KR19990081350A - 다층 광기록 매체 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다층의 기록층을 가지고 광을 이용하여 기록 및/또는 재생을 하기 위한 광기록 매체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 광기록 매체는 기록층들 중 적어도 하나의 기록층이 비선형 재료로 이루어진 비선형 기록층을 구비한다.
이러한 구성에 의하여, 본 발명에 따른 광기록 매체 및 그 제조방법은 복수개의 기록층 중 어느 기록층에서도 높은 반사 특성을 가지게 되므로 광효율이 향상된다.

Description

다층 광기록 매체 및 그 제조방법(Optical Recording Media With Multiple Layer And Fabricating Methods of The Same)
본 발명은 광기록 매체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 다층의 기록층을 가지고 광을 이용하여 기록 및/또는 재생을 하기 위한 광기록 매체 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
광을 이용한 기록매체로서 이미 일반화된 CD 및 DVD 등의 광기록 매체에 있어서는 레이저광을 기록면에 조사하여 데이터를 기록하거나 재생하게 된다. 이러한 광기록 매체는 재생전용과 재기록 가능한 매체로 대별되며 전자의 경우 CD-ROM, DVD-ROM 등과 같은 ROM 타입이 있으며, 후자의 경우 재기록 가능 횟수에 따라 WORM(Write Once Read Many) 타입, Rewritable 타입, RAM 타입 등으로 나뉘어진다. 통상, 광기록매체는 기판으로 사용되는 광투과층과, 광투과층 위에 형성된 반사막과, 반사막위에 형성되는 보호막으로 이루어 진다. 광투과층에서 반사막 측은 피트 또는 안내구(guide groove)가 형성된다. 광기록 매체에 데이터를 기록 또는 재생하기 위해서는 광픽업의 대물렌즈에 의해 집광된 레이저광이 광투과층을 투과하여 기록면에 조사됨으로써 이루어진다.
광기록 매체는 동영상과 같은 큰 정보를 수용할 수 있도록 대용량화 추세에 있다. 광기록 매체의 대용량화를 위한 연구는 트랙피치를 조밀하게 하고 DVD-RAM과 같이 기록면을 상하면의 두 기록면으로 하는 광기록 매체를 개발하게 되었다. 최근에는 미국특허 4,450,553에서 제안된 바 있는 두 개 이상의 다층 기록면을 가지는 다층 광기록 매체가 주목을 받고 있다. 이 다층 광기록 매체는 다층 기록면 중 특정 기록면에 레이저광의 초점위치(Focal position)가 놓이도록 광픽업을 제어하여 데이터를 기록 또는 재생하게 된다. 즉, 정확한 기록 또는 재생이 되기 위해서는 하나 또는 그 이상의 광투과층(기판)을 투과하여 특정 기록면만이 억세스되어야만 한다. 통상, 광투과층(기판)은 광투과성 재료로서 유리(glass), 폴리카보네이트(polycarbonate) 등의 물질로 형성된다. 이러한 광투과성 물질은 피트 또는 안내구(guide groove)가 형성된 스탬퍼(stamper)가 취부된 사출기에서 사출성형되어 응고됨으로써 기판(광투과층)으로 형성된다. 이 기판에서 피트 또는 안내구가 형성된 기록막 위에 기록층으로써 반투과성 물질(예를 들면, 유전체막)을 성막하게 된다. 반투과성 물질로 형성되는 기록층은 각기 고유한 광투과율과 광반사율을 갖고 있기 때문에 반사광을 검출할 때는 광반사율만큼의 광손실을 수반하게 된다. 종래 기록층으로 사용되는 반투과성 물질은 도 1의 특성도에서 알 수 있는 바, 입사된 광의 세기(광강도)에 무관하게 물질마다 상수값으로 나타나는 고유한 광반사율 R을 가지게 된다. 이러한 기록층이 적용된 다층 광기록 매체에서 정보를 재생하는 경우를 도 2의 2층 광디스크를 결부하여 설명하기록 한다. 도 2를 참조하면, 제2 기록층(6)에 기록된 데이터를 독취하는 경우 광원에서 조사된 광(2)이 제1 광투과층(8)과 제1 기록층(4)에 의해 일부광의 반사로 광손실이 있게 되어 제2 광투과층(10)을 경유하여 제2 기록층(6)에 입사되면 제2 기록층(6)에서 전반사된 후, 다시 제1 층을 통과하면서 광손실을 수반하게 된다. 여기서, 흡수율이 "0"라고 가정할 때 제1 기록층(4)의 반사율 R1이 30%(즉, 제1 기록층(4)의 투과율 1-R1이 70%)이고, 제2 기록층(6)의 반사율 R2가 70%라면 제2 기록층(6)에 광스폿을 집광하는 경우 (1-R1)×R2×(1-R1)=0.7×0.7×0.7=0.343 즉, 입사된 광에서 34.3%만이 반사된다. 다층 광기록 매체의 경우, 어느 층을 목적 기록층으로 하더라도 검출되는 광량이 높아야 재생의 신뢰성을 확보할 수 있다. 위에서, 제1 기록층(4)의 반사율 R1을 높이게 되면(예를 들어, R1이 40%로 설정되면) 제1 기록층(4)을 목적 기록층으로하여 광빔을 제1 기록층(4)에 조사하면 제1 기록층(4)의 반사율 R1만큼 검출되는 광량은 높아진다. 이 때, 제2 기록층(6)을 목적 기록층으로하여 광빔을 조사하게 되면 제1 기록층(4)의 광투과율 1-R1이 상대적으로 낮아지게 되므로 검출광량이 현저하게 낮아지게 된다. 즉, 흡수율이 "0"이라고 가정할 때 제1 기록층(4)의 반사율이 40%이면 투과율 1-R1은 60%이므로 제2 기록층(6)에 광스폿을 집광하는 경우 (1-R1)×R2×(1-R1)=0.6×0.7×0.6=0.252 즉, 입사된 광에서 25.2%만이 반사되어 제1 기록층(4)을 목적 기록층으로하여 검출된 광량(40%)과 대비할 때 검출신호 레벨에서 큰 차이가 나타나게 된다. 이 경우, 제1 기록층(4)에서 검출된 신호레벨은 재생 가능한 신호레벨이 되지만 제2 기록층(6)의 기록층에서 검출된 신호레벨은 재생 가능한 신호레벨을 얻지 못하게 되므로 제2 기록층(6)의 기록된 데이터의 독취는 불가능하게 된다.
따라서, 본 발명의 목적은 광효율이 높은 다층 광기록 매체 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 어느 층을 억세스하더라도 반사율이 양호한 다층 광기록 매체 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 대용량화에 적합하도록 한 광기록 매체 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.
도 1은 종래의 다층 광기록 매체 재료의 반사율 특성을 나타내는 특성도.
도 2는 종래 2층 광기록매체의 종단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 다층 광기록매체 재료의 반사율 특성을 나타내는 특성도.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 다층 광기록 매체의 종단면도.
도 5는 도 4에 도시된 제2 기록층이 전반사층과 비선형층의 복층으로 이루어지는 경우의 반사 특성도.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 다층 광기록 매체의 종단면도.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 다층 광기록 매체에서 입사광의 광세기 특성을 나타내는 특성도.
도 8은 도 7에 도시된 입사광의 광세기 특성에 따른 반사율 특성을 나타내는 특성도.
도 9는 도 8의 반사율 특성에 따른 입사광과 반사광의 광세기 특성을 나타내는 특성도.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 다층 광기록 매체의 제조 수순을 단계적으로 나타내는 공정도.
도 11은 본 발명의 다른 실시예에 따른 다층 광기록 매체의 제조 수순을 단계적으로 나타내는 공정도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
2 : 광 4,6,14,18,26,28,21∼2n : 기록층
8,10,12,16,24,30 : 광투과층(기판) 32 : UV 수지
34 : 스탬퍼
상기 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 광기록 매체는 기록층들 중 적어도 하나의 기록층이 비선형 재료로 이루어진 비선형 기록층을 구비한다.
본 발명에 따른 광기록 매체는 제1 내지 제n-1 기판에 형성되어 입사되는 광의 강도에 따라 변화되는 반사율로 광을 반사시키기 위한 비선형 기록층과, 제n 기판에 형성되는 전반사층을 구비한다.
본 발명에 따른 광기록 매체의 제조방법은 기록층들 중 적어도 하나의 기록층을 비선형 재료로 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 광기록 매체의 제조방법은 제1 내지 제n 기판을 마련하는 단계와, 제1 내지 제n-1 기판위에 비선형 물질층을 성막하는 단계와, 제n 기판 위에 전반사층을 형성하는 단계와, 제1 내지 제n 기판을 접합하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 광기록 매체의 제조방법은 제k 기판 위에 제k 기록막을 형성한 후, 제k 기록막 위에 제k 비선형 물질층을 형성하는 제1 단계와, 제k 비선형 물질층 위에 제k+1 기판을 형성하는 제2 단계와, 제1 내지 제3 단계를 반복 수행하여 상기 제1 내지 제n-1 기판을 형성하는 제3 단계와, 제n-1 기판 위에 제n-1 기록막을 형성한 후, 제n-1 기록막 위에 전반사층을 형성하는 제4 단계와, 전반사층 위에 상기 제n 기판을 형성하는 제5 단계를 포함한다.
상기 목적들 외에 본 발명의 다른 목적 및 잇점들은 첨부한 도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하, 본 발명의 실시예들을 첨부한 도 3 내지 도 9를 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 비선형 박막 재료의 특성을 나타내는 것으로 광의 세기에 대한 비선형 재료의 반사율 변화를 나타내는 특성도이다.
도 3에서 알 수 있는 바, 본 발명의 비선형 박막 재료는 광의 세기가 커질수록 비선형적인 상승곡선을 따라 반사율이 커지게 된다. 즉, 비선형 재료층은 광의 세기에 비례하여 증대되는 특성을 가지게 된다. 비선형 재료로는 a-Si, InSb, ZnTe, ZnSe, CdSSe, GaAs, GaSb 등의 물질이 알려진 바 있다. 이러한 비선형 재료를 기록층으로 적용할 때 ns를 광투과층(기판)의 굴절율, n를 비선형 박막의 굴절율이라면 비선형 박막 재료의 반사율 R은 │{(n-ns)/(n+ns)│2에 비례하게 된다. 비선형 박막 재료의 굴절율 n은 아래의 수학식 1과 같다.
n=n0+n2I
여기서 , n0는 선형 굴절율(Linear Refractive Index), n2는 비선형 굴절율(Nonlinear Refractive Index), I는 입사광의 세기(W/cm2)를 의미한다. 비선형 굴절율 n2는 아래의 수학식 2와 같다.
여기서, χ(3)는 3차 비선형 서셉티빌리티(Susceptibility)(esu), C는 빛의 속도(3×1010cm/sec)이다.
a-Si을 예로 들면, 선형 굴절율 n0는 3.5, 3차 비선형 서셉티빌리티 χ(3)는 10-3esu, 비선형 굴절율 n2는 3.23×10-6cm2/W의 특성을 가지게 된다. 이 a-Si을 비선형 박막으로 적용하는 경우, 비선형 박막에 광세기 I를 0과 2×105W/cm2으로 설정하여 광을 조사하게 되면 각각의 경우 16%, 23%(반사율 차 ΔR은 7%)의 반사율 특성을 가지게 된다. 즉, a-Si는 입사된 광의 광세기 I가 커짐에 따라 반사율 R이 비선형적으로 증가되는 비선형 반사 특성을 가지는 물질임을 알 수 있다. 이러한 비선형 반사율 특성을 조정할 필요가 있는 경우 a-Si에 H 또는 N 등의 불순물을 도핑(doping)하여 반사율 R을 조정할 수 있다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 다층 광기록 매체를 도시한 것으로, 2 층 구조의 기록층을 가지는 2 층 광기록 매체의 종단면도이다.
도 4의 구성에서, 본 발명의 실시예에 따른 2층 광기록 매체는 비선형 재료로 형성되는 제1 기록층(14)과, 전반사층으로 형성되는 제2 기록층(18)을 구비한다. 제1 기록층(14)과 제2 기록층(18) 아래에는 광투과층(12)이 형성된다. 제1 기록층(14)은 비선형 재료의 단층으로 형성되지만 비선형 재료층과 종래 기록층으로 사용되는 반투과층(유전체)의 복층으로 형성될 수도 있다. 제2 기록층(18)은 전반사층으로 형성되지만 전반사층과 비선형 재료층의 복층으로 형성될 수도 있다.
제1 기록층(14)을 목적 기록층으로하여 레이저광을 조사하는 경우 제1 기록층(14)에 광스폿이 맺히므로 광의 강도는 비교적 강하게 된다. 이 때, 제1 기록층(14)에 맺히는 광스폿 세기는 도 3의 특성도에서 1b에 해당된다. 이 경우, 비선형 재료층인 제1 기록층(14)의 반사율은 40%의 반사 특성을 가지게 된다. 제2 기록층(18)을 목적 기록층으로하여 레이저광을 조사하는 경우 제1 기록층(14)에는 상대적으로 낮은 광이 조사되므로 제1 기록층(14)에 맺히는 광스폿의 광세기는 도 3의 특성도에서 1a에 해당된다. 이 때, 제1 기록층(14)의 반사율은 30%의 반사 특성을 가지게 된다. 전반사층 물질로 이루어지는 제2 기록층(18)의 반사율 R2가 70%일 때, 총반사율은 (1-R1)×R2×(1-R1)=0.7×0.7×0.7=0.343 즉, 입사된 광에서 34.3%가 반사된다.
여기서, 기록층(14)이 전반사층과 비선형 재료층의 복층(전반사층+비선형층)으로 형성할 때는 35% 이상의 반사특성을 얻을 수 있게 된다. 이는 비선형 층의 굴절율 n은 강도가 커짐에 따라 증대되는 특성에 기인하게 된다. 따라서, 도 5에서와 같이 금속박막(전반사층)과 비선형 박막의 간섭효과에 따라 반사특성이 증대된다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 다층 광기록 매체를 도시한 것으로, n개의 기록층을 가지는 다층 광기록 매체의 종단면도이다.
도 6의 구성에서, 본 발명에 따른 다층 광기록 매체는 비선형 재료로 형성되는 제1 기록층 내지 제n-1 기록층(21∼2n-1)과, 전반사층 또는 전반사층과 비선형 재료층의 복층으로 이루어진 제n 기록층(2n)을 구비한다. 제1 기록층 내지 제n 기록층(21∼2n-1) 아래에는 광투과층으로 사용되는 기판층(16)이 형성된다. 제1 기록층 내지 제n 기록층(21∼2n-1)은 비선형 재료의 단층으로 형성되지만 비선형 재료층과 반투과층(유전체)의 복층으로 형성될 수도 있다.
제n-1 기록층(21∼2n-1)은 비선형 재료층으로 이루어져 도 3의 특성도와 같이 광의 세기가 커질수록 반사율이 커지는 반사 특성을 가지게 된다. 이 경우, 제1 기록층 내지 제n 기록층(21∼2n) 중 어느 기록층을 목적 기록층으로 하더라도 검출된 신호레벨이 일정 레벨 이상이 되도록 각 기록층의 반사율이 입사된 광의 세기에 따라 달라지게 된다.
이와 같이, 본 발명에 따른 다층 광기록 매체는 복수개의 기록층 중 어느 기록층에서도 높은 반사 특성을 가지게 되므로 광효율이 향상된다. 또한, 동일한 광효율을 얻을 수 있기 때문에 기록층의 수를 대폭 늘릴 수 있게 된다. 종래에는 기록층 물질 특성이 상수값을 가지는 반사특성을 가지기 때문에 기록층에 입사되는 입사 광빔의 광세기 특성이 반사되는 광빔의 광세기 특성과 동일하게 되어 광투과층을 경유하면서 수차에 의한 유효경의 확산이 필연적으로 발생하게 되므로 고위 기록층으로 갈수록 신호트랙에서 피트들의 폭이 길어지게 되고 신호트랙간 피치도 일정 간격 이상으로 하여야만 기록 또는 재생의 신뢰성을 확보할 수 있었다. 이에 반하여, 본 발면의 다층 광기록 매체는 기록층으로 비선형 재료층을 사용하기 때문에 초해상(Super Resolution)을 향상시킬 수 있게 되어 대용량의 다층 광기록 매체를 구현할 수 있게 된다. 이를 상세히 하면, 유효경의 직경이 D를 가지는 입사광이 비선형 박막에 조사되면 비선형 박막에서 광세기 분포 특성은 도 7과 같이 유효경의 중심에서 최대의 광세기 Imax로 입사되고 외주측으로 갈수록 광의 세기는 낮아지게 된다. 도 7과 같은 입사광이 입사될 때, 비선형 박막에서의 반사 특성은 도 8과 같이 최대 광세기(유효경의 중심)에서 최대 반사율 Rmax로 반사되고 외주측으로 갈수록 낮아지는 반사율로 반사된다. 따라서, 비선형 박막에서 반사되어 광로를 역행하게 되는 광빔은 도 7의 입사광의 광세기 특성과 도 8의 반사율 특성이 가산되어진 광세기 특성을 가지게 된다. 이 때의 반사 광스폿의 광세기 분포는 도 9에서 실선과 같은 특성을 가지게 된다. 도 9를 참조하면, 반사 광스폿의 광세기 분포를 점선으로 나타내는 입사 광스폿의 광세기 분포와 대비할 때 반사 광스폿의 유효경 d는 입사 광스폿의 유효경 D보다 작아지게 되어 초해상의 조건을 만족하게 된다. 실제로 도 9의 특성도에서, 입사 광스폿의 유효경 D에 대한 반사 광스폿 d의 직경비 d/D는 약 0.93 정도이다. 즉, 입사 광스폿의 유효경 D에 대한 반사 광스폿 d의 직경비가 1보다 작아지게 되므로 초해상에 의한 기록 또는 재생이 가능해진다. 따라서, 비선형 기록 박막층에서 입사된 광빔은 피트들의 사이즈를 작게하고 트랙간 피치를 조밀하게 하더라도 목적 피트들의 신호만이 검출되고 주변 피트들에 대한 신호는 제거되어 반사된다. 본 발명의 다층 광기록 매체는 초해상에 의한 기록 또는 재생이 가능해지므로 신호 트랙에서 피트들의 폭과 길이를 최소로 할 수 있게 되고 또한 신호트랙간 피치를 최소로할 수 있게 되어 대용량화할 수 있게 된다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 다층 광기록 매체의 제조 수순을 단계적으로 나타내는 공정도를 도시한 것으로서, 도 4에 도시된 2층 광기록 매체의 제조공정을 나타낸다.
마스터링 공정 등을 통하여 형성된 스탬퍼(Stamper : 날인기)를 성형기에 취부한 후, 제1 기판(광투과층)과 제2 기판(보호층)(24) 물질(예를 들면, 글래스 또는 폴리카보네이트)을 성형기에 주입하게 되면 스탬퍼의 형상에 따라 이진 정보로 표현되는 피트(pit) 또는 안내구(guide groove)로 이루어지는 기록막이 기판 상에 형성된다. 제1 기판(24)에서 피트 또는 안내구 등이 형성된 기록막 위에 증착 또는 스퍼터링 등의 진공증착방법으로 비선형 박막(26)을 성막하게 된다. 여기서, 비선형 박막(26)은 비선형 재료(예를 들면, a-Si, InSb, ZnTe, ZnSe, CdSSe, GaAs, GaSb 등)만으로 형성될 수 있고 비선형 재료와 유전체 물질과 같은 반투과성 물질의 복층으로 형성될 수도 있다. 제2 기판(24)에서 피트 또는 안내구 등이 형성된 면 위에 증착 또는 스퍼터링 등의 진공증착방법으로 전반사층(알루미늄 등의 금속 박막) (28)또는 전반사층과 비선형 박막으로 이루어지는 복층을 성막하게 된다. 최종적으로, 액상 상태의 투명수지(기판물질과 광학적 특성은 동일함)를 제1 기판(24)과 제2 기판(24) 중 어느 하나에 도포하고 다른 하나의 기판(24)을 올려 놓은 후, 여기에 자외선(UV)을 조사하게 되면 응고되어 고상상태로 됨으로써 제1 기판과 제2 기판(24) 사이의 광투과층(30)이 형성된다. 도 6에 도시된 다층 광기록 매체의 경우, 비선형 재료를 각각의 기판 위에 진공증착법 등으로 제1 내지 제n-1 기록층(21∼2n-1)을 형성하게 된다. 그리고 전반사층 또는 전반사층과 비선형 박막으로 이루어지는 복층으로 제n 기록층(2n)을 형성한 후, 인접한 기판들 사이에 액상 상태의 투명수지를 도포한 후 자외선(UV)을 조사하여 응고시키게 된다. 그 다음, 기판들을 n 개의 기판들이 접합될 때까지 동일한 방법으로 기판들을 접합하게 되면 n 개의 기록층을 가지는 다층 광기록 매체가 완성된다.
도 11은 도 6에 도시된 다층 광기록 매체의 제조수순을 단계적으로 나타내는 공정도를 도시한 것이다.
(A) 단계에서, 스탬퍼를 성형기에 취부한 후, 기판물질을 사출 성형함으로써 피트패턴이 형성된 제1 기판(16)을 마련한다. 그리고 제1 기판(16)에서 피트패턴이 형성되어진 제1 기록막 위에 증착 또는 스퍼터링 등의 진공증착방법으로 비선형 박막으로 제1 기록층(21)을 형성한다. (B) 단계에서, 액상 상태의 UV 수지(UV Resin)(32)를 제1 기록층(21) 위에 도포한 후 스탬퍼(34)를 UV 수지(32) 위에 가압하여 제2 기록막용 피트패턴을 형성한다. (C) 단계에서 스탬퍼(34)를 분리해 낸다. 이 때, 자외선(UV)을 조사하여 UV 수지(32)를 응고시키게 된다. (D) 단계에서, 피트패턴이 형성된 제2 기록막 위에 비선형 박막으로 제2 기록층(22)을 형성한다. (A) 내지 (D) 단계를 제n-1 기록층(2n-1)이 형성될 때까지 반복한 후, (E) 단계에서 제n 기록막 위에는 금속박막(전반사 물질) 또는 비선형 박막과 금속박막의 복층으로 제n 기록층(2n)을 형성하게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 광기록 매체 및 그 제조방법에 의하면 광세기가 클수록 반사율이 비선형적으로 증가하는 특성을 가지는 비선형 기록층을 형성함으로써 복수개의 기록층 중 어느 기록층에서도 높은 반사 특성을 가지게 되므로 광효율이 향상된다. 또한, 본 발명에 따른 광기록 매체는 광세기가 클수록 반사율이 비선형적으로 증가하는 특성을 가지는 비선형 기록층을 형성함으로써 복수 개의 기록층 중 어느 기록층을 억세스하더라도 우수한 광효율을 얻을 수 있기 때문에 기록층의 수를 대폭 늘릴 수 있게 된다. 나아가, 본 발명에 따른 광기록 매체는 비선형 기록층을 형성함으로써 초해상에 의한 기록 또는 재생이 가능해지므로 신호 트랙에서 피트들의 폭과 길이를 최소로 할 수 있게 되고 또한 신호트랙간 피치를 최소로할 수 있게 되어 대용량화에 적합하게 된다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims (12)

  1. 복수의 기록층을 구비하는 다층 광기록 매체에 있어서,
    상기 기록층들 중 적어도 하나의 기록층이 비선형 재료로 이루어진 비선형 기록층을 구비하는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 비선형 재료는 광의 강도에 따라 반사율이 달라지는 재료인 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 비선형 재료는 광의 강도가 높아지면 반사율이 높아지는 재료인 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 비선형 기록층은 상기 비선형 재료로 형성되는 제1 기록층과,
    반투과성 물질로 형성되는 제2 기록층의 복층으로 형성되어지는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수개의 기록층 중 광원측에 가장 가까운 기록층만이 상기 비선형 기록층인 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  6. 제1 내지 제n 기판에 형성되는 n 개의 기록층을 가지는 다층 광기록 매체에 있어서,
    상기 제1 내지 제n-1 기판에 형성되어 입사되는 광의 강도에 따라 변화되는 반사율로 상기 광을 반사시키기 위한 비선형 기록층과,
    상기 제n 기판에 형성되는 전반사층을 구비하는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  7. 복수의 기록층을 가지는 다층 광기록 매체의 제조방법에 있어서,
    상기 기록층들 중 적어도 하나의 기록층을 비선형 재료로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체의 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 비선형 재료는 광의 강도에 따라 반사율이 달라지는 재료인 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
  9. 제1 내지 제n 기판에 형성되는 n 개의 기록층을 가지는 다층 광기록 매체의 제조방법에 있어서,
    제1 내지 제n 기판을 마련하는 단계와,
    상기 제1 내지 제n-1 기판위에 비선형 물질층을 성막하는 단계와,
    상기 제n 기판 위에 전반사층을 형성하는 단계와,
    상기 제1 내지 제n 기판을 접합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체의 제조방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 전반사층은 상기 비선형 물질층을 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체의 제조방법.
  11. 제1 내지 제n 기판에 형성되는 n 개의 기록층을 가지는 다층 광기록 매체의 제조방법에 있어서,
    제k 기판 위에 제k 기록막을 형성한 후, 상기 제k 기록막 위에 제k 비선형 물질층을 형성하는 제1 단계와,
    상기 제k 비선형 물질층 위에 제k+1 기판을 형성하는 제2 단계와,
    상기 제1 내지 제3 단계를 반복 수행하여 상기 제1 내지 제n-1 기판을 형성하는 제3 단계와,
    상기 제n-1 기판 위에 제n-1 기록막을 형성한 후, 상기 제n-1 기록막 위에 전반사층을 형성하는 제4 단계와,
    상기 전반사층 위에 상기 제n 기판을 형성하는 제5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체의 제조방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제1 내지 제n-1 기판은 UV 수지에 의해 형성되어지는 것을 특징으로 하는 다층 광기록 매체.
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