KR20000021257A - Semiconductor apparatus for purifying noxious gas and method for sensing purifying quality of apparatus - Google Patents

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KR20000021257A KR1019980040273A KR19980040273A KR20000021257A KR 20000021257 A KR20000021257 A KR 20000021257A KR 1019980040273 A KR1019980040273 A KR 1019980040273A KR 19980040273 A KR19980040273 A KR 19980040273A KR 20000021257 A KR20000021257 A KR 20000021257A
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Abstract

PURPOSE: A method is provided to accurately measure and sense purifying quality of a semiconductor apparatus. CONSTITUTION: Noxious gas used in a semiconductor process is inlet in a gas purifier through a sucking line(10). The inlet harmful gas inlets to a canister(16) containing a resin bed(18) and is purified by a chemical reaction with the resin bed in the canister. Then, the purified gas by an outlet(24) discharges outside through an exhaust line(28). When passing the purifying gas through the exhaust line, the gas passes through a sensor(30) installed in the upper part of the exhaust line. The sensor changes color according to the sort of harmful gas and an engineer evaluates purifying quality of the canister according to the color.

Description

가스를 정화하기 위한 반도체 장치 및 이 장치의 정화능력을 감지하는 방법Semiconductor devices for purifying gases and methods of detecting their purifying capacity

본 발명은 반도체 장치 및 이를 이용한 방법에 관한 것으로, 특히 반도체 공정 중 사용된 가스를정화시키기 위한 반도체의 정화 장치 및 이 장치의 정화능력을 감지하는 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a method using the same, and more particularly, to a device for purifying a semiconductor for purifying a gas used in a semiconductor process and a method for sensing the purifying capacity of the device.

반도체 제조공정 특성상 자연발화성, 반응성, 부식성, 맹독성인 가스가 다량으로 사용되고 있으며, 그 중 60% ∼ 80%의 가스가 반도체 공정을 진행하는 장치에서 소모되지 않아 대기 중으로 방출시켜야 하나, 당사에서는 이를 개선하고 대기오염을 막기위해 독립적으로 가스를 정화시키기 위한 장치를 사용하고 있다.Due to the characteristics of the semiconductor manufacturing process, large amounts of spontaneously flammable, reactive, corrosive, and highly toxic gases are used. Among them, 60% to 80% of the gas must be released into the atmosphere because it is not consumed in the device that conducts the semiconductor process. In order to prevent air pollution, the system is used to purify gas independently.

그러나, 정화장치의 내부 여과통(canister)의 수명을 정확히 검지하는 방법이 정화장치를 공급하는 각 메이커(maker)마다 상당한 차이를 보일뿐아니라 검지방법에 있어서 배기부의 가스 누출을 감지하는 케미카셋트(chemicassette)의 변색으로 검지능력이 저하되고 센서 위치의 틀어짐으로 인한 검지능력 저하되는 문제점 이 자주 발생되며, 정확한 배기부의 누출가스를 검지못할 경우 상당한 대기오염을 초래할 수 있다.However, the method of accurately detecting the life of the internal canister of the purifier does not only make a significant difference for each maker supplying the purifier, but also the method of detecting the gas leak of the exhaust gas in the detection method. The discoloration of) decreases the detection capability and the detection capability decreases due to the dislocation of the sensor. Often, failure to detect the leaked gas in the exhaust can cause significant air pollution.

본 발명의 목적은 정화장치의 정화능력을 정확하게 측정할 수 있는 가스 정화 장치를 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a gas purifying apparatus capable of accurately measuring the purifying capacity of a purifying apparatus.

본 발명의 다른 목적은 정화장치의 정화능력을 정확하게 감지할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a method capable of accurately detecting the purification ability of the purification device.

도 1은 정화능력을 감지하는 감지기가 장착된 본 발명의 일 실시예에 의한 반도체 정화 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor purification apparatus according to an embodiment of the present invention equipped with a detector for detecting a purification capability.

도 2는 정화능력을 감지하는 본 발명에 의한 감지기를 장착한 정화 장치를 보여주는 사진이다.Figure 2 is a photograph showing a purification device equipped with a detector according to the present invention for detecting the purification ability.

상기 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 의한 반도체 정화장치는, 가스 정화장치의 배기 라인에 특정 가스 원액이 접촉할 경우 색깔이 변하는 감지 약품을 함유하는 감지기를 장착한 것을 특징으로 한다. 감지기는 색깔 변화를 눈으로 확인할 수 있도록 뷰 포트(view port)를 구비하며, 배기 라인 상단에 장착된다.In order to achieve the above object, the semiconductor purifier according to the present invention is equipped with a detector containing a sensing chemical that changes color when a specific gas stock is in contact with the exhaust line of the gas purifier. The detector has a view port to visually see the color change and is mounted on top of the exhaust line.

상기 다른 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 의한 반도체 정화장치의 정화능력을 감지하는 방법은, 정화장치의 여과통에서 배출되는 가스를 특정 가스 원액이 접촉할 경우 색깔이 변하는 감지 약품을 함유하는 감지기를 통과시키는 단계와, 감지기의 색깔 변화를 확인한 후 정화장치의 정화능력을 평가하는 단계를 구비한다. 감지기의 색깔 변화를 눈으로 확인한 후 정화장치의 정화능력을 평가한다.In order to achieve the above object, a method for detecting the purification ability of a semiconductor purifier according to the present invention includes a detector containing a sensing chemical that changes color when a specific gas stock is contacted with a gas discharged from a filter barrel of the purifier. Passing through, and checking the color change of the detector and evaluating the purification ability of the purifier. Visually check the color change of the sensor and evaluate the purifying capacity of the purifier.

따라서, 본 발명에 의하면, 정화장치의 정화능력을 정확하게 감지할 수 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to accurately detect the purification ability of the purification device.

이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 의한 정화 장치 및 이 장치의 정화능력을 감지하는 방법에 대해 더욱 자세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in more detail with respect to the purifying apparatus according to an embodiment of the present invention and a method for detecting the purifying capacity of the apparatus.

도 1은 정화능력을 감지하는 감지기가 장착된 본 발명의 일 실시예에 의한 반도체 정화 장치를 개략적으로 도시한 단면도로서, 도면부호 "10"은 흡기 라인을, "12"는 변환기를, "14"는 봉입물(enclosure)을, "16"은 여과통(canister)을, "18"은 레진 베드(resin bed)를, "20"은 센서 튜브를, "22"는 유독 가스 모니터 셀을, "24"는 배출기(eductor)를, "26"은 시스템 바이패스(system bypass)를, "28"은 배기 라인을, 그리고 "30"은 감지기(detector)를 나타낸다.1 is a cross-sectional view schematically showing a semiconductor purification apparatus according to an embodiment of the present invention equipped with a detector for detecting a purification capability, wherein “10” denotes an intake line, “12” denotes a transducer, and “14” "16" for enclosure, "18" for resin bed, "20" for sensor tube, "22" for toxic gas monitor cell, " 24 denotes an eductor, 26 denotes a system bypass, 28 denotes an exhaust line, and 30 denotes a detector.

반도체 공정 중에 사용되었던 유독 가스는 흡기 라인(10)을 통해 가스 정화장치에 유입된다. 이때, 변환기(12)는 유입되는 유독 가스의 압력을 조절한다. 가스 정화장치로 유입된 유독 가스는 레진 베드(18)를 담고 있는 여과통(16)으로 다시 유입된 후 이곳에서 레진 베드(18)와 화학반응을 일으켜 정화된다. 이후, 배출기(24)의 작용에 의해 정화된 가스는 배기 라인(28)을 통해 외부로 배출된다. 이때, 여과통(16)에서 정화된 가스가 배기 라인(28)을 통과할 때, 배기 라인(28)의 상단에 장착되어 있는 감지기(30)을 통과한다.Toxic gas that was used during the semiconductor process is introduced into the gas purifier through the intake line 10. At this time, the converter 12 adjusts the pressure of the toxic gas introduced. Toxic gas introduced into the gas purifier is introduced back into the filter barrel (16) containing the resin bed (18), where it is chemically reacted with the resin bed (18) to be purified. Thereafter, the gas purified by the action of the ejector 24 is discharged to the outside through the exhaust line 28. At this time, when the gas purified by the filter barrel 16 passes through the exhaust line 28, it passes through the detector 30 mounted on the upper end of the exhaust line 28.

상기 감지기(30)는 배기 라인(28)에 특정 가스 원액이 접촉할 경우 색깔이 변하는 감지 약품을 함유하고 있다. 따라서, 여과통(16)의 정화능력이 저하되어 상기 여과통(16)을 통과한 가스가 완전히 정화되지 않은 어느 정도 유독 가스를 함유하고 있을 경우, 감지기는 유독 가스의 종류에 따라 색깔이 변하게 되고, 엔지니어는 감지기의 색깔 변화를 보고 여과통(16)의 정화능력을 평가한다.The detector 30 contains a sensing chemical that changes color when a particular gaseous liquid comes into contact with the exhaust line 28. Therefore, if the purification capacity of the filter barrel 16 is lowered and the gas passing through the filter barrel 16 contains some toxic gas that is not completely purified, the detector changes color depending on the type of the toxic gas, and the engineer Evaluates the purifying capacity of the filter barrel 16 by looking at the color change of the sensor.

상기 감지기(30)에 함유되어 있는 감지 약품은 정화되지 않은 가스가 배기 라인으로 배출될 때 이 가스의 순도 및 양에 의해 색깔이 변하는 약품으로, 반도체 공정 중 사용되는 가스의 종류(표 1의 좌측에 표시)에 따라 표 1의 우측에 표시된 약품의 색깔이 변하게 된다. 예컨대, 공정 중에 오존(O3)을 사용할 경우, 감지기에 DZ 약재를 함유하도록 해놓으면, 여과통에서 오존이 완벽하게 정화된 경우 상기 감지기의 색깔이 청색으로 유지되나, 여과통에서 오존이 불완전하게 정화될 경우 상기 감지기의 색깔은 백색으로 변하게 된다. 엔지니어는 공정 중 사용되는 가스의 종류를 파악한 후, 감지기에 사용되는 약품를 정한 후, 정화된 가스가 배기 라인을 통과할 때 이 감지기의 색깔 변화를 눈으로 확인함으로써 여과통(16)의 감지능력을 평가한다.Sensing chemicals contained in the detector 30 are chemicals whose color is changed by the purity and quantity of the unpurified gas when it is discharged to the exhaust line. The color of the drugs shown on the right side of Table 1 will change. For example, if ozone (O 3 ) is used during the process, the detector may contain DZ medicinal substances. If the ozone is completely purified in the filter, the color of the detector remains blue, but the ozone is incompletely purified in the filter. In this case, the color of the sensor turns white. The engineer determines the type of gas used during the process, determines the chemicals used in the detector, and then evaluates the detectability of the filter barrel 16 by visually identifying the color change of the detector as the purified gas passes through the exhaust line. do.

이때, 상기 감지기(30)는 엔지니어가 색깔변화를 확인할 수 있는 뷰 포트(view port)를 구비한다.In this case, the detector 30 includes a view port through which the engineer can check the color change.

표 1은 공정 중 사용되는 가스의 종류에 따라 감지기에 사용되는 약품과, 이 약품의 색깔 변화를 나타낸다.Table 1 shows the chemicals used in the detector and the color change of these chemicals depending on the type of gas used during the process.

공정 중 사용하는 가스Gas used during the process 감지 약품Detection chemicals AsH3, PH3, H2S, H2Se, B2H6, SiH4, MOAsH 3 , PH 3 , H 2 S, H 2 Se, B 2 H 6 , SiH 4 , MO DP (청색 → 검정색)DP (Blue → Black) HCl, AsH3, PH3, H2Se, B2H6, SiH4 HCl, AsH 3 , PH 3 , H 2 Se, B 2 H 6 , SiH 4 DC(청자색→적색),DP(청색→검정색)DC (Blue Purple → Red), DP (Blue → Black) SiH4, Si2H6, B2H6, DM Cd MOSiH 4 , Si 2 H 6 , B 2 H 6 , DM Cd MO DS (황색 → 군청색)DS (Yellow → Ultramarine Blue) NH3, N(CH3)3 NH 3 , N (CH 3 ) 3 DN (붉은색 → 흑록색)DN (Red → Black Green) HF, SiF4, BF3, WF6, F2, AsFS, PF3,HCl, SiH2Cl2, BCl3, SiCl4, Cl2, HBRHF, SiF 4 , BF 3 , WF 6 , F 2 , AsFS, PF 3, HCl, SiH 2 Cl 2 , BCl 3 , SiCl 4 , Cl 2 , HBR DC (청자색 → 적색)DC (Blue → Red) GeH4, TMAs, TMP, TMB, TBAs, TBPGeH 4 , TMAs, TMP, TMB, TBAs, TBP DG (연황색 → 흑자색)DG (Light Yellow → Black Purple) CO, Ni(Co)4, CO2(Co)8, W(Co)6 CO, Ni (Co) 4 , CO 2 (Co) 8 , W (Co) 6 DO (연녹색 → 짙은청색)DO (light green → dark blue) HgHg DH (연황색 → 자주색)DH (light yellow → purple) O3 O 3 DZ (청색 → 백색)DZ (Blue → White) TMSn, DETe, DMHg, DMSeTMSn, DETe, DMHg, DMSe DT (연황색 → 담자색)DT (Light Yellow → Purple) AsH3, PH3, H2S, H2Se, B2H6, SiH4 AsH 3 , PH 3 , H 2 S, H 2 Se, B 2 H 6 , SiH 4 DS (황색 → 군청색)DS (Yellow → Ultramarine Blue)

도 2는 정화능력을 감지하는 본 발명에 의한 감지기를 장착한 정화 장치를 보여주는 사진으로, 화살표로 표시된 곳이 그 내부를 눈으로 확인할 수 있도록 뷰 포트를 구비하는 감지기이다.Figure 2 is a photograph showing a purifying device equipped with a detector according to the present invention for detecting the purification ability, the location is indicated by the arrow is a detector having a view port so that the inside can be visually confirmed.

엔지니어는 매일 상기 감지기의 색깔을 눈으로 확인하여 여과통의 정화능력을 측정하고, 감지기의 색깔이 비정상적일 때 여과통을 교체하면 된다.Engineers can visually check the color of the sensor every day, measure the capacity of the filter, and replace the filter when the color of the sensor is abnormal.

본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 많은 변형이 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 가능함은 명백하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that many modifications are possible by one of ordinary skill in the art within the technical idea of the present invention.

본 발명에 의한 반도체 정화 장치 및 이 장치의 정화능력을 감지하는 방법에 의하면, 여과통에서 배출되는 가스를 특정 가스 원액이 접촉할 경우 색깔이 변하는 감지 약품을 함유하는 감지기를 통과시킨 후 이 감지기의 색깔 변화를 매일 눈으로 모니터링(monitoring)함으로써 정화장치의 정화능력을 정확하게 측정하여 그 라이프 타임(lift time)을 가장 근접하게 확인할 수 있다.According to the semiconductor purification apparatus and the method for detecting the purification capability of the apparatus according to the present invention, the color of the detector after passing through a detector containing a sensing chemical that changes color when a specific gas stock contacts the gas discharged from the filter barrel By visually monitoring changes every day, the purifier's purge capacity can be accurately measured to get the closest lift time.

Claims (4)

가스 정화장치의 배기 라인에 특정 가스 원액이 접촉할 경우 색깔이 변하는 감지 약품을 함유하는 감지기를 장착한 것을 특징으로 하는 가스를 정화하기 위한 반도체 장치.A semiconductor device for purifying a gas, comprising a detector containing a sensing chemical that changes color when a specific gaseous liquid comes into contact with an exhaust line of a gas purifier. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 감지기는 색깔 변화를 눈으로 확인할 수 있도록 뷰 포트(view port)를 구비하는 것을 특징으로 하는 가스를 정화하기 위한 반도체 장치.The detector is a semiconductor device for purifying the gas, characterized in that it comprises a view port (view port) to visually check the color change. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 감지기는 배기 라인 상단에 장착한 것을 특징으로 하는 가스를 정화하기 위한 반도체 장치.And the detector is mounted on an upper portion of the exhaust line. 정화장치의 여과통에서 배출되는 가스를 특정 가스 원액이 접촉할 경우 색깔이 변하는 감지 약품을 함유하는 감지기를 통과시키는 단계; 및Passing the gas discharged from the purifier of the purifier through a detector containing a sensing chemical that changes color when a specific gas stock is contacted; And 상기 감지기의 색깔 변화를 확인한 후 정화장치의 정화능력을 평가하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 정화장치의 정화능력을 감지하는 방법.And evaluating the purifying capacity of the purifier after checking the color change of the detector.
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KR100389067B1 (en) * 2000-02-24 2003-06-25 이후근 Acidic and alkalic gas detecting and operating method on outlet of off-gas treatment equipment

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