KR19990063451A - Exposure device with mask loader - Google Patents

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Abstract

본 발명은 노광장치를 대형화 시키지 않고, 중량이 있는 대형의 마스크를 마스크 스테이지의 하면에 용이하게 설치할 수 있도록 하는 것이다.This invention makes it easy to install a large mask with a weight on the lower surface of a mask stage, without making an exposure apparatus large.

마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)의 하면에 유지시키고, 광조사부(1)에서 노광을 포함하는 광을 조사하여 워크 스테이지(WS) 상의 워크를 노광하는 노광장치에 있어서, 워크 스테이지(WS)를 통과할 수 있는 크기의 개구를 가지는 진퇴가능한 마스크 로더(ML)를 설치한다. 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 설치하기 위해서는, 마스크 로더(ML)를 꺼내어, 마스크 로더(ML)의 개구 부분에 마스크(M)를 재치한다. 계속하여, 마스크 로더(ML)를 마스크 스테이지(MS)와 워크 스테이지(WS)의 사이에 밀어넣어 워크 스테이지(WS)를 상승시킨다. 워크 스테이지(WS)는 마스크 로더(ML)에서 마스크(M)를 들어올리고, 마스크(M)는 마스크 스테이지(MS)의 하면에 당접하여, 마스크 유지수단에 의해 유지된다. 계속하여 워크 스테이지(WS)를 하강시킨다.In the exposure apparatus which holds the mask M on the lower surface of the mask stage MS, the light irradiation part 1 irradiates the light containing an exposure, and exposes the workpiece | work on the workpiece stage WS, The workpiece | work stage WS Install a retractable mask loader (ML) having an opening sized to pass through. In order to install the mask M in the mask stage MS, the mask loader ML is taken out and the mask M is mounted in the opening part of the mask loader ML. Subsequently, the mask loader ML is pushed between the mask stage MS and the work stage WS to raise the work stage WS. The work stage WS lifts the mask M out of the mask loader ML, and the mask M abuts on the lower surface of the mask stage MS and is held by the mask holding means. Subsequently, the work stage WS is lowered.

Description

마스크 로더를 가진 노광장치Exposure device with mask loader

본 발명은, 반도체장치, 액줴판 제조장치, 멀티칩모듈 등의 미크로 사이즈의 가공이 필요한 여러가지의 전자 부품 등의 제조에 사용되는 노광장치에 관한 것으로, 특히 본 발명은 마스크 로더를 구비한 콘택트/프록시미티 노광장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an exposure apparatus for use in the manufacture of various electronic components such as semiconductor devices, liquid crystal plate manufacturing apparatuses, and multichip modules that require micro-sized processing. It relates to a proximity exposure apparatus.

IC, LSI 등의 반도체 장치 등의 제조시에는, 워크의 표면에 포토 레지스트를 도포하고, 포토 마스크(이하,마스크라 함)의 상면에서 노광을 포함한 광을 조사하여 마스크 패턴을 워크 상에 전사하는 노광공정이 실시된다.In manufacturing semiconductor devices such as IC and LSI, a photoresist is applied to the surface of the workpiece, and the mask pattern is transferred onto the workpiece by irradiating light including the exposure from the upper surface of the photomask (hereinafter referred to as a mask). An exposure process is performed.

상기 노광공정에 있어서는, 투영렌즈를 사용하여 마스크 패턴을 워크 상에 투영하는 투영노광장치, 마스크와 워크를 접근시켜서 마스크 패턴을 워크 상에 전사하는 프록시미티 노광장치, 또는 마스크와 워크를 밀착시켜서 마스크 패턴을 워크 상에 전사하는 콘택트 노광장치가 이용된다.In the exposure step, a projection exposure apparatus for projecting a mask pattern onto the work using a projection lens, a proximity exposure apparatus for bringing the mask and the workpiece closer to the workpiece and transferring the mask pattern onto the workpiece, or bringing the mask into close contact with the mask A contact exposure apparatus for transferring the pattern onto the work is used.

도4는 상기 콘택트 또는 프록시미티 노광장치에서 마스크의 설치를 도시한 도면이다.Fig. 4 shows the installation of a mask in the contact or proximity exposure apparatus.

통상, 프록시미티 노광장치 또는 콘택트 노광장치에 있어서는 마스크(M)와 워크(W)를 접근 또는 밀착시켜서 노광을 실시하는데, 노광 전에 마스크(M)와 워크(W)를 접근시켜서 마스크(M)와 워크(W)의 얼라인먼트가 이루어진다. 이 얼라인먼트 시, 마스크(M)가 마스크 스테이지(MS)의 상면에 설치되어 있으면, 워크 스테이지(WS)의 이동범위가 마스크 스테이지(MS)의 개구부의 크기로 제한된다. 그래서, 프록시미티 노광장치 또는 콘택트 노광장치에 있어서는, 워크 스테이지(WS)의 이동가능범위를 크게 하기위해, 통상 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)의 하면에 설치한다.Usually, in a proximity exposure apparatus or a contact exposure apparatus, exposure is performed by bringing the mask M and the workpiece | work W into close contact, or close contact with the mask M and the workpiece | work W before exposure. The work W is aligned. During the alignment, if the mask M is provided on the upper surface of the mask stage MS, the moving range of the work stage WS is limited to the size of the opening of the mask stage MS. Therefore, in the proximity exposure apparatus or the contact exposure apparatus, the mask M is normally provided on the lower surface of the mask stage MS in order to increase the movable range of the work stage WS.

마스크(M)를 도4에 도시한 바와 같이 마스크 스테이지(MS)의 하면에 설치하기 위해서는, 종래 마스크(M)를 사람이 손으로 지지하고 행한다거나, 또는 도5에 도시한 방법이 채용되고 있었다.In order to install the mask M on the lower surface of the mask stage MS as shown in Fig. 4, the mask M has been supported by a person by hand or the method shown in Fig. 5 has been employed. .

도5에 있어서, (MS)는 마스크 스테이지이고, 마스크 스테이지(MS)는 회전축(21)을 축으로 하여 도5의 화살표 방향으로 회전가능하게 지지되어 있고, 마스크 스테이지(MS)에는 마스크(M)를 진공흡착하기 위한 마스크 진공흡착용 홈(22)이 설치되어 있다. 또한, 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 유지하는 수단으로서는 진공흡착 외에, 마스크 유지기구를 사용하는 경우도 있다.In Fig. 5, MS is a mask stage, and mask stage MS is rotatably supported in the direction of the arrow in Fig. 5 with the axis of rotation 21 as an axis, and mask M is provided in mask stage MS. Is provided with a mask vacuum suction groove (22) for vacuum suction. As the means for holding the mask M on the mask stage MS, a mask holding mechanism may be used in addition to vacuum suction.

마스크 스테이지(MS)에 마스크(M)를 설치하기 위해서는, 도5(b)에 도시한 바와 같이 마스크 스테이지(MS)를 회전시켜서 마스크 스테이지(MS)의 하면측을 위로 하여 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)상에 재치한다. 그리고, 예를들면, 진공흡착용홈(22)에 진공을 공급하여, 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 진공흡착한다.In order to install the mask M in the mask stage MS, as shown in Fig. 5B, the mask stage MS is rotated, and the mask M is masked by turning the lower surface side of the mask stage MS upward. It mounts on stage MS. Then, for example, a vacuum is supplied to the vacuum suction groove 22 to vacuum suction the mask M to the mask stage MS.

계속하여, 마스크 스테이지(MS)를 도5(c)에 도시한 바와 같이 회전시킨다. 이에 따라 마스크 스테이지(MS)의 하면측에 마스크(M)가 설치된다.Subsequently, the mask stage MS is rotated as shown in Fig. 5C. Thereby, the mask M is provided in the lower surface side of mask stage MS.

그런데, 최근 액줴판의 노광등에 있어서는, 대형의 마스크(예를들면 400㎜×400㎜)가 이용되어 왔다.By the way, in the exposure of an liquid crystal board etc., a large mask (for example, 400 mm x 400 mm) has been used recently.

마스크(M)가 대형화되자, 다음과 같은 문제가 발생하였다.When the mask M was enlarged, the following problem occurred.

(1)마스크(M)를 사람의 손으로 마스크 스테이지(MS)의 하면에 설치하는 것이 곤란하게 된다. 또한, 도5에 도시한 마스크 스테이지(MS)를 회전시켜서 마스크(M)를 설치하는 방법으로는, 마스크 스테이지(MS)의 회전반경이 커져 노광장치 전체가 대형화된다. 또한, 마스크(M)와 마스크 스테이지(MS)의 대형화에 따라 중량도 무거워져 작업성이 나빠진다.(1) It is difficult to install the mask M on the lower surface of the mask stage MS with human hands. Further, in the method of installing the mask M by rotating the mask stage MS shown in Fig. 5, the rotation radius of the mask stage MS becomes large, and the entire exposure apparatus is enlarged. In addition, as the mask M and the mask stage MS become larger in size, the weight becomes heavy and the workability deteriorates.

(2)일반적으로 노광장치에서 마스크(M)에는 고가의 재료가 사용되고, 또한 고정밀도의 표면가공이 이루어진다. 이와같은 이유에 의해, 마스크의 면적이 커짐에 따라 비용이 매우 비싸진다. 따라서, 마스크(M)는 가능하면 작았으면 하는 요청이 강하고, 통상, 마스크(M)는 워크(W)에 대해서 양측으로 1/2인치(≒13㎜)정도 밖에 크지 않다. 이 때문에, 마스크(M)를 마스크 스테이지(MS)에 고정할 때는 이 마스크(M)의 주변부의 약 13㎜의 부분을 사용하여 유지하게 된다.(2) In general, expensive materials are used for the mask M in the exposure apparatus, and high-precision surface processing is performed. For this reason, the cost becomes very expensive as the area of the mask increases. Therefore, the request that the mask M should be as small as possible is strong, and normally, the mask M is only about 1/2 inch (≒ 13 mm) large on both sides with respect to the workpiece | work W. As shown in FIG. For this reason, when fixing the mask M to the mask stage MS, it will hold | maintain using about 13 mm of parts of the periphery of this mask M. FIG.

이 때문에, 마스크 스테이지(MS)에 대형의 마스크(M)를 설치할 때, 자체 무게에 의해 마스크(M)가 휘려고 하는 것을, 상기 약 13㎜라는 좁은 부분에 작용하는 진공흡착력에 의해 마스크(M)를 유지하려고 해도, 진공 리크가 발생해 마스크(M)를 확실히 유지할 수 없는 경우가 있다. 이 때문에, 마스크의 설치시, 마스크(M)가 낙하하여 마스크를 파손하는 등의 위험성이 있었다.For this reason, when the large mask M is attached to the mask stage MS, the mask M is trying to bend by its own weight by the vacuum suction force acting on the narrow part of said about 13 mm. ), The vacuum leak may occur and the mask M may not be held reliably. For this reason, when the mask is installed, there is a risk that the mask M falls and breaks the mask.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 것은, 노광장치를 대형화시키지 않고, 중량이 있는 대형의 마스크를 마스크 스테이지의 하면에 용이하게 설치할 수 있는 마스크 로더를 가진 노광장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an exposure apparatus having a mask loader capable of easily installing a large mask with a weight on the lower surface of the mask stage without increasing the size of the exposure apparatus. will be.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에서는, 포토 마스크를 마스크 스테이지의 하면에 유지하고, 마스크 스테이지의 상면측에서 노광을 포함한 광을 조사하여, 마스크 패턴을 워크 스테이지 상의 워크에 전사하는 노광장치에 있어서, 마스크 스테이지와 워크 스테이지와의 중간위치에, 워크 스테이지가 통과할 수 있는 크기의 개구를 가진 진퇴가능한 마스크 로더를 설치한다.In order to solve the said subject, in this invention, the photomask is hold | maintained on the lower surface of a mask stage, the exposure apparatus irradiates the light containing exposure from the upper surface side of a mask stage, and transfers a mask pattern to the workpiece | work on a work stage in the exposure apparatus. In the intermediate position between the mask stage and the work stage, a retractable mask loader having an opening of a size through which the work stage can pass is installed.

마스크를 마스크 스테이지의 하면에 설치하기 위해서는, 우선 마스크 로더를 꺼내고, 마스크 로더의 개구부분에 마스크를 재치한다. 계속하여, 마스크 로더를 마스크 스테이지와 워크 스테이지의 사이에 삽입하여, 워크 스테이지를 상승시킨다.In order to install a mask on the lower surface of a mask stage, a mask loader is first taken out and the mask is mounted in the opening part of a mask loader. Subsequently, a mask loader is inserted between the mask stage and the work stage to raise the work stage.

워크 스테이지는 마스크 로더의 개구부를 통과하여, 마스크 로더에서 마스크를 들어올린다. 워크 스테이지가 더욱 상승하면 마스크는 마스크 스테이지의 하면에 당접한다. 이 상태에서 마스크 스테이지에 설치된 진공흡착수단 등에 의해 마스크를 유지하고, 워크 스테이지를 하강시킨다.The work stage passes through the opening of the mask loader and lifts the mask from the mask loader. As the work stage rises further, the mask abuts on the lower surface of the mask stage. In this state, the mask is held by the vacuum suction means or the like provided in the mask stage, and the work stage is lowered.

이상과 같이 하여 마스크 스테이지에 마스크를 설치함으로써, 마스크가 대형화되어도 용이하게 마스크를 설치할 수 있고, 또한, 장치가 대형화 되지도 않는다. 또한, 마스크는 워크 스테이지 상에 재치된 상태에서 상승하기 때문에, 마스크가 휘는 일이 없다. 이 때문에 마스크 유지수단으로써 진공흡착기구를 이용한 경우라도 설치시에 진공 리크가 발생하지 않고, 마스크 스테이지에 의해 마스크를 확실히 유지할 수 있다.By providing the mask on the mask stage as described above, the mask can be easily installed even if the mask is enlarged, and the apparatus is not enlarged. In addition, since the mask rises in a state where it is placed on the work stage, the mask does not bend. For this reason, even when a vacuum suction mechanism is used as the mask holding means, no vacuum leak occurs during installation, and the mask stage can reliably hold the mask.

도1은 본 발명의 실시예의 마스크 설치 동작을 설명하는 도면,1 is a view for explaining the mask installation operation of the embodiment of the present invention;

도2는 본 발명의 실시예의 마스크 설치 동작을 설명하는 도면,2 is a view for explaining a mask installation operation of the embodiment of the present invention;

도3은 본 발명의 실시예의 마스크 로더의 구성을 도시한 도면,3 is a diagram showing the configuration of a mask loader of an embodiment of the present invention;

도4는 콘택트/프록시미티 노광장치에서 마스크의 설치위치를 도시한 도면,4 is a view showing an installation position of a mask in a contact / proxy exposure apparatus;

도5는 종래예를 도시한 도면이다.5 is a diagram showing a conventional example.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 광조사부 2 : 워크 스테이지 구동기구1: light irradiation part 2: work stage driving mechanism

3 : 간극설줴구 4 : 레일3: clearance gap 4: rail

5 : 스토퍼 11, 12 : 개구부5: stopper 11, 12: opening part

13 : 위치결정부재 M : 마스크13: positioning member M: mask

MS : 마스크 스테이지 ML : 마스크 로더MS: Mask Stage ML: Mask Loader

WS : 워크 스테이지WS: Work Stage

도1, 도2는 본 발명의 실시예의 마스크의 설치동작을 설명하는 도면, 도3은 본 실시예에서 마스크 로더의 구성을 도시한 도면이다.1 and 2 are diagrams for explaining the installation operation of the mask of the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the mask loader in this embodiment.

도1∼도3에서 (1)은 광조사부이고, 광조사부(1)은 램프, 집광경, 인테그레이터 렌즈 등으로 구성되고, 상기 램프가 방출하는 자외선을 포함하는 광은 상기 집광경으로 집광되어, 인테그레이터 렌즈 등을 거쳐 마스크 스테이지(MS)에 설치되는 마스크(M) 상에 조사된다.1 to 3, reference numeral 1 denotes a light irradiating part, and the light irradiating part 1 is composed of a lamp, a condenser, an integrator lens, and the like, and light containing ultraviolet rays emitted by the lamp is condensed by the condenser, It irradiates on the mask M provided in the mask stage MS via an integrator lens.

마스크 스테이지(MS)의 중앙부는 도3에 도시한 바와 같이 개구되어 있고, 개구부(11)의 하측면에 마스크(M)가 설치되어, 마스크(M)는 도시하지 않은 진공흡착수단, 유지구 등의 마스크 유지수단에 의해 유지된다.The central portion of the mask stage MS is opened as shown in Fig. 3, and the mask M is provided on the lower side of the opening 11, and the mask M is not shown in the vacuum suction means, the holding tool, or the like. It is held by the mask holding means.

(WS)는 워크 스테이지이고, 워크 스테이지(WS) 위에는 얼라인먼트시 및 노광시에 도시하지 않은 워크가 재치된다. (2)는 워크 스테이지 구동기구이고, 워크 스테이지 구동기구(2)는 워크 스테이지(WS)를 도1, 도2에서 상하방향(Z방향), 좌우방향(X방향), 지면에 수직한 방향(Y방향)으로 이동시킴과 동시에, Z축을 중심으로 하여 회전시킨다.(θ방향).WS is a work stage, and the workpiece | work which is not shown at the time of alignment and exposure is mounted on the work stage WS. Reference numeral 2 denotes a work stage driving mechanism, and the work stage driving mechanism 2 moves the work stage WS in the up and down direction (Z direction), the left and right direction (X direction), and the direction perpendicular to the ground (Figs. 1 and 2). Y direction) and rotate around the Z axis (θ direction).

또한, 워크 스테이지(WS)와 워크 스테이지 구동기구(2)의 사이에는, 마스크(M)와 워크의 평행 배출을 실시하기 위한 간극설줴구(3)가 설치되어 있다.Moreover, the clearance gap 3 for performing parallel discharge of the mask M and a workpiece | work is provided between the work stage WS and the work stage drive mechanism 2.

(ML)은 마스크 로더, (4)는 레일이고, 마스크 로더(ML)는 레일(4)상에 이동가능하게 설치되어 있고, 도3의 A위치와 B위치와의 사이를 마스크 스테이지(MS)의 표면에 평행하게 진퇴시킬 수 있다. 마스크 로더(ML)를 진퇴시키는 수단으로써는, 수동으로도 좋고, 에어실린더나 모터를 사용해도 좋다.ML denotes a mask loader, 4 denotes a rail, and a mask loader ML is provided on the rail 4 so as to be movable, and a mask stage MS is disposed between the A position and the B position in FIG. It can be advanced parallel to the surface of. As means for advancing and retracting the mask loader ML, it may be manual or an air cylinder or a motor may be used.

마스크 로더(ML)의 중앙에는 워크 스테이지(WS)를 통과할 수 있는 크기의 개구부(12)가 설치되고, 개구부(6)의 네 귀퉁이에는 마스크(M)의 대략의 위치결정을 하기 위한 위치결정부재(13)가 설치되어 있다.An opening 12 having a size that can pass through the work stage WS is provided at the center of the mask loader ML, and positioning at the four corners of the opening 6 for rough positioning of the mask M is performed. The member 13 is provided.

다음으로, 도1, 도2에 의해 본 실시예에서 마스크의 설치/분해 동작에 대해 설명한다.Next, the installation / disassembly operation of the mask in this embodiment will be described with reference to Figs. 1 and 2.

(1)마스크(M)의 설치(1) Installation of mask (M)

(a)도1(a)에 도시한 바와 같이 빈 마스크 로더(ML)를 레일(4) 위를 이동시켜서 A위치까지 꺼내고, 마스크(M)를 마스크 로더(ML) 상에 위치결정부재(13)에 맞추어 재치한다.(a) As shown in Fig. 1 (a), the empty mask loader ML is moved out of the rail 4 to the A position, and the mask M is positioned on the mask loader ML. I place it according to).

(b)마스크(M)를 재치한 마스크 로더(ML)를 레일(4) 위을 이동시켜서, 마스크 스테이지(MS)와 워크 스테이지(WS)의 사이에 밀어 넣고, 도1(b)에 도시한 바와 같이, 스토퍼(5)에 맞추어서 B위치에서 멈춘다.(b) The mask loader ML on which the mask M is placed is moved on the rail 4, and is pushed between the mask stage MS and the work stage WS, as shown in Fig. 1 (b). Likewise, it stops at the B position in accordance with the stopper 5.

(c)워크 스테이지(WS)를 워크 스테이지 구동기구(2)에 의해 상승시킨다. 워크 스테이지(WS)는 마스크 로더(ML)에 설치된 개구부(12)를 통과하여, 마스크(M)의 하면에 당접하여 마스크 로더(ML)에서 마스크(M)를 들어올린다.(c) The work stage WS is raised by the work stage drive mechanism 2. The work stage WS passes through the opening 12 provided in the mask loader ML, contacts the lower surface of the mask M, and lifts the mask M out of the mask loader ML.

또한, 여기에서, 마스크(M)의 표면에 형성된 마스크 패턴을 보호할 필요가 있을 때에는, 마스크(M)의 표면과 워크 스테이지(WS)가 직접 접촉하지 않도록, 워크 스테이지(WS) 상에 점착성이 적은 불소수지 등으로 이루어진 시이트 상의 얇은 스페이서를 설치해도 좋다.In addition, when it is necessary to protect the mask pattern formed in the surface of the mask M here, adhesiveness is carried out on the work stage WS so that the surface of the mask M and the work stage WS may not directly contact. The thin spacer on the sheet which consists of few fluororesins etc. may be provided.

(d)워크 스테이지(WS)를 더욱 상승시킴으로써, 도2(c)에 도시한 바와 같이 들어 올려진 마스크(M)는 마스크 스테이지(MS)의 하면에 접촉한다. 여기에서 마스크(M)는 워크 스테이지(WS)에 의해 전체가 지지되어 있기 때문에, 마스크(M)의 자체 무게에 의한 휨이 발생하는 일이 없다.(d) By further raising the work stage WS, the lifted-up mask M comes into contact with the lower surface of the mask stage MS as shown in Fig. 2C. Since the whole mask M is supported by the workpiece | work stage WS here, curvature by the weight of the mask M itself does not arise.

(e)마스크 스테이지(MS)에 설치된 도시하지 않은 마스크 유지수단을 동작시켜서 마스크(M)를 유지한다. 마스크 유지수단은 진공흡착기구라도 좋고, 유지기구를 사용하여도 좋다.(e) The mask holding means (not shown) provided in the mask stage MS is operated to hold the mask M. FIG. The mask holding means may be a vacuum suction mechanism, or a holding mechanism may be used.

(f)도2(d)에 도시한 바와 같이 워크 스테이지(WS)를 하강시킨다. 계속하여, 마스크 로더(ML)를 A위치에 퇴피시킨다. 또한, 마스크 로더(ML)를 퇴피시키지 않고 다음의 공정을 진행해도 된다.(f) As shown in Fig. 2 (d), the work stage WS is lowered. Subsequently, the mask loader ML is retracted to the A position. In addition, you may proceed to the next process, without saving the mask loader ML.

이상과 같이 하여 마스크(M)의 설치가 끝나면, 워크 스테이지(WS)상에 도시하지 않은 워크를 재치하고, 워크 스테이지 구동기구(2)에 의해 워크 스테이지(WS)를 상승시켜서 워크와 마스크(M)를 접촉시켜, 간극설줴구(3)에 의해 마스크(M)와 워크 평행 배출을 실시한다. 그리고, 마스크(M)와 워크의 간극을 얼라인먼트 간극에 설정하여, 도시하지 않은 얼라인먼트 현미경에 의해 마스크(M)와 워크에 기록된 얼라이먼트 마크를 관찰하여, 양자가 일치하도록 워크 스테이지(WS)를 XYθ방향으로 이동시켜서 마스크(M)와 워크의 위치 맞춤을 실시한다.When installation of the mask M is completed as mentioned above, the workpiece | work which is not shown on the workpiece | work stage WS is mounted, the workpiece | work stage WS is raised by the workpiece | work stage drive mechanism 2, and the workpiece | work and mask M ) And the mask M is discharged in parallel with the workpiece by the gap tongue opening 3. Then, the gap between the mask M and the work is set in the alignment gap, and the alignment marks recorded on the mask M and the work are observed by an alignment microscope (not shown), and the work stage WS is set to XYθ so that the two coincide with each other. The mask M is aligned with the workpiece by moving in the direction.

계속하여, 워크와 마스크(M)를 접근 또는 밀착시켜, 광조사부(1)에서 방출되는 광을 마스크 스테이지(MS)에 설치된 마스크(M)를 거쳐 워크에 조사하여, 마스크 상에 기록된 마스크 패턴을 워크상에 전사한다.Subsequently, the workpiece and the mask M are brought into close contact with each other, the light emitted from the light irradiation unit 1 is irradiated onto the workpiece via the mask M provided in the mask stage MS, and the mask pattern recorded on the mask Is transferred onto the workpiece.

(2)마스크(M)의 분해(2) Disassembly of the mask (M)

(a)마스크 로더(ML)를 마스크 스테이지(MS)와 워크 스테이지(WS)와의 사이의 B위치에 이동시킨다(마스크 로더(ML)를 퇴피시킨 경우).(a) Mask loader ML is moved to B position between mask stage MS and work stage WS (when mask loader ML is evacuated).

(b)워크 스테이지(WS)를 워크 스테이지 구동기구(2)에 의해 상승시킨다. 워크 스테이지(WS)는 마스크 로더(ML)에 설치된 개구부를 통과하여, 마스크(M)의 하면을 지지한다.(b) The work stage WS is raised by the work stage drive mechanism 2. The work stage WS passes through the opening provided in the mask loader ML, and supports the lower surface of the mask M. As shown in FIG.

(c)마스크 스테이지(MS)에 설치된 마스크 유지수단에 의한 마스크의 유지를 해제한다.(c) The mask holding by the mask holding means provided in the mask stage MS is released.

(d)마스크(M)가 실린 워크 스테이지(WS)를 하강시킨다. 워크 스테이지(WS)가 하강해 가는 도중, 마스크(M)는 B위치에 대기하고 있는 마스크 로더(ML)에 의해 건져올려진다.(d) The work stage WS loaded with the mask M is lowered. While the work stage WS descends, the mask M is picked up by the mask loader ML waiting at the B position.

(e)마스크(M)가 실린 마스크 로더(ML)를 A위치까지 꺼내어, 마스크(M)를 마스크 로더(ML)에서 떼어낸다.(e) The mask loader ML carrying the mask M is taken out to the A position, and the mask M is removed from the mask loader ML.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 있어서는 이하의 효과를 얻을 수 있다.As described above, in the present invention, the following effects can be obtained.

(1)워크 스테이지에 의해 마스크를 지지한 상태에서, 워크 스테이지를 상승시켜 마스크 스테이지의 하면측에 마스크를 설치하도록 하였기 때문에, 대형의 마스크를 용이하게 설치할 수 있다. 또한, 마스크 스테이지를 회전시키는 기구를 이용하는 등의 필요가 없어, 장치 전체의 대형화를 막을 수 있다.(1) In the state where the mask is supported by the work stage, the work stage is raised so that the mask is provided on the lower surface side of the mask stage, so that a large mask can be easily installed. In addition, there is no need to use a mechanism for rotating the mask stage, and the size of the entire apparatus can be prevented.

(2)워크 스테이지가 마스크 전체를 지지한 상태에서 마스크를 마스크 스테이지의 하면에 설치하고 있기 때문에, 마스크의 설치 시, 마스크에는 자체 무게에 의한 휨이 발생하지 않는다. 이 때문에, 마스크를 진공흡착에 의해 유지하여도, 설치시에 진공 리크가 발생하지 않고, 마스크를 마스크 스테이지에 확실하게 유지할 수 있다.(2) Since the mask is installed on the lower surface of the mask stage while the work stage supports the entire mask, the mask does not cause warping due to its own weight when the mask is installed. Therefore, even if the mask is held by vacuum suction, no vacuum leak occurs at the time of installation, and the mask can be reliably held on the mask stage.

(3)워크 스테이지 상에 마스크를 재치하여, 워크 스테이지를 상승시켜서 마스크를 마스크 스테이지에 설치한 경우에는, 워크 스테이지를 외측으로 꺼내어 워크 스테이지 상에 마스크를 재치할 필요가 있으나, 본 발명에 있어서는 마스크 로더에 의해 마스크를 마스크 설치 위치까지 반송하고 있기 때문에, 워크 스테이지를 외측으로 꺼낼 필요가 없다.(3) When the mask is placed on the work stage and the work stage is raised to install the mask on the mask stage, it is necessary to take the work stage outward and mount the mask on the work stage. Since the mask is conveyed to the mask installation position by the loader, it is not necessary to take out the work stage to the outside.

일반적으로, 워크 스테이지는 노광장치 조립시에 마스크 스테이지와의 평행도나 Z방향의 위치가 정도 좋게 조절되어 있다. 이 때문에, 가령 상기와 같이 워크 스테이지를 이동시키는 경우에는, 중량이 큰 워크 스테이지 구동기구 등과 함께 워크 스테이지를 고정밀도의 위치 재현성을 가지는 이동수단에 의해 이동시킬 필요가 있어, 비용이 증가해 현실적이지 않다.In general, the work stage is adjusted to have a good degree of parallelism with the mask stage and the position in the Z direction at the time of assembling the exposure apparatus. For this reason, for example, when moving a work stage as mentioned above, it is necessary to move the work stage by the moving means which has high-precision position reproducibility together with a heavy work stage drive mechanism, etc., and the cost increases and it is not realistic. not.

(4)노광장치의 워크 스테이지 구동기구는, 마스크와 워크의 간극설정, 평행배출 등을 위해서 워크 스테이지를 상승하강시키는 기능을 구비하고 있다. 본 발명에 있어서는, 상기한 이미 설치되어 있는 상승하강기능을 이용하여 마스크의 상하 반송을 행하고 있기 때문에, 마스크를 상승하강시키기 위한 새로운 기구를 설치할 필요가 없어, 장치의 대형화, 비용 상승화를 막을 수 있다.(4) The work stage driving mechanism of the exposure apparatus has a function of raising and lowering the work stage for setting the gap between the mask and the work, discharging parallel, and the like. In the present invention, since the mask is moved up and down by using the above-described rising and falling function, it is not necessary to install a new mechanism for raising and lowering the mask, thereby preventing the increase in the size and cost of the device. have.

Claims (1)

포토 마스크를 마스크 스테이지의 하면에 유지하고, 마스크 스테이지의 상면측에서 노광을 포함하는 광을 조사하여, 마스크 패턴을 워크 스테이지 상의 워크에 전사하는 노광장치에 있어서,In the exposure apparatus which hold | maintains a photomask on the lower surface of a mask stage, irradiates the light containing exposure from the upper surface side of a mask stage, and transfers a mask pattern to the workpiece | work on a work stage, 마스크 스테이지와 워크 스테이지와의 중간위치에, 워크 스테이지가 통과할 수 있는 크기의 개구를 가지는 진퇴가능한 마스크 로더를 설치한 것을 특징으로 하는 노광장치.An exposure apparatus comprising a retractable mask loader having an opening having a size that allows the work stage to pass through a position between the mask stage and the work stage.
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