KR19990077672A - Carrier cleaning apparatus in surface polishing equipment - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 평면 연마장치의 공작물 보지(保持)용 캐리어에 부착된 연마재 슬러리 등의 부착물을 간단하고 확실하게 깨끗이 흘려보낼 수 있는 세정장치를 제공한다.This invention provides the washing | cleaning apparatus which can flow easily and reliably and cleanly deposits, such as an abrasive slurry adhered to the carrier for workpiece holding of a planar grinding | polishing apparatus.
캐리어(3)를 세정액에 침청(浸淸)한 상태로 수용하기 위한 세정조(11)의 내부에, 캐리어(3) 하면(下面)의 리테이너 링(6)과 대향하도록 버블링용 공기노즐 (15)을 설치하는 것과 함께, 캐리어 하면의 리테이너 링(6)에 접하도록 모선(毛先)의 높이가 다른 하면 브러시(18a),(18b)를 상향에 설치하고, 캐리어(3)의 외주면에 접하도록 측면 브러시(25)를 가로방향으로 더 설치한다.A bubbling air nozzle (15) facing the retainer ring (6) of the lower surface of the carrier (3) inside the cleaning tank (11) for accommodating the carrier (3) in a state of immersion in the cleaning liquid (15). ), The lower surface brushes 18a and 18b having different heights of the bus bar are placed upwards so as to contact the retainer ring 6 on the lower surface of the carrier, and the upper peripheral surface of the carrier 3 is contacted. The side brush 25 is further installed in the horizontal direction so as to.
Description
본 발명은, 평면 연마장치의 공작물 보지용 캐리어를 세정하기 위한 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning device for cleaning a carrier for work holding of a planar polishing device.
반도체 웨이퍼 같은 디스크형 공작물의 편면(片面)을 연마하는 평면 연마장치는, 일반적으로 도 3 및 도 4에 나타내듯이, 기체(機體)(1)의 베이스부분(1a)에 회전이 자유로운 정반(2)을 보유하는 것과 함께, 그 정반(2)과 반입·반출부(4) 사이를 자유롭게 이동하는 가동부분(1b)에 실린더(5)로 승강이 자유롭도록 지지된 캐리어(3)를 보유하고, 그 캐리어(3)의 하면에 설치된 리테이너 링(6) 내에 공작물(W)을 접착이나 흡착 등의 방법에 의해 보지시켜, 그 공작물을 회전하는 정반에 눌러 붙여 연마하도록 구성되어 있다.In general, a planar polishing apparatus for polishing a single side of a disk-like workpiece such as a semiconductor wafer, as shown in FIGS. 3 and 4, has a surface plate 2 freely rotatable to the base portion 1a of the base 1. ) And a carrier (3) supported by the cylinder (5) to be freely lifted and lowered on the movable portion (1b) freely moving between the surface plate (2) and the carry-in / out portion (4). It is comprised so that the workpiece | work W may be hold | maintained in the retainer ring 6 provided in the lower surface of the carrier 3 by the method of adhesion | attachment, adsorption, etc., and it will press and grind | polish the workpiece to the rotating surface plate, and is comprised.
이와 같은 연마장치에 의해서, 예컨대 반도체 웨이퍼를 CMP 연마(화학적 기계연마)하는 경우에는, 유리(遊離) 연마가루를 첨가한 연마재 슬러리를 노즐(7)로부터 공급하면서 그 연마가 행하여진다. 연마가 종료한 공작물(W)은, 가동부분(1b)의 이동에 의해 반입·반출부(4)로 반송되어 도시하지 않는 로봇에 의해 캐리어(3)로부터 꺼내어지지만, 연마 후의 캐리어(3) 및 공작물(W)에는 연마재 슬러리 등이 부착되어 있어, 건조에 의한 산화나 연마가루의 응착 등이 발생하기 쉽기 때문에, 그 부착물을 신속하게 제거할 필요가 있다.With such a polishing apparatus, for example, in the case of CMP polishing (chemical mechanical polishing) of a semiconductor wafer, polishing is performed while supplying an abrasive slurry containing glass abrasive powder from the nozzle 7. Although the workpiece | work W which grinding | polishing is complete is conveyed to the carry-in / out part 4 by the movement of the movable part 1b, and is taken out from the carrier 3 by the robot not shown, the carrier 3 after grinding | polishing, and An abrasive slurry or the like is adhered to the work W, and thus, it is necessary to remove the deposit quickly because oxidation, drying, adhesion of abrasive powder, etc. are likely to occur.
이 때문에 종래에는, 예컨대 도 4에 나타내듯이, 정반(2)과 상기 반입·반출부(4) 사이에 세정부(8)를 설치하고, 이 세정부(8)에서 각 캐리어(3)에 분무노즐로부터 세정액을 분사시킴으로서 부착물을 깨끗하게 흘려보내지만, 고착된 부착물까지 완전히 깨끗이 흘려보내는 것은 어려우며, 게다가, 세정액이 주위로 비산(飛散)하여 장치주변을 적시기 때문에, 방적(防敵)수단을 설치하지 않으면 안된다.For this reason, conventionally, as shown in FIG. 4, the washing | cleaning part 8 is provided between the surface plate 2 and the said carry-in / out part 4, and this cleaning part 8 sprays each carrier 3 by this washing | cleaning part 8, for example. By spraying the cleaning liquid from the nozzle, it is possible to clean the deposits, but it is difficult to completely flush the adhered deposits, and furthermore, because the cleaning liquid is scattered around and wets the area around the device, do not install spinning means. You must.
또한, 특개평 97-283486호 공보에는, 캐리어를 세정액 중에 침청(浸淸)시켜 초음파 세정하는 방법도 개시되어 있지만, 설비가 복잡하고 비용도 높다는 단점이 있다.Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 97-283486 also discloses a method of immersing a carrier in a cleaning liquid for ultrasonic cleaning, but has a disadvantage of complicated equipment and high cost.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의하면, 캐리어를 세정액에 침청한 상태로 수용하기 위한 세정조와, 그 세정조의 내부에 캐리어 하면의 리테이너 링과 대향하도록 설치된 공기노즐과, 캐리어 하면의 리테이너 링에 접하도록 상향에 설치된 적어도 하나의 하면 브러시와, 캐리어 외주면에 접하도록 가로방향으로 설치된 적어도 하나의 측면 브러시를 보유하는 세정장치가 제공된다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, according to this invention, the cleaning tank for accommodating a carrier in the state immersed in the washing | cleaning liquid, the air nozzle provided in the washing tank so that the retainer ring of the lower surface of a carrier, and the retainer ring of a lower surface of a carrier are provided. A cleaning apparatus is provided which has at least one lower surface brush installed upwardly to be in contact with and at least one side brush installed in the transverse direction to be in contact with the outer peripheral surface of the carrier.
상기 구성을 보유하는 세정장치는 연마장치의 일부로서 설치되고, 하면의 리테이너 링 내에 공작물을 보지하여 대기(待機)상태에 있는 캐리어의 세정에 사용된다. 즉, 상기 캐리어가 세정조 내에 수용되고, 세정액 중에 침청된 상태에서 서서히 회전하면, 리테이너 링이 하면 브러시에 문질러서 부착물을 제거하는 것과 함께, 캐리어의 외주면이 외주 브러시에 문질러져서 부착물이 제거되고, 그와 동시에 공기노즐로부터 공기가 분사되어 버블링(bubbling)이 행하여진다. 이 버블링은, 기포가 터질때의 충격에 의해 부착물의 제거효과를 높이는 것으로서, 상기 브러시와 병용함으로서, 세정효과를 한 층 높일 수 있고, 각 브러시에 부착된 오염물을 벗겨내어 깨끗이 흘려보낼 수가 있다.The cleaning device having the above structure is provided as a part of the polishing device, and is used for cleaning the carrier in the atmospheric state by holding the work in the retainer ring on the lower surface. That is, when the carrier is accommodated in the cleaning tank and slowly rotates while immersed in the cleaning liquid, the retainer ring is rubbed with a brush to remove the deposit, and the outer circumferential surface of the carrier is rubbed with the outer brush to remove the deposit. At the same time, air is injected from the air nozzle and bubbling is performed. This bubbling enhances the effect of removing deposits due to the impact when bubbles burst, and in combination with the brush, the bubbling effect can be further enhanced, and the contaminants attached to each brush can be peeled off and flowed cleanly. .
본 발명의 구체적인 실시예에 의하면, 상기 하면 브러시는 복수개 설치되어 있으며, 모선의 높이가 다른 복수의 그룹으로 나누어지게 된다. 더 구체적으로는, 상기 하면 브러시는, 모선이 높은 고모 하면 브러시와 모선이 낮은 저모 하면 브러시로 이루어져 있으며, 이 브러시는 원주방향에 같은 간격으로 교대로 설치되어 있다.According to a specific embodiment of the present invention, a plurality of the lower surface brushes are installed, and the bus bar is divided into a plurality of groups having different heights. More specifically, the lower surface brush is composed of a high bristle bottom brush and a low bristle bottom brush having a low bus bar, which are alternately provided at equal intervals in the circumferential direction.
이와 같은 하면 브러시를 모선의 높이가 다른 복수의 그룹으로 나눔으로서, 모선이 높은 고모 하면 브러시가 마모되면 모선이 낮은 저모 하면 브러시를 기능시킬 수 있기 때문에, 세정효과를 장기간 지속시킬 수가 있다.By dividing such a brush into a plurality of groups having different busbar heights, a brush having a high bus bar can function as a brush when the brush is worn while a brush having a low bus bar can maintain a cleaning effect for a long time.
상기 복수의 하면 브러시는, 고리형상으로 된 하나의 기판에 같은 간격으로 부착하고, 그 기판을 세정조의 내부에 착탈이 자유롭도록 부착하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 하면 브러시의 교환을 일괄적으로 간단하고 신속하게 행할 수가 있다.It is preferable that the said bottom surface brush adheres to one annular board | substrate at equal intervals, and attaches the board | substrate to the inside of a washing tank so that attachment and detachment are possible. As a result, the brush can be replaced at once simply and quickly.
또한, 본 발명의 장치의 상기 급액노즐은 세정조의 바닥부 중앙에 설치되어 있으며, 방사방향으로 개구하는 복수의 급액구를 구비하고 있다.In addition, the liquid feed nozzle of the apparatus of the present invention is provided at the center of the bottom of the cleaning tank, and has a plurality of liquid feed ports that open in the radial direction.
도 1은, 본 발명에 관한 세정장치의 일실시예를 나타내는 종단면도이다.1 is a longitudinal cross-sectional view showing an embodiment of the washing apparatus according to the present invention.
도 2는, 캐리어를 생략한 상태의 종단평면도이다.2 is a longitudinal plan view of the state in which the carrier is omitted.
도 3은, 평면 연마장치의 일예를 나타내는 정면도이다.3 is a front view showing an example of a planar polishing apparatus.
도 4는, 도 3의 개략적인 평면도이다.4 is a schematic plan view of FIG. 3.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
2 ‥‥ 정반(定盤) 3 ‥‥ 캐리어2 ‥‥ Table 3 ‥‥ Carrier
6 ‥‥ 리테이너 링 10 ‥‥ 세정장치6 ‥‥ Retainer Ring 10 ‥‥ Washing Equipment
11 ‥‥ 세정조 12 ‥‥ 급액노즐11 ‥‥ Cleaning tank 12 ‥‥ Water supply nozzle
12a ‥‥ 급액구 15 ‥‥ 공기노즐12a ‥‥ Feed port 15 ‥‥ Air nozzle
18a ‥‥ 고모(高毛) 하면(下面) 브러시 18b ‥‥ 저모(低毛) 하면 브러시18a ‥‥ high hair bottom brush 18b ‥‥ low hair bottom brush
21 ‥‥ 기판 25 ‥‥ 측면 브러시21 ‥‥ Board 25 ‥‥ Side brush
W ‥‥ 공작물W ‥‥ Workpiece
도 1 및 도 2는 본 발명에 관한 캐리어용 세정장치의 대표적인 실시예를 나타낸 것으로서, 이 세정장치(10)는, 예컨대 도 3 및 도 4에 나타내는 바와 같은 평면 연마장치의 세정부(8)의 위치에 설치되고, 연마가 종료한 뒤의 캐리어(3) 및 공작물(W)의 세정에 사용된다.1 and 2 show a representative embodiment of the cleaning device for a carrier according to the present invention, the cleaning device 10 being, for example, of the cleaning section 8 of the planar polishing device as shown in FIGS. 3 and 4. It is installed in the position and used for cleaning the carrier 3 and the workpiece | work W after grinding | polishing is complete | finished.
상기한 세정장치(10)는 세정액을 충전하기 위한 바닥이 있는 원통형의 세정조(11)를 보유하고 있다. 이 세정조(11)는 상기 캐리어(3)를 세정액 중에 침청시킨 상태로 수용할 수 있는 크기를 보유하고 있으며, 그 바닥부 중앙에는, 순수한 물 등의 세정액을 공급하기 위한 급액노즐(12)이 설치되어 있고, 이 급액노즐(12)은 방사방향으로 개구하는 복수의 급액구(12a)를 구비하고 있다. 도면 중에서 부호 13은, 상기 급액노즐(12)를 세정액 공급원에 접속하기 위한 포트이다.The cleaning device 10 described above has a bottomed cylindrical cleaning tank 11 for filling the cleaning liquid. The cleaning tank 11 has a size that can be accommodated in the state in which the carrier 3 is immersed in the cleaning liquid, and a liquid supply nozzle 12 for supplying a cleaning liquid such as pure water is provided at the center of the bottom thereof. The liquid feed nozzle 12 is provided with a plurality of liquid feed ports 12a that open in the radial direction. In the figure, reference numeral 13 denotes a port for connecting the liquid supply nozzle 12 to a cleaning liquid supply source.
상기 세정조(11)의 바닥부에는, 세정액 중에 공기를 분무하기 위한 공기노즐 (15)이 설치되어 있다. 이 공기노즐(15)은 기다란 플레이트형으로 되어 있으며, 그 상면에는 복수의 분기구(噴氣口)(15a)가 세정조(11)의 반경방향으로 배열되고, 적어도 일부의 분기구(15a)가 리테이너 링(6)의 바로 밑에 위치하도록 되어 있다. 도면 중에서 부호 16은, 상기 공기노즐(15)을 압축공기 공급원에 접속하기 위한 포트이다.At the bottom of the cleaning tank 11, an air nozzle 15 for spraying air into the cleaning liquid is provided. The air nozzle 15 has an elongated plate shape, and a plurality of branching holes 15a are arranged in the radial direction of the cleaning tank 11 on the upper surface thereof, and at least part of the branching holes 15a are formed. It is located underneath the retainer ring 6. In the figure, reference numeral 16 denotes a port for connecting the air nozzle 15 to a compressed air supply source.
상기 세정조(11)의 내부에는, 수용된 캐리어(3) 하면의 리테이너 링(6)과 대향하는 위치에, 모선의 높이가 서로 다른 복수의 하면 브러시(18a),(18b)가 상향에 설치되어 있다. 이 하면 브러시(18a),(18b)는, 직사각형의 브러시대(19)에 쇄모(刷毛)(20)를 설치한 것으로서, 원형의 고리형상으로 된 하나의 기판(21) 상에, 모선이 높은 고모 하면 브러시(18a)와, 모선이 낮은 저모 하면 브러시(18b)가 서로 같은 간격으로 설치되어 있으며, 상기 기판(21)은 세정조(11) 내부의 부착부(22)에 볼트로 착탈이 자유롭도록 부착되어 있다. 이와 같이, 복수의 하면 브러시(18a), (18b)를 하나의 기판(21) 상에 함께 부착함으로서, 하면 브러시(18a),(18b)의 전부를 새로운 것으로 교환하는 경우에, 이 기판(21)을 착탈하는 것에 의해 그 교환을 일괄적으로 간단하고 신속하게 행할 수 있게 된다.In the washing tank 11, a plurality of lower surface brushes 18a and 18b having different heights of busbars are provided upward at positions facing the retainer ring 6 on the lower surface of the carrier 3 housed therein. have. The lower brushes 18a and 18b are formed by the bristles 20 on a rectangular brush stand 19, and have a high bus bar on a single substrate 21 in a circular annular shape. The brushed surface 18a and the low haired brush 18b having low busbars are provided at equal intervals, and the substrate 21 is freely attached to or detached from the attachment part 22 inside the cleaning tank 11 with bolts. Is attached. In this way, when the plurality of lower surface brushes 18a and 18b are attached together on one substrate 21, when all of the lower surface brushes 18a and 18b are replaced with new ones, the substrate 21 ), The exchange can be performed easily and quickly in a batch.
모선의 높이가 다른 상기 하면 브러시(18a),(18b)는, 처음에 모선이 높은 고모 하면 브러시(18a)를 사용하여 캐리어(3)를 브러시 세정하고, 그 쇄모(20)가 마모 또는 변형하여 문지름에 의한 마찰효과가 저하하면, 모선이 낮은 저모 하면 브러시(18b)를 사용함으로서, 쇄모(20)가 마모 또는 변형하기 쉬운 브러시를 사용하여도 유효한 세정효과를 장기간 지속하여 유지시킬 수가 있다.The lower brush 18a, 18b having a different height of the bus bar first brush-cleans the carrier 3 by using the bristle lower brush 18a having a high bus bar, and the chain hair 20 wears or deforms. When the friction effect by rubbing decreases, by using the low bristle brush 18b with a low bus bar, even if the bristles 20 use a brush which is easy to wear or deform, an effective cleaning effect can be maintained for a long time.
또한, 고모 하면 브러시(18a)의 사용상태로부터 저모 하면 브러시(18b)의 사용상태로 변환할 때에는, 캐리어(3)의 세정위치를 약간 낮추거나, 반대로 기판(21)의 높이를 약간 높이는 것이 좋고, 그 경우, 소모된 고모 하면 브러시(18a)는 그 상태로 두어도 떼어 놓아도 좋다.In addition, when changing from the use state of the brushed surface brush 18a to the use state of the low-side brushed surface brush 18b, it is preferable to slightly lower the cleaning position of the carrier 3 or, conversely, to slightly increase the height of the substrate 21. In that case, the brush 18a which was exhausted may be left as it is, or may be removed.
또한, 상술한 바와 같이 하면 브러시(18a),(18b)의 모선의 높이를 달리하는 방법으로는, 쇄모(20)의 길이가 다른 브러시를 사용하는 것이 간단하지만, 쇄모 (20)의 길이가 같은 브러시를 상기 기판(21) 상에 높이를 다르게 하여 부착하여도 좋다.In addition, as described above, as a method of varying the height of the busbars of the brushes 18a and 18b, it is simple to use a brush having a different length of the bristles 20, but the length of the bristles 20 is the same. The brush may be attached on the substrate 21 at different heights.
또한, 상기 기판(21)에는, 공기노즐(15)로부터 분출된 공기가 상승할 때 방해를 받지 않도록 하기 위해서, 그 공기노즐(15) 바로 윗 부분에 잘려진 부분(21a)이 형성되어 있다.In addition, the substrate 21 is provided with a portion 21a cut off just above the air nozzle 15 in order not to be disturbed when the air blown out from the air nozzle 15 rises.
상기 세정조(11)에는, 또한 캐리어(3)의 외주면에 접하는 위치에 측면 브러시(25)가 가로방향으로 설치되어 있다. 이 측면 브러시(25)는, 직사각형의 브러시대(26)에 쇄모(27)을 설치한 것으로서, 세정조(11)의 외주면 일부에 형성된 부착부 (28)에 상기 브러시대(26)가 고정되고, 세정조(11)에 형성된 개구부(29)를 통해 쇄모(27)가 그 세정조(11) 내로 돌출함으로서 캐리어(3)의 측면에 접촉하도록 구성되어 있다.In the cleaning tank 11, a side brush 25 is provided at a position in contact with the outer circumferential surface of the carrier 3 in the horizontal direction. The side brush 25 is provided with a chain hair 27 on a rectangular brush stand 26, and the brush stand 26 is fixed to an attachment portion 28 formed on a part of the outer circumferential surface of the cleaning tank 11. The hairs 27 protrude into the cleaning tank 11 through the opening 29 formed in the cleaning tank 11 so as to contact the side surface of the carrier 3.
도시한 예에서는 상기 측면 브러시(25)가 한 개가 설치되어 있지만, 이 측면 브러시(25)는 복수개 설치하여도 좋다.In the illustrated example, one side brush 25 is provided, but a plurality of the side brushes 25 may be provided.
상기 세정조(11)의 조벽 일부에는, 그 상단으로부터 소요 깊이의 잘려진 부분(31)이 형성되고, 이 잘려진 부분(31)으로부터 세정액이 넘쳐 흐르도록 되어 있으며, 상기 급액노즐(12)로부터 세정액을 연속적으로 공급하면서 캐리어(3)의 세정이 행하여지도록 구성되어 있다.A part of the rough wall of the cleaning tank 11 is formed with a cut portion 31 having a required depth from an upper end thereof, and a cleaning liquid flows from the cut portion 31 so that the cleaning liquid is supplied from the liquid supply nozzle 12. It is comprised so that washing | cleaning of the carrier 3 may be performed, supplying continuously.
상기의 구성을 보유하는 세정장치(10)에 있어서, 도 1에 나타내는 바와 같이, 공작물(W)의 연마를 종료한 캐리어(3)는 세정조(11) 내에 그 하면을 세정액 중에 침청한 상태로 수용되고, 축선의 둘레로 천천히 회전하면, 리테이너 링(6)이 고모 하면 브러시(18a)에 문질러서 부착물을 제거하는 것과 함께, 캐리어(3)의 외주면이 측면브러시(25)에 문질러져 부착물이 제거되고, 그와 동시에 공기노즐(15)로부터 공기가 분사되어 버블링이 행하여진다.In the washing | cleaning apparatus 10 which has the said structure, as shown in FIG. 1, the carrier 3 which finished grinding | polishing of the workpiece | work W is in the state which immersed the lower surface in the washing | cleaning tank 11 in the cleaning liquid. When it is received and rotates slowly around the axis, the retainer ring 6 rubs against the brush 18a when the retainer ring 6 wears out, and the outer peripheral surface of the carrier 3 is rubbed by the side brush 25 to remove the deposit. At the same time, air is blown from the air nozzle 15 to perform bubbling.
상기 버블링은, 기포가 터질 때의 충격에 의해 부착물의 제거효과를 높이는 효과가 있고, 상기 각 브러시(18a),(25)에 의한 세정과 병용함으로서 세정효과를 한 층 높일 수 있으며, 각 브러시(18a),(25)에 부착된 오염물을 벗겨내어 깨끗이 흘려보낼 수가 있다. 또한 하면 브러시(18a)에 문질러질 수가 없는 공작물(W)에 부착된 부착물은 상기 버블링 작용에 의해서 확실하게 제거할 수가 있다.The bubbling has the effect of increasing the removal effect of the deposit by the impact when the bubble bursts, and can be further enhanced by using in combination with the cleaning by the respective brush (18a, 25), each brush The contaminants attached to (18a) and (25) can be peeled off and allowed to flow cleanly. In addition, deposits adhered to the work W that cannot be rubbed by the brush 18a can be reliably removed by the bubbling action.
상기 고모 하면 브러시(18a)의 쇄모(20)가 마모 또는 변형하여 문지름에 의한 마찰효과가 저하하면, 이것에 대신하여 모선이 낮은 저모 하면 브러시(18b)가 사용되고, 동일하게 캐리어(3)가 세정된다.When the bristles 20a of the bristle bottom brush 18a wear or deform, and the friction effect due to rubbing decreases, a low bristle bottom brush 18b having a low bus bar is used instead, and the carrier 3 is similarly cleaned. do.
상기 실시예에서는, 하면 브러시(18a),(18b)가 모선의 높이가 다른 복수의 그룹으로 나뉘지만, 이 하면 브러시(18a),(18b)의 모선의 높이는 완전히 동일하여도 된다. 또한 상기 하면 브러시가 반드시 복수개 설치되어야 할 필요는 없으며, 한 개가 설치되어도 본 발명의 목적은 달성될 수가 있다.In the above embodiment, the lower surface brushes 18a and 18b are divided into a plurality of groups having different busbar heights, but the heights of the busbars of the lower surface brushes 18a and 18b may be exactly the same. In addition, the bottom surface does not necessarily need to be provided with a plurality of brushes, and even if one is installed, the object of the present invention can be achieved.
이와 같이 본 발명에 의하면, 브러시의 문지름에 의한 마찰세정과 공기에 의한 버블링 세정을 병용함으로서 캐리어의 외주면과 리테이너 링 및 공작물에 부착된 부착물을 아주 간단하고 확실하게 깨끗이 흘려보낼 수가 있다.As described above, according to the present invention, by using a combination of friction cleaning by rubbing of the brush and bubbling cleaning by air, the outer circumferential surface of the carrier, the retainer ring, and the adherend attached to the work can be flowed very simply and reliably.
Claims (7)
Applications Claiming Priority (2)
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