KR20000014866A - Boat for chemical vapor deposition - Google Patents

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KR20000014866A KR1019980034483A KR19980034483A KR20000014866A KR 20000014866 A KR20000014866 A KR 20000014866A KR 1019980034483 A KR1019980034483 A KR 1019980034483A KR 19980034483 A KR19980034483 A KR 19980034483A KR 20000014866 A KR20000014866 A KR 20000014866A
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Abstract

PURPOSE: A boat for a chemical vapor deposition is provided to an inferiority which a wafer drops from a support or which a position of the wafer turns aside inside of the boat by an outside vibration or an impact. CONSTITUTION: A boat(10, 30) for a chemical vapor deposition able to deposit a plurality of wafers includes a lower tray(12, 32), a loading stick(16, 36), and a upper tray(14, 34). The lower tray is a form like a circle plate. A plurality of the loading stick are that the tip of one side thereof is connected according to the edge of the lower tray. The loading stick includes a plurality of protruded supports(18, 38). The plurality of protruded supports are separated from each other by a predetermined space. The plurality of protruded supports are located inside of the lower tray so as to load a plurality of wafer on the lower tray and protruded against the inside face of the loading stick. The upper tray is a form like a circle plate and connected to the tip of other side of the loading stick. The support includes a loading face on which the back side of the wafer is loaded, and a contact face with which the side of the wafer is contacted.

Description

화학적 기상 증착 장치용 보트(Boat of CVD apparatus)Boat of CVD apparatus

본 발명은 화학적 기상 증착 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화학적 기상 증착 공정을 진행할 복수개의 웨이퍼를 종형으로 적재할 수 있는 화학적 기상 증착 장치용 보트에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical vapor deposition apparatus, and more particularly, to a boat for a chemical vapor deposition apparatus capable of vertically loading a plurality of wafers to be subjected to a chemical vapor deposition process.

일반적으로, 반도체 제조공정에서 폴리실리콘, 질화막 등의 막을 웨이퍼상에 증착시키는데 있어, 화학적 기상 증착(Chemical Vapor Deposition; CVD) 공정을 이용한다. 화학적 기상 증착 공정을 진행할 수 있는 화학적 기상 증착 장치는 수평형과 종형이 있는데, 현재는 종형이 주류를 이루고 있다.In general, a chemical vapor deposition (CVD) process is used to deposit a film such as a polysilicon or nitride film on a wafer in a semiconductor manufacturing process. Chemical vapor deposition apparatuses capable of performing chemical vapor deposition processes include a horizontal type and a vertical type, but the vertical type is the mainstream.

종형의 화학적 기상 증착 장치는 복수개의 웨이퍼를 적재한 보트(boat)를 이중 반응관의 내관에 설치하고, 증착에 필요한 가스를 내관에 주입하여 화학적 기상 증착 공정을 진행한다. 통상적으로 보트 및 이중 반응관은 석영(quartz)으로 제조된다.In the vertical chemical vapor deposition apparatus, a boat in which a plurality of wafers are loaded is installed in an inner tube of a double reaction tube, and a gas required for deposition is injected into the inner tube to perform a chemical vapor deposition process. Typically boats and double reaction tubes are made of quartz.

도 1은 종래 기술에 따른 화학적 기상 증착 장치용 보트를 나타내는 사시도이다. 도 1을 참조하면, 보트(10)는 복수개의 적재봉(16; load rod)이 하반(12; 下盤)과 상반(14; 上盤)의 가장자리를 따라 체결된 구조를 갖는다. 복수개의 적재봉(16)은 복수개의 웨이퍼를 적재할 수 있도록 받침대(18; supporter)가 소정의 간격을 두고 형성되어 있다. 받침대(18)는 적재봉의 내측면(15)에 대하여 돌출되게 형성되며, 복수의 적재봉(16)에 형성된 받침대(18)는 웨이퍼를 꽂을 수 있는 슬롯(slot)을 형성한다.1 is a perspective view showing a boat for a chemical vapor deposition apparatus according to the prior art. Referring to FIG. 1, the boat 10 has a structure in which a plurality of load rods 16 are fastened along edges of the lower half 12 and the upper half 14. The plurality of mounting rods 16 are formed with supporters 18 at predetermined intervals so as to load a plurality of wafers. The pedestal 18 is formed to protrude with respect to the inner surface 15 of the loading rod, and the pedestal 18 formed on the plurality of loading rods 16 forms a slot into which the wafer can be inserted.

보트(10)에 웨이퍼(20)가 적재되는 상태를 도 2 및 도 3을 참조하여 설명하면, 화학적 기상 증착 공정을 진행할 복수의 웨이퍼(20)를 준비한 상태에서, 웨이퍼(20)를 차례로 보트의 적재봉의 받침대(18)에 꽂아서 차례로 적재한다. 이때, 웨이퍼(20)의 후면은 받침대(18) 상에 안착되고, 웨이퍼(20)의 측면은 적재봉의 내측면(15)에 대하여 소정의 간격으로 이격되어 있다.Referring to FIGS. 2 and 3, a state in which the wafers 20 are loaded on the boat 10 will be described. In the state where a plurality of wafers 20 to be subjected to a chemical vapor deposition process are prepared, the wafers 20 are sequentially arranged in the boat. Plug in the pedestal 18 of the loading rod and load them in order. In this case, the rear surface of the wafer 20 is seated on the pedestal 18, and the side surface of the wafer 20 is spaced apart from the inner surface 15 of the loading rod at predetermined intervals.

종래 기술에 따른 보트의 받침대(18)에 적재된 웨이퍼(20)는 웨이퍼(20)의 후면이 받침대(18)에 놓여져 지지되며, 웨이퍼(20)와 적재봉의 내측면(15) 사이의 여유마진이 존재하며, 웨이퍼(20)의 측면이 곡률을 갖는데 비하여 적재봉의 내측면(15)은 웨이퍼(20)의 측면의 곡률에 대응되는 곡률을 갖지 않기 때문에, 보트(10)에 진동이나 충격이 가해질 경우 받침대(18)에 놓여진 웨이퍼(20)가 여유마진의 범위 내에서 위치를 바꾸거나, 그 정도가 심할 경우 웨이퍼(20)가 받침대(18)에서 이탈하여 떨어지는 불량이 발생될 수 있다. 즉, 종래 기술에 따른 보트(10)는 적재된 웨이퍼(20)를 단지 평면적으로 지지하기 때문에, 전술된 바와 같은 불량이 발생될 수 있음을 알 수 있다.The wafer 20 loaded on the pedestal 18 of the boat according to the prior art is supported by the back of the wafer 20 being placed on the pedestal 18, and there is a clearance between the wafer 20 and the inner surface 15 of the loading rod. There is a margin and the side surface of the wafer 20 has a curvature, whereas the inner surface 15 of the loading rod does not have a curvature corresponding to the curvature of the side surface of the wafer 20, so that the boat 10 may be vibrated or impacted. If this is applied, the wafer 20 placed on the pedestal 18 may change position within the margin of margin, or if the degree is severe, the wafer 20 may fall off the pedestal 18 and fall. That is, since the boat 10 according to the prior art only supports the loaded wafer 20 in plan view, it can be seen that the defect as described above may occur.

따라서, 본 발명의 목적은 외부의 진동이나 충격으로 인해 보트 내에서의 웨이퍼의 위치가 틀어지거나 웨이퍼가 받침대에서 떨어지는 불량을 억제할 수 있는 화학적 기상 증착 장치용 보트를 제공하는 데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a boat for a chemical vapor deposition apparatus capable of suppressing a defect in the position of the wafer in the boat due to external vibrations or impacts or the fall of the wafer from the pedestal.

도 1은 종래 기술에 따른 화학적 기상 증착 장치용 보트를 나타내는 사시도,1 is a perspective view showing a boat for a chemical vapor deposition apparatus according to the prior art,

도 2는 보트에 웨이퍼가 적재된 상태를 나타내는 평면도,2 is a plan view showing a state in which a wafer is loaded into a boat;

도 3은 도 2의 3-3선 단면도,3 is a cross-sectional view taken along line 3-3 of FIG. 2;

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 화학적 기상 증착 장치용 보트를 나타내는 사시도,4 is a perspective view showing a boat for a chemical vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention,

도 5는 도 4의 보트에 웨이퍼가 적재된 상태를 나타내는 평면도,5 is a plan view showing a state in which a wafer is loaded in the boat of FIG.

도 6은 도 5의 6-6선 단면도이다.6 is a cross-sectional view taken along line 6-6 of FIG.

* 도면의 주요 부분에 대한 설명 *Description of the main parts of the drawing

10, 30 : 보트 12, 32 : 하반(下盤)10, 30: boat 12, 32: lower half

14, 34 : 상반(上盤) 16, 36 : 적재봉14, 34: upper half 16, 36: loading rod

18, 38 : 받침대 20, 40 : 웨이퍼18, 38: pedestal 20, 40: wafer

37 : 안착면 39 : 접촉면37: seating surface 39: contact surface

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 복수의 웨이퍼를 적재할 수 있는 화학적 기상 증착 장치용 보트로서, 원판 형태의 하반과; 일측의 말단이 하반의 가장자리를 따라서 체결된 복수의 적재봉으로, 적재봉은 하반 상에 복수의 웨이퍼를 적재할 수 있도록 하반의 내측에 위치한 적재봉의 내측면에 대하여 돌출된 복수개의 받침대가 소정의 간격을 두고 형성된 적재봉; 및 적재봉의 타측의 말단에 체결된 원판 형태의 상반;을 포함하며, 받침대는 웨이퍼의 후면이 안착되는 안착면을 가지며, 안착면에 대하여 상향 단차지게 형성되며, 웨이퍼의 측면과 접촉되는 접촉면을 갖는 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장치용 보트를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a boat for a chemical vapor deposition apparatus capable of loading a plurality of wafers, the lower half in the form of a disc; The end of one side is a plurality of rods fastened along the edge of the lower half, the rod is a plurality of pedestals protruding against the inner surface of the loading rod located on the inner side of the lower half so that a plurality of wafers can be loaded on the lower half Stacked rods formed at intervals; And an upper plate-shaped upper half fastened to the other end of the loading rod, wherein the pedestal has a seating surface on which the rear surface of the wafer is seated, and is formed to be stepped upward with respect to the seating surface, and is in contact with the side surface of the wafer. It provides a boat for a chemical vapor deposition apparatus characterized in that it has.

본 발명에 따른 받침대의 접촉면은 웨이퍼의 측면에 대응되는 곡률을 갖도록 형성하는 것이 바람직하다.The contact surface of the pedestal according to the present invention is preferably formed to have a curvature corresponding to the side surface of the wafer.

본 발명은 또한 복수의 웨이퍼를 적재할 수 있는 화학적 기상 증착 장치용 보트로서, 원판 형태의 하반과; 일측의 말단이 하반의 가장자리를 따라서 체결된 복수의 적재봉으로, 적재봉은 하반 상에 복수의 웨이퍼를 적재할 수 있도록 하반의 내측에 위치한 적재봉의 내측면에 대하여 돌출된 복수개의 받침대가 소정의 간격을 두고 형성된 적재봉; 및 적재봉의 타측의 말단에 체결된 원판 형태의 상반;을 포함하며, 적재봉의 받침대에 웨이퍼의 후면이 안착되고, 적재봉의 내측면에 웨이퍼의 측면이 접촉되어 적재될 수 있도록 웨이퍼의 측면에 대응되는 곡률을 갖도록 적재봉의 내측면을 형성한 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장치용 보트를 제공한다.The present invention also provides a boat for a chemical vapor deposition apparatus capable of loading a plurality of wafers, comprising: a lower half in the form of a disc; The end of one side is a plurality of rods fastened along the edge of the lower half, the rod is a plurality of pedestals protruding against the inner surface of the loading rod located on the inner side of the lower half so that a plurality of wafers can be loaded on the lower half Stacked rods formed at intervals; And an upper half of a disk form fastened to the other end of the loading rod, wherein the rear surface of the wafer is seated on a pedestal of the loading rod, and the side surface of the wafer is brought into contact with the inner surface of the loading rod to be loaded. Provided is a boat for a chemical vapor deposition apparatus, characterized in that the inner surface of the loading rod is formed to have a curvature corresponding to the.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 화학적 기상 증착 장치용 보트를 나타내는 사시도이다. 도 4를 참조하면, 보트(30)는 복수개의 적재봉(36)이 하반(32)과 상반(34)의 가장자리를 따라 체결된 구조를 갖는다.4 is a perspective view showing a boat for a chemical vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the boat 30 has a structure in which a plurality of loading rods 36 are fastened along edges of the lower half 32 and the upper half 34.

하반(32)과 상반(34)은 원판 형태를 가지며, 복수의 적재봉(36)을 지지하며, 보트(30)의 외형을 형성한다.The lower half 32 and the upper half 34 have a disc shape, support a plurality of loading rods 36, and form an outer shape of the boat 30.

적재봉(36)은 복수의 웨이퍼가 꽂혀 적재되는 곳으로, 양측의 말단이 하반(32)과 하반(34)의 가장자리에 체결되며, 복수의 웨이퍼를 하반(32)과 상반(34) 사이의 공간에 적재할 수 있도록 받침대(38)가 적재봉(36)에 소정의 간격을 두고 형성된다. 받침대(38)는 하반(32)과 상반(34)의 안쪽을 바라보고 있는 내측면(35)에 대하여 돌출되게 형성되며, 복수의 적재봉(36)에 형성된 받침대(38)는 웨이퍼를 꽂을 수 있는 슬롯을 형성한다.Loading rod 36 is a place where a plurality of wafers are inserted and loaded, the ends of both sides are fastened to the edge of the lower half 32 and the lower half 34, the plurality of wafers between the lower half 32 and the upper half 34 A pedestal 38 is formed on the loading rod 36 at predetermined intervals so as to be loaded in the space. The pedestal 38 is formed to protrude with respect to the inner surface 35 facing the inside of the lower half 32 and the upper half 34, and the pedestal 38 formed on the plurality of loading rods 36 can insert a wafer. Form a slot.

본 발명의 실시예에 따른 보트(30)는 네 개의 적재봉(36)이 하반(32)과 상반(34) 사이에 설치되는데, 웨이퍼를 하반(32)과 상반(34) 사이의 공간에 적재시킬 수 있도록 두 개의 적재봉은 하반(32)의 임의의 지름에 대하여 안쪽에 배치되며, 또 다른 두 개의 적재봉은 두 개의 적재봉과 하반의 중심이 이루는 영역 중에서 작은 영역의 하반(32)의 가장자리에 소정의 간격을 두고 배치된다. 그리고, 네 개의 적재봉의 임의의 지름에 대하여 안쪽에 배치한 이유는, 웨이퍼를 적재봉(36)에 안정적으로 꽂기 위해서이다.In the boat 30 according to the embodiment of the present invention, four loading rods 36 are installed between the lower half 32 and the upper half 34, and the wafer is loaded in the space between the lower half 32 and the upper half 34. Two loading rods are disposed inward with respect to an arbitrary diameter of the lower half 32 so that the other loading rods may be positioned at the edges of the lower half 32 of the small area among the two loading rods and the center of the lower half. Are spaced apart. The reason why the four stacking rods are arranged inward with respect to an arbitrary diameter is to stably insert the wafer into the stacking rod 36.

받침대(38)는 웨이퍼의 후면이 안착되는 안착면(37)과, 안착면(37)에 대하여 적재봉의 내측면(35)으로 상향 단차지게 형성되며, 웨이퍼의 측면과 접촉되는 접촉면(39)을 갖는다. 즉, 받침대(38)는 웨이퍼의 후면 뿐만 아니라 측면과도 접촉되어 웨이퍼를 입체적으로 지지하게 된다. 웨이퍼의 측면이 곡률을 갖기 때문에, 웨이퍼의 측면과 접촉되는 받침대의 접촉면(39)은 웨이퍼의 측면에 대응되는 곡률을 갖도록 형성하는 것이 바람직하다.The pedestal 38 is formed to be stepped upward to the seating surface 37 on which the rear surface of the wafer is seated, and to the inner surface 35 of the loading rod with respect to the seating surface 37, and the contact surface 39 which contacts the side surface of the wafer. Has That is, the pedestal 38 contacts the side surface as well as the back side of the wafer to support the wafer in three dimensions. Since the side surface of the wafer has a curvature, the contact surface 39 of the pedestal in contact with the side surface of the wafer is preferably formed to have a curvature corresponding to the side surface of the wafer.

본 발명의 실시예에 따른 받침대의 접촉면(39)은 받침대의 안착면(37)에 대하여 약 1mm 정도 상향 단차지게 형성하였으며, 적재봉의 내측면(35)에 대하여 약 3mm 정도 안착면(37) 상으로 돌출되게 형성하였다.The contact surface 39 of the pedestal according to the embodiment of the present invention was formed to be stepped upward about 1 mm with respect to the seating surface 37 of the pedestal, and about 3 mm with respect to the inner surface 35 of the loading rod. It was formed to protrude into the phase.

웨이퍼(40)가 보트(30)에 적재되는 상태를 도 5 및 도 6을 참조하여 설명하면, 먼저 화학적 기상 증착 공정을 진행할 복수의 웨이퍼(40)를 준비한 상태에서, 웨이퍼(40)를 차례로 보트의 적재봉의 받침대(38)에 꽂아서 차례로 적재한다. 이때, 웨이퍼(40)의 후면은 받침대의 안착면(37)에 안착되어 지지되고, 웨이퍼의 측면은 받침대의 접촉면(39)에 접촉되어 지지된다.Referring to FIGS. 5 and 6, a state in which the wafer 40 is loaded on the boat 30 is described. First, in a state in which a plurality of wafers 40 to be subjected to a chemical vapor deposition process are prepared, the wafers 40 are sequentially boated. Plug in the pedestal (38) of the loading rod and load them in sequence. At this time, the rear surface of the wafer 40 is seated and supported by the seating surface 37 of the pedestal, and the side surface of the wafer is supported by being in contact with the contact surface 39 of the pedestal.

한편, 본 발명의 실시예에서는 적재봉의 내측면(35)에 돌출되게 형성된 받침대(38) 상에 웨이퍼(40)의 측면과 접촉되는 접촉면(39)을 형성하였지만, 적재봉의 받침대의 안착면에 웨이퍼의 후면이 안착되고, 웨이퍼의 측면이 적재봉의 내측면에 접촉되도록 적재봉을 형성할 수도 있다. 물론, 적재봉의 내측면 또한 웨이퍼의 측면의 곡률에 대응되는 곡률을 갖도록 형성하는 바람직하다. 즉, 웨이퍼의 후면을 지지하고 웨이퍼의 측면에 접촉되도록 적재봉을 형성하는 구성은 본 발명의 기술적 사상의 범위를 벗어나는 것은 아니다.Meanwhile, in the embodiment of the present invention, the contact surface 39 is formed on the pedestal 38 protruding from the inner surface 35 of the rod, but the contact surface 39 is in contact with the side surface of the wafer 40. The loading rod may be formed such that the rear surface of the wafer is seated on the back surface, and the side surface of the wafer contacts the inner surface of the loading rod. Of course, the inner surface of the mounting rod is also preferably formed to have a curvature corresponding to the curvature of the side surface of the wafer. In other words, the configuration for supporting the rear surface of the wafer and forming a loading rod to be in contact with the side surface of the wafer does not depart from the scope of the inventive concept.

따라서, 본 발명의 구조를 따르면 받침대의 안착면에 웨이퍼의 후면이 안착되고, 받침대의 접촉면에 웨이퍼의 측면이 접촉되어 입체적으로 적재되기 때문에, 외부에서 보트에 가해지는 진동이나 충격에 의해 웨이퍼의 위치가 틀어지거나 웨이퍼가 떨어지는 불량을 억제할 수 있다.Therefore, according to the structure of the present invention, since the rear surface of the wafer is seated on the seating surface of the pedestal, and the side surface of the wafer is in contact with the pedestal contact surface of the wafer, the wafer is placed in three dimensions. It is possible to suppress defects such as distortion or falling wafers.

Claims (3)

복수의 웨이퍼를 적재할 수 있는 화학적 기상 증착 장치용 보트로서,A boat for a chemical vapor deposition apparatus capable of loading a plurality of wafers, 원판 형태의 하반과;Lower half in disc form; 일측의 말단이 상기 하반의 가장자리를 따라서 체결된 복수의 적재봉으로, 상기 적재봉은 상기 하반 상에 복수의 웨이퍼를 적재할 수 있도록 상기 하반의 내측에 위치한 상기 적재봉의 내측면에 대하여 돌출된 복수개의 받침대가 소정의 간격을 두고 형성된 적재봉; 및A plurality of rods, one end of which is fastened along the edge of the lower half, wherein the loading rods protrude with respect to an inner surface of the loading rod positioned inside the lower half so as to load a plurality of wafers on the lower half. Stacking rods formed at predetermined intervals; And 상기 적재봉의 타측의 말단에 체결된 원판 형태의 상반;을 포함하며,It includes; the upper half of the disk form fastened to the other end of the loading rod; 상기 받침대는 상기 웨이퍼의 후면이 안착되는 안착면을 가지며, 상기 안착면에 대하여 상향 단차지게 형성되며, 상기 웨이퍼의 측면과 접촉되는 접촉면을 갖는 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장치용 보트.The pedestal has a seating surface on which the rear surface of the wafer is seated, and is formed to be stepped upward with respect to the seating surface, and has a contact surface in contact with the side surface of the wafer. 제 1항에 있어서, 상기 받침대의 접촉면은 상기 웨이퍼의 측면에 대응되는 곡률을 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장치용 보트.The boat according to claim 1, wherein the contact surface of the pedestal is formed to have a curvature corresponding to the side surface of the wafer. 화학적 기상 증착 장치용 보트로서,A boat for chemical vapor deposition apparatus, 원판 형태의 하반과;Lower half in disc form; 일측의 말단이 상기 하반의 가장자리를 따라서 체결된 복수의 적재봉으로, 상기 적재봉은 상기 하반 상에 복수의 웨이퍼를 적재할 수 있도록 상기 하반의 내측에 위치한 상기 적재봉의 내측면에 대하여 돌출된 복수개의 받침대가 소정의 간격을 두고 형성된 적재봉; 및A plurality of rods, one end of which is fastened along the edge of the lower half, wherein the loading rods protrude with respect to an inner surface of the loading rod positioned inside the lower half so as to load a plurality of wafers on the lower half. Stacking rods formed at predetermined intervals; And 상기 적재봉의 타측의 말단에 체결된 원판 형태의 상반;을 포함하며,It includes; the upper half of the disk form fastened to the other end of the loading rod; 상기 적재봉의 받침대에 상기 웨이퍼의 후면이 안착되고, 상기 적재봉의 내측면에 상기 웨이퍼의 측면이 접촉되어 적재될 수 있도록 상기 웨이퍼의 측면에 대응되는 곡률을 갖도록 상기 적재봉의 내측면을 형성한 것을 특징으로 하는 화학적 기상 증착 장치용 보트.The inner surface of the loading rod is formed to have a curvature corresponding to the side surface of the wafer so that the rear surface of the wafer is seated on the pedestal of the loading rod, and the side surface of the wafer is in contact with the inner surface of the loading rod. A boat for a chemical vapor deposition apparatus, characterized in that one.
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KR1019980034483A KR20000014866A (en) 1998-08-25 1998-08-25 Boat for chemical vapor deposition

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