H, 및 탄소수 1 내지 약 4, 바람직하게는 탄소수 1 또는 2의 알킬 그룹 또는 아실 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, 가장 바람직하게는 알킬이다.
또한, 알킬 그룹은 음이온성, 양이온성 또는 비이온성 치환체(예: 설포네이트 그룹, 설페이토 그룹, 암모늄 그룹, 하이드록시 그룹 등)를 함유할 수 있다. n은 수 용해도에 대하여 선택하며, n의 범위는 일반적으로 약 10 내지 약 50, 바람직하게는 약 10 내지 약 25의 평균을 낸 범위의 값이다. u가 5 이상인 경우, 물질은 매우 미량, 바람직하게는 약 10mol% 미만, 보다 바람직하게는 5mol% 미만, 가장 바람직하게는 1mol% 미만 존재해야만 한다. 또한, u의 범위가 3 내지 5에 이르는 경우, 20mol% 이상, 바람직하게는 40mol% 이상의 물질이 존재해야만 한다.
R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다. 본 명세서에서 사용하는 바와 같이, "R1잔기는 필수적으로 1,4-페닐렌 잔기이다"라는 표현은 R1잔기가 완전히 1,4-페닐렌 잔기로 이루어지거나 기타의 아릴렌 잔기, 알크아릴렌 잔기, 알킬렌 잔기, 알케닐렌 잔기 또는 이들의 혼합물로 부분적으로 치환된 화합물을 일컫는다. 1,4-페닐렌으로 부분적으로 치환될 수 있는 아릴렌 잔기와 알크아릴렌 잔기는 1,3-페닐렌, 1,2-페닐렌, 1,8-나프틸렌, 1,4-나프틸렌, 2,2-비페닐렌, 4,4'-비페닐렌 및 이들의 혼합물을 포함한다. 부분적으로 치환될 수 있는 알킬렌 잔기와 알케닐렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌, 1,6-헥사메틸렌, 1,7-헵타메틸렌, 1,8-옥타메틸렌, 1,4-사이클로헥실렌 및 이들의 혼합물을 포함한다.
R1잔기는 완전히 1,4-페닐렌 잔기로 이루어지는(즉, 100% 구성되는) 것이 바람직하다. 즉, R1잔기는 각각 1,4-페닐렌이다.
R2잔기에 관하여는, 적합한 에틸렌 잔기 또는 치환된 에틸렌 잔기는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,2-부틸렌, 1,2-헥실렌, 3-메톡시-1,2-프로필렌 및 이들의 혼합물을 포함한다. R2잔기는 필수적으로 에틸렌 잔기, 또는 바람직하게는 1,2-프로필렌 잔기 또는 이들의 혼합물이 바람직하다. 바람직하게는, R2잔기의 약 75 내지 약 100%, 보다 바람직하게는 약 90 내지 약 100%가 1,2-프로필렌 잔기이다.
n의 값은 평균하여 약 10 이상이지만, n 값의 분포는 제시되어 있다. 일반적으로, n 값의 범위는 각각 약 10 내지 약 50에 이른다. n 값의 범위는 각각 평균하여 약 10 내지 약 25에 이르는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하기에 가장 바람직한 중합체는 화학식 Ⅴ의 중합체이다:
위의 화학식 Ⅴ에서,
X는 메틸이고,
n은 16이며,
R1은 1,4-페닐렌 잔기이고,
R2는 1,2-프로필렌 잔기이며,
u는 필수적으로 3 내지 5이다.
용매:
또 다른 성분으로서, 본 발명의 조성물은 용매를 바람직한 점도에 도달하기에 유효한 양으로 포함할 수 있다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 용매는 저분자량 알콜(예: C1-C10, 바람직하게는 C1-C41급 알콜 및 2급 알콜), 바람직하게는 에틸 알콜, 이소프로필 알콜, 프로필렌 글리콜 및 헥실렌 글리콜을 포함한다.
전형적으로, 본 발명의 조성물은 알콜 또는 이의 혼합물을 전체 조성물의 3 내지 20중량%, 바람직하게는 3 내지 15중량%, 가장 바람직하게는 5 내지 10중량% 포함한다.
본 발명의 조성물은 맑은 액상 조성물로서 제형화되는 것이 바람직하다. "맑은"이란, 등방성이고 안정하며 투명하다는 것을 의미한다. 용매와 하이드로트로프를 사용하여 등방성 조성물을 획득하는 것은 식기 세척 제형 분야에서 잘 알려져 있는 조성물로서 익히 공지되어 있다. 이러한 맑은 조성물은 투명 용기 속에서 팩킹되는 것이 바람직하며, 전형적으로 이러한 용기는 플라스틱 또는 유리로 제조될 수 있다.
위에서 언급한 성분 이외에도, 본 발명의 조성물은 식기 세척용의 액상 조성물에서 사용하기에 적합한 기타 성분[예: 향료, 염료, 유백제, 효소, 증강제 및 킬란트(chelants)]을 함유할 수 있으며, pH 완충 작용에 의해 물 중의 10% 용액에서 측정한 본 발명의 조성물의 pH가 일반적으로 5 내지 11, 바람직하게는 6.0 내지 10.0, 가장 바람직하게는 7 내지 9로 된다.
방법:
본 발명의 방법 국면에 있어서, 전형적으로 오염된 식기를 본 발명의 세제 조성물 (처리되는 식기 25개당) 약 0.5 내지 약 20㎖, 바람직하게는 약 3 내지 약 10㎖의 유효량과 접촉시킨다. 사용하는 액상 세제 조성물의 실제 양은 사용자의 판단을 근거로 할 것이며, 전형적으로 조성물의 활성 성분의 농도, 세척하고자 하는 오염된 식기의 수, 식기에 대한 오염도 등을 포함하는, 조성물의 특정 제품의 제형 등의 인자(因子)에 의존할 것이다.
특정 제품의 제형은 조성물 제품에 대하여 의도하는 시장(즉, 미국, 유럽, 일본 등) 등의 다수의 인자에 차례로 의존할 것이다.
본 발명의 방법에 있어서, 오염된 식기는 본 발명에서 언급한 바와 같은 식기 세척용의 액상 세제의 존재 또는 부재하에 수욕(water bath) 속으로 침지시키는 것이 바람직하다. 식기구, 즉 식기 세척용의 액상 세제를 흡수하는 데 적합한 장치(예: 스폰지 또는 행주)는 전형적으로 약 3 내지 약 10초에 이르는 시간 동안 본 발명에서 언급한 바와 같은 별도 양의 희석하지 않은 식기 세척용의 액상 조성물에 직접 놓아 두거나 이 조성물과 접촉시킨다. 이어서, 흡수 장치에서 희석하지 않은 식기 세척용의 액상 조성물을 오염된 식기의 각각의 표면에 개별적으로 접촉시켜 오물을 제거한다. 실제 적용 시간은 식기 오염도 등의 인자에 의존하지만, 전형적으로 흡수 장치는 약 5 내지 약 30초에 이르는 시간 동안 각각의 식기 표면과 접촉한다. 흡수 장치와 식기 표면과의 접촉은 동시 세척을 수반하는 것이 바람직하다.
세척하고자 하는 모든 식기를 세척한 후, 식기구를 원액 제품과 접촉시키고, 예를 들면, 원액 제품에 적시고, 방치하여 건조시키는 것이 바람직하다. 본 발명의 방법에 따라 사용하는 식기구에서는 사용량이 과도하게 늘어나더라도 세균 성장이 거의 없거나 전혀 없으며, 오염된 식기구(즉, 기타 조성물을 사용하여 선사용에 의해 오염된 식기구)는 본 발명에 따르는 방법으로 1회 또는 수회 사용한 후에 회수한다.
실시예
본 발명을 예시하는 다음 조성물은 기재된 성분들을 기재된 비율로 함께 혼합하여 제조한다.
Claims (9)
- 계면활성제,큐멘 설포네이트, 톨루엔 설포네이트, 크실렌 설포네이트, 벤젠 설포네이트 또는 이들의 혼합물의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하이드로트로프 및불포화 지방족 테르펜 알콜 또는 유도체를 포함하는, 식기 세척용의 수성 액상 조성물.
- 제1항에 있어서, 계면활성제 10 내지 60중량%(전체 조성물을 기준으로 함), 하이드로트로프 1 내지 15중량%(전체 조성물을 기준으로 함) 및 불포화 지방족 테르펜 알콜 또는 유도체 0.1 내지 3중량%(전체 조성물을 기준으로 함)를 포함하는 조성물.
- 제2항에 있어서, 계면활성제 10 내지 55중량%(전체 조성물을 기준으로 함), 하이드로트로프 1 내지 10중량%(전체 조성물을 기준으로 함) 및 불포화 지방족 테르펜 알콜 0.2 내지 2.5중량%(전체 조성물을 기준으로 함)를 포함하는 조성물.
- 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 큐멘 설포네이트, 톨루엔 설포네이트, 크실렌 설포네이트 및 벤젠 설포네이트의 염이 나트륨 염인 조성물.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 불포화 지방족 테르펜 알콜이 게라니올인 조성물.
- 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 화학식 Ⅱ의 페놀성 화합물을 추가로 포함하는 조성물.화학식 Ⅱ위의 화학식 Ⅱ에서,R, R1, R2, R3및 R4는 독립적으로 H, 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 쇄, 화학식 Ra(A)n의 알콕시화 탄화수소 쇄(여기서, Ra는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 탄화수소 쇄이고, A는 부톡시, 프로폭시 및/또는 에톡시이며, n은 1 내지 4, 바람직하게는 1 내지 3의 정수이다) 또는 탄소수 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 보다 바람직하게는 1 내지 4의 아릴 쇄 또는 이들의 혼합물이다.
- 제6항에 있어서, 페놀성 화합물이 유게놀 또는 티몰 또는 이들의 혼합물인 조성물.
- 제6항 또는 제7항에 있어서, 페놀성 화합물 또는 이의 혼합물을, 전체 조성물을 기준으로 하여, 0.1 내지 4중량% 포함하는 조성물.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 따르는 조성물 유효량을 식기구에 적용시키고, 이어서 식기구를 세척하고자 하는 식기와 접촉시키는, 식기의 세척방법.
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