KR20000050795A - Heating furnace of plasma display pannel - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 Plasma Display Pannel(이하 PDP라 칭한다) 가열처리로에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 마이크로파(microwave)로 프릿(frit)의 하부부터 용융시켜 프릿 내부의 공기를 완전히 배출시키므로서 프릿층의 강도를 크게 향상시킴은 물론이고, PDP 가열처리로를 외부와 완전히 밀폐시켜 무진처리하므로서 PDP의 화상도를 크게 향상시킨 PDP 가열처리로에 관한 것이다.The present invention relates to a Plasma Display Pannel (hereinafter referred to as PDP) heat treatment furnace. More specifically, the strength of the frit layer is completely discharged from the bottom of the frit by microwaves to completely discharge the air inside the frit. The present invention relates to a PDP heat treatment furnace that greatly improves the image quality of a PDP by enlarging the PDP heat treatment furnace completely outside and dust-free.
일반적으로 PDP의 구조를 보면 도 1과 같이 유리재질의 배면판(1) 상에 프릿을 용융하여 만든 격실(2)이 무수히 형성되고, 상기 격실(2)에 음극선(3)과 양극선(4)이 교차토록 설치됨과 아울러 그 내부에 발광체(5)가 몰입된 다음, 격실(2)의 상부에 형광층 및 유리재질인 전면판(6)이 차례로 적층되어 음극선(3)과 양극선(4)에 각기 다른 전압을 인가하였을 때 그 전압차에 따라 각 격실(1)마다 다양한 칼라색상을 연출할 수 있게 된다.Generally, in the structure of the PDP, as shown in FIG. 1, a compartment 2 formed by melting a frit is formed on a glass back plate 1, and a cathode 3 and an anode 4 are formed in the compartment 2. In addition, the light emitting body 5 is immersed therein, and then a fluorescent layer and a glass front plate 6 are sequentially stacked on the compartment 2 to the cathode 3 and the anode 4. When different voltages are applied, various compartment colors can be produced for each compartment 1 according to the voltage difference.
상기와 같이 구성되는 PDP의 제작공정을 보면, 먼저 배면판(l)에 200㎛ 정도의 프릿이 도포되는 프릿도포공정을 수행한 다음, 상기 프릿층의 수분을 제거하는 건조공정과, 그리고 배면판(1)과 프릿층을 약 500도에서 600도로 가열하여 용융시키는 프릿용융공정과, 상기 프릿층을 포토리소그라피(photolithography)로 에칭(etching)하여 격실(2)을 형성하는 에칭공정과, 상기 격실(2)에 전극을 도포하는 전극도포공정과, 전극이 도포된 배면판(1)을 약 500도로 가열하는 가열처리공정, 배면판(1)의 상면부에 적,녹,청 3색의 형광층을 도포하는 형광층도포공정과, 상기 형광층 상에 약 50㎛ 정도의 반응안정막(MgO)이 증착되는 반응안정막 증착공정과, 상기 반응안정막 상에 소정 두께의 유리재질인 전면판(6)이 접합되는 전면판접합공정 등을 순차적으로 진행하여 소망하는 PDP를 형성하게 된다.Looking at the manufacturing process of the PDP configured as described above, first performing a frit coating step of applying a frit of about 200㎛ to the back plate (l), and then a drying step of removing the moisture of the frit layer, and the back plate A frit melting process in which (1) and the frit layer are heated and melted at about 500 degrees to 600 degrees, an etching process of etching the frit layer by photolithography to form a compartment (2), and the compartment (2) an electrode coating step of applying the electrode, a heat treatment step of heating the back plate 1 coated with the electrode at about 500 degrees, and red, green, and blue fluorescence of three colors on the upper surface of the back plate 1 A layer coating process for applying a layer, a process stabilizer deposition process in which a reaction stabilizer film (MgO) of about 50 μm is deposited on the phosphor layer, and a front plate having a predetermined thickness of glass on the reaction stabilizer film PDP desired by sequentially proceeding the front plate joining process to which (6) is bonded. Will form.
여기에서, 프릿용융공정은 PDP 가열처리로에서 행하여지는데, 상기 PDP 가열처리로의 구조를 보면 도 2와 같이 프릿용융대상물인 PDP가 적재되는 소정형상의 절연체로 된 로(11)의 내부에 적재공간부(12)가 형성되고, 상기 적재공간부(12)의 내벽에는 인코넬(inconel1)과 같은 금속물질로 형성된 무진판(13)이 설치되며, 상기 무진판(13)의 일측에는 외부의 발열장치(미도시)와 연통되는 덕트(14)가 설치된다.Here, the frit melting process is carried out in a PDP heat treatment furnace. The structure of the PDP heat treatment furnace shows the structure of the PDP heat treatment furnace, as shown in FIG. The space part 12 is formed, and the inner wall of the loading space part 12 is provided with a dust-free plate 13 made of a metal material such as inconel (1), and one side of the dust-free plate 13 is an external heat generation A duct 14 is provided in communication with the device (not shown).
즉, 발열장치로부터 발생된 고열을 덕트(14)로 강제공급하여 로(11)의 내부를 순환시키므로서 로(11) 내부의 배면판(1)에 프릿층을 용융시키게 된다.That is, the frit layer is melted on the back plate 1 inside the furnace 11 by circulating the inside of the furnace 11 by forcibly supplying the high heat generated from the heat generator to the duct 14.
그러나, 이와 같은 종래의 PDP 가열처리로는 무진처리가 되어야 함에도 불구하고 발열장치로부터 발생된 고열을 덕트(14)를 통해 로(11)의 내부로 공급하기 때문에 먼지가 유입되어 PDP의 품질을 크게 저하시킬 뿐만 아니라, 상기 무진판(13)이 인코넬과 같은 금속물질로 형성되어 있기 때문에 고온에서 스케일(scale)이 발생되어 PDP의 품질을 크게 저하시기는 등의 많은 문제점이 있었다.However, although the conventional PDP heat treatment should be dust-free, dust is introduced into the furnace 11 through the duct 14 to provide high heat generated from the heating device, thereby greatly improving the quality of the PDP. In addition to lowering, since the dust-free plate 13 is formed of a metal material such as Inconel, there have been many problems such as the generation of scale at a high temperature, thereby greatly reducing the quality of the PDP.
또한, 종래에는 발열장치로부터 발생된 고열이 덕트(4)를 통해 로(11)의 내부로 공급되어 프릿의 상부부터 용융되기 때문에 도 3과 같이 배면판(1)과 근접된 프릿이 용융되면서 발생되는 공기가 이미 용융된 프릿으로 인하여 외부로 배출되지 못하므로서 프릿층의 결정을 불안정하게하여 프릿층의 강도를 크게 저하시키는 동시에 PDP의 화상도를 크게 저하시키는 문제점이 있었다.In addition, conventionally, since the high heat generated from the heating device is supplied into the furnace 11 through the duct 4 and melted from the top of the frit, the frit close to the back plate 1 is melted as shown in FIG. 3. Since the air is not discharged to the outside due to the already melted frit, the crystals of the frit layer are unstable, which greatly reduces the strength of the frit layer and at the same time greatly reduces the image quality of the PDP.
본 발명은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 로를 외부와 완전히 밀폐시켜 로 내부의 오염도를 극소화시키므로서 PDP의 품질을 크게 향상시키는 한편, 밀폐된 로의 내부에 외부의 마이크로파에 의해 발열되는 발열체를 설치한 다음, 그 상면에 프릿용융대상물인 PDP를 적층시켜 배면판(1)과 근접된 내부의 프릿부터 용융시키므로서 기포의 배출을 용이하게하여 프릿층의 강도를 크게 향상시키는 동시에 PDP의 화상도를 크게 향상시킨 PDP 가열처리로를 제공하는데 그 목적이있다.The present invention is to solve the above problems, the furnace is completely sealed to the outside to minimize the pollution of the inside of the furnace to significantly improve the quality of the PDP, while the heating element generated by the outside microwaves inside the sealed furnace PDP, which is the object of frit melting, is laminated on the upper surface and melted from the inner frit close to the back plate 1, thereby facilitating the discharge of air bubbles and greatly improving the strength of the frit layer. The purpose is to provide a PDP heat treatment furnace that greatly improves the degree.
또한, 본 발명은 로를 외부와 완전히 밀폐시킨 상태에서 균일하게 발열되는 발열체로서 배면판 상면의 프릿을 용융시키므로서 각 위치의 온도편차를 극소화시켜 온도차로 인한 프릿층의 균열을 방지함은 물론이고, 로의 내멱에 설치되는 무진판을 스포디움 글라스 세라믹을 사용하므로서 PDP 가열처리로의 설치비용을 절감시킨 PDP 가열처리로를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention also minimizes the temperature deviation at each position by melting the frit on the upper surface of the back plate as a heating element that generates heat evenly in a state where the furnace is completely enclosed with the outside to prevent cracking of the frit layer due to the temperature difference. It is an object of the present invention to provide a PDP heat treatment furnace that reduces the installation cost of the PDP heat treatment furnace by using a spordium glass ceramic for a dust-free plate installed on the inner surface of the furnace.
도 1은 일반적인 PDP의 구조를 보인 개략도,1 is a schematic view showing a structure of a general PDP;
도 2는 종래 기술에 따른 PDP 가열처리로의 개요도,2 is a schematic view of a PDP heat treatment furnace according to the prior art;
도 3은 종래기술에 의해 프릿이 용융되는 것을 보인 요부 확대 단면도,Figure 3 is an enlarged cross-sectional view showing the main portion showing that the frit is melted by the prior art,
도 4의 a, b는 본 발명에 따른 PDP 가열처리로의 개요도,4, a and b are schematic views of a PDP heat treatment furnace according to the present invention;
도 5는 본 발명에 따른 프릿의 용융상태를 보인 요부 확대 단면도.Figure 5 is an enlarged cross-sectional view showing the main portion showing a molten state of the frit according to the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1:배면판 111:로1: back plate 111:
112:적재공간부 113:무진판112: load space section 113: no limit
114:발열체 115:마이크로파 발진장치114: heating element 115: microwave oscillation device
116:보조발열체 200:PDP116: auxiliary heating element 200: PDP
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 절연재질인 로의 내부에 프릿용융대상물인 PDP가 적재될 수 있게 소정형상의 적재공간부가 형성되고, 상기 적재공간부의 하부에는 발열체가 설치되며, 상기 로의 외부 적소에 발열체를 소정의 온도로 발열시키는 마이크로파 발진장치를 설치한 특징이 있다.In order to achieve the above object, the present invention provides a loading space portion having a predetermined shape so that the PDP as a frit melting object can be loaded inside the furnace, which is an insulating material, and a heating element is installed at the lower portion of the loading space, It is characterized in that a microwave oscillation device is installed in the heating element to generate a predetermined temperature.
본 발명은 또, 상기 적재공간부의 내벽에 스포디움 글라스 세라믹으로 된 무진판을 설치한 특징이 있다.The present invention is also characterized in that a dust-free plate made of spodium glass ceramic is provided on the inner wall of the loading space part.
또한, 본 발명은 상기 발열체가 세라믹 재료로 형성된 특징이 있다.In addition, the present invention is characterized in that the heating element is formed of a ceramic material.
본 발명은 또, 상기 발열체가 탄화규소(SiC)로 형성된 특징이 있다.The present invention is also characterized in that the heating element is formed of silicon carbide (SiC).
또한, 본 발명은 상기 무진판의 내측벽에 마이크로파 발진장치에 의해 발열되는 보조발열체를 설치하고 상기 보조발열체의 재질은 페라이트(Ferrite) 또는 sic로 되어있다.In addition, the present invention provides an auxiliary heating element that is generated by the microwave oscillation device on the inner wall of the dust-free plate, the material of the auxiliary heating element is made of ferrite (Ferrite) or sic.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따른 PDP 가열처리로의 개요도이다. 종래의 기술과 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하여 본 발명을 설명한다.4 is a schematic diagram of a PDP heat treatment furnace according to the present invention. The same parts as in the prior art will be denoted by the same reference numerals to describe the present invention.
먼저, 절연재로된 로(111)의 내부에 프릿용융대상물인 PDP(200)가 적재될 수 있게 소정형상의 적재공간부(112)가 형성되고, 상기 적재공간부(112)의 내벽에 방진용 무진판(113)이 밀폐가능하게 설치되는데, 상기 무진판(113)은 스포디움 글라스 세라믹과 같은 먼지발생 우려가 없는 재질로 형성된다.First, a loading space portion 112 of a predetermined shape is formed inside the furnace 111 made of an insulating material so that the PDP 200 as a frit melting object may be loaded, and dustproof is formed on an inner wall of the loading space portion 112. The dust-free plate 113 is installed to be hermetically sealed, and the dust-free plate 113 is formed of a material that does not generate dust, such as a glass glass ceramic.
그리고, 상기 적재공간부(112)의 내부에 발열체(114)가 설치되는데, 상기 발열체(114)의 재료로는 탄화규소(SiC), 지르코니아(Zr02), 페라이트(Ferrite), 등과 같은 재료가 사용되며, 이와 같은 재료는 상온에서도 마이크로파를 쉽게 흡수하므로 발열체로서 가장 적합하다.In addition, a heating element 114 is installed inside the loading space 112, and a material such as silicon carbide (SiC), zirconia (Zr02), ferrite, or the like is used as the material of the heating element 114. Such a material is most suitable as a heating element because it easily absorbs microwaves even at room temperature.
그런 다음, 상기 로(111)의 상부 또는 하부에 발열체(114)에 마이크로파를 주사하여 500도에서 600도로 발열시키는 마이크로파 발진장치(115)가 설치된다. 이때, 마이크로파는 전자기파로써 광학법칙을 따르며, 물질에 따라 투과, 흡수, 반사가 일어나는데, 이 중 흡수체에서 발열현상이 발생하게 된다.Then, the microwave oscillator 115 is installed in the upper or lower portion of the furnace 111 to scan the microwaves to the heating element 114 to generate heat from 500 to 600 degrees. At this time, the microwave is an electromagnetic wave and follows the optical law, and transmission, absorption, and reflection occur depending on materials, among which heat generation occurs in the absorber.
또한, 상기 무진판(113)의 내측벽에 마이크로파 발진장치(115)에 의해 발열되는 보조발열체(116)가 설치되어 프릿의 균일한 용융상태를 유도하게 되는데, 상기 보조발열체(116)는 탄화규소(SiC)나 페라이트등 마이크로파를 잘 흡수하는 재질로 형성됨이 바람직하다.In addition, the auxiliary heating element 116 is generated on the inner wall of the dust-free plate 113 by the microwave oscillation device 115 is installed to induce a uniform melting state of the frit, the auxiliary heating element 116 is silicon carbide It is preferably formed of a material that absorbs microwaves such as (SiC) and ferrite well.
상기와 같이 구성된 본 발명의 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the present invention configured as described above in detail.
프릿용융공정을 수행하고자 하면, 배면판(1)의 상면에 200㎛ 정도의 프릿 분말가루를 도포한 다음, 프릿이 도포된 배면판(1)을 로(111) 내부의 발열체(114) 상면에 적층시킨다.In order to perform the frit melting process, 200 μm of frit powder is applied to the top surface of the back plate 1, and then the back plate 1 coated with the frit is applied to the top surface of the heating element 114 inside the furnace 111. Laminate.
그런 다음, 마이크로파 발진장치(115)를 동작시키게 되는데, 상기 발진장치(115)로부터 주사된 마이크로파는 로(111)를 관통한 다음 그 내부의 발열체(114)에 흡수되어 약 600도로 가열되며, 이 고열은 발열체(114) 상면의 배면판(1)을 관통하여 그 상면의 프릿을 용융시키게 된다.Then, the microwave oscillator 115 is operated. The microwaves scanned from the oscillator 115 pass through the furnace 111 and are absorbed by the heating element 114 therein and heated to about 600 degrees. The high heat penetrates the back plate 1 of the upper surface of the heating element 114 to melt the frit on the upper surface.
이때, 프릿은 도 5와 같이 배면판(1)과 근접된 하부부터 용융되므로 이때 발생되는 기포가 외부로 쉽게 배출되어 프릿층의 기포를 효과적으로 제거할 수 있게된다.At this time, since the frit is melted from the lower portion adjacent to the rear plate 1 as shown in FIG. 5, bubbles generated at this time may be easily discharged to the outside to effectively remove the bubbles of the frit layer.
또한, 상기 발열체(114)는 약 600도에서는 산화가 안되기 때문에 먼지의 발생 가능성이 전혀 없을 뿐만 아니라, 발열체(114)의 설치가격도 저렴하며, 상기 로(111)를 완전히 밀폐시킬 수 있기 때문에 PDP판을 균일하게 가열할 수 있게 된다.In addition, since the heating element 114 is not oxidized at about 600 degrees, there is no possibility of generating dust, and the installation price of the heating element 114 is also low, and since the furnace 111 can be completely sealed, the PDP The plate can be heated uniformly.
그리고, 상기 무진판(113)의 내측벽에 마이크로파 발진장치(115)에 의해 발열되는 보조발열체(116)가 설치되어 있기 때문에 프릿의 균일한 용융상태를 유도할수 있게 된다.In addition, since the auxiliary heating element 116 that is generated by the microwave oscillation device 115 is installed on the inner wall of the dust-free plate 113, it is possible to induce a uniform melting state of the frit.
한편, 상기 PDP 가열처리로는 프릿용융공정뿐만 아니라, 그 전 공정인 수분의 건조공정과 전극이 도포된 배면판(1)을 약 500도로 가열하는 가열처리공정에서도 적용을 하게 되면 먼지의 발생을 완전히 방지할 수 있으므로 PDP(200)의 화상도를 크게 향상시킬 수 있다.On the other hand, the PDP heat treatment is not only a frit melting process, but also a drying process of moisture, and a heat treatment process for heating the back plate 1 coated with electrodes at about 500 degrees. Since it can prevent completely, the image degree of the PDP 200 can be improved significantly.
그리고, 마이크로파의 주사량을 서서히 감소시키면서 가열된 PDP를 냉각시키게 되면, 프릿에 응력층(compressive layer)이 생겨 기계적 강도가 크게 향상된다.When the heated PDP is cooled while gradually reducing the scanning amount of microwaves, a compressive layer is formed on the frit, and the mechanical strength is greatly improved.
즉, 가열된 프릿층의 내부와 외부의 온도편차는 외부가 다소 높은 편이므로 상기 프릿층의 외부에는 응력 스트레스가 걸려 기계적 강도가 크게 향상되며, 또한 온도편차로 인한 균열을 방지하기 위하여 PDP판을 서서히 냉각시키는 기존의 방법 보다 마이크로파를 이용하여 냉각시킬 시에는 냉각시간을 크게 단축시킬 수 있으므로 생산성 증진 및 원가를 크게 절감시킬 수 있게 된다.That is, since the temperature difference between the inside and the outside of the heated frit layer is rather high, the outside of the frit layer is subjected to stress stress, so that the mechanical strength is greatly improved, and the PDP plate is prevented to prevent cracking due to temperature deviation. When cooling using microwaves rather than the conventional method of slow cooling, the cooling time can be significantly shortened, thereby increasing productivity and significantly reducing costs.
이상에서와 같이, 본 발명은 로(111)를 외부와 완전히 밀폐시켜 로(111) 내부의 오염도를 극소화시키므로서 PDP(200)의 품질을 크게 향상시키는 한편, 밀폐된 로(111)의 내부에 외부의 마이크로파에 의해 발열되는 발열체(114)를 설치한 다음, 그 상면에 프릿용융대상물인 PDP(200)를 적층시켜 배면판(1)과 근접된 내부의 프릿부터 용융시키므로서 기포의 배출을 용이하게하여 프릿층의 강도를 크게 향상시키는 동시에 PDP의 화상도를 크게 향상시킨 매우 유용한 발명이다.As described above, the present invention greatly improves the quality of the PDP 200 while minimizing the degree of contamination inside the furnace 111 by completely enclosing the furnace 111 with the outside, and in the inside of the sealed furnace 111. After installing the heating element 114 that is generated by the external microwave, the PDP 200, which is the object of frit melting, is laminated on the upper surface to melt the bubbles from the inner frit close to the back plate 1, thereby easily discharging bubbles. This greatly improves the strength of the frit layer and at the same time greatly improves the image quality of the PDP.
또한, 본 발명은 로(111)를 외부와 완전히 밀폐시킨 상태에서 균일하게 발열되는 발열체(114)로서 배면판(1) 상면의 프릿을 용융시키므로서 각 위치의 온도편차를 극소화시켜 온도차로 인한 프릿층의 균열을 방지시킨 매우 유용한 발명이다.In addition, the present invention melts the frit on the upper surface of the back plate 1 as a heating element 114 that generates heat uniformly in a state in which the furnace 111 is completely enclosed with the outside, thereby minimizing the temperature deviation at each position and causing the frit due to the temperature difference. It is a very useful invention that prevents cracking of layers.
본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구 범위 기재의 범위내에 있게 된다.The present invention is not limited to the above-described specific preferred embodiments, and various modifications can be made by any person having ordinary skill in the art without departing from the gist of the present invention claimed in the claims. Of course, such changes will fall within the scope of the claims.
Claims (3)
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1999
- 1999-01-14 KR KR1019990000899A patent/KR100328297B1/en not_active IP Right Cessation
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |