KR20000019179A - 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법 - Google Patents
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Abstract
로봇의 위치를 효과적으로 에러의 확률이 없이 확인할 수 있는 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은, 장비 고정부에 장착된 제1 극의 자석과, 장비 이동부에 장착된 제2 극의 자석과, 장비 이동부의 제2극의 이동에 의해 회전되는 회전자침과, 회전 자침의 회전에 의해 온/오프(ON/OFF)되는 포토센서를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법을 제공한다. 여기서 장비 이동부는 습식식각 장비의 웨이퍼들을 운반하는 로봇인 것이 적합하고, 장비 고정부는 습식식각 장비의 몸체인 것이 적합하고, 제1극 및 제2극은 자석의 서로 다른 극성이 것이 적합하다.
Description
본 발명은 반도체 제조공정에 사용되는 장비(equipment)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 습식식각장비(Wet Station)의 로봇 위치 확인방법에 관한 것이다.
습식세정(Wet station) 장비는 반도체 소자의 제조공정에서 고순도 및 고농도의 화공약품을 이용하여 반도체 소자를 세정(Cleaning) 또는 식각(Etch)하거나, 웨이퍼 상의 파티클(Particle) 및 각종 결함을 제거하는데 사용되는 장비이다. 반도체 소자의 가공을 위한 수많은 단위공정에서 세정공정은 개별 단위공정간을 이어주는 필수 공정이기 때문에 반도체 소자의 가공에 있어서 가장 기본적인 기술이라 할 수 있다.
도 1은 종래기술에 의한 습식식각 장치의 로봇 위치 확인방법을 설명하기 위해 도시한 개략도이다.
도 1을 참조하면, 습식식각 장비에서 웨이퍼(104)의 처리는, 로봇 척(robot chuck, 102)에 웨이퍼(104)를 잡아서 고정시키고, 다시 로봇 척(102)을 제어하는 로봇(100)에 의해 웨이퍼를 처리조(process bath, 106)에 담게(dip)된다. 이때, 로봇 척(102)에서 웨이퍼를 놓는 시점은, 로봇(100)에 부착된 센서판(110)에 포토센서(112)와 빛을 조사하여 온/오프 됨으로써 이루어졌다. 여기서 참조부호 114는 처리조(106) 내부에서 웨이퍼(104)가 적재되는 가이더(guider)를 가리키고, 108은 습식식각 장비의 본체를 각각 가리킨다.
그러나, 센서판(110)의 길이 및 너비에 따라 포토센서(112)의 감지범위에 대한 유동폭이 발생하고, 또한 로봇(100)이 기계적인 결함으로 미세한 유동이 발생할 경우, 포토센서(112)가 로봇 위치를 잘못 확인하게 되고, 이로 인해 로봇 척(102)이 웨이퍼(104)를 놓는 시점에 대한 작동에러를 유발시킨다. 이러한 작동에러는 웨이퍼(104)를 가이더(114)에 제대로 적재하지 못하게 하고, 웨이퍼 깨짐 및 처리조(106)에 웨이퍼(114)가 방치되는 문제와 같이 여러 가지 공정상의 문제를 야기할 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상술한 로봇에서 발생할 수 있는 로봇 위치 확인시의 에러를 억제할 수 있는 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법을 제공하는데 있다.
도 1은 종래기술에 의한 습식식각 장치의 로봇 위치 확인방법을 설명하기 위해 도시한 개략도이다.
도 2는 본 발명에 의한 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법을 설명하기 위해 도시한 개략도이다.
도 3은 상기 도 2의 A부분에 대한 상세도이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 장비 고정부에 장착된 제1 극의 자석과, 상기 장비 이동부에 장착된 제2 극의 자석과, 상기 장비 이동부의 제2극의 이동에 의해 회전되는 회전자침과, 상기 회전 자침의 회전에 의해 온/오프(ON/OFF)되는 포토센서를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법을 제공한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 장비 이동부는 습식식각 장비의 웨이퍼들을 운반하는 로봇인 것이 적합하고, 상기 장비 고정부는 습식식각 장비의 몸체인 것이 적합하고, 상기 제1극 및 제2극은 자석의 서로 다른 극성이 것이 적합하다.
본 발명에 따르면, 포토센서의 감지 유동폭을 최소화할 수 있는 회전자침을 설치하여, 로봇의 위치 확인시에 포토센서의 작동에러를 억제할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 의한 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법을 설명하기 위해 도시한 개략도이다.
도 2를 참조하면, 습식식각 장비에서 웨이퍼(204)의 처리는, 로봇 척(robot chuck, 202)이 웨이퍼(204)를 잡아서 1차로 고정시키고, 다시 로봇 척(202)을 제어하는 로봇(200)에 의해 웨이퍼(204)를 처리조(process bath, 206)에 담아(dip) 식각 및 세정을 실시하게 된다. 이때 로봇 척(202)에 고정된 웨이퍼(204)를 처리조(206)에 담기 위해 놓는 시점은 로봇(200)의 이동에 따라 함께 움직이는 장비 고정부에 부착된 제2극 자석(212)에 의해 움직이는 회전자침(214)에 의해 이루어진다. 즉, 회전자침(214)에 구성된 구멍으로 포토센서(216)가 빛을 조사하여 온/오프(ON/OFF) 됨으로써 이루어진다. 여기서 참조부호 208은 장비 고정부인 본체를 가리키고, 218은 처리조 내부에 구성된 가이더(guider)를 각각 가리킨다.
도 3은 상기 도 2의 A부분에 대한 상세도이다. 상세히 설명하면, 장비 고정부인 본체(208)에 부착된 제1극 자석(210)과 이동부인 로봇(200)에 부착된 제2극 자석이 일렬로 정렬되면 제1극 및 제2극이 한 개의 몸체에 구성된 회전자침(214)이 일렬로 정렬된다. 이때, 회전자침(214)에 구성된 구멍(220)을 통해 포토센서(216)가 빛을 조사하여 온/오프(ON/OFF)됨으로써 로봇(210)의 위치확인이 되는 것이다. 만약, 제1극 자석(210)과 제2극 자석(212)이 일렬로 정렬되지 않으면, 회전자침(214)을 일렬로 정렬되지 않아서 구멍(220)을 통해 포토센서(216)가 작동할 수 없게 된다.
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명이 속한 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함이 명백하다.
따라서, 상술한 본 발명에 따르면, 포토센서의 감지 유동폭을 최소화할 수 있는 회전자침을 설치하여, 로봇의 위치 확인시에 포토센서의 작동에러를 억제할 수 있다.
Claims (1)
- 장비 고정부에 장착된 제1 극의 자석;상기 장비 이동부에 장착된 제2 극의 자석;상기 장비 이동부의 제2극의 이동에 의해 회전되는 회전자침; 및상기 회전 자침의 회전에 의해 온/오프(ON/OFF)되는 포토센서를 구비하는 것을 특징으로 하는 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019980037153A KR20000019179A (ko) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법 |
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KR1019980037153A KR20000019179A (ko) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법 |
Publications (1)
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KR20000019179A true KR20000019179A (ko) | 2000-04-06 |
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KR1019980037153A KR20000019179A (ko) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 습식식각 장치의 회전자침을 이용한 로봇 위치 확인방법 |
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KR (1) | KR20000019179A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN116053173A (zh) * | 2023-03-31 | 2023-05-02 | 华迅信息技术研究(深圳)有限公司 | 一种半导体芯片生产用浸蚀设备 |
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1998
- 1998-09-09 KR KR1019980037153A patent/KR20000019179A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN116053173A (zh) * | 2023-03-31 | 2023-05-02 | 华迅信息技术研究(深圳)有限公司 | 一种半导体芯片生产用浸蚀设备 |
CN116053173B (zh) * | 2023-03-31 | 2023-05-26 | 华迅信息技术研究(深圳)有限公司 | 一种半导体芯片生产用浸蚀设备 |
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