KR19990045899A - 기체상라디칼발생장치 - Google Patents
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- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 abstract description 11
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 abstract description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 3
- 241000700605 Viruses Species 0.000 abstract description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 abstract description 2
- MACBSXIPRLPFDJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) platinum(2+) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4].[Pt+2] MACBSXIPRLPFDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 abstract description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 abstract 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 239000007806 chemical reaction intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2305/00—Use of specific compounds during water treatment
- C02F2305/10—Photocatalysts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
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Abstract
본 발명은 공기펌프(01)와 습도조절기(02)를 통해 들어온 습한 공기를 백금-이산화티타늄 촉매부(07)와 자외선 램프(06)로 이루어진 라디칼 발생장치(03)를 통과시킴으로 오존의 광분해 효과와 백금담지 이산화티타늄의 광촉매 효과로 인해 다량의 여러 라디칼을 발생시키며 이를 공기 분사기를 통해 반응조에 미세한 기포로 유도시키므로 그 효과를 증대시키는 것을 특징으로 한다. 생성된 여러 라디칼과 산화제중 가장 산화력이 높은 것이 수산화라디칼인데 이를 수처리에 이용함으로써 여러 오염물질을 제거,분해할 수 있을 뿐만 아니라 바이러스나 박테리아와 같은 세균까지도 사멸할 수 있게 된다.
Description
본 발명은 다량의 여러 라디칼(radical) 및 강한 산화제를 발생시켜 이를 산업용과 가정용 수처리에 활용할 수 있도록 발명한 라디칼 발생장치에 관한 것이다. 기존에는 오존을 이용하여 상.하수처리와 가정에서의 살균과 소독하는 방법을 사용하였으나 잔류오존으로 오존 특유의 냄새로 불쾌감을 느낄 수 있으며 이를 다량으로 흡입할 경우 인체에 상당히 해로운 영향을 미칠 수 있다.
본 발명의 목적은 오존의 산화력(산화전위:2.07V)보다 더 큰 산화력을 가진 수산화라디칼(산화전위:2.80V)과 원자상산소(산화전위:2.42V) 등의 산화제를 발생시키므로 기존의 방법보다 살균과 소독에 더 큰 효과를 볼 수 있으며 인체에 해로운 유기물질까지도 분해할 수 있고 인체에 무해한 라디칼 및 산화제를 발생시키는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은 공기펌프(01)와 습도조절기(02)를 통해 들어온 습한 공기를 백금-이산화티타늄 촉매부(07)와 자외선 램프(06)로 이루어진 라디칼 발생장치(03)를 통과 시킴으로 다량의 여러 라디칼을 발생시키며 이를 공기 분사기를 통해 반응조에 미세한 기포로 유도시키는 것을 특징으로 한다. 이때, 생성된 여러 라디칼과 산화제중 가장 산화력이 높은 것이 수산화라디칼인데 이는 산화력(산화전위:2.80V)이 다른 산화제보다 상당히 큰 것으로 알려져 있다. 발생된 수산화라디칼을 여러 용도의 수처리에 이용함으로써 여러오염물질을 제거,분해할 수 있을 뿐만 아니라 바이러스나 박테리아와 같은 세균까지도 사멸할 수 있게 된다. 본 발명에서 발생되는 여러 라디칼의 생성원리를 자세히 설명하면 다음과 같다.
첫째, 이산화티타늄은 고유한 밴드갭(band gap)에너지보다 더 큰 에너지, 즉 자외선을 받게 되면 가전자대(valence band)의 전자(e-)가 여기되어 전도대(conduction band)로 전이된다. 이로 인해 가전자대에는 양공(h+)이 생성되고 전도대에는 여기된 전자가 남게 된다. 그러나, 일정 시간이 지나면 여기된 전자가 다시 가전자대로 돌아가려는 성질이 있는데 재결합하는 것을 지연시키고 전자의 흐름을 원활히 하기 위해 백금촉매를 이산화티타늄에 담지시킨다. 이때, 가전자대에서 생성된 양공(h+)은 습한 공기중에 있는 물과 반응하여 수산화라디칼을 발생하게 된다. 또한, 전도대로 여기된 전자(e-)는 백금표면으로 이동하게 되고 공기중에 있는 산소와 오존(O3)과 반응하여 중간물질(O2-,O3-)이 생성되고 이는 여러 단계의 반응을 거쳐 수산화라디칼과 다른 산화제를 발생하게 된다.
둘째, 185nm와 254nm의 파장을 방출하는 자외선램프에서 발생되는 자외선(185nm)과 산소가 반응하여 오존(O3)이 생성되고 이는 또한 254nm 파장의 자외선에 의해 광분해가 된다. 이때, 습한 공기중에 있는 물과 반응하여 오존의 분해는 촉진되며 여러 반응을 거쳐 수산화라디칼과 여러 산화제가 발생하게 된다.
이러한 과정에서 수산화라디칼(·OH)뿐만 아니라 여러 산화제(O, HO2, H2O2등)를 함유하고 있는 공기를 공기 분사기를 통해서 미세한 기포로 만들어 반응조에 잘 흡수되며 오염물질에 잘 적용되도록 하여 효과를 증대시키는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 동작을 설명하면 다음과 같다. 본 발명은 여러 용도의 수처리에 활용할 수 있는 장치로서 먼저 공기펌프(01)로부터 나온 공기에 습도조절기(02)에서 최적의 습도를 유지하여 라디칼 발생기(03)에 습한 공기를 주입한다. 이 습한 공기중에 있는 산소는 자외선 램프(06)에서 나오는 185nm의 자외선으로 인해 오존이 생성되고 이는 곧 254nm의 자외선으로 인해 광분해되어진다. 잔여 오존은 물과 백금담지 이산화티타늄(07)과의 반응으로 분해가 촉진되어진다. 또한, 자외선과 백금담지 이산화티타늄(07)을 이용한 광촉매 효과로 인해 다량의 라디칼과 여러 산화제가 발생하게 된다. 이러한 과정을 통해 발생된 기체상 라디칼과 산화제는 공기분사기에 의해 반응조내에 미세한 기포로 유도되어 물에 잘 흡수되며 오염물질에도 잘 적용되도록 구성되어 있다.
발명이 이루고자하는 기술적 과제 누락
제 1도는 본 발명에 대한 블록구성도
제 2도는 제 1도의 03부분 라디칼 발생기의 단면도
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
01: 공기펌프 02: 습도 조절기 03: 라디칼 발생기 04: 공기 분사기
05: 공기 주입구 06: 자외선 램프 07: 촉매부 08: 배기구
발명의 구성 및 작용 누락
발명의 효과 누락
Claims (2)
- 공기펌프(01)와 습도조절기(02)를 통해 들어온 습한 공기를 백금담지 이산화티타늄 촉매부(07)와 자외선 램프(06)로 이루어진 라디칼 발생장치(03)를 통과 시킴으로 다량의 여러 라디칼을 발생시키며 이를 공기 분사기를 통해 미세한 기포로 반응조에 유도시키므로 효과를 증대시키는 것을 특징으로 하는 기체상 라디칼 발생장치.
- 1항에서, 185nm와 254nm의 파장을 발생하는 자외선 램프를 장착한 기체상 라디칼 발생장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990004302A KR19990045899A (ko) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 기체상라디칼발생장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990004302A KR19990045899A (ko) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 기체상라디칼발생장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19990045899A true KR19990045899A (ko) | 1999-06-25 |
Family
ID=54780895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019990004302A KR19990045899A (ko) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 기체상라디칼발생장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR19990045899A (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100297928B1 (ko) * | 1999-03-09 | 2001-09-22 | 이정형 | 광촉매기술을 이용한 폐수의 질소성분 제거방법 |
| CN106404671A (zh) * | 2016-10-26 | 2017-02-15 | 桂林电子科技大学 | 一种oh自由基气体反应腔 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08323129A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Iwasaki Electric Co Ltd | ガス処理装置 |
| JPH09192659A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-07-29 | Nec Corp | 紫外線酸化装置 |
| US5765403A (en) * | 1993-04-16 | 1998-06-16 | Tri-Mark Metal Corporation | Water treatment method and apparatus |
| WO1998029346A1 (en) * | 1996-12-31 | 1998-07-09 | Uv Technologies, Inc. | Water treatment and purification |
| US5835840A (en) * | 1995-09-06 | 1998-11-10 | Universal Air Technology | Photocatalytic system for indoor air quality |
| KR20000012108U (ko) * | 1998-12-15 | 2000-07-05 | 임정욱 | 정수기의 라디칼 발생장치 |
-
1999
- 1999-02-08 KR KR1019990004302A patent/KR19990045899A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5765403A (en) * | 1993-04-16 | 1998-06-16 | Tri-Mark Metal Corporation | Water treatment method and apparatus |
| JPH08323129A (ja) * | 1995-05-30 | 1996-12-10 | Iwasaki Electric Co Ltd | ガス処理装置 |
| US5835840A (en) * | 1995-09-06 | 1998-11-10 | Universal Air Technology | Photocatalytic system for indoor air quality |
| JPH09192659A (ja) * | 1996-01-24 | 1997-07-29 | Nec Corp | 紫外線酸化装置 |
| WO1998029346A1 (en) * | 1996-12-31 | 1998-07-09 | Uv Technologies, Inc. | Water treatment and purification |
| KR20000012108U (ko) * | 1998-12-15 | 2000-07-05 | 임정욱 | 정수기의 라디칼 발생장치 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100297928B1 (ko) * | 1999-03-09 | 2001-09-22 | 이정형 | 광촉매기술을 이용한 폐수의 질소성분 제거방법 |
| CN106404671A (zh) * | 2016-10-26 | 2017-02-15 | 桂林电子科技大学 | 一种oh自由基气体反应腔 |
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|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
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