KR20000049460A - 세척제 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명은 세척제 조성물에 관한 것으로 보다 자세하게는 지방족 탄화수소류, 지방족 알콜을 주성분으로 하여 오일이나 검과 같은 접착성 물질등의 세척력이 우수한 세척제 조성물에 관한 것으로, 헥산 75∼80vol%, 펜탄 11∼15vol%, 에틸알콜 4∼6vol%, 헵탄 2∼3vol% 및 옥탄 0.2∼0.4vol%를 함유하고 여기에 통상의 정전기 방지제(antistatic)를 소량 부가하여 이루어짐을 특징으로 한다.

이와 같은 본 발명의 세척제 조성물은 오일이나 점착성물질인 검 등에 의한 오염을 보다 깨끗하게 세척할 수 있을 뿐 아니라, 특히 스캐너드럼, 슬라이드, 필름, 모니터등의 오일이나 점착성 물질에 의한 오염을 신속하게 완벽하게 세척할 수 있으며, 세척후 피세척 부위에 전혀 흔적을 남기지 않는 유용한 조성물이다.

Description

세척제 조성물{detergent composition}

본 발명은 세척제 조성물에 관한 것으로 보다 자세하게는 지방족 탄화수소류, 지방족 알콜을 주성분으로 하여 오일이나 검과 같은 접착성 물질등의 세척력이 우수한 세척제 조성물에 관한 것이다.

종래의 각종 세척·세정제는 무기염류, 계면활성제 및 합성세제등으로 조성한 세정제가 있으며, 이들은 그 한정된 기능에 의하여 사용범위가 극히 제한되어 있다. 또 오일이나 검, 접착제등의 접착성 물질의 오물 같은 반고형 오물세척용 세척제의 경우에 있어서는 통상 세척능을 갖는 성분에 마찰성물질을 첨가하여 사용하므로 사용시에 피부가 상하게 되거나 더욱이 경도가 큰 마찰성 물질을 첨가한 세척제는 피세척물의 세척표면에 긁힘등의 손상을 일으켜 바람직하지 못하다. 그밖에 합성세제로 된 세척제는 미생물에 의한 세제의 폐수처리가 곤란하여 환경공해를 일이키는 단점이 있고, 또한 오일등으로 오염된 피세척물의 세척에는 벤젠, 톨루엔, 크실렌등의 유기용제를 사용할 수 있으나, 이들은 인화성이 강화고 인체에 해롭기 때문에 사용하는데 많은 위험이 따를 뿐 아니라, 이들 세척제는 장기간 오염된 것이나 기름때등을 완벽하게 제거하기 어렵고, 오염물체 표면에 얼룩을 남기는 등 세척제로서 조건을 충족하지 못하는 문제점이 있다.

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로 특히, 스캐너 드럼, 슬라이드, 필름, 모니터등에 있어 오일등에 의한 오염을 보다 깨끗하게 세척할 수 있는 세척제 조성물을 제공하기 위한 것이다. 특히, 본 발명은 지방족 탄화수소류와 지방족 알콜등의 유기용제를 적정비율로 조성하고, 여기에 통상의 정전기 방지제를 혼합하므로서 오일이나 검 등과 같은 접착성 물질등의 오염원에 의한 오염을 용이하게 제거할 뿐 아니라 피세척물체의 표면에 얼룩의 흔적을 남기지 않는 세척제 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 세척제 조성물은 헥산 75∼80vol%, n-펜탄 11∼15vol%, 에틸알콜 4∼6vol%, n-헵탄 2∼3vol% 및 n-옥탄 0.2∼0.4vol%를 함유하고 여기에 통상의 정전기 방지제(antistatic)를 소량 부가하여 이루어짐을 특징으로 한다.

특히, 본 발명의 조성물은 상기 헥산에 상기 n-펜탄을 혼합한 후 에틸알콜로 지방족 화합물을 완전히 용해하고, 수분 후 n-헵탄을 가하고, 이어서 n-옥탄을 첨가하고 나서 최소한 3시간 이상 경과후 정전기 방지제를 적량 혼합하여 조성된다.

본 발명의 세척제 조성물의 제조는 상온, 상압하에서 공기중 습도 70%이하에서 수행하며, 무수 에틸알콜을 사용하는 것이 보다 바람직하다.

또한, 본 발명의 세척제 조성물의 조성비율을 헥산 78∼79vol%, 에틸알콜 5∼5.5vol%로 함이 보다 바람직하다.

헥산이 80vol%이상이면 휘발성은 양호하나 오일에 의한 오염의 세척능이 떨어지고, 75%이하이면 휘발성이 불량할 뿐 아니라 접착성 물질에 의한 오염의 세척능이 떨어지는 단점이 있다. 또 에틸알콜이 6%이상이면 휘발성과 점착성 물질의 세척능이 저하되고 4%이하이면 오일의 세척능이 저하된다. 또한, n-펜탄과 n-헵탄은 휘발성과 점착성 물질의 세척능은 우수하지만 오일의 세척력이 약해 본원발명의 조성 범위외로 하면 세척력 및 휘발성에 문제가 있다.

본 발명의 세척제 조성물은 오일 분해능이 뛰어난 에틸알콜이 적량이상 함유되어 유성사인펜등에 의한 오염이나 기름때 등으로 인한 오염을 용이하게 제거할 수 있으며, 또한 검과 같은 접착성 물질의 분해능이 뛰어난 헥산, n-펜탄이 다량 함유되어 스티커나 검과 같은 점착성 물질에 의한 오염을 보다 용이하게 제거한다.

더욱이, 본 발명의 세척제 조성물은 정전기 방지제를 함유하여 드럼이나 슬라이드필름과 같이 정전기를 발생하는 물질을 세척시 정전기 발생을 방지하여 세척작업에 전혀 지장을 주지 않는다.

또한, 본 발명의 각 조성 성분은 휘발성이 뛰어나 세척후 피세척 부위가 손상될 우려가 극히 적으며 얼룩등의 흔적을 남기지 않는다.

이하 본 발명을 실시예 및 비교에로서 보다 자세히 설명하지만 본 발명이 이에 한정되는 것이 아님은 물론이다.

실시예 1

본원발명의 각 조성물은 상온, 상압하에서 공기중의 습도 70%이하의 조건이 되도록 하여 하기와 같이 하여 제조한다.

먼저, 헥산 12ℓ에 n-펜탄 2ℓ를 서서히 가한다. 이 혼합물에 무수 에틸알콜 800㎖를 교반하면서 서서히 가하여 지방족 화합물을 완전히 용해시킨다. 수분간 더 교반한 후 n-헵탄 400㎖를 상기 혼합물에 첨가 완료하고 나서 n-옥탄 50㎖를 첨가한다.

이와 같이 조성된 혼합물을 최소 3시간 방치후 정전기 방지제로 미국 ACL사 제품인 스텍사이드(STACIDE)를 소량 점적하여 세척제 조성물을 얻는다.

실시예 2

헥산을 12.1ℓ, 무수 에틸알콜을 700㎖사용하는 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세척제 조성물을 얻는다.

실시예 3

헥산을 12.2ℓ, 무수 에틸알콜을 600㎖사용하는 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 세척제 조성물을 얻는다.

비교예 1

본 발명의 실시예 1에 따른 세척제 조성물과 종래의 세척제(본 비교예에서는 우형산업제 세척제를 사용하였음)와의 세척시간, 세척력, 세척후의 얼룩흔적(또는 잔여물), 휘발성, 세척후의 변형여부에 대하여 시험하고 그 결과를 표 1에 나타냈다.

표 1

	실시예 1의 세척제 조성물	종래의 세척제
세척시간	액체가 뿌옇게 변화되는 시간	3분	9분
	균열시작	15분	변화 없음
	완전분해	21분	27분
세척력	오일에 의한 오염
	검에 의한 오염		△
얼룩흔적		△
휘발성		X
변형여부

* 세척시간은 콩알크기의 검을 약 15㎖의 세척제에 침지하여 자연분해 되기까지 걸리는 시간으로 나타냈음.

* 세척력은 각 오염원에 의해 오염된 동일크기의 오염부위를 일정량의 세척제로 세척시 그 세척정도를 나타냈음.

* 휘발성과 변형여부는 각 세척제로 오염된 필름(film)을 동일량으로 세척했을 때 휘발정도와 변형정도를 나타냈으며,

: 양호, △ : 보통, X : 불량

을 나타낸다.

비교예 2

본 발명의 각 실시예에 따라 제조된 세척제 조성물로 오일에 의한 오염, 스티커에 의한 오염 및 검에 의한 오염을 세척했을 때 그 세척력을 비교하여 표 2에 나타냈다.

표 2

	실시예 1	실시예 2	실시예 3
C-10 오일오염			△
스티커 오염
검 오염	△

* C-10오일(Tellus Oil)오염의 세척력은 오일 1㎖를 세척제 조성물 3㎖로 분해에 따른 세척력을 나타내며,

스티커오염은 스티커로 오염된 부위에 세척제 조성물 3㎖를 같은 크기의 약솜에 묻혀 세척시의 세척정도를 나타내며,

검 오염은 녹두알크기의 검을 세척제 조성물 5㎖로 용해시 그 분해력을 세척정도로 측정하였고, 공히

: 양호, △ : 보통

을 나타냄.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 세척제 조성물은 종래의 세척제보다 월등한 세척력을 나타낼 뿐 아니라 세척후 피세척부위에 전혀 흔적을 남기지 않는다.

본 발명의 세척제 조성물은 오일이나 점착성물질인 검 등에 의한 오염을 보다 깨끗하게 세척할 수 있을 뿐 아니라, 특히 스캐너드럼, 슬라이드, 필름, 모니터등의 오일이나 점착성 물질에 의한 오염을 신속하고 완벽하게 세척할 수 있으며, 세척후 피세척 부위에 전혀 흔적을 남기지 않는 유용한 조성물이다.

Claims (2)

1. 헥산 75∼80vol%, n-펜탄 11∼15vol%, 에틸알콜 4∼6vol%, n-헵탄 2∼3vol% 및 n-옥탄 0.2∼0.4vol%를 함유하고 여기에 통상의 정전기 방지제(antistatic)를 소량 부가하여 이루어짐을 특징으로 하는 세척제 조성물.
2. 제 1항에 있어서, 헥산의 조성 vol%가 78∼79이고, 에틸알콜의 조성 vol%가 5∼5.5임을 특징으로 하는 세척제 조성물.