KR20000006930A - Aqueous negative stripper composition and regeneration of negative PS plate - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A negative stripper is provided whose function is extended into the field of reuse of PS plate for print use. CONSTITUTION: The negative stripper which eliminates materials attached to the substrate whose component is negative photosensitive material or negative material including printing ink compromises; (A) 5-30 wt% of aromatic or heterocyclic compounds, (B) 0-10wt% of organic solvents, alkyl amines or alcohol amines, (C) 0-5wt% of inorganic salts or organic salts, (D) 0-10wt% of organic polar materials or nonpolar materials, surfactants and anti-foam agent.

Description

수용성 네가티브 스트리퍼의 조성 및 네가티브 피에스판의 재가공{Aqueous negative stripper composition and regeneration of negative PS plate}Aqueous negative stripper composition and regeneration of negative PS plate

본 발명은 알루미늄·스텐레스 스틸·철·구리·아연 등의 금속 표면, 또는 플라스틱과 같은 고분자 필름의 표면이나 유리 면의 식각, 그밖에 인쇄기능을 형성시키는 목적에 사용되는 네가티브 감광제를 제거하여, 감광제로 덮힌 부위로부터 기재(substrate)의 표면을 다시 노출시키기 위한 네가티브 스트리퍼(negative stripper)에 관한 것이다.The present invention removes negative photoresists used for etching metal surfaces such as aluminum, stainless steel, iron, copper, zinc, or the surface of polymer films such as plastics, glass surfaces, and other forms of printing. A negative stripper for reexposing the surface of the substrate from the covered area.

네가티브 감광제는 미세 패턴 형성 목적으로, 유리의 식각을 비롯하여 구리, 스텐레스 스틸(SUS) 등 각종 재료의 표면을 식각시키는데 사용된다. 예를 들어, 인쇄회로기판의 구성, 브라운관의 유리면 식각과 새도우 마스크 형성, 스텐실의 제작, 그라비아 인쇄면의 식각 등, 여러 공업 분야에 다양하게 사용되고 있다. 감광제는 감광제가 기재의 표면에 부착되어 있는 곳(image area)과 기재의 표면이 노출된 곳(non-image area)의 구별을 통한 화상 구성(image making)에 적용된다. 화상은 그 사용 목적에 따라, 기재의 식각에 이용될 때에는 레지스트의 역할을 하고, 화상 자체로 이용될 때에는 인쇄도구로 또는 디자인의 바탕으로 이용된다. 레지스트로서의 역할은 감광제가 없는, 기재의 표면이 노출된 곳을 부식액으로 부식시키는 과정을 통해 미세 회로를 형성시키는 것이며, 부식 과정이 끝나고 나면 감광제로 보호되는 표면에서 감광제를 제거시키는 단계에 스트리퍼가 사용된다. 인쇄도구로서의 역할은 네가티브 피에스판과 같이 옵셋(off-set)으로 사용되는 것을 예로 들 수 있는데, 바탕 재질인 알루미늄판을 재가공(regeneration)하기 위해서는 표면에 고착되어 있는 인쇄잉크와 감광제를 제거시키는 일에 스트리퍼가 필요하게 된다. 스트리퍼는 감광제와 같이 두 가지 유형이 존재하며, 포지티브형 감광제의 제거는 포지티브 스트리퍼가, 네가티브형 스트리퍼의 제거는 네가티브 스트리퍼가 사용된다.Negative photosensitizers are used to etch the surface of various materials such as copper, stainless steel (SUS) as well as etching of glass for the purpose of forming fine patterns. For example, it is widely used in various industrial fields, such as the construction of a printed circuit board, glass surface etching of a CRT and shadow mask formation, fabrication of a stencil, and etching of a gravure printing surface. Photosensitizers are applied to image making through the distinction between where the photoresist is attached to the surface of the substrate and the non-image area where the surface of the substrate is exposed. The image serves as a resist when used for etching the substrate, depending on the purpose of use, and when used as the image itself, is used as a printing tool or as a basis for a design. The role of the resist is to form a microcircuit by eroding the exposed surface of the substrate, with no photosensitizer, to the surface of the substrate, which is then used by strippers to remove the photosensitizer from the photoresist-protected surface once the corrosion process is over. do. For example, the role of the printing tool is to be used as an offset (off-set), such as the negative PS plate, in order to remove the printing ink and the photosensitive agent adhered to the surface in order to regenerate the base aluminum plate. You will need a stripper. There are two types of strippers, such as photosensitizers. Positive strippers are used for the removal of the positive photoresist and negative strippers are used for the removal of the negative stripper.

본 발명은 네가티브 스트리퍼의 조성을 구성하는데 보다 범용적으로 쓰일 수 있는 스트리퍼의 성격을 가지며, 아울러 특수 목적에 맞는 스트리퍼로 개발하는 목적을 모두 가지고 있다. 예를 들어, 인쇄용 피에스판의 재가공에는 감광제 외에 인쇄잉크가 금속판(알루미늄판)에 같이 붙어 있기 때문에 반도체 웨이퍼나 액정 디스플레이어 표면의 감광제보다는 제거가 여의치 않은 고형분이 기재의 표면에 건조한 상태로 있으므로, 본 발명은 본 발명의 스트리퍼를 이용하여 이와 같이 고형분의 막을 이루는 물질을 완벽하게 제거시키는 목적을 두고 있다. 네가티브 감광제는 여러 형태의 화학구조로 구성될 수 있으며, 인쇄회로기판용 드라이 필름이나 금속 식각용 네가티브 감광제와 현상액, 그리고 스트리퍼에 대해서는 일반적으로 소개가 많이 되고 있는 반면, 인쇄용 피에스판을 재가공시키기 위해 감광제를 제거시키는 스트리퍼는 거의 소개되고 있지 않다. 인쇄용 네가티브 피에스판에 사용되는 감광제는 다이아조 계의 감광제와 스티렌 계의 수지가 사용되고 있어, 빛에 노출되면 다이아조 성분이 매트릭스로 사용되는 수지와 광가교를 이루어 웬만한 용제로는 녹여내기 힘든 고분자 구조로 변화되므로, 앞서 설명한 드라이 필름이나 금속 식각용 네가티브 감광제와는 성격이 다른 것으로 나타나고 있다. 빛에 한 번 이상 노출된, 다른 말로 하면, 한 번 이상 사용된 인쇄용 네가티브 피에스판의 감광층을 제거시킬 수 있는 공정이나 기술에 대해서는 별반 알려져 있지 않으며, 인쇄용 네가티브 피에스판을 재가공하는 공정에 대해서도 알려진 바가 없다. 따라서, 본 발명의 주된 목적은 일반적인 금속 식각용 네가티브 감광제의 제거뿐 아니라, 인쇄용 피에스판의 재가공에 필요한, 네가티브 스트리퍼가 가능한 조성을 구성하는 일이며 이의 조제방법에 두고 있다. 덧붙여서, 본 발명의 네가티브 스트리퍼를 적용한 인쇄용 네가티브 피에스판의 재가공 공정 기술을 포함시켜 네가티브 스트리퍼의 한 적용 분야를 완성시키고자 한다.The present invention has the characteristics of a stripper that can be used more universally in the composition of the negative stripper, and also has the purpose of developing a stripper for a special purpose. For example, since the printing ink is attached to the metal plate (aluminum plate) in addition to the photosensitizer in the reprocessing of the printing plate, the solid content which cannot be removed rather than the photosensitizer on the surface of the semiconductor wafer or the liquid crystal display remains dry on the surface of the substrate. The present invention aims to completely remove the material forming the film of solid content by using the stripper of the present invention. Negative photosensitizers can be composed of many types of chemical structures. While negative photosensitizers, developers, and strippers for printed circuit boards and metal etch are generally introduced, photosensitizers can be used to reprocess printed PCBs. Strippers to remove the seldom are introduced. The photoresist used for printing negative PS plate is made of diazo-based photosensitizer and styrene-based resin, and when exposed to light, the polymer structure is photo-crosslinked with resin that uses diazo component as a matrix. Since it is changed to, it has been shown to be different from the dry film or negative photoresist for metal etching described above. In other words, little is known about the process or technique for removing the photosensitive layer of a printed negative PS plate that has been exposed to light at least once, in other words, and also known as a process for reprocessing a negative PC sheet for printing. There is no bar. Therefore, the main object of the present invention is to form a composition capable of negative stripper, which is necessary for the removal of the general metal etch negative sensitizer, as well as the reprocessing of the printing PS plate, and to its preparation method. In addition, it is intended to complete a field of application of the negative stripper by including the reprocessing process technology of the printing negative PS plate to which the negative stripper of the present invention is applied.

본 발명은 네가티브형 감광제를 제거시킬 수 있는 네거티브 스트리퍼를 개발하는데 있어, 감광성 수지 성분만을 제거시키는 일반적인 네가티브 스트리퍼의 기능을 확장시키는 목적을 가지고 있다. 스트리퍼 기능 확장의 한 분야로 인쇄용 피에스판의 재사용을 목적으로 하는 경우, 인쇄용 피에스판의 감광층에 있는 광 감응성 물질(photosensitive material)의 빛에 대한 반응이 금속의 식각 등 다른 분야에 사용되는 네가티브 감광제와는 성격이 상당히 다르게 나타난다. 즉, 인쇄용 피에스판에 사용되는 다이아조 계 물질과 스티렌 계 수지는 빛의 노출을 통해 광가교가 상당히 빠르게 진행되며 이로 인해 분자간의 결합력이 강력해지므로, 고내쇄력과 장통(long run length)의 인쇄에 사용되고 웬만한 용제에는 용해되지 않는 고분자 물질로 변형된다. 그렇기 때문에, 인쇄용 피에스판에 도포되어 있는 네가티브 감광제가 빛에 노출되어 용해성이 거의 없는 물질로 변한 고분자 자체를, 그리고 덧붙여서 그 위에 묻어 있는 인쇄잉크를 용해시키거나 제거시킬 수 있는 스트리퍼의 개발이 본 발명에서 다루고자 하는 기술적 과제가 된다.The present invention has an object of expanding the function of a general negative stripper to remove only the photosensitive resin component in developing a negative stripper capable of removing the negative photosensitive agent. As part of the stripper's expansion, where the purpose of the reuse of a printing plate is to be used, the photosensitive material in the photosensitive layer of the printing plate can react to the light, which is used in other fields such as etching of metals. And are quite different in character. In other words, the diazo-based materials and styrene-based resins used in the printing plate are fast cross-linking through the exposure of light, thereby increasing the binding force between molecules, resulting in high printability and long run length printing. It is transformed into a polymer material that is used in a solvent and is insoluble in any solvent. Therefore, the development of a stripper capable of dissolving or removing the polymer itself, in which the negative photosensitive agent applied to the printing PS plate is turned into a substance having little solubility upon exposure to light, and in addition, dissolving or removing the printing ink deposited thereon. This is a technical challenge to be addressed in.

본 발명은 인쇄용 피에스판의 표면에 분포되어 있는 감광제와 인쇄잉크가 네가티브 형태와 같이 제거하기 힘든 경우에도 제거가 가능하며, 수용성 스트리퍼의 성격을 띠어 환경 친화적인 목적을 동시에 이루는 기술적 해결사항을 포함하고 있다. 이러한 기술적 과제를 모두 해결하기 위해, 본 발명의 네가티브 스트리퍼는 감광제를 제거시킬 수 있는 성격의 물질과 인쇄잉크를 동시에 금속의 표면으로부터 탈착시킬 수 있는 성격의 물질이 어느 정도의 비율로 구성되는 것을 특징으로 하고 있다. 아울러, 본 발명은 위의 두 가지 성격의 물질이 상호 상승작용을 일으킬 수 있고 환경 친화성을 가지도록 수용성으로 구성키 위해 두 가지 이상의 첨가제를 보충시키고 있으며, 계속해서 본 발명의 네가티브 스트리퍼를 사용하여 한 번 이상 사용된 인쇄용 네가티브 피에스판을 재가공시킬 수 있는 공정 기술을 포함하고 있다.The present invention can be removed even if the photosensitive agent and the printing ink distributed on the surface of the printing plate to be difficult to remove, such as negative form, and has the characteristics of water-soluble stripper, including the technical solution to achieve the environmentally friendly purpose at the same time have. In order to solve all these technical problems, the negative stripper of the present invention is characterized in that the material of the nature capable of removing the photosensitizer and the material of the nature capable of detaching the printing ink from the surface of the metal at a certain ratio. I am doing it. In addition, the present invention supplements two or more additives so that the above two properties of substances can be synergistic and configured to be water-soluble to have an environmental friendliness, and continue to use the negative stripper of the present invention It includes a process technology that allows the rework of printed negative PS plates that have been used more than once.

도1은 본 발명에 따른 인쇄용 네가티브 피에스판의 재가공 공정에 관한 공정도이다.1 is a process chart related to the reprocessing process of the negative PS plate for printing according to the present invention.

본 발명의 네가티브 스트리퍼는 범용적으로 쓰일 수 있는 네가티브 스트리퍼의 기능에 덧붙여서 인쇄용 네가티브 피에스판에 붙어 있는 네가티브 감광제와 인쇄잉크를 탈막시킬 수 있는 특수 목적의 역할을 담당할 수 있는 성격을 가져야 한다. 그러므로, 본 발명의 네가티브 스트리퍼는 다음에 설명하는 바와 같이 몇 가지의 화학물질 군으로 구성되어, 이 각각의 화학물질 군이 특수 목적을 포함한 네가티브 스트리퍼의 역할을 충분히 이룰 수 있게 상호 보완되며 기능의 상승을 유도시키는 특성을 지니고 있다.The negative stripper of the present invention should have a characteristic that can play a role of a special purpose to remove the negative photoresist and the printing ink attached to the printing negative PS plate in addition to the function of the negative stripper that can be used universally. Therefore, the negative stripper of the present invention is composed of several chemical groups as described below, and each chemical group is complemented to each other to fully fulfill the role of the negative stripper including a special purpose and to increase the function. Has the property of inducing.

본 발명의 수용성 네가티브 스트리퍼는 네가티브 감광제, 특히 인쇄용 네가티브 감광제의 한 구성 성분인 매트릭스 성격의 폴리머 수지를 용해시키고 기재의 표면과 감광제 수지간의 접착력을 약화시키는 물질(A)과, 수용성 스트리퍼에 잠길 때 네가티브 감광제 위로 덮혀 있는 인쇄잉크를 용제와 접한 경계층 표면부터 용해시키며 인쇄잉크의 결합력 또는 인쇄잉크와 감광제의 폴리머 수지간 접착력을 약화시키는 물질(B), 그리고 수용성 스트리퍼의 주요 구성 성분으로 대변되며 초기의 탈막을 유발시키는 개시제 성격과 최종 감광제 수지의 잔류물을 깨끗이 소거해 주는 물질(C), 마지막으로 이들의 균일한 혼합을 가능하게 하는 계면활성제(D) 군으로 구성되어 있다.The water-soluble negative stripper of the present invention dissolves a polymer resin having a matrix property, which is a component of a negative photosensitive agent, in particular, a negative photosensitive agent for printing, and a material (A) which weakens the adhesive force between the surface of the substrate and the photosensitive resin, and a negative when submerged in the water-soluble stripper. The printing ink overlying the photoresist is dissolved from the surface of the boundary layer in contact with the solvent, and the substance (B) which weakens the binding force of the printing ink or the adhesion between the printing ink and the polymer resin of the photoresist and represents the main component of the water-soluble stripper. It is composed of a group of initiators that cause the film, a substance (C) for clearing the residue of the final photoresist resin, and finally a group of surfactants (D) to enable uniform mixing thereof.

본 발명에서는 감광제 수지와 기재의 표면과의 접착력을 약화시키는 물질, 또는 기재의 표면으로부터 감광제 수지의 탈착을 유도하기 위한 물질 (A)로 방향족 계열 또는 이종원자고리 계열 화합물이 사용된다. 인쇄용 네가티브 감광제는 수용성보다는 유용성에 용해성이 있기 때문에 물질 (A)의 범주에 속하는 화합물의 예는 다음과 같은 물질들이 적용된다. 감마부티롤락톤, 벤즈알데히드, 벤질알콜, 벤질클로라이드, 니트로벤젠, 클로로벤젠, 플루오르벤젠, 브로모벤젠 등이 적용 가능하며(Aa라 명함), 아민을 함유하는 방향족이나 지방족 계열의 화합물을 첨가시킬 수 있다. 물질 (A)의 범주에 해당하는 스트리퍼의 경향을 강화시키는 아민 함유 첨가제(Ab라 명함)로는 디메틸포마마이드, 포마마이드, 아닐린, 피리딘, 퀴놀린, 그밖에 수용성 분말로 디메틸아세트아마이드, 디메틸아세토아세타미드 등이 있다. 물질 (Aa)와 물질 (Ab)의 첨가량에 따라 감광제 수지와 기재의 표면 사이의 탈착을 위한 스트리퍼의 침투 속도, 두 물질간의 탈착 속도가 변화될 수 있다. 물질 (A)에 해당하는 화합물은 전체적으로 5 wt%에서 30 wt%의 농도로 구성되며, 저농도 구간이든 고농도 구간이든 물질 (A)의 역할을 충분히 할 수 있지만, 단지 스트리퍼의 속도에 차이를 주는 것으로 나타난다. 두 번째로 분류되는, 인쇄잉크를 용해시켜 감광제 수지를 자유롭게 스트리퍼 층에 노출시키게 하는 물질 (B) 군으로는 일반적으로 소개되는 유기 용매, 또는 유기물이 적용된다. 물질 (B)의 화합물로는 디메틸설폭사이드, 아세토니트릴, 이소프로필알콜, 테트라하이드로퓨란, 퍼퓨랄, 다이옥산, 아세톤 등이 모두 가능하며(Ba), 물질 (A) 군의 일부가 겸용으로 사용된다. 물질 (A) 군의 화합물이 물질 (B) 군으로 사용될 때는 첨가량의 비율이 달라지며, 네가티브 스트리퍼의 용도와 목적에 따라 그 농도 변화를 택하게 된다. 인쇄잉크가 빽빽이 묻어 있는 네가티브 피에스판의 재가공을 위한 네가티브 스트리퍼의 첨가량을 고려할 때 물질 (A) 군과 물질 (B) 군의 사용량이 모두 높아져야 한다. 이밖에, 계면간의 틈새로 침투성을 보여주는 알킬아민, 알콜아민 계열의 첨가가 가능한데(Bb), 이들은 물질 (A) 군과 물질 (B) 군의 중간적 역할을 보여준다. 에틸아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 에타놀아민, 디에타놀아민, 트리에타놀아민 등이 이 범주에 들어가는데, 물질 (B)의 한 첨가물로 복합적으로 사용될 수 있고, 단독으로도 사용될 수 있으며, 그 사용량에 따라 스트리퍼의 역량이 결정된다. 그 외에, 침투이행 능력의 물질로 첨가될 수 있는 것은 과산화수소 등의 발생기 산소를 제공하는 성분을 특별히 물질 (B) 군에 포함시킬 수 있다. 물질 (B) 군의 화합물은 그 사용범위가 0 wt%에서 10 wt%의 범위에서 사용되며 침투이행 정도에 따라 그 농도를 변화시킬 필요가 있다. 세 번째로 첨가되는 화합물은 초기의 탈막을 유발시키는 물질이 되며 최종적으로 감광제 수지의 잔류물이 기재의 표면으로부터 말끔히 떨어져 나갈 수 있게 청소역할을 담당해 주는 물질 (C)로 무기물염 성분의 첨가를 들 수 있다. 무기물염 성분은 사용 목적에 따라 첨가량을 신중히 검토할 필요가 있으며, 특히 무기물염 성분에 의한 금속기재의 부식을 고려하는 경우에는 이를 피하여야 할 것이다. 본 발명에서 사용되는 무기물염 성분(C)으로는 나트륨 계열, 칼륨 계열, 칼슘 계열, 시안화 계열, 황 계열, 암모늄 계열 등 다양한 무기물염 성분이 포함된다(Ca). 나트륨 계열 무기물염으로는 황산나트륨, 아황산나트륨, 인산나트륨, 질산나트륨, 아질산나트륨, 차아염소산나트륨 등이 적용된다. 계속해서, 염의 금속 성분으로는 칼륨 계열, 칼슘 계열, 시안화 계열, 황 계열, 암모늄 계열도 나트륨 계열과 유사한 무기염으로 구성되며, 염의 음이온 형태는 나트륨 계열에서 언급한 황산, 아황산, 인산, 질산, 아질산, 차아염소산 형태가 가능하다. 여기에 덧붙여서, 앞의 금속 성분에 결합하는 염의 음이온 형태는 불소, 염소, 브롬, 요오드 등과 결합된 무기물염까지 확장, 적용될 수 있다. 사용하는 금속판 기재의 부식에 어느 정도 영향을 주는 물질이 스트리퍼 기능을 촉진시켜 주는 의미를 가지고 있으므로 금속판 기재의 성질과 잘 부합되는 무기염의 선택이 중요하다. 이 화합물 (C) 군에는 다수의 물분자(hydrate)를 함유하는 성분도 포함된다. 유기물염 성분이 첨가되는 경우도 가능한데, 특히 아민염 계통이 이용된다(Cb). 알킬아민염, 지방산아민염, 방향족아민염 등이 거론될 수 있으며, 염을 이루는 물질로는 염산이나 황산, 인산 등의 무기산과 결합한 유기물염이다. 무기물염(Ca)과 유기물염(Cb)으로 대변되는 물질 (C) 군의 화합물은 그 사용 범위가 0 wt%에서 5 wt%로 첨가되며, 감광제 수지의 두께나 폴리머 수지의 강도에 따라 다양한 농도로 조절되어야 한다. 마지막으로, 수용성을 조장해 주기 위해 유기물 또는 무기물 계의 계면활성제를 첨가시키게 되는데, 유기물 계면활성제로는 메틸알콜, 에틸알콜, 아세톤 등의 유기용제가 적당하며, 그밖에 양이온계, 음이온계, 비이온계 계면활성제를 적당히 적용시킬 수 있다. 양이온계 계면활성제로는 이미다졸리늄염, 피리디늄염이 사용될 수 있고, 음이온계 계면활성제로는 알킬 나프탈렌이 설포네이트나 알킬 벤젠 설포네이트가 사용될 수 있다. 비이온계 계면활성제로는 폴레옥시에틸렌 알킬에테르 계열이 사용될 수 있다. 이 물질 (D) 군의 사용범위는 0 wt%에서 10 wt% 이내에 사용되며 복합적인 사용도 모두 가능하다. 물질 (D) 군에는 이밖에도 일반적인 스트리퍼의 사용이 노즐을 이용한 분사방식이거나, 순환 접촉 방식, 또는 초음파 세척 등의 조건 아래 감광제와 잉크의 제거가 이루어지고 있으므로 필요에 따라 폼 제거제(anti-foam agent)를 넣기도 한다.In the present invention, an aromatic series or heterocyclic compound is used as a substance for weakening the adhesive force between the photosensitive resin and the surface of the substrate or a substance (A) for inducing desorption of the photosensitive resin from the surface of the substrate. As negative photoresists for printing are soluble in solubility rather than water soluble, examples of the compounds falling under the category of substance (A) are as follows. Gamma butyrolactone, benzaldehyde, benzyl alcohol, benzyl chloride, nitrobenzene, chlorobenzene, fluorobenzene, bromobenzene, etc. are applicable (Aa business card), and aromatic or aliphatic compounds containing amines can be added. have. Amine-containing additives (Ab business card) that enhance the stripper's tendency in the category of substance (A) include dimethyl formamide, formamide, aniline, pyridine, quinoline, and other water-soluble powders such as dimethylacetamide and dimethylacetoacetamide. Etc. Depending on the addition amount of the material (Aa) and the material (Ab), the penetration rate of the stripper for desorption between the photosensitive resin and the surface of the substrate, the desorption rate between the two materials may be changed. The compound corresponding to the substance (A) is composed of 5 wt% to 30 wt% of the total, and can play the role of the substance (A) in both low and high concentrations, but only by varying the speed of the stripper. appear. In the second class of substances (B) which dissolve the printing ink so as to freely expose the photosensitive resin to the stripper layer, an organic solvent or organic substance generally introduced is applied. Compounds of substance (B) can be dimethyl sulfoxide, acetonitrile, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, perfural, dioxane, acetone, etc. (Ba), and part of substance (A) group is used as a combination. . When the compound of the substance (A) group is used as the substance (B) group, the ratio of the added amount is different, and the concentration change is selected according to the use and purpose of the negative stripper. Considering the amount of negative stripper added for the rework of the negative PS plate with the printing ink on it, the amount of the substance (A) and the substance (B) should be increased. In addition, it is possible to add alkylamines and alcoholamines, which show permeability due to the inter-spacing gap (Bb), which shows the intermediate role of the substance (A) group and the substance (B) group. Ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, triethylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and the like fall into this category, which can be used in combination as an additive of substance (B), alone It can also be used, and its usage determines the stripper's capabilities. In addition, what can be added as a substance capable of penetrating can specifically include a component that provides generator oxygen, such as hydrogen peroxide, in the substance (B) group. Compounds of group (B) are used in the range of 0 wt% to 10 wt% and need to change their concentration according to the degree of penetration. The third compound added is the substance causing the initial film removal, and finally the addition of the inorganic salt component as a substance (C) which plays a role of cleaning so that the residue of the photoresist resin can be neatly separated from the surface of the substrate. Can be. Inorganic salt components need to be carefully reviewed according to the purpose of use, especially when considering the corrosion of metal bases by inorganic salt components. The inorganic salt component (C) used in the present invention includes various inorganic salt components such as sodium, potassium, calcium, cyanide, sulfur, and ammonium (Ca). Sodium sulfate, sodium sulfite, sodium phosphate, sodium nitrate, sodium nitrite, sodium hypochlorite is applied. Subsequently, the metal components of the salts include potassium, calcium, cyanide, sulfur, and ammonium, and inorganic salts similar to sodium, and the anionic forms of the salts are sulfuric acid, sulfurous acid, phosphoric acid, nitric acid, Nitrous acid, hypochlorous acid forms are possible. In addition to this, the anionic form of the salt that binds to the previous metal component can be extended and applied to the inorganic salts combined with fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like. It is important to select an inorganic salt that matches well with the properties of the sheet metal because the material which has some influence on the corrosion of the sheet metal substrate used has the meaning of promoting the stripper function. This compound (C) group also includes components containing a large number of water molecules (hydrates). It is also possible to add an organic salt component, in particular an amine salt system (Cb). Alkylamine salts, fatty acid amine salts, aromatic amine salts and the like can be mentioned, and the material forming the salt is an organic salt combined with inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid. Compounds of the substance (C) group represented by inorganic salts (Ca) and organic salts (Cb) are used in an amount ranging from 0 wt% to 5 wt% and varying in concentration depending on the thickness of the photoresist resin or the strength of the polymer resin. Should be adjusted to. Finally, in order to promote water solubility, organic or inorganic surfactants are added. Organic surfactants such as methyl alcohol, ethyl alcohol, acetone, etc. are suitable. In addition, cationic, anionic, and nonionic surfactants are suitable. Surfactants can be suitably applied. As cationic surfactants, imidazolinium salts and pyridinium salts may be used, and as anionic surfactants, alkyl naphthalene sulfonates or alkyl benzene sulfonates may be used. As the nonionic surfactant, polyoxyethylene alkyl ether series may be used. The range of use of this group (D) is within 0 wt% to 10 wt% and all combinations are possible. In the substance (D) group, a general stripper is sprayed using a nozzle, or a photoresist and an ink are removed under conditions such as a cyclic contact method or an ultrasonic cleaning. Also put.

도1은 본 발명의 수용성 네가티브 스트리퍼를 이용한 인쇄용 네가티브 피에스판의 재가공 공정을 나타내는 공정도로 이 공정의 핵심은 네가티브 피에스판의 기재인 알루미늄판 상의 감광제와 인쇄잉크 층을 탈막시키는 단계이다. 그리고, 네가티브 스트리퍼의 사용을 연속으로 해주기 위해 스트리퍼 층에 축적되는 이탈된 감광제 층을 고체/액체 분리기를 거쳐 고형분이 제거된 스트리퍼는 재사용을 위해 순환시키며, 스트리퍼의 기능이 약화되는 점을 감안한 새로운 네가티브 스트리퍼의 공급과 오래된 스트리퍼의 배출 비율은 실험을 통해 결정해야 한다. 알루미늄 판 기재로부터 탈막이 된 감광제와 인쇄잉크 층의 찌꺼기들은 아주 작은 입자부터 큰 입자까지 군집(cluster)을 이루며 부유하게 되어 고체/액체 분리가 용이하게 된다.1 is a process showing the reprocessing process of a printing negative PS plate using the water-soluble negative stripper of the present invention, the core of this process is a step of removing the photosensitive agent and printing ink layer on the aluminum plate which is the base of the negative PS plate. In addition, the stripper stripped of solids through the solid / liquid separator is circulated for reuse and the stripped photoresist layer accumulated in the stripper layer to continue the use of the negative stripper is circulated for reuse. The supply of strippers and the discharge rate of old strippers should be determined experimentally. Photosensitizers removed from the aluminum plate substrate and debris from the printing ink layer are suspended in clusters from the smallest particles to the larger ones to facilitate solid / liquid separation.

본 발명은 네가티브 감광제를 보다 효과적으로 제거시킬 수 있는 새로운 방법의 고안으로, 특히 인쇄용 네가티브 피에스판이 재가공되는 공정에서 인쇄 기재인 알루미늄의 표면에 부착되어 있는 네가티브 감광제와 인쇄잉크를 효과적으로 제거시키고, 수용성으로 구성되어 환경 친화적인 요소를 갖추는 네가티브 스트리퍼의 성격 조성에 관한 것이다. 본 발명에 의한 수용성 네가티브 스트리퍼는 기존에 사용되는 범용의 스트리퍼로 사용될 수 있고, 특히 인쇄용 네가티브 피에스판의 재가공에는 현재까지 개발된 스트리퍼가 없는 것으로 알려지고 있어, 인쇄용 네가티브 피에스판과 같이 새로운 용도에 적용시키는데 적합하므로 향후 적용 범위가 자못 클 것으로 기대된다. 본 발명의 수용성 네가티브 스트리퍼는 세정효과가 뛰어나며, 사용 시 불연소성을 가지고 있고, 기재로부터 탈막이 된 감광제나 감광제와 인쇄잉크의 분리가 용이해지는 기능을 가지고 있다. 일반적인 유기 용매로는 한 번 사용된 인쇄용 네가티브 피에스판 상의 감광제 층을 제거시키기가 어렵기도 하고, 일부 탈막이 된 감광제의 용해로 인해 어느 정도 사용되고 나면 용제력이 떨어지지만, 본 발명의 스트리퍼의 특성은 탈막이 된 감광제나 감광제와 인쇄잉크의 집단(덩어리)이 상부로 부유되고 노출되는 특징에 의해 쉽게 제거시킬 수 있는 장점을 가지고 있다.The present invention devises a new method to remove the negative photoresist more effectively. Especially, in the process of reworking the printing negative PS plate, the negative photoresist and the printing ink adhered to the surface of aluminum, which is the printing substrate, are effectively removed, and the composition is made of water-soluble. The nature of the negative stripper, which is environmentally friendly. The water-soluble negative stripper according to the present invention can be used as a general purpose stripper, and in particular, it is known that there is no stripper developed so far in the reprocessing of the negative PS plate for printing, and thus it is applied to a new application such as a negative PS plate for printing. It is expected that the scope of application is very large in the future. The water-soluble negative stripper of the present invention has an excellent cleaning effect, has incombustibility in use, and has a function of facilitating separation of the photosensitive agent or photosensitive agent that has been removed from the substrate and the printing ink. As a general organic solvent, it is difficult to remove the photoresist layer on the negative NPS plate once used, and the solvent power is lowered to some extent due to the dissolution of the photoresist which has been partially removed, but the characteristics of the stripper of the present invention are desorbed. It has the advantage that it can be easily removed by the characteristic that the film-sensitive photoresist or the group of photoresist and printing ink is suspended and exposed to the top.

[실시예]EXAMPLE

물 1000 ml에 방향족 화합물로 감마부티롤락톤 30 ml, 디메틸포마마이드 40 ml를 넣고, 이어 이소프로필알콜 50 ml, 에타놀아민 20 ml, 30 wt% 과산화수소 5 ml를 넣어 잘 혼합하고, 불화칼륨과 페리시아노칼륨을 각각 2 g 씩 투입하여 완전 혼합을 해주고, 마지막으로 메탄올 10 ml와 트윈 80 폼 제거제를 0.01 g 넣어 충분히 교반해 주어 네가티브 스트리퍼 용액을 준비하였다.To 1000 ml of water, add 30 ml of gamma butyrolactone as an aromatic compound and 40 ml of dimethylformamide, and then add 50 ml of isopropyl alcohol, 20 ml of ethanolamine, and 5 ml of 30 wt% hydrogen peroxide, and mix well. 2 g each of cyano potassium was added for complete mixing. Finally, 10 ml of methanol and 0.01 g of a Tween 80 foam remover were added to the mixture, and the mixture was sufficiently stirred to prepare a negative stripper solution.

네거티브 스트리퍼의 성능실험은 인쇄잉크와 감광제 층이 남아 있는, 이미 사용된 인쇄용 네거티브 피에스판을 20cm×20cm 크기로 절단하여 상기의 네가티브 스트리퍼 용액 하에 침지시켜 탈막을 시도하였다. 스트리퍼를 담은 용기를 좌우로 흔들어 주는 방법으로 인쇄용 피에스판의 탈막이 30초 이내에 이루어졌으며, 이하 도1에서 설명한 감광제의 도포를 통해 인쇄용 네가티브 피에스판의 재생을 완성하였다.In the performance test of the negative stripper, an attempt was made to remove film by cutting a used negative PS plate having a printing ink and a photoresist layer to a size of 20 cm x 20 cm and immersing it in the negative stripper solution. The film was removed within 30 seconds by shaking the container containing the stripper from side to side, and the regeneration of the printing negative PS plate was completed by applying the photosensitive agent described in FIG.

Claims (6)

네가티브 감광제 또는 네가티브 감광제와 인쇄잉크로 구성된 기재의 표면에 부착되어 있는 물질을 제거하기 위한 수용성 네가티브 스트리퍼의 조성으로The composition of the water-soluble negative stripper to remove the material attached to the surface of the substrate consisting of a negative photosensitizer or a negative photosensitizer and a printing ink (A) 5∼30 wt%의 방향족 또는 이종원자고리 화합물을 포함시키고(A) 5-30 wt% of an aromatic or heterocyclic compound (B) 0∼10 wt%의 유기용제나 알킬아민, 또는 알콜아민을 포함시키며(B) 0 to 10 wt% of organic solvent, alkylamine or alcoholamine (C) 0∼5 wt%의 무기물염이나 유기물염을 포함시키고(C) 0 to 5 wt% of inorganic or organic salts are included (D) 0∼10 wt%의 유기 극성 물질 또는 비극성 물질과 계면활성제 및 폼 제거제를 포함시키는 것이 특징.(D) 0 to 10 wt% of an organic or non-polar substance and a surfactant and a foam remover. 청구 I 항에서, (A)의 방향족 또는 이종원자고리 화합물의 예로 감마부티롤락톤, 벤즈알데히드, 벤질알콜, 벤질클로라이드, 니트로벤젠, 클로로벤젠, 풀루오르벤젠, 브로모벤젠 등이 포함되며, 아민 함유물질로는 디메틸포마마이드, 포마마이드, 아닐린, 피리딘, 퀴놀린, 디메틸아세트아미드, 디메틸아세토아세타미드의 첨가가 가능.In Claim I, examples of the aromatic or heterocyclic compound of (A) include gammabutyrolactone, benzaldehyde, benzyl alcohol, benzyl chloride, nitrobenzene, chlorobenzene, pullulorbenzene, bromobenzene, and the like, containing amines As a substance, dimethyl formamide, formamide, aniline, pyridine, quinoline, dimethylacetamide, dimethylacetoacetamide can be added. 청구항 I에서, (B)의 유기용제로는 디메틸설폭사이드, 아세토니트릴, 이소프로필알콜, 테트라하이드로퓨란, 퍼퓨랄, 다이옥산, 아세톤 등이 포함되며, 에틸아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 에타놀아민, 디에타놀아민, 트리에타놀아민과 과산화수소의 첨가가 가능.The organic solvent of claim I, (B) includes dimethyl sulfoxide, acetonitrile, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, perfural, dioxane, acetone and the like, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine , Triethylamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and hydrogen peroxide can be added. 청구항 Ⅰ에서, (C)의 무기물염, 유기물염은 금속이온으로는 나트륨, 칼륨, 칼슘, 시안, 황, 암모늄과 결합한 음이온의 황산, 아황산, 인산, 질산, 아질산, 차아염소산과 불소, 염소, 브롬, 요오드화로 구성된 무기염과, 염산, 황산, 인산과 결합된 아민염을 포함시키며 다수의 물분자를 가지는 화합물도 적용 가능.The inorganic salts and organic salts of (C) are salts of sulfuric acid, sulfurous acid, phosphoric acid, nitric acid, nitrous acid, hypochlorous acid and fluorine, chlorine of anion in combination with sodium, potassium, calcium, cyan, sulfur, and ammonium as metal ions. Inorganic salts composed of bromine, iodide, and amine salts combined with hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid are also applicable. 청구항 I에서, (D)의 계면활성제로는 이미다졸리늄염, 피리디늄염, 알킬 나프탈렌 설포네이트, 알킬 벤젠 설포네이트, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르 등이 첨가되고, 유기용제로 메틸알콜, 에틸알콜, 아세톤 등이 적용되며, 폼 제거제를 첨가시키는 방법.In claim I, as the surfactant of (D), imidazolinium salt, pyridinium salt, alkyl naphthalene sulfonate, alkyl benzene sulfonate, polyoxyethylene alkyl ether and the like are added, and organic solvents include methyl alcohol, ethyl alcohol, Acetone or the like is applied and the method of adding a foam remover. 청구항 I의 네가티브 스트리퍼를 사용하여 인쇄용 네가티브 피에스판의 재가공에 적용하는 방법.A method of applying to reworking a printable negative PS plate using the negative stripper of claim I.
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WO2004095142A1 (en) * 2003-04-24 2004-11-04 Az Electronic Materials(Japan)K.K. Resist composition and organic solvent for removing resist
KR100807491B1 (en) * 2005-07-28 2008-02-25 토쿄오오카코교 가부시기가이샤 Cleaning solution for lithography

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