KR19990073065A - 우수한내오염성을가진바닥장식재및그제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 바닥장식재의 표면에 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 고객이 가장 원하는 기능인 오염물질로 인해 더럽혀지지 않고, 청소가 용이하도록 하여 보다 더 깨끗한 실내 환경을 제공하고, 청소에 따른 주부의 부담을 덜 수 있도록 한 바닥장식재 및 그 제조방법에 관한 것이다.
이러한 본 발명에 따른 바닥장식재는 국내 및 국외 동종업계의 바닥장식재에 비하여 표면의 내오염성을 한단계 높여 항상 새것처럼 유지 및 사용할 수 있도록 한 것으로 고객 특히 가사 노동에 바쁜 주부들의 호응이 클 것으로 기대된다.
더 개량된 본 발명은 표면에 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 도포, 경화시켜 표면처리층을 형성하여 우수한 내오염성을 가진 주택용 바닥장식재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 올리고머로 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머, 2관능 모노머로 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트, 3관능 모노머로 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트, 광개시제로 아세토페논, 첨가제로 반응성 실리콘(silicone) 또는 비반응성 실리콘, 매팅제(matting agent)로 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카를 혼합한 표면처리제를 스킨층에 도포한 후 중압수은램프로 경화시켜 표면처리층을 형성한 바닥장식재 및 그 제조방법에 관한 것이다.
이러한 본 발명은 표면처리제의 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머만을 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않음으로써 가교밀도를 높이고 표면경화를 방해하는 산소의 영향을 최소화하여 바닥장식재의 내오염성을 향상시킨 것으로, 가정내의 오염물질에 의해 바닥장식재 표면이 오염되더라도 오염물질 및 그 흔적을 마른천으로 닦는 등의 용이한 방법으로 흔적없이 제거할 수 있도록 하여 고객 특히 가사 노동에 바쁜 주부들의 호응이 클 것으로 기대된다.
Description
본 발명은 주택용 바닥장식재 및 그 제조방법에 있어서, 고객의 가장 큰 불만사항인 오염물질로 인해 표면이 더럽혀지는 문제를 근본적으로 해결하여 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 주택용 바닥장식재는 주로 단독주택이나 아파트의 거실, 방의 바닥을 마감하는 용도로 사용되는 것으로, 시멘트 바닥으로부터의 먼지 및 차가움을 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내 분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다.
이러한 종래의 바닥장식재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 고객이 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없었으며 따라서 오염물질 흔적을 가진 바닥장식재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제점이 있었다.
특히, 신축주택에 입주하여 깨끗한 거실이나 방에서 생활하다가 아이들이 낙서한 매직펜, 볼펜 또는 크레용 자국, 엎질러지거나 튄 음식물 등에 의해 표면이 더럽혀지고 흔적이 잘 지워지지 않는 종래의 바닥장식재로 인해 주부들이 속상해 하는 경우가 많았다.
이러한 종래의 바닥장식재의 최상층인 표면처리층은 폴리우레탄계 표면처리제를 도포한 후 자외선으로 경화시켜 형성시킨 것으로서, 이때 폴리우레탄계 표면처리제의 조성은 소프트(soft) 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 43 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 20 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 5 중량부, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 20 중량부, 광개시제 아세토페논 5 중량부, 첨가제 실리콘(silicone) 2 중량부 및 매팅제 실리카 5 중량부로 이루어져 있다.
이러한 종래의 표면처리제로 형성한 표면처리층은 바닥장식재에 내마모성, 내스크레치성을 부여하기 위한 것으로 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 사용하였는데 이러한 소프트 타입의 우레탄 아크릴레이트 올리고머로 인해 바닥장식재가 부드러워진 반면에 가교밀도가 치밀하지 못하여 내오염성이 나쁜 문제점이 있었고, 또한 올리고머의 점도를 낮추기 위하여 단관능 모노머인 2-하이드록시프로필아크릴레이트를 많이 사용하였는데 단관능 모노머가 다관능 모노머에 비하여 반응 속도가 느려 표면경화를 방해하는 산소에 의한 영향을 많이 받으므로 이러한 단관능 모노머를 많이 사용한 종래의 표면처리층은 표면이 치밀하지 못하여 내오염성이 나쁜 문제점이 있었다.
이에 본 발명에서는 바닥장식재의 표면에 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용함으로써 가정내의 오염물질인 매직펜 등 필기구류, 카레 등 음식물류, 구두약 등 생활용품류 등에 의해 바닥장식재 표면이 오염되더라도 이 오염물질 및 그 흔적을 마른천으로 닦는 등의 용이한 방법으로 흔적없이 제거할 수 있도록 한 바닥장식재 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.
이러한 본 발명에 따른 바닥장식재는 국내 및 국외 동종업계의 바닥장식재에 비하여 표면의 내오염성을 한단계 높여 항상 새것처럼 유지 및 사용할 수 있도록 한 것으로 고객 특히 가사 노동에 바쁜 주부들의 호응이 클 것으로 기대된다.
한편, 본 발명을 상세히 설명하기에 앞서 바닥장식재를 오염시키는 가정내의 사용물질에 대한 조사 결과를 보면 다음과 같다.
바닥장식재를 오염시키는 물질은 크게 필기구류, 음식물류, 생활용품류의 3가지로 대별되는데 필기구류로는 유성매직펜, 볼펜, 펜글씨용 잉크, 붓글씨용 먹물, 색연필, 크레파스, 형광펜 등이 있고, 음식물류로는 간장, 된장, 고추장, 짜장, 카레, 물엿, 포도즙, 수박, 요구르트, 케찹, 쵸코렛, 감, 커피, 겨자, 김치물, 콜라 등이 있으며, 생활용품류로는 구두약, 상처소독약, 무좀약, 매니큐어, 유성페인트, 수성페인트, 니스, 안료액, 천염료전사, 신문지염료전사, 아이의 소변 등이 있다.
더 개량된 본 발명에서는 하드(hard) 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머만을 사용하거나 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 또한 단관능 모노머를 적게 사용한 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용함으로써 가정내의 오염물질에 의해 바닥장식재 표면이 오염되더라도 이 오염물질 및 그 흔적을 마른천으로 닦는 등의 용이한 방법으로 흔적없이 제거할 수 있도록 한 바닥장식재 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.
이때 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머만을 사용한 경우에는 표면경화를 방해하는 산소의 영향을 덜 받도록 하기 위하여 단관능 모노머를 사용하지 않고 다관능 모노머를 많이 사용한다. 또한 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용한 경우에는 광개시제 벤조페논과 반응촉진제 아민을 함께 사용하거나 질소가스 공급하에 경화시켜 산소의 영향을 배제한다.
이러한 본 발명에 따른 표면처리제를 사용한 바닥장식재는 국내 및 국외 동종업계의 바닥장식재에 비하여 표면의 내오염성을 한단계 높여 항상 새것처럼 유지 및 사용할 수 있도록 한 것으로 고객 특히 가사 노동에 바쁜 주부들의 호응이 클 것으로 기대된다.
한편, 본 발명을 상세히 설명하기에 앞서 바닥장식재를 오염시키는 가정내의 사용물질에 대한 조사 결과를 보면 다음과 같다.
바닥장식재를 오염시키는 물질은 크게 필기구류, 음식물류, 생활용품류의 3가지로 대별되는데 필기구류로는 유성매직펜, 볼펜, 펜글씨용 잉크, 붓글씨용 먹물, 색연필, 크레파스, 형광펜 등이 있고, 음식물류로는 간장, 된장, 고추장, 짜장, 카레, 물엿, 포도즙, 수박, 요구르트, 케찹, 쵸코렛, 감, 커피, 겨자, 김치물, 콜라 등이 있으며, 생활용품류로는 구두약, 상처소독약, 무좀약, 매니큐어, 유성페인트, 수성페인트, 니스, 안료액, 아이의 소변 등이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 바닥장식재의 단면도.
도 2는 본 발명에 따른 바닥장식재의 제조공정도.
도 3 내지 도 5는 본 발명에 따른 다른 바닥장식재의 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 바닥장식재의 단면도.
도 7은 본 발명에 따른 바닥장식재의 제조공정도.
도 8 내지 도 10은 본 발명에 따른 다른 바닥장식재의 단면도.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
10 : 기재층 20 : 표면층 21 : 발포층
22 : 비발포층 23 : 인쇄층 24 : 스킨층
25 : 표면처리층 30 : 이면층 31 : 발포층
32 : 기계적 발포층 33 : 사이징층
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
여기서 본 발명은 표면에 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법이지만, 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용한 것이 본 발명의 특징이므로, 이 표면처리제를 먼저 살펴본 후에 이 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법을 보도록 한다.
우선, 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 표면처리제를 보면 다음과 같다.
일반적으로 알려진 바닥장식재 표면처리 방법을 보면 폴리우레탄계 도료(塗料)를 자외선 처리를 하여 경화시키는 방법, 폴리우레탄계 도료를 수성처리를 하여 건조시키는 방법 또는 불소 필름 등 내오염성이 우수한 필름을 라미네이팅하는 방법 등 다양하다.
이러한 여러 표면처리 방법에 대한 물성시험을 한 결과 폴리우레탄계 도료를 자외선 처리를 하여 경화시키는 방법이 내오염성 향상의 목적에 가장 적합한 것으로 판단된다.
자외선으로 처리하여 경화시키는 폴리우레탄계 표면처리제는 올리고머 (oli-gomer), 모노머(monomer), 광개시제(photoinitiator), 첨가제(additive)로 이루어진다.
우선 주성분인 올리고머(oligomer)를 보면 다음과 같다.
올리고머로는 우레탄아크릴레이트나 에폭시아크릴레이트가 사용될 수 있으나 에폭시아크릴레이트의 경우 내오염성은 우수하나 벤젠링에 기인한 황변에 대한 취약점이 있으므로 우레탄아크릴레이트를 사용한다.
우레탄아크릴레이트는 광개시제의 개시반응에 의한 라디칼 중합반응이 빠르게 일어나고, 탄성, 강인성이 우수한 도막(塗膜)을 제공하며, 특히 염화비닐수지층에 대한 밀착력이 우수하다.
이러한 우레탄아크릴레이트는 폴리이소시아네이트, 폴리올, 하이드록시 (hydroxy)기를 가진 아크릴레이트 화합물로 합성하는데, 이때 폴리이소시아네이트로는 5-이소시아네이트-1-(이소시아네이트메틸)-1,3,3-트리메틸씨클로헥산, 4,4-디씨클로헥실메탄디이소시아네이트, 1,6-디이소시아네이트헥산, 1,6-디이소시아네이트헥산 유도체 등을 사용할 수 있고, 폴리올로는 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 등을 사용할 수 있으며, 하이드록시기를 가진 아크릴레이트 화합물로는 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 등을 사용할 수 있다.
이때 우레탄아크릴레이트의 물성은 폴리올의 종류와 그 관능기에 의해 크게 좌우되는데, 폴리올의 종류를 보면 폴리에테르폴리올은 신축성, 저온특성은 양호하나, 물리화학적 물성에서는 폴리에스테르폴리올에 휠씬 못 미치고, 보통의 폴리에스테르폴리올은 내열성이 미흡하고 가수분해가 용이하다는 단점이 있으며, 이 폴리에스테르폴리올의 단점을 보완하여 개발된 폴리카보네이트폴리올은 여러가지 물성이 폴리에스테르폴리올보다 뛰어나나 가격이 높고 최종 생성품의 점도가 높아 작업성을 맞추기 위해서는 상대적으로 많은 반응성 희석제를 필요로 하는 단점이 있으므로 입실론(ε)-카프로락톤을 개환하여 제조된 카프로락톤폴리올을 사용하고, 또한 폴리올의 관능기에 대하여 보면 우레탄아크릴레이트 제조에 주로 사용되는 2관능 또는 3관능 폴리올 중 3관능 폴리올은 내오염성 등 물성은 양호하나 생성 우레탄아크릴레이트의 점도가 높다.
이러한 점을 고려하여 본 발명에 따른 바닥장식재 표면처리제의 올리고머는 4,4-디씨클로헥실메탄디이소시아네이트, 카프로락톤폴리올, 2-하이드록시프로필아크릴레이트로 합성한 우레탄아크릴레이트를 사용한다.
다음, 모노머(monomer)를 보면 다음과 같다.
올리고머는 수천에서 수만 cps의 높은 점도를 갖고 있어 실제 코팅하여 적용하기는 어려우므로 대체로 점도가 100 cps이하인 모노머를 첨가하여 작업 점도를 500∼1000 cps로 감소시켜 작업한다. 즉, 모노머는 올리고머의 희석제로 사용된다.
이러한 모노머는 이중결합의 수에 따라 단관능, 2관능, 3관능으로 구분되며 경화속도 및 도막의 물성에 관여한다.
단관능 아크릴레이트 모노머는 사용시 도료의 점도 저하 및 유연성이 좋아지지만 내오염성이 나빠지므로 10 중량부 이내에서 사용하는 것이 좋다.
2관능 아크릴레이트 모노머는 종류에 따라 반응성의 차이가 있으며 도막의 경도에 영향을 준다. 이때 글리콜 계통의 모노머는 수성오염성이 미흡하므로 내오염성 원료로는 부적절하다.
3관능 아크릴레이트 모노머는 가교밀도가 높아지므로 내오염성, 경도, 내스크레치성은 양호해지나 도막이 딱딱해질 수 있다.
이러한 점을 고려하여 모노머를 관능기별로 적절하게 혼합, 사용하여 도료 전체적으로 내오염성이 좋도록 조정해야 한다.
다음, 광개시제(photoinitiator)를 보면 다음과 같다.
광개시제는 일정 파장대의 빛을 받으면 활성화되어 라디칼 반응을 일으키는 물질로 올리고머, 모노머가 갖고 있는 이중결합을 공격하여 반응을 하게 된다.
광개시제는 도료의 종류, 도막 두께, 작업 조건(line speed, lamp), 안료 유무에 따라 적절하게 선택해야 한다.
이러한 광개시제로는 아세토페논, 벤질케탈, 광활성제, 방향족케톤 등이 있으며 이중 벤질케탈, 광활성제, 방향족케톤은 잉크용, 목재용 등 황변성 방식에는 사용할 수 있으나 염화비닐수지 바닥장식재용에는 내황변성이 우수한 아세토페논을 사용한다.
다음, 첨가제(additive)를 보면 다음과 같다.
첨가제는 염화비닐수지 바닥장식재용 표면처리제에 있어서 표면의 상태를 결정하는 중요한 원료로 면의 평활성을 좋게 하거나, 표면을 미끄럽게 하거나, 촉촉한 감촉을 부여한다. 또한 작업 중에 발생할 수 있는 기포를 억제하거나 탈포시키기도 한다.
본 발명에서는 내오염성을 극대화시키기 위하여 비반응성이 아닌 이중결합이 있는 반응성 실리콘을 사용함으로써 오염방지의 지속성을 갖게 한다.
또 무광을 나타나게 하는 원료로 실리카를 사용하고, 내오염성이 좋도록 하기 위하여 표면에 왁스 처리를 한다.
그러나 첨가제의 양에 따라 표면이 너무 미끄럽게 될 수도 있으므로 함량이 적절해야 하며 다른 종류의 소광제와의 혼합, 사용방법도 고려해야 한다.
이와 같은 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법을 첨부 도면에 의거하여 설명한다.
본 발명에 따른 바닥장식재는 여러개의 층을 적층한 구조로서 기재층을 중심으로 표면층, 이면층으로 구성되어 있는데 표면층은 기재층 위에 차례로 발포층 또는 비발포층, 인쇄층, 스킨층, 표면처리층으로 세분할 수 있고 이면층은 기재층 아래에 차례로 발포층 또는 기계적 발포층, 사이징층으로 세분하거나 기재층 아래에 차례로 사이징층, 발포층 또는 기계적 발포층으로 세분할 수 있다. 여기서 “발포층”이란 화학적으로 발포된 층을 말하며 기계적으로 발포된 층만을 특히 “기계적 발포층”이라 한다.
표면층 및 이면층에서 위 세분된 층들은 필요에 따라 일부 생략할 수 있다.
이하 첨부 도면에 의거하여 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1에 있어서 본 발명에 따른 바닥장식재는 기재층(10), 기재층(10) 상부의 표면층(20) 및 기재층(10) 하부의 이면층(30)으로 이루어진다.
이때 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 발포층(21) 또는 비발포층(22), 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고, 이면층(30)은 기재층(10) 아래에 차례로 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)이 형성된 구조이다. 이면층(30)의 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)은 순서가 바뀌어 기재층(10) 아래에 차례로 사이징층(33), 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조도 가능하다.
도 2에 있어서 이러한 본 발명에 따른 바닥장식재의 제조방법을 보면 우선 제품의 치수안정성을 부여하는 기재층(10)을 제조한다.
기재층(10)은 유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 기재층(10)의 조성물을 0.38∼0.50㎜의 두께로 압착나이프코팅한 후 130∼200℃의 오븐에서 40∼50m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔(gel)화시켜 형성시킨다.
이때 기재층(10)의 조성은 중합도가 1000∼3000인 PVC 100 중량부에 가소제 디옥틸프탈레이트(DOP : dioctylphthalate) 20∼50 중량부, 부틸벤질프탈레이트 (BBP : butylbenzylphthalate) 15∼50중량부, 안정제 바륨아연계 화합물 1∼10중량부, 안료 산화티탄 1∼20 중량부, 충전제 중탄산칼슘 1∼170 중량부 및 기타첨가제로서 장기 저온 내열 보강을 위한 에폭시수지 1∼5중량부(두유(豆油)를 사용하므로 경화제가 필요없음)를 혼합하여 졸(sol) 상태로 만든 것이다.
이 기재층(10) 위에 쿠션감을 부여하는 발포층(21)을 형성하거나 제품의 경도를 부여하는 비발포층(22)을 형성한다.
발포층(21)은 발포층(21)의 조성물을 0.1∼0.3㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 150∼200℃의 오븐에서 40∼50m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
이러한 발포층(21)의 조성은 중합도가 1000∼2000인 PVC 100 중량부에 1차가소제 DOP 40∼60 중량부, 2차가소제 파라핀계 화합물 10∼20 중량부, 발포제 아조디카본아미드 2∼5 중량부, 발포촉진제 아연화 2∼4 중량부, 발포 안정제 바륨아연계 화합물 1∼3 중량부, 안료 산화티탄 1∼5 중량부, 충전제 중탄산칼슘 1∼150 중량부 및 기타첨가제로서 점도저하제 0.2∼1.5 중량부를 혼합한 것이다.
비발포층(22)은 비발포층(22)의 조성물을 0.1∼0.3㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 150∼200℃의 오븐에서 40∼50m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
이러한 비발포층(22)의 조성은 중합도가 1000∼3000인 PVC 100 중량부에 1차가소제 DOP 20∼40 중량부, BBP 10∼20 중량부, 2차가소제 파라핀계 화합물 10∼20 중량부, 충전제 중탄산칼슘 1∼150 중량부, 안료 산화티탄 1∼5 중량부, 내열안정제 바륨아연계 화합물 1∼10 중량부 및 장기 저온 내열 보강을 위한 에폭시수지 1∼5 중량부(두유를 사용하므로 경화제가 필요없음)를 혼합한 것이다.
이 발포층(21) 또는 비발포층(22) 위에 그라비어(gravure) 인쇄, 스크린 인쇄 또는 전사 인쇄로 소정의 무늬를 인쇄하여 인쇄층(23)을 형성시켜 건조한 다음 이 인쇄층(23) 위에 투명도 및 내구성을 부여하고 또한 인쇄층(23)의 무늬를 보호하는 스킨층(24)을 형성시킨다.
스킨층(24)은 스킨층(24)을 이루는 물질을 인쇄층(23) 위에 0.2∼0.5㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 180∼210℃의 오븐에서 10∼30m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
스킨층(24)의 조성은 중합도가 1500∼3000인 PVC 100 중량부에 1차가소제 DOP 30∼60 중량부, 2차가소제 파라핀계 화합물 10∼20 중량부, 내열안정제 바륨-아연계 화합물 2∼10 중량부, 장기 저온 내열 보강을 위한 에폭시수지 2∼5 중량부 (두유를 사용하므로 경화제가 필요없음) 및 점도저하제 0.2∼5 중량부를 혼합한 것이다.
다음, 기재층(10) 아래에 쿠션감을 부여하는 발포층(31)을 형성시키거나 역시 쿠션감을 부여하는 기계적 발포층(32)을 형성시킨다.
발포층(31)은 발포층(31)의 조성물을 0.2∼1.0㎜ 두께로 나이프코팅한 후 150∼180℃의 오븐에서 5∼50m／min.의 속도로 20∼90초간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
이러한 발포층(31)의 조성은 중합도가 500∼4000인 PVC 100 중량부에 1차 가소제 DOP 20∼80 중량부, BBP 10∼20 중량부, 2차 가소제 파라핀계 화합물 10∼20 중량부, 유기 안료 1∼20 중량부, 발포제 아조디카본아미드 1∼10 중량부, 발포촉진제 아연화 1∼4 중량부, 발포 안정제 바륨아연계 화합물 1∼10 중량부, 발포셀 조절제 바륨-아연계 화합물 0.2∼1.0 중량부, 안료 산화티탄 1∼5 중량부 및 충전제 중탄산칼슘 1∼250 중량부를 혼합한 것이다.
기계적 발포층(32)은 기계적 발포층(32)의 조성물을 2∼5㎜ 두께로 나이프코팅한 다음 150∼200℃의 오븐에서 10∼30m／min.의 속도로 1∼5분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
이러한 기계적 발포층(32)의 조성은 중합도가 1000∼3000인 PVC 100 중량부에 가소제 DOP 40∼70 중량부, BBP 1∼10 중량부, 내열안정제 바륨-아연계 화합물 2∼5 중량부 및 발포제 실리콘 수지(디옥틸아디페이트에 용해된 것) 5∼20 중량부와 가공 조건에 따라 점도저하제 0.2∼1.5 중량부 및 충전제 중탄산칼슘 1∼60 중량부를 혼합하여 기계적 발포 혼합기에 투입한 뒤 압축공기를 불어넣고 고속 교반하여 발포시킨 것이다.
이 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32) 아래에 제품의 경도를 부여하는 사이징층(33)을 형성시킨다. 사이징층(33)은 사이징층(33)의 조성물을 0.5∼1.0㎜ 두께로 나이프코팅한 후 170∼210℃의 오븐에서 5∼50m／min.의 속도로 30∼180초간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다. 이때 발포층(21) 및 발포층(31)이 발포된다.
사이징층(33)의 조성은 중합도가 1000∼3000인 PVC 100 중량부에 1차 가소제 DOP 20∼80 중량부, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올디이소부티레이트 5∼30 중량부, 파라핀계 화합물 5∼20 중량부, 안료 산화티탄 1∼20 중량부, 내열 안정제 바륨아연계 화합물 1∼10 중량부, 충전제 중탄산칼슘 1∼250 중량부 및 기타 첨가제로서 장기 저온 내열 보강을 위한 에폭시수지 1∼5 중량부(두유를 사용하므로 경화제가 필요없음), 황토(흙) 2∼30 중량부, 유기 안료 1∼10 중량부를 혼합한 것이다. 이때 황토 및 유기 안료는 색상 및 기능성을 부여하기 위한 것으로 필요에 따라 혼합한다.
마지막으로 스킨층(24) 위에 표면 강도 유지를 위한 표면처리층(25)을 형성시킨다. 표면처리층(25)은 표면처리층(25)의 조성물을 10∼30 m/min.의 속도와 15∼30㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 200∼300 watt/in 출력의 중압수은램프 4∼7개를 사용하여 경화시킨다.
표면처리층(25)의 조성은 주성분으로 우레탄아크릴레이트 올리고머 40 중량부, 올리고머의 희석, 점도 조정, 부착 증대를 위한 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트(2-HPA : 2-hydroxypropylacrylate) 7∼11 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트(HDDA : 1,6-hexanedioldiacrylate) 43∼34 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트(TMPEOTA : trimethylol-propaneethoxytriacrylate) 0∼5 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제(matting agent) 실리카 5 중량부를 혼합한 것이다. 이때 표면처리층(25) 조성의 총합은 100 중량부이다.
이러한 제조 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하는데 상기 발포층 (21) 또는 비발포층(22), 사이징층(33)은 생략할 수 있으며 도 3 내지 도 5에 있어서 본 발명에 따른 다른 바닥장식재는 이들 층 중 1층 이상의 층을 생략한 것이다. 이러한 본 발명에 따른 다른 바닥장식재 역시 기재층(10), 기재층(10) 상부의 표면층(20), 기재층(10) 하부의 이면층(30)으로 이루어진다.
이를 자세히 보면 우선 도 3 및 도 4는 발포층(21) 또는 비발포층(22), 사이징층(33) 중 1개층을 생략한 구조로서 도 3은 사이징층(33)을, 도 4는 발포층(21) 또는 비발포층(22)을 생략한 바닥장식재를 보인다.
도 3에 있어서, 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 발포층(21) 또는 비발포층(22), 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고 이면층 (30)은 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조이다.
도 4에 있어서, 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 인쇄층(23), 스킨층 (24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고 이면층(30)은 기재층(10) 아래에 차례로 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)이 형성된 구조이다.
이때 이면층(30)의 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)은 순서가 바뀌어 기재층(10) 아래에 차례로 사이징층(33), 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조도 가능하다.
도 5는 발포층(21) 또는 비발포층(22), 사이징층(33)을 모두 생략한 바닥장식재로서, 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고 이면층(30)은 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조이다.
위 발명보다 좀더 개량된 본 발명을 상세히 설명한다.
여기서 본 발명은 표면에 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법이지만, 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 자외선경화 표면처리제를 사용한 것이 본 발명의 특징이므로, 이 표면처리제를 먼저 살펴본 후에 이 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법을 보도록 한다.
우선, 우수한 내오염성을 가진 폴리우레탄계 표면처리제를 보면 다음과 같다.
일반적으로 알려진 바닥장식재 표면처리 방법을 보면 폴리우레탄계 표면처리제를 도포한 후 자외선 처리를 하여 경화시키는 방법, 폴리우레탄계 표면처리제를 도포한 후 수성처리를 하여 경화 또는 건조시키는 방법 또는 불소 필름 등 내오염성이 우수한 필름을 라미네이팅하는 방법 등 다양하다.
이러한 여러 표면처리 방법에 대한 물성시험을 한 결과 폴리우레탄계 표면처리제를 자외선 처리를 하여 경화시키는 방법이 경화속도가 빠르고 도막의 성능 및 경화특성이 우수하며 저온에서도 경화가 가능하고 에너지가 적게 들며 무공해이고 또한 내오염성 향상의 목적에 가장 적합한 것으로 판단된다.
자외선으로 처리하여 경화시키는 폴리우레탄계 표면처리제는 올리고머(oli-gomer), 모노머(monomer), 광개시제(photoinitiator), 첨가제(additive)로 이루어진다.
우선 주성분인 올리고머(oligomer)를 보면 다음과 같다.
본 발명에서는 우레탄아크릴레이트 올리고머를 사용한다.
일반적으로 올리고머로는 우레탄아크릴레이트나 에폭시아크릴레이트가 사용될 수 있지만 에폭시아크릴레이트의 경우 내오염성은 우수하나 벤젠링에 기인한 황변에 대한 취약점이 있으므로 우레탄아크릴레이트를 사용한다.
우레탄아크릴레이트 올리고머는 광개시제의 개시반응에 의한 라디칼 중합반응이 빠르게 일어나고, 탄성, 강인성이 우수한 도막(塗膜)을 제공하며, 특히 염화비닐수지층에 대한 밀착력이 우수하다.
이러한 우레탄아크릴레이트 올리고머는 폴리올, 폴리이소시아네이트 및 하이드록시(hydroxy)기를 가진 아크릴레이트 화합물로 합성하는데, 폴리올로는 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 등이 있고, 폴리이소시아네이트로는 5-이소시아네이트-1-(이소시아네이트메틸)-1,3,3-트리메틸시클로헥산, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 1,6-디이소시아네이트헥산, 1,6 -디이소시아네이트헥산 유도체 등이 있으며, 하이드록기를 가진 아크릴레이트 화합물로는 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 등이 있다.
우레탄아크릴레이트 올리고머의 물성은 폴리올의 종류와 그 관능기에 의해 크게 좌우되는데, 본 발명에서는 폴리올로 2관능 카프로락톤폴리올, 3관능 카프로락톤폴리올을 사용한다.
일반적인 폴리올의 종류를 보면 폴리에테르폴리올은 신축성, 저온특성은 양호하나 내오염성은 폴리에스테르폴리올에 휠씬 못 미치고, 보통의 폴리에스테르폴리올은 내열성이 미흡하고 가수분해가 용이하다는 단점이 있으며, 이 폴리에스테르폴리올의 단점을 보완하여 개발된 폴리카보네이트폴리올은 여러가지 물성이 폴리에스테르폴리올보다 뛰어나나 가격이 높고 최종 생성품의 점도가 높아 작업성을 맞추기 위해서는 상대적으로 많은 반응성 희석제를 필요로 하는 단점이 있으므로 입실론(ε)-카프로락톤을 개환하여 제조된 폴리에스테르폴리올인 카프로락톤폴리올을 사용한다. 폴리올의 관능기에 대하여 보면 우레탄아크릴레이트 올리고머 제조에는 주로 2관능 폴리올, 3관능 폴리올이 사용되는데, 2관능 폴리올은 내오염성 등의 물성은 조금 부족하나 생성 우레탄아크릴레이트 올리고머의 점도가 낮고, 3관능 폴리올은 내오염성 등의 물성은 양호하나 생성 우레탄아크릴레이트 올리고머의 점도가 높으므로 2관능 폴리올과 3관능 폴리올을 함께 사용한다.
또한 폴리이소시아네이트로는 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트를 사용하는데 이것은 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트에 시클로헥실 구조가 2개나 있으며 이 시클로헥실 구조가 벤젠링에 수소첨가된 타입으로 일반적으로 선형적인 탄화수소 체인보다 뛰어난 내오염성을 가지기 때문이다.
또한 하이드록시기를 가진 아크릴레이트 화합물로는 2-하이드록시프로필아크릴레이트를 사용하는데 이것은 2-하이드록시프로필아크릴레이트가 2-하이드록시에틸아크릴레이트보다 자극적인 냄새 등의 독성이 적고 합성시 온도 제어가 용이하기 때문이다. 2-하이드록시프로필아크릴레이트는 2차 알코올로서 1차 알코올인 2-하이드록시에틸아크릴레이트보다 반응이 느려 반응 제어가 쉽다. 특히 2-하이드록시에틸아크릴레이트는 반응 중 발열이 심해 온도 제어가 힘들며 쉽게 겔(gel)이 되는 현상이 발생한다.
이러한 점을 고려하여 본 발명에 따른 자외선 경화형 폴리우레탄계 표면처리제의 올리고머로는 2관능 카프로락톤폴리올, 3관능 카프로락톤폴리올, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트로 합성한 우레탄아크릴레이트 올리고머를 사용하는데 이러한 우레탄아크릴레이트 올리고머는 폴리올과 폴리이소시아네이트의 종류 및 그 사용량에 따라 하드(hard) 타입과 소프트 (soft) 타입으로 나뉜다.
하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머는 2관능 카프로락톤폴리올 150 중량부, 3관능 카프로락톤폴리올 330 중량부, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 300 중량부, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 220 중량부를 반응시켜 제조하고, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머는 2관능 카프로락톤폴리올 290 중량부, 3관능 카프로락톤폴리올 170 중량부, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 210 중량부, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 330 중량부를 반응시켜 제조한다.
다음, 올리고머의 희석제인 모노머(monomer)를 보면 다음과 같다.
올리고머는 수천에서 수만 cps의 높은 점도를 가지고 있어 실제 코팅하여 적용하기는 어려우므로 대체로 점도가 100 cps 이하인 모노머를 첨가하여 작업 점도를 500∼1000 cps로 감소시켜 작업한다.
본 발명에서는 모노머로는 아크릴레이트 화합물을 사용하는데 아크릴레이트 화합물은 저점도이고 휘발성이 적으며 또한 피부자극이 적고 반응성이 큰 장점이 있다.
이러한 아크릴레이트 모노머는 관능기별로 단관능, 2관능, 3관능으로 구분되며 경화속도 및 도막의 물성에 관여한다.
단관능 아크릴레이트 모노머로는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 또는 2-하이드록시프로필아크릴레이트를 사용하는데, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 및 2-하이드록시프로필아크릴레이트는 저분자량으로 점도가 낮은 장점이 있다.
이러한 단관능 아크릴레이트 모노머는 사용시 도료의 점도가 저하되고 유연성이 좋아지지만 내오염성이 나빠지므로 10 중량부 이내로 사용하는 것이 좋다.
2관능 아크릴레이트 모노머로는 1,6-헥산디올디아크릴레이트 및 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트를 사용하는데, 1,6-헥산디올디아크릴레이트 및 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 역시 점도가 낮으며 반응성이 좋은 장점이 있다. 이때 폴리에틸렌글리콜400디아크릴레이트는 에틸렌글리콜이 9개나 있어 물에 잘 녹는 등 수성오염에 약하므로 내오염성 원료로 사용할 수 없으나 본 발명에서 사용한 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트는 프로필렌글리콜이 3개 있으므로 내오염성이 좋아 내오염성 원료로 사용할 수 있다.
이러한 2관능 아크릴레이트 모노머는 도막의 경도에 영향을 준다.
3관능 아크릴레이트 모노머로는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트를 사용하는데, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 및 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트는 반응성이 좋아 경화가 잘되는 장점이 있다.
이러한 3관능 아크릴레이트 모노머는 사용시 도료의 가교밀도가 높아지므로 내오염성, 내스크레치성이 향상되지만 도막이 딱딱해질 수 있다.
이와 같은 점들을 고려하여 모노머를 관능기별로 적절하게 혼합, 사용하여 표면처리제 전체적으로 내오염성이 좋아지도록 한다.
다음, 광개시제(photoinitiator)를 보면 다음과 같다.
본 발명에서는 광개시제로 아세토페논을 사용하며 벤조페논을 함께 사용하기도 하는데 벤조페논을 함께 사용하는 경우에는 반응촉진제 3급 아민을 같이 사용한다.
일반적으로 광개시제는 일정 파장대의 빛을 받으면 활성화되어 라디칼 반응을 일으키는 물질로 올리고머, 모노머가 가지고 있는 이중결합을 공격하여 반응을 하게 된다.
광개시제는 도료의 종류, 도막 두께, 작업 조건(line speed, lamp), 안료 유무에 따라 적절하게 선택해야 한다.
이러한 광개시제로는 아세토페논, 벤질케탈, 광활성제, 방향족케톤 등이 있으며 이중 벤질케탈, 광활성제, 방향족케톤은 잉크용, 목재용 등 황변성 방식에는 사용할 수 있으나 염화비닐수지 바닥장식재용에는 내황변성이 우수한 아세토페논을 사용한다.
이때 산소에 의한 경화반응 방해를 최소화하여 표면경화를 촉진하도록 벤조페논을 아세토페논과 함께 사용할 수 있는데 이러한 벤조페논은 단독으로는 자외선에 의해 활성화될 수 없고 반응촉진제인 3급 아민(tertiary amine) 존재하에서만 활성화된다. 벤조페논 광개시제 및 아민 반응촉진제는 구조내 이중결합을 가지고 있는 등 황변에 취약한 단점이 있으나 나무(wood) 무늬 색상에 따라서 소량 첨가하여 사용할 수 있다.
다음, 첨가제(additive)를 보면 다음과 같다.
본 발명에서는 첨가제로 비반응성 실리콘(silicone) 또는 반응성 실리콘을 사용한다.
일반적으로 첨가제는 염화비닐수지 바닥장식재용 표면처리제에 있어서 표면의 상태를 결정하는 중요한 원료로 면의 평활성을 좋게 하거나, 표면을 미끄럽게 하거나, 촉촉한 감촉을 부여하기도 한다. 또한 작업 중에 발생할 수 있는 기포를 억제하거나 탈포시키기도 한다.
이러한 첨가제로는 비반응성 실리콘이나 반응성 실리콘을 사용할 수 있는데 내오염성을 극대화시키기 위하여는 반응성 실리콘을 사용한다.
이외에 무광을 나타나게 하는 원료인 매팅제(matting agent)로서 실리카를 사용하는데, 내오염성이 좋도록 하기 위하여 표면에 왁스 처리를 한 실리카를 사용하기도 한다. 이때 첨가량에 따라 표면이 너무 미끄럽게 될 수도 있으므로 첨가량을 적절히 조절하고 또한 다른 종류의 소광제(消光劑)와의 혼합, 사용방법도 고려해야 한다.
이러한 본 발명의 표면처리제를 구성하는 올리고머, 모노머, 광개시제, 첨가제 등을 정리하면 다음과 같다.
올리고머로는 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머, 소프트 타입의 우레탄 아크릴레이트 올리고머를 사용하는데 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머는 2관능 카프로락톤폴리올 150 중량부, 3관능 카프로락톤폴리올 330 중량부, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 300 중량부, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 220 중량부를 반응시켜 제조하고, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머는 2관능 카프로락톤폴리올 290 중량부, 3관능 카프로락톤폴리올 170 중량부, 4,4-디시클로헥실메탄디이소시아네이트 210 중량부, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 330 중량부를 반응시켜 제조하여 사용한다.
단관능 아크릴레이트 모노머로는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 또는 2-하이드록시프로필아크릴레이트를 사용하고, 2관능 아크릴레이트 모노머로는 1,6-헥산디올디아크릴레이트 및 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트를 사용하며, 3관능 아크릴레이트 모노머로는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트를 사용한다.
광개시제로는 아세토페논을 사용하며 벤조페논을 함께 사용하기도 하는데 벤조페논을 함께 사용하는 경우에는 반응촉진제 3급 아민을 같이 사용한다.
첨가제로는 비반응성 실리콘(silicone) 또는 반응성 실리콘을 사용한다.
이외에 매팅제(matting agent)로는 실리카 또는 표면에 왁스 처리를 한 실리카를 사용한다.
이와같은 올리고머, 모노머, 광개시제, 첨가제 등은 믹서에서 혼합한 후 바닥장식재에 에어나이프코팅한 다음 수개의 중압수은램프(middle pressure mercury lamp)를 사용하여 자외선 경화시키는데 바닥장식재의 내오염성은 상기한 표면처리제의 조성 뿐만 아니라 경화방법과도 밀접한 관계가 있다.
바닥장식재의 내오염성이 좋도록 하기 위해서는 오염물질의 표면 침투를 막아낼 정도로 표면의 가교밀도가 높아야 하는데 동일한 표면처리제라 하더라도 자외선의 강도, 자외선의 조사시간 등을 늘림으로써 자외선의 조사량을 증가시키면 표면의 가교밀도가 휠씬 높아져 내오염기능이 향상된다.
그러나 표면의 가교밀도가 높아질수록 도막이 너무 딱딱해지는 문제가 있다.
그러므로 표면처리제는 고출력의 램프를 수개 사용하여 너무 빠르지 않은 적정 속도에서 충분한 자외선 조사로 경화시켜 표면이 부드러우면서도 또한 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하도록 한다.
이하 본 발명에 따른 3종류의 자외선경화형 폴리우레탄계 표면처리제 및 각 표면처리제에 따른 자외선 경화방법을 설명한다. 그 자세한 내용을 보면 다음과 같다.
첫째, 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머만을 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않으며 또한 광개시제로 아세토페논만을 사용한 표면처리제에 대하여 본다. 이것은 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않음으로써 가교밀도를 높이고 표면경화를 방해하는 산소의 영향을 최소화하여 내오염성을 향상시킨 것이다.
이러한 표면처리제 및 그 자외선 경화방법을 보면 우선 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 45∼50 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 10∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 20∼30 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 믹서에서 혼합하여 표면처리제를 준비한 후 이 표면처리제를 10∼40㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 4∼8개를 사용하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시킨다. 이때 중압수은램프간의 간격은 20∼50㎝가 바람직하고 조사거리는 10∼20㎝가 바람직하다.
둘째, 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논과 벤조페논을 함께 사용하며 또한 반응촉진제 아민을 사용한 표면처리제에 대하여 본다. 이것은 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용함으로써 표면이 부드러우면서도 우수한 내오염성을 갖도록 한 것이며 또한 광개시제로 아세토페논 이외에 벤조페논 및 반응촉진제 아민을 사용함으로써 표면경화를 방해하는 산소의 영향을 배제한 것이다.
이러한 표면처리제 및 그 자외선 경화방법을 보면 우선 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 25∼35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10∼20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼10 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 벤조페논 0.1∼2 중량부, 반응촉진제 아민 0.1∼2 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 믹서에서 혼합하여 표면처리제를 준비한 후 이 표면처리제를 10∼40㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 4∼8개를 사용하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시킨다. 이때 중압수은램프간의 간격은 20∼50㎝가 바람직하고 조사거리는 10∼20㎝가 바람직하다.
셋째, 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논을 사용하며 질소가스 공급하에 경화시킨 표면처리제에 대하여 본다. 이것은 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용함으로써 표면이 부드러우면서도 우수한 내오염성을 갖도록 한 것이며 또한 질소가스 공급하에 경화시킴으로써 표면경화를 방해하는 산소의 영향을 배제한 것이다.
이러한 표면처리제 및 그 자외선 경화방법을 보면 우선 하드 타입 우레탄 아크릴레이트 올리고머 25∼35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10∼20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼20 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 믹서에서 혼합하여 표면처리제를 준비한 후, 이 표면처리제를 10∼40㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 5∼10 ㎏f/㎠의 압력으로 질소가스 공급하에 출력이 200∼300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 4∼8개를 사용하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시킨다. 이때 중압수은램프간의 간격은 20∼50㎝가 바람직하고 조사거리는 10∼20㎝가 바람직하다.
이와 같은 자외선 경화형 폴리우레탄계 표면처리제를 사용한 바닥장식재 및 그 제조방법을 첨부 도면에 의거하여 설명한다.
본 발명의 바닥장식재는 여러개의 층을 적층한 구조로서 기재층을 중심으로 표면층, 이면층으로 구성되어 있는데 표면층은 기재층 위에 차례로 발포층 또는 비발포층, 인쇄층, 스킨층, 표면처리층으로 세분할 수 있고 이면층은 기재층 아래에 차례로 발포층 또는 기계적 발포층, 사이징층으로 세분하거나 기재층 아래에 차례로 사이징층, 발포층 또는 기계적 발포층으로 세분할 수 있다. 여기서 “발포층”이란 화학적으로 발포된 층을 말하며 기계적으로 발포된 층만을 특히 “기계적 발포층”이라 한다.
표면층 및 이면층에서 위 세분된 층들은 필요에 따라 일부 생략할 수 있다.
이하 첨부 도면에 의거하여 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 6에 있어서 본 발명에 따른 바닥장식재는 기재층(10), 기재층(10) 상부의 표면층(20) 및 기재층(10) 하부의 이면층(30)으로 이루어진다.
이때 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 발포층(21) 또는 비발포층(22), 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고, 이면층(30)은 기재층(10) 아래에 차례로 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)이 형성된 구조이다. 이면층(30)의 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)은 순서가 바뀌어 기재층(10) 아래에 차례로 사이징층(33), 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조도 가능하다.
도 7에 있어서 이러한 본 발명에 따른 바닥장식재의 제조방법을 보면 우선 제품의 치수안정성을 부여하는 기재층(10)을 제조한다.
기재층(10)은 유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 염화비닐수지졸을 0.38∼ 0.50㎜의 두께로 압착나이프코팅한 후 130∼200℃의 오븐에서 40∼50m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔(gel)화시켜 형성시킨다.
이 기재층(10) 위에 쿠션감을 부여하는 발포층(21)을 형성하거나 제품의 경도를 부여하는 비발포층(22)을 형성한다.
발포층(21)은 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸을 0.1∼0.3㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 150∼200℃의 오븐에서 40∼50m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
비발포층(22)은 염화비닐수지졸을 0.1∼0.3㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 150∼200℃의 오븐에서 40∼50m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
이 발포층(21) 또는 비발포층(22) 위에 그라비어(gravure) 인쇄, 스크린 인쇄 또는 전사 인쇄로 소정의 무늬를 인쇄하여 인쇄층(23)을 형성시켜 건조한 다음 이 인쇄층(23) 위에 투명도 및 내구성을 부여하고 또한 인쇄층(23)의 무늬를 보호하는 스킨층(24)을 형성시킨다.
스킨층(24)은 염화비닐수지졸을 인쇄층(23) 위에 0.2∼0.5㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 180∼210℃의 오븐에서 10∼30m／min.의 속도로 1∼2분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
다음, 기재층(10) 아래에 쿠션감을 부여하는 발포층(31)을 형성시키거나 역시 쿠션감을 부여하는 기계적 발포층(32)을 형성시킨다.
발포층(31)은 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸을 0.2∼1.0㎜ 두께로 나이프코팅한 후 150∼180℃의 오븐에서 5∼50m／min.의 속도로 20∼90초간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다.
기계적 발포층(32)은 염화비닐수지졸을 2∼5㎜ 두께로 나이프코팅한 다음 150∼200℃의 오븐에서 10∼30m／min.의 속도로 1∼5분간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다. 이때 염화비닐수지졸은 기계적 발포 혼합기에 투입한 뒤 압축공기를 불어넣고 고속 교반하여 발포시킨다.
이 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32) 아래에 제품의 경도를 부여하는 사이징층(33)을 형성시킨다.
사이징층(33)은 염화비닐수지졸을 0.5∼1.0㎜ 두께로 나이프코팅한 후 170∼210℃의 오븐에서 5∼50m／min.의 속도로 30∼180초간 가열하여 겔화시켜 형성시킨다. 이때 발포층(21) 및 발포층(31)이 발포된다.
마지막으로 스킨층(24) 위에 표면 강도 유지 및 내오염성을 부여하는 표면처리층(25)을 형성시킨다.
표면처리층(25)의 위에서 설명한 3종류의 자외선경화형 폴리우레탄계 표면처리제를 도포한 후 각 표면처리제에 따른 자외선 경화방법에 따라 경화시켜 형성한다.
이러한 제조 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하는데 상기 발포층 (21) 또는 비발포층(22), 사이징층(33)은 생략할 수 있으며 도 8 내지 도 10에 있어서 본 발명에 따른 다른 바닥장식재는 이들 층 중 1층 이상의 층을 생략한 것이다. 이러한 본 발명에 따른 다른 바닥장식재 역시 기재층(10), 기재층(10) 상부의 표면층(20), 기재층(10) 하부의 이면층(30)으로 이루어진다.
이를 자세히 보면 우선 도 8 및 도 9는 발포층(21) 또는 비발포층(22), 사이징층(33) 중 1개층을 생략한 구조로서 도 8은 사이징층(33)을, 도 9는 발포층(21) 또는 비발포층(22)을 생략한 바닥장식재를 보인다.
도 8에 있어서, 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 발포층(21) 또는 비발포층(22), 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고 이면층 (30)은 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조이다.
도 9에 있어서, 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 인쇄층(23), 스킨층 (24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고 이면층(30)은 기재층(10) 아래에 차례로 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)이 형성된 구조이다.
이때 이면층(30)의 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32), 사이징층(33)은 순서가 바뀌어 기재층(10) 아래에 차례로 사이징층(33), 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조도 가능하다.
도 10은 발포층(21) 또는 비발포층(22), 사이징층(33)을 모두 생략한 바닥장식재로서, 표면층(20)은 기재층(10) 위에 차례로 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)이 적층된 구조이고 이면층(30)은 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)이 형성된 구조이다.
실시예 1
유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 중합도 1700인 PVC 100 중량부에 가소제 DOP 24 중량부, BBP 17 중량부, 안정제 바륨아연계 화합물 2.5 중량부, 안료 산화티탄 2 중량부, 충전제 중탄산칼슘 170 중량부 및 기타첨가제로서 에폭시수지 3 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 0.38㎜의 두께로 압착나이프코팅한 후 160℃의 오븐에서 40 m／min.의 속도로 1분 30초간 가열하여 겔화시켜 기재층(10)을 제조하였다.
이 기재층(10) 위에 중합도 1200인 PVC 100 중량부에 1차가소제 DOP 50 중량부, 2차가소제 파라핀계 화합물 15 중량부, 발포제 아조디카본아미드 3 중량부, 발포촉진제 아연화 2 중량부, 발포 안정제 바륨아연계 화합물 1 중량부, 안료 산화티탄 2 중량부, 충전제 중탄산칼슘 50 중량부 및 기타첨가제로서 점도저하제 0.3 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 상기 기재층(10) 위에 0.20㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 180℃의 오븐에서 30 m／min.의 속도로 1분 30초간 가열하여 겔화 및 발포시켜 발포층(21)을 형성시킨 후, 이 발포층(21) 위에 무늬를 인쇄하여 인쇄층 (23)을 형성하여 건조시킨 다음, 이 인쇄층(23) 위에 중합도 1700인 PVC 100 중량부에 1차가소제 DOP 25 중량부, 2차가소제 파라핀계 화합물 12 중량부, 내열안정제 바륨-아연계 화합물 3 중량부, 에폭시수지 3 중량부 및 점도저하제 0.2 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 0.2㎜의 두께로 나이프코팅한 후 200℃의 오븐에서 20 m／min.의 속도로 1분 20초간 가열하여 겔화시켜 스킨층(24)을 형성시켰다.
그런 후에 상기 기재층(10) 아래에 중합도 1200인 PVC 100 중량부에 1차 가소제 DOP 42 중량부, BBP 10 중량부, 2차 가소제 파라핀계 화합물 10 중량부, 유기 안료 5 중량부, 발포제 아조디카본아미드 3.5 중량부, 발포촉진제 아연화 2.8 중량부, 발포 안정제 바륨아연계 화합물 1.4 중량부, 발포셀 조절제 바륨-아연계 화합물 0.4 중량부, 안료 산화티탄 2 중량부 및 충전제 중탄산칼슘 60 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 0.5 ㎜ 두께로 나이프코팅한 후 180℃의 오븐에서 20 m／min.의 속도로 40초간 가열하여 겔화시켜 발포층(31)을 형성시킨 후, 이 발포층(31) 아래에 중합도 2000인 PVC 100 중량부에 1차 가소제 DOP 35 중량부, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올디이소부티레이트 13 중량부, 파라핀계 화합물 17 중량부, 안료 산화티탄 8 중량부, 내열 안정제 바륨아연계 화합물 3 중량부, 충전제 중탄산칼슘 90 중량부 및 기타 첨가제로서 에폭시수지 3 중량부, 황토(흙) 5 중량부, 유기 안료 1 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 0.2㎜ 두께로 나이프코팅한 후 200℃의 오븐에서 20 m／min.의 속도로 1분 30초간 가열하여 겔화시켜 사이징층(33)을 형성시킴과 동시에 상기의 발포층(31)을 발포시켰다.
또한 상기 스킨층(24) 위에 우레탄 아크릴레이트 올리고머 40 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 10 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 35 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 5 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 실리카 5 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 20m/min.의 속도와 20㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 300 watt/in 출력의 중압수은램프 6개를 사용하여 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킴으로써 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다.
실시예 2
스킨층(24) 위에 우레탄 아크릴레이트 올리고머 40 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 10 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 40 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 실리카 5 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 20m/min.의 속도와 20㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 300 watt/in 출력의 중압수은램프 6개를 사용하여 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 1의 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다.
비교예 1
스킨층(24) 위에 우레탄 아크릴레이트 올리고머 45 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 20 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 25 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 실리카 5 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 20m/min.의 속도와 20㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 300 watt/in 출력의 중압수은램프 6개를 사용하여 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 1의 방법으로 바닥장식재를 제조하였다.
비교예 2
스킨층(24) 위에 우레탄 아크릴레이트 올리고머 40 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 45 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 5 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1중량부, 매팅제 실리카 5 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 20m/min.의 속도와 20㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 300 watt/in 출력의 중압수은램프 6개를 사용하여 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 1의 방법으로 바닥장식재를 제조하였다.
실시예 3 : 올리고머로 하드 타입의 우레탄 아크릴레이트 올리고머만을 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않으며 광개시제로 아세토페논만을 사용한 표면처리제로 표면처리층을 형성한 바닥장식재의 제조 1.
유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 염화비닐수지졸을 0.38㎜의 두께로 압착나이프코팅한 후 160℃의 오븐에서 40 m／min.의 속도로 1분 30초간 가열하여 겔화시켜 기재층(10)을 제조하였다.
이 기재층(10) 위에 발포제 아조디카본아미드를 함유한 염화비닐수지졸을 상기 기재층(10) 위에 0.20㎜의 두께로 나이프코팅한 다음 180℃의 오븐에서 30 m／min.의 속도로 1분 30초간 가열하여 겔화 및 발포시켜 발포층(21)을 형성시킨 후, 이 발포층(21) 위에 무늬를 인쇄하여 인쇄층(23)을 형성하여 건조시킨 다음, 이 인쇄층(23) 위에 염화비닐수지졸을 0.2㎜의 두께로 나이프코팅한 후 200℃의 오븐에서 20 m／min.의 속도로 1분 20초간 가열하여 겔화시켜 스킨층(24)을 형성시켰다.
그런 후에 상기 기재층(10) 아래에 발포제 아조디카본아미드를 함유한 염화비닐수지졸을 0.5 ㎜ 두께로 나이프코팅한 후 180℃의 오븐에서 20 m／min.의 속도로 40초간 가열하여 겔화시켜 발포층(31)을 형성시킨 후, 이 발포층(31) 아래에 염화비닐수지졸을 0.2㎜ 두께로 나이프코팅한 후 200℃의 오븐에서 20 m／min.의 속도로 1분 30초간 가열하여 겔화시켜 사이징층(33)을 형성시킴과 동시에 상기의 발포층(31)을 발포시켰다.
또한 상기 스킨층(24) 위에 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 45 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 20 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량％, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 왁스 코팅 실리카 5 중량부를 믹서에서 혼합한 후 20㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 6개를 사용하여 5 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킴으로써 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다. 이때 중압수은램프간의 간격은 30㎝, 조사거리는 15㎝가 되도록 하였다.
실시예 4 : 올리고머로 하드 타입의 우레탄 아크릴레이트 올리고머만을 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않으며 광개시제로 아세토페논만을 사용한 표면처리제로 표면처리층을 형성한 바닥장식재의 제조 2.
스킨층(24) 위에 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 45 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 20 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 25 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 왁스 코팅 실리카 5 중량부를 믹서에서 혼합한 후 20㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 7개를 사용하여 10 m/min.의 라인 스피드 (line speed)로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 3의 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다. 이때 중압수은램프간의 간격은 30㎝이고 조사거리는 15㎝가 되도록 하였다.
실시예 5 : 올리고머로 하드 타입의 우레탄 아크릴레이트 올리고머만을 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않으며 광개시제로 아세토페논만을 사용한 표면처리제로 표면처리층을 형성한 바닥장식재의 제조 3.
스킨층(24) 위에 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 45 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 15 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 30 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 왁스 코팅 실리카 5 중량부를 믹서에서 혼합한 후 20㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 7개를 사용하여 15 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 3의 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다. 이때 중압수은램프간의 간격은 30㎝, 조사거리는 15㎝가 되도록 하였다.
실시예 6 : 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논과 벤조페논을 함께 사용하며 반응촉진제 아민을 사용한 표면처리제로 표면처리층을 형성한 바닥장식재의 제조 1.
스킨층(24) 위에 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 25 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 10 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10 중량부, 광개시제 아세토페논 3 중량부, 벤조페논 0.5 중량부, 반응촉진제 아민 0.5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 왁스 코팅 실리카 5 중량부를 믹서에서 혼합한 후 20㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 6개를 사용하여 5 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 3의 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다. 이때 중압수은램프간의 간격은 30㎝, 조사거리는 15㎝가 되도록 하였다.
실시예 7 : 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논과 벤조페논을 함께 사용하며 반응촉진제 아민을 사용한 표면처리제로 표면처리층을 형성한 바닥장식재의 제조 2.
스킨층(24) 위에 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 30 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 15 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 5 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 20 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 20 중량부, 광개시제 아세토페논 3 중량부, 벤조페논 0.6 중량부, 반응촉진제 아민 0.4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 왁스 코팅 실리카 5 중량부를 믹서에서 혼합한 후 20㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 7개를 사용하여 10 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 3의 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다. 이때 중압수은램프간의 간격은 30㎝, 조사거리는 15㎝가 되도록 하였다.
실시예 8 : 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논과 벤조페논을 함께 사용하며 반응촉진제 아민을 사용한 표면처리제로 표면처리층을 형성한 바닥장식재의 제조 3.
스킨층(24) 위에 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 5 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 15 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 25 중량부, 광개시제 아세토페논 3 중량부, 벤조페논 0.7 중량부, 반응촉진제 아민 0.3 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 왁스 코팅 실리카 5 중량부를 믹서에서 혼합한 후 20㎛ 두께로 에어나이프 코팅한 다음 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚인 중압수은램프 7개를 사용하여 15 m/min.의 라인 스피드(line speed)로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성시킨 것을 제외하고는 실시예 3의 방법으로 본 발명에 따른 바닥장식재를 제조하였다. 이때 중압수은램프간의 간격은 30㎝이고 조사거리는 15㎝가 되도록 하였다.
이와 같은 실시예 1, 실시예 2, 비교예 1 및 비교예 2의 바닥장식재의 내오염성을 시험한 결과를 보면 다음과 같다.
이때 오염물질은 그 화학적 성분에 따라 유성성분과 수성성분으로 대별하였으며 이 각 성분에 대한 오염정도를 확인하였다.
실시예 1의 바닥장식재에 대한 내오염성을 시험한 결과 유성성분 및 수성성분의 오염물질이 쉽게 제거되어 흔적이 남지 않는 등 내오염성이 우수하다는 것을 확인할 수 있었고, 또 실시예 2의 바닥장식재에 대한 내오염성을 시험한 결과도 역시 유성성분 및 수성성분의 오염물질에 대한 내오염성은 양호하다는 것을 보여주었다.
이에 비해 비교예 1의 바닥장식재에 대한 내오염성을 시험한 결과 수성성분에 대한 내오염성은 양호하나 유성매직펜등 유성성분의 오염물질은 마른천으로 닦았을 때 쉽게 지워지지 않아 흔적이 남는 등 내오염성이 떨어지는 결과를 보여주었고, 또 비교예 2의 바닥장식재에 대한 내오염성을 시험한 결과 유성성분 및 수성성분에 대한 내오염성은 양호하나 도막이 너무 딱딱해져 바닥장식재용으로는 부적합한 것으로 판단되었다.
이러한 실시예 및 비교예의 바닥장식재에 대한 내오염성을 시험한 결과 우수한 내오염성의 표면처리제의 조성이 다음의 표 1과 같다.
| 표면처리제의 조성 |
| 올리고머 우레탄 아크릴레이트 40 중량부 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 7∼11 중량부 1,6-헥산디올디아크릴레이트 43∼34 중량부 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 0∼ 5 중량부 광개시제 아세토페논 4 중량부 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부 매팅제 실리카 5 중량부 |
또한 표면처리제의 코팅 및 경화조건은 다음의 표 2와 같다.
| 표면처리제의 코팅 및 경화 조건 |
| 코팅 두께 : 20㎛ 경화램프 종류 : 중압수은램프 사용출력 : 300watt/in 램프 개수 : 6개 작업 속도 : 20m/min. |
따라서 상기 표 1의 조성의 표면처리제를 상기의 표 2의 코팅 및 경화 조건으로 바닥장식재의 표면에 사용함으로써 오염물질로 인해 더렵혀지지 않고 더불어 청소가 용이한 우수한 내오염성의 바닥장식재를 얻을 수 있다.
또한 실시예 3 내지 실시예 8의 바닥장식재에 대한 내오염성을 시험한 결과 화학성분에 따라 유성성분 및 수성성분으로 대별되는 대부분의 오염물질이 쉽게 제거되어 흔적이 남지 않는 등 내오염성이 우수하다는 것을 확인할 수 있었다.
이러한 본 발명의 우수한 내오염성을 가진 표면처리제의 조성 및 그 경화방법을 정리하면 다음과 같다.
표 3은 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머만을 사용하고 단관능 모노머를 사용하지 않으며 광개시제로 아세토페논만을 사용한 자외선 경화형 폴리우레탄계 표면처리제의 조성에 관한 것이고, 표 4는 이러한 표면처리제의 자외선 경화방법에 관한 것이다.
| 표면처리제의 조성 |
| 올리고머 하드 타입 우레탄아크릴레이트 45∼50 중량부모노머 2관능 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 10∼25 중량부 3관능 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 20∼30 중량부광개시제 아세토페논 1∼5 중량부첨가제 반응성 실리콘 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부 |
| 표면처리제의 코팅 및 자외선 경화조건 |
| 코팅 두께 : 10∼40㎛ 경화램프 종류 : 중압수은램프 사용출력 : 300watt/in. 램프 개수 : 4∼8개 작업 속도 : 5∼20m/min. 중압수은램프간의 간격 : 20∼50㎝ 조사 거리 : 10∼20㎝ |
표 5는 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논과 벤조페논을 함께 사용하며 또한 반응촉진제 아민을 사용한 자외선 경화형 폴리우레탄계 표면처리제의 조성에 관한 것이다. 이러한 표면처리제의 자외선 경화방법은 표 4와 같다.
| 표면처리제의 조성 |
| 올리고머 하드 타입 우레탄아크릴레이트 25∼35 중량부 소프트 타입 우레탄아크릴레이트 10∼20 중량부모노머 단관능 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼10 중량부 2관능 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부모노머 3관능 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부광개시제 아세토페논 1∼5 중량부 벤조페논 0.1∼2 중량부반응촉진제 아민 0.1∼2 중량부첨가제 반응성 실리콘 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부 |
표 6은 올리고머로 하드 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머와 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머를 함께 사용하고 광개시제로 아세토페논을 사용하며 질소가스 공급하에 경화시킨 자외선 경화형 폴리우레탄계 표면처리제의 조성에 관한 것이고, 표 7은 이러한 표면처리제의 자외선 경화방법에 관한 것이다.
| 표면처리제의 조성 |
| 올리고머 하드 타입 우레탄아크릴레이트 25∼35 중량부 소프트 타입 우레탄아크릴레이트 10∼20 중량부모노머 단관능 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼20 중량부 2관능 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부모노머 3관능 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부광개시제 아세토페논 1∼5 중량부첨가제 반응성 실리콘 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부 |
| 표면처리제의 코팅 및 자외선 경화조건 |
| 코팅 두께 : 10∼40㎛ 경화램프 종류 : 중압수은램프 사용출력 : 200∼300watt/in. 램프 개수 : 4∼8개 작업 속도 : 5∼20m/min. 중압수은램프간의 간격 : 20∼50㎝ 조사거리 : 10∼20㎝ 질소 공급 압력 : 5∼10㎏f/㎠ |
이와 같은 3가지 조성의 자외선 경화형 폴리우레탄계 표면처리제를 각각의 코팅 및 경화 조건으로 바닥장식재의 표면에 사용함으로써 오염물질로 인해 더렵혀지지 않고 더불어 청소가 용이한 우수한 내오염성의 바닥장식재를 얻을 수 있다.
Claims (30)
- 여러개의 층으로 구성된 표면층(20), 기재층(10) 및 1개 또는 2개 이상의 층으로 구성된 이면층(30)으로 이루어진 바닥장식재에 있어서, 표면층(20)의 최상층이 올리고머 우레탄 아크릴레이트 40 중량부, 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트(2-HPA : 2-hydroxypropylacrylate) 7∼11 중량부, 1,6-헥산디올디아크릴레이트(HDDA : 1,6-hexanedioldiacrylate) 43∼34 중량부, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트(TMPEOTA : trimethylolpropaneethoxytriacrylate) 0∼5 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 실리카 5 중량부를 혼합하여 만든 조성물을 20m/min.의 속도와 20㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 300 watt/in 출력의 중압수은램프 6개를 사용하여 경화시킨 표면처리층(25)인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 1항에 있어서, 표면층(20)이 기재층(10)으로부터 차례로 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 1항에 있어서, 표면층(20)이 기재층(10)으로부터 차례로 발포층(21) 또는 비발포층(22), 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 이면층(30)이 발포층(31) 또는 기계적 발포층 (32)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 이면층(30)이 기재층(10)으로부터 차례로 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32) 및 사이징층(33)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 이면층(30)이 기재층(10)으로부터 차례로 사이징층(33) 및 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 기재층(10) 조성물을 압착나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화시켜 기재층(10)을 제조하고 이 기재층(10) 위에 발포층(21) 조성물 또는 비발포층(22) 조성물, 인쇄층(23) 조성물, 스킨층(24) 조성물, 표면처리층(25) 조성물 중에서 표면처리층(25) 조성물을 포함하여 2개 이상 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시켜 표면층(20)을 형성시키고 이 기재층(10) 아래에 발포층(31) 조성물 또는 기계적 발포층(32) 조성물, 사이징층(33) 조성물 중에서 1개 또는 2개 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시켜 이면층(30)을 형성시킨 바닥장식재를 제조하는 방법에 있어서, 올리고머 우레탄 아크릴레이트 40 중량부, 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트(2-HPA : 2-hydroxypropylacrylate) 7∼11 중량부, 1,6-헥산디올디아크릴레이트(HDDA : 1,6-hexanedioldiacrylate) 43∼34 중량부, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 (TMPEOTA : trimethylolpropaneethoxytriacrylate) 0∼5 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제 실리카 5 중량부를 혼합하여 만든 표면처리층(25) 조성물을 20m/min.의 속도와 20㎛의 두께로 에어나이프코팅한 다음 300 watt/in 출력의 중압수은램프 6개를 사용하여 경화시켜 표면처리층 (25)을 형성한 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 표면층(20)이 기재층(10)으로부터 차례로 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 표면층(20)이 기재층(10)으로부터 차례로 발포층(21) 또는 비발포층(22), 인쇄층(23), 스킨층(24) 및 표면처리층(25)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 8항 또는 제 9 에 있어서, 이면층(30)이 발포층(31) 또는 기계적 발포층 (32)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 8항 또는 제 9항에 있어서, 이면층(30)이 기재층(10)으로부터 차례로 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32) 및 사이징층(33)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 8항 또는 제 9항에 있어서, 이면층(30)이 기재층(10)으로부터 차례로 사이징층(33) 및 발포층(31) 또는 기계적 발포층(32)으로 이루어진 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 표면층(20), 기재층(10) 및 이면층(30)으로 이루어진 바닥장식재에 있어서, 표면층(20)의 최상층이 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 45∼50 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 10∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 20∼30 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘(silicone) 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 혼합하여 만든 표면처리제로 코팅된 다음 수개의 중압수은램프에 의하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드로 경화된 표면처리층(25)인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 13항에 있어서, 수개의 중압수은램프가 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚의 파장이며 중압수은램프간의 간격이 20∼50㎝이고 조사거리가 10∼20㎝인 중압수은램프 4∼8개인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 13항 또는 제 14항에 있어서, 표면처리층(25)의 두께가 10∼40㎛인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 표면층(20), 기재층(10) 및 이면층(30)으로 이루어진 바닥장식재에 있어서, 표면층(20)의 최상층이 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 25∼35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10∼20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼10 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼ 25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 벤조페논 0.1∼2 중량부, 반응촉진제 아민 0.1∼2 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 (silicone) 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 혼합하여 만든 표면처리제로 코팅된 다음 수개의 중압수은램프에 의하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드로 경화된 표면처리층(25)인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 16항에 있어서, 수개의 중압수은램프가 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚의 파장이며 중압수은램프간의 간격이 20∼50㎝이고 조사거리가 10∼20㎝인 중압수은램프 4∼8개인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 16항 또는 제 17항에 있어서, 표면처리층(25)의 두께가 10∼40㎛인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 표면층(20), 기재층(10) 및 이면층(30)으로 이루어진 바닥장식재에 있어서, 표면층(20)의 최상층이 우선 하드 타입 우레탄 아크릴레이트 올리고머 25∼35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10∼20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼20 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘(silicone) 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 혼합하여 만든 표면처리제로 코팅된 다음 5∼10 ㎏f/㎠ 의 압력으로 질소가스 공급하에 수개의 중압수은램프에 의하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드로 경화된 표면처리층(25)인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 19항에 있어서, 수개의 중압수은램프가 출력이 200∼300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚의 파장이며 중압수은램프간의 간격이 20∼50㎝이고 조사거리가 10∼20㎝인 중압수은램프 4∼8개인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 제 19항 또는 제 20항에 있어서, 표면처리층(25)의 두께가 10∼40㎛인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재.
- 유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 염화비닐수지졸을 압착나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화시켜 기재층(10)을 제조하고 이 기재층(10) 위에 발포층(21)을 형성하기 위한 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸 또는 비발포층(22)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸, 스킨층(24)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸, 표면처리층(25)을 형성하기 위한 표면처리제 중에서 표면처리층(25)을 형성하기 위한 표면처리제를 포함하여 2개 이상 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시키고 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄 또는 전사 인쇄하여 인쇄층(23)을 형성시켜 표면층(20)을 형성시키고 이 기재층(10) 아래에 발포층(31)을 형성하기 위한 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸 또는 기계적 발포층(32)을 형성하기 위한 압축공기를 불어넣고 고속 교반하여 발포시킨 염화비닐수지졸, 사이징층(33)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸 중에서 1개 또는 2개 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시켜 이면층(30)을 형성시킨 바닥장식재를 제조하는 방법에 있어서, 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 45∼50 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 10∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 20∼30 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘(silicone) 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 믹서에서 혼합한 표면처리제를 에어나이프 코팅한 다음 수개의 중압수은램프를 사용하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드로 경화시켜 표면처리층 (25)을 형성한 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 22항에 있어서, 수개의 중압수은램프가 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚의 파장이며 중압수은램프간의 간격이 20∼50㎝이고 조사거리가 10∼20㎝인 중압수은램프 4∼8개인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 22항 또는 제 23항에 있어서, 표면처리층(25)의 두께가 10∼40㎛인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 염화비닐수지졸을 압착나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화시켜 기재층(10)을 제조하고 이 기재층(10) 위에 발포층(21)을 형성하기 위한 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸 또는 비발포층(22)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸, 스킨층(24)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸, 표면처리층(25)을 형성하기 위한 표면처리제 중에서 표면처리층(25)을 형성하기 위한 표면처리제를 포함하여 2개 이상 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시키고 또한 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄 또는 전사 인쇄하여 인쇄층(23)을 형성하여 표면층(20)을 형성시키고 이 기재층(10) 아래에 발포층(31)을 형성하기 위한 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸 또는 기계적 발포층(32)을 형성하기 위한 압축공기를 불어넣고 고속 교반하여 발포시킨 염화비닐수지졸, 사이징층(33)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸 중에서 1개 또는 2개 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시켜 이면층(30)을 형성시킨 바닥장식재를 제조하는 방법에 있어서, 하드 타입 우레탄아크릴레이트 올리고머 25∼35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10∼20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼10 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 벤조페논 0.1∼2 중량부, 반응촉진제 아민 0.1∼2 중량부, 첨가제 반응성 실리콘(silicone) 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 믹서에서 혼합한 표면처리제를 에어나이프 코팅한 다음 수개의 중압수은램프를 사용하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드로 경화시켜 표면처리층 (25)을 형성한 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 25항에 있어서, 수개의 중압수은램프가 출력이 300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚의 파장이며 중압수은램프간의 간격이 20∼50㎝이고 조사거리가 10∼20㎝인 중압수은램프 4∼8개인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 25항 또는 제 26항에 있어서, 표면처리층(25)의 두께가 10∼40㎛인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 유리섬유, 모조지 등의 기재 위에 염화비닐수지졸을 압착나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화시켜 기재층(10)을 제조하고 이 기재층(10) 위에 발포층(21)을 형성하기 위한 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸 또는 비발포층(22)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸, 스킨층(24)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸, 표면처리층(25)을 형성하기 위한 표면처리제 중에서 표면처리층(25)을 형성하기 위한 표면처리제를 포함하여 2개 이상 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시키고 또한 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄 또는 전사 인쇄하여 인쇄층(23)을 형성시켜 표면층(20)을 형성시키고 이 기재층(10) 아래에 발포층(31)을 형성하기 위한 아조디카본아미드와 같은 발포제를 함유한 염화비닐수지졸 또는 기계적 발포층(32)을 형성하기 위한 압축공기를 불어넣고 고속 교반하여 발포시킨 염화비닐수지졸, 사이징층(33)을 형성하기 위한 염화비닐수지졸 중에서 1개 또는 2개 선택하여 차례로 나이프코팅하고 오븐에서 가열하여 겔화 또는 발포시켜 이면층(30)을 형성시킨 바닥장식재를 제조하는 방법에 있어서, 하드 타입 우레탄 아크릴레이트 올리고머 25∼35 중량부, 소프트 타입의 우레탄아크릴레이트 올리고머 10∼20 중량부, 단관능 모노머 2-하이드록시프로필아크릴레이트 또는 2-하이드록시에틸아크릴레이트 5∼20 중량부, 2관능 모노머 1,6-헥산디올디아크릴레이트 또는 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 15∼25 중량부, 3관능 모노머 트리메틸올프로판트리아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 10∼25 중량부, 광개시제 아세토페논 1∼5 중량부, 첨가제 반응성 실리콘(silicone) 또는 비반응성 실리콘 0.5∼3 중량부, 매팅제 일반 실리카 또는 왁스 코팅 실리카 3∼10 중량부를 믹서에서 혼합한 표면처리제를 에어나이프 코팅한 다음 5∼10 ㎏f/㎠ 의 압력으로 질소가스 공급하에 수개의 중압수은램프를 사용하여 5∼20 m/min.의 라인 스피드로 경화시켜 표면처리층(25)을 형성한 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
- 제 28항에 있어서, 수개의 중압수은램프가 출력이 200∼300 watt/in.이고 가장 강한 파장이 365㎚의 파장이며 중압수은램프간의 간격이 20∼50㎝이고 조사거리가 10∼20㎝인 중압수은램프 4∼8개인 것을 특징으로 하는 우수한 내오염성을 가진 바닥장식재를 제조하는 방법.
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